JPH06507976A

JPH06507976A - 中央処理ハブを使用する多数分析操作を行うためのシステム

Info

Publication number: JPH06507976A
Application number: JP5511215A
Authority: JP
Inventors: ケルソ，デービッド　エム; ユール，ジェフリー　ダブリュー; コッカー，ウオロジミール
Original assignee: バクスター、ダイアグノスチックス、インコーポレイテッド
Priority date: 1991-12-18
Filing date: 1992-12-18
Publication date: 1994-09-08
Also published as: AU3333493A; WO1993012430A1; EP0572640A1; EP0572640A4; CA2101951A1

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】中央処理ハブを使用する多数分析操作を行うためのシステム本発明の分野本発明は、分析、研究室および臨床操作を実施するため異なる環境において使用される分析システムに関する。もっと特定の意味において、本発明はまた、与えられたサンプル内の標的化合物の存在を正確に定量するためのアッセイを自動化された態様で実施することができる分析システムに関する。

本発明の背景今日、与えられたサンプル中の標的物質の存在を定量するための多数の分析操作が種々の環境において広（使用されている。例えば、生物学的分析操作は、螢光、吸光度およびケミルミネッセンス技術を使用して、酵素化学アッセイ、ＤＮＡプローブアッセイ、生物学的材料のイムノアッセイおよび細胞または細胞表面アッセイを実施することができる。非生物学的分析操作は、水、空気および土壌中の汚染物または毒素の存在を検出することができる。

与えられた分析操作のそれぞれは、厳密に従わなければならない注意深く時間法めされそして指示されたステップの手順を規定する独自の指示されたプロトコールに従う。各プロトコールはまた、正確なそして再現性ある結果を確実にするために注意深く維持しなければならない温度および湿度のような他の環境条件を規定する。自動化または半自動化態様において多段ステップ分析操作を実施する装置が知られている。

これら装置の−カテゴリーは、種々のワークステーションが次から次に直線上に沿って配置される単一の処理軌道を使用する。

多段ステップ分析装置の他のカテゴリーは、種々のワークステーションへサンプルを挿入および搬出するため円陣型コンベア配置を使用する。

本発明の概要本発明は、多段ステップ分析操作を実施するためもっと効果的なシステムを提供する。本発明の特色を具現化するシステムは高度に自動化された態様でシステムの仕事量を最大化し、一方正確にして再現性ある結果を確実にするように作動する。

本発明の特色を具現化するシステムは、各自共通の中央に配置された処理ハブを通って個々にアクセスすることができる多数のワークステーションを採用する。

シャツトル機構が材料をそれらの関連するハブアクセスを通ってワークステーションへ搬入および搬出す・るため共通の処理ハブ内で作動する。

本発明の一面において、共通のハブは、その中に処理ステーションを比較的小さい足跡を持った処理モジュールを形成するように垂直に積み重ねることができるコンパクトな作業ゾーンを形成する。

この構造の好ましい具体例においては、一つのワークステーションのためのアクセス部位は、ハブ軸のまわりの指示された円弧位置において処理ハブへ開いている。他の一つのワークステーションのためのアクセス部位も、ハブ軸の軸方向で第１のワークステーションアクセスの上方または下方に離れた一般に他の一位置において処理ハブへ開いている。

この構造において、シャツトル機構は三つの別々の経路、一つはアクセスが位置する円弧位置へのハブ軸のまわりを回転する経路、他の一つはアクセスの選択した一つと整列位置へのハブ軸の軸方向の経路、他の一つは選択したハブアクセスへ出入するハブ軸の放射方向の経路を移動するプラットフォームを有する。

好ましい一具体例は、第１および第２のワークステーションの円弧上位置から円弧上で離れた他の一位置に位置する少なくとも一つの追加処理ステーションを提供する。シャツトル機構はこの処理ステーションへも同様に奉仕する。

本発明の他の面に従えば、分析すべき少なくとも一つのサンプルを保持する試験キャリアをさらに含んでいる。シャツトル機構は種々の処理ステーション間を試験キャリアを輸送する役目を果たす。

好ましい構造においては、試験キャリアは少なくとも二つの別々の処理区域を含み、そのため単一の試験キャリアを用いて異なる分析操作を実施することができる。この構造において、少なくとも一つの処理ステーションは単一のキャリアの各処理区域で異なる処理任務を果たすことができる。

好ましい一具体例において、シャツトル機構は、異なる運搬具上で同時に異なる指示した処理任務を果たすように、いくつかの試験キャリアを種々の処理ステーション間を非直線的な、不連続経路において順番に輸送することができる。

他の一具体例においては、ワークステーション自体がシャツトル機構と無関係に試験キャリアを移動するための輸送機械を含んでいる。

本発明の他の一面において、共通のハブはその中の温度および湿度を集中的に制御できるコンパクトな作業ゾーンを形成する。この構造の好ましい具体例において、システムは処理した空気を共通のハブへ送る内蔵された環境制御機構を含んでいる。この具体例において、環境制御機構は各ワークステーションにおける所望の温度条件を維持する。

本発明の他の特色および利益は、添付図面、明細書および請求の範囲を考慮する時明らかであろう。

図面の説明図１は、本発明の特色を具現化する分析システムに関連する処理モジュールおよびマスター制御モジュールの正面斜視図である。

図２は、関連する電源、流体廃棄システムおよび環境制御システムの部分を示すため処理モジュールハウジングの下方部分を取り除いた、図１に示した処理モジュールおよび制御モジュールの一部分の背面斜視図である。

図３は、大量流体貯蔵容器および関連するタンクが貯蔵される処理モジュール中の区域の拡大斜視図である。

図４は、中央処理ハブのまわりの関連するワークステーションの配置を示している、モジュールの背面から見た図１に示した処理モジュール内部の拡大斜視図である。

図５は、図１に示した処理モジュール関連するシャツトル部材の一部を破断した拡大斜視図である。

図６は、その中で図５に示したシャツトル部材が作動する中央ノ１ブの拡大斜視図である。

図７は、処理ハブ内のシャツトル部材および関連するワークステーションのいくつかの円弧状の軸方向に積み重ねた配置を示している、図１に示した処理モジュールの中央処理ノ１プの一部を破断じそして断面で示した拡大斜視図である。

図８は、処理ハブの上方で見た時、中央処理ハブおよびシャツトル部材のまわりのすべてのワークステーションの円弧配置の図解である。

図９は、図１に示した分析システムに関連する試験キャリアの頂部および側部の斜視図である。

図１Ｏは、その上に形成された処理区域を示している、図９に示した試験キャリアの平面図である。

図１１は、図１に示した分析システムに関連する試験キャリア（図９およびＩＯに示した）およびシャツトル部材（図５に示した）間の接続面の斜視図である。

図１２ないし１５は、図１に示した処理モジュール内の代表的ワークステーションアクセスにおいて試験キャリアを取上げおよびおろし去るように従事しているシャツトル部材の斜視図のシリーズである。

図１６は、シャツトル部材が試験キャリアをおろし去りそして取上げる時試験キャリアの上に置かれそして除去されるカバーを有するワークステーションアクセスの斜視図であり、カバーは持ち上げられた位置で示されている。

図１７Ａは、図１６に示したカバーのための取付はアセンブリの拡大分解図である。

図１７Ｂは、図１６に示したカバーのための取付はアセンブリの組立てた拡大斜視図であり、取付はアセンブリはカバーをその上方つめ内に保持していることを示している。

図１８および１９は、試験キャリアをおろし去り、そしてカバーを図１６に示したワークステーションアクセスに配置するように従事しているシャツトル部材の斜視図のシリーズである。

図２０は、図１６に示したカバーのための取付はアセンブリの組立てた拡大斜視図であり、取付はアセンブリはその下方つめにカバーを保持しているところを示、している。

図２１は、カバーが試験キャリア上のその下降した位置で示されている、図１６に示したワークステーションの斜視図である。

図２２は、図１に示した制御モジュールと処理モジュールの間のインターフェースの図解である。

図２３は、図１および２に示した処理モジュールに関連する流体配送システムの図解である。　７図２４は、図１に示した処理モジュールに関連する流体廃棄システムの図解である。

図２５は、図１および２に示した処理モジュールに関連する環境制御システムの図解である。

図２６は、図１に示した分析システムのキャリア分配ステーションに関連するキャリア貯蔵ビンの一部断面正面図である。

図２７は、図２６に示したキャリア貯蔵ビンの一部断面側面図である。

図２８ないし３０は、キャリア貯蔵ビンからハブアクセスへ試験キャリアの分配を示している、図２６に示したキャリア分配ステーションのハブアクセス区域の拡大正面図のシリーズである。

図３１は、図１に示した分析システムに関連する試験キャリアのキャリア分配ステーションのアクセスからサンプル調製ステーションのアクセスへの輸送を示している、シャツトル部材の第１の円弧位置にあるハブアクセスの一部断面側面図である。

図３２は、処理モジュールに関連するサンプル分配ステージタン内で試験キャリアを輸送する輸送手段を示している図１に示した処理モジュールの前方区域の一部断面拡大正面図である。

図３３は、図１に示した処理モジュールに関連するサンプル分配ステーションの一部破断一部断面拡大斜視図である。

図３４は、図３３の線３４−３４に沿って取ったサンプル分配ステーションの一区域の断面図である。

図３５は、図３３に示したサンプル分配ステーションへ配送のため標本源を保持するための台の前方斜視図である。

図３６は、図３５の線３６−３６に沿って取った台の底面図である。

図３７は、図３３に示したサンプル分配ステーションに関連する台運搬機構の拡大一部所面側面図である。

図３８は、図３３の線３８−３８に沿って取ったサンプル分配ステーションに関連する台運搬機構の拡大断面図である。

図３９は、サンプル分配ステーションの一部破断拡大正面斜視図である。

図４０は、図３３に示したサンプル分配ステーションに関連するサンプルピペッティングポンプ機構の拡大斜視図である。

図４１は、図４０の線４１−４１に沿って取ったサンプルピペッティングポンプ機構の一つの斜視図である。

図４２は、図２６に示したサンプル分配ステーションに関連するピペッティングポンプ機構の作動順序の要約図解である。

図４３は、図１に示したシステムに関連する洗浄ウェルの拡大斜視図である。

図４４は、第１の洗浄チャンバーへ挿入したプローブを有する洗浄ウェルの側断面図である。

図４５は、第２の洗浄チャンバーへ挿入したプローブを有する洗浄ウェルの側断面図である。

図４６は、第３の浸漬チャンバーへ挿入したプローブを有する洗浄ウェルの側断面図である。

図４７は、サンプル分配ステーションのサンプルビペツテイングポンブ機構に関連するヒーターと液体レベルセンサーの拡大断面図である。

図４８は、モジュール内部から見た時の、図１に示した処理モジュールに関連する試薬分配ステーションの一部破断一部断面拡大斜視図である。

図４９は、図４８に示した試薬配送ステーションに関連する試薬配送円陣型コンベアの一部破断乎面図である。

図５０は、図４９に示した試薬配送円陣型コンベアにより支持される試薬バイアルおよび関連するホルダーの斜視図である。

図５１は、試薬配送円陣型コンベアによって輸送される集積した３バイアル試薬パツクの拡大斜視図である。

図５２は、試薬配送円陣型コンベア内で支持される３バイアル試薬パツクの平面図である。

図５３は、３バイアル試薬パツクの試薬配送円陣型コンベア中へのユーザーによる配置の拡大斜視図である。

図５４は、図１に示した処理モジュールに関連する組合せた洗浄および基質分配ステーションの拡大斜視図である。

ンブリが配置される区域の一部破断拡大斜視図である。

図５６は、図５４に示した組合せた洗浄および基質分配ステーションに関連する運搬手段の拡大正面図である。

図６０は、図１に示した処理モジュールに関連するリーダーステーションの一部破断一部断面拡大正面図である。

ステーションの拡大斜視図である。

確に定量するための自動化態様におけるすべてのタイプのアッセイの実施に広い用途を有する。この環境において、本発明は酵素化学アッセイ、ＤＮＡプローブアッセイ、イムノアッセイ、および螢光、吸光度およびケミルミネッセンス技術を使用する生物学的材料の細胞または細胞表面アッセイを実施するために使用することができる。

本発明はまた、水、空気および土壌中の汚染物質のような非生物学的材料の存在の検出にも用途を有する。本発明のいくつかの面はまた、研究室ピペッティングシステム全般に、そして液体サンプルの正確にして再現性ある移送を必要とする匹敵する臨床、医学および産業環境に広い用途を有する。

本明細書においては、システムＩＯはヒト血清／血漿のスクリーニングのための血液アッセイの特定機能環境において説明されるであろう。

血液アッセイ分析は、検出し定量化すべきサンプル中の生物学的物質に応じて異なる種々の指示されたプロトコールに従う。各プロトコールは厳密に守らなければならない注意深く時間状めされたそして指示されたステップのシーケンスを規定する。各プロトコールはまた、正確にして再現性ある結果を確実にするために注意深く維持しなければならない温度および湿度のような他の環境条件を規定する。

この環境において、分析システムｌＯは三つの主要構成部分、試験キャリア１２（図９およびｌＯに最良に見られる）、処理モジュールおよびマスター制御モジュール１６（図１および２に最良に見られる）を含んでいる。これら構成部分は、最初それらの個々の機能を規定し、そしてそれらの間の主要な関係を同定するため総括的態様で記載されるであろう。次にこれら構成部分のより詳細な説明が図示した好ましい具体例において実行される操作の特定の環境において続くであろう。

Ａ、試験キャリア試験キャリア１２は、システム１０による分析のための液体の一つ以上のサンプルを収容するように従事する。キャリア１２は処理操作全体にわたってサンプルを保持する。

図９および１０が図示するように、試験キャリア１２はあらかじめ定めた関係に整列したテストウェル１８のシリーズを含んでいる。各テストウェル１８は分析すべき生物学的流体の指示された分量（またはサンプル）を保持する。

試験キャリア１２の形および構造は勿論選択したアッセイ操作および技術に応じて変わることができる。例えば、キャリア１２は本明細書がこの語を使用しているように、各自が「テストウェル」を構成する１本以上の試験管を保持する台の形を取ることができる。

図９および１０に示した図示した好ましい具体例においては、試験キャリア１２は不活性プラスチックまたはガラスのような他の軽量不活性材料製の一体成形構造のトレーの形を取る。図示した具体例においては、ポリスチレン系プラスチックポリマーから成形され、そして比較的低コストの一回使用使い捨て部品を意図する。

図９および１０が示すように、成形したテストウェル１８は、１２の直線状列ＣＩないしＣＩ２　（図１０において垂直に延びている）と、そして８の直線行Ｒ１ないしＲｅ（図１Ｏにおいて水平に延びている）からなる指示されたマトリックスを形成している。

テストウェルのマトリックスへの指示された配置はキャリア１２上の分離された処理区域を確立することを可能とする。各処理区域は一つ以上のサンプルを収容することができ、すべての収容されたサンプルについて一つの選ばれた血液アッセイ操作の実行に専念させることができる。サンプルは同じまた異なる流体源から起源することができる。

図示した具体例においては、キャリア１２の各完全列が、本明細書でこの語を用いるような「処理区域」を形成する。各処理区域は各行の列の数に相当する８個のテストウェル１８を含んている。説明の容易性のため、処理区域はトレイ上のそれらの列番号（ＣＩないしＣｌ２）をもって記載され、テストウェル１８はそれらのそれぞれの列内の行番号（Ｒ１ないしＲ８）によって記載されるであろう。例えば、４番目の処理区域中の３番目のテストウェル１８はウェルＣ３，Ｒ４（またはウェルＲ３，Ｃ４）として同定されるであろう。

図示した具体例においては、分析システム１０は以下の検体についてヒト血清／血漿の６種類の別々の分析を実行する。

（１）肝炎８表面抗原（ＨＢｓ　Ａｇ）：（２）肝炎Ｂコア抗原（ＨＢｃ　Ａｇ）；（３）ヒト免疫不全ウィルス抗体（ＨＩＶ−１）；（４）ヒトＴ細胞親リンパウィルス（タイプ１）抗体（ＨＴＬＶ−１）；（５）Ｔ、Ｐａｌ　１　ｉｄｕｍ　（梅毒）抗体（ＴＰＡ　Ａｂ）；（６）グルタメートピルベートトランアミナーゼ（ＧＴＰまたＡＬＴ）上のうちアッセイ（１）ないしく５）はイムノアッセイであるが、アッセイ（６）は酵素化学である。

これらの異なる血液アッセイ操作に適応させるため、キャリア１２上に確立された処理マトリックスは、以下のように６処理区域の２対（合計１２の処理区域について）を形成する（図１Ｏも参照せよ）。

処理区域ｃｉおよびＣ７：ＨＢｓ　Ａｇ処理区域Ｃ２およびＣ８：ＨＢｃ　Ａｇ処理区域Ｃ３およびＣ９：ＡＬＴ処理区域Ｃ４およびＣＩＯ：ＨＩＶ−１処理区域Ｃ５およびＣ１ｌ：ＨＴＬＶ− １処理区域Ｃ６およびＣ１２：ＴＰＡ　Ａｂ各列Ｒ１ないしＲ８に１サンプルづつ８サンプルまで各処理区域に収容することができる。

それ故図示した具体例においては、キャリア１２は１６の異なる起源サンプルについて６種もの異なる血液アッセイ操作に適応できる。このようにして単一のキャリア１２は合計９６の血液アッセイ操作を実行することができる。

Ｂ、処理モジュール処理モジュール１４は、選択された分析操作のすべての種々のステップをオペレーターの有意義の介在なしで始めから終わりまで自動的に実行する内蔵ユニットである。

今や主に図１ないし８を参照されたい。これら図面が示すように、処理モジュール１４は共通のハウジング内に、シャツトル部材２０によって個々に奉仕されるいくつかの処理ステーション２２ないし３６を含んでいる。シャツトル部材２０は、試験キャリア１２を種々の処理ステーション２２ないし３６へ運搬する。代わって処理ステーション２２ないし３６は、試験キャリア１２に収容されているサンプルについて一つ以上の指示された処理役割を実行する。後で詳細に記載するように、シャツトル部材２０を用いて、処理モジュール１４はいくつかの試験キャリア１２を種々の処理ステーション２２ないし３６間で不連続経路において順番に輸送することができ、このようにして異なるキャリア１２の上で異なる指示された処理役割を同時に実行する。

１、処理ステーション各処理ステーション２２ないし３６は、キャリア１２上の種々の処理区域内に収容されたサンプルについて一つ以上の指示された処理役割を実行する。

図示した好ましい具体例においては、処理ステーション２２ないし３６の大部分は多機能であり、そして実行すべき役割に関し、キャリア１２上に区画された種々の処理区域間を区別することができる。多機能ステーションはそれによってキャリア１２の一つ処理区域内で一つの指示された処理役割（ステップ）を実行し、そしてキャリア１２の他の処理区域内で異なる指示された処理役割（ステップ）を実行する。この態様において処理モジュール１４は、単一の試験キャリア１２上に収容された異なる起源のサンプルについて多数の異なるプロトコールに従ってイムノアッセイ操作を実行することができる。

図示した好ましい具体例においては、多数の処理ステーション２２ないし３６はシャツトル部材２０と無関係にキャリア１２を動かし、位置決めすることができる。これは後で詳細に記載されるであろう。

処理ステーションの数は、分析システム１０によって実行すべき処理役割の数およびタイプに応じて勿論変動することができる。例証した具体例において実行される種類の血液アッセイ操作は、一般に一つ以上の規定された試薬、緩衝液、および／または希釈液（これらはまとめて「試薬」と呼ばれる。）を分析するために得た流体の規定された容積またはサンプルへ添加することを一般に含んでいる。サンプル／試薬混合物は、典型的には酵素標識を含んでいる固相結合複合体を形成するように１回以上インキュベートされる。インキュベーション後、サンプル／試薬混合物は、遊離もしくはほかに非特異的に結合した成分を除去するため通常１回以上洗浄され、そして基質が添加される。複合体上の酵素標識は、検出しそして定量的に測定することができる分子が生成する過程において、基質を分解する触媒として役立つ。例証した具体例においては、生成した分子は螢光を発し、検出されるのはこの螢光である。代わりに、基質なしでそれ自身螢光を発する酵素標識を使用することができる。

ＡＬＴを除いて、例証具体例において実行されるすべての血液アッセイは、いわゆる固相アッセイ技術を利用する。この技術は複合体を結合するため免疫吸着材料の固相支持体に依存する。小さい常磁性粒子、濾紙、プラスチックボール、ポリサッカライドビーズ、または試験管の内壁のような固相支持体をこの目的のために使用することができる。例証具体例においては、分析システム１ｏは、固相結合部位として可動性常磁性粒子を利用する操作を用いて記載されるであろう。

常磁性粒子および螢光性基質を利用する好ましい分析操作は米国特許出願に記載されている。

例証具体例においては、処理ステーションは、実行される６種のイムノアッセイの全部に対し大部分共通である８種の一般的処理役割を実行するように確立される。この構成において、処理モジュール１４は以下の主要処理ステーションを含んでいる（図１，３および６を見よ）。

（１）処理ステーション２２は、１以上の試験キャリア１２を貯蔵しそして分配するためのキャリア分配ステーションである。

（２）処理ステーション２４は、生物学的流体の多数の源を受取り、そしてこれら生物学的流体のサンプルを試験キャリア１２のウェル１８中へ分配するためのサンプル分配ステーションである。

（３）処理ステーション２６は、１種以上の試薬を試験キャリア１２のウェル内に収容されたサンプル中へ分配するための試薬分配ステーションである。

（４）処理ステーション２８は、サンプルおよび試薬混合物をインキュベートするための少なくとも一つのインキュベーションステーションである（例証具体例においては、２８Ａないし工で指定した９のインキュベーションステーションがある）。

（５）処理ステーション３０は、サンプルから未結合物質を除去するための洗浄ステーションである。

（６）処理ステーション３２は、検出のためそれから螢光分子が生成する基質を添加するための基質分配ステーションである。

（７）処理ステーション３４は、螢光分子の存在および濃度を決定するためのリーダーステーションである。

（８）処理ステーション３６は、すべての処理ステップが終了した後試験キャリア１２の処分のためのキャリア処理ステーションである。

図２２が示すように、各処理ステーションは、制御モジュール１６（これは後で詳細に記載されるであろう）からの指令に応答して、関連するステーションに一つ以上の規定した任務を実行することを命令するそれ自体専用の制御機構を含んでいる。処理モジュール１４は、これら制御機構および関連する部品のための慣用構造の内蔵ＤＣ電源（図２を見よ）を含んでいる。

各処理ステーション２２ないし３６は、図示した他の処理ステーションとは別に、−人立ちで作動できる内蔵モジュールよりなる。

他のステーションと組合せにある時（例証具体例のように）、各処理ステーション２２ないし３６のモジュール性格は、日常的な保守、故障修理および修理を簡単化するため各ステーションの除去、修理および交換を単純化する。

処理モジュール１４はまた、処理ステーションの作動をサポートする以下の種々の内蔵システムを含んでいる。

（１）内蔵流体配送システム４０（これは図２３が詳しく図示する）は、６個の大量流体容器４２（図２３において８１ないしＢ６として指定）から６個の保持タンク（図２３においてＲ１ないしＲ６として指定）を経由して種々の処理ステーションへ流体を輸送する。容器４２およびタンク４３は、すべてモジュール１４内のアクセスし得る前方コンパートメント４４に貯えられる（図１および３を見よ）。溶液が空になった時、容器４２は除去され、新しい容器４２で交換される。タンク４３は処理モジュール１４内に永久的に設置される。

大量容器ＢｌおよびＢ２は、サンプル調製ステーション２４によって使用される溶液および緩衝液を保持する。大量容器Ｂ３１よ試薬分配ステーション２６によって使用される溶液を保持する。大量容器Ｂ４は洗浄ステーション２８によって使用される溶液を保持する。大量容器Ｂ５は基質分配ステーション３２によって使用される試薬を保持する。大量容器Ｂ６は、サンプル分配、試薬分配、洗浄および基質分配ステーションによって使用されるビペ・ノド浸漬溶液を保持する。

個々のポンプ（図２３においてＰｌないしＢ６として指定）（よ流体を容器４２からその関連するタンク４３へ配送する。図３力（示すように、各タンク４３は、関連するポンプをオンおよびオフへ転する高流体レベルセンサー１１２および低流体レベルセンサー１１４を含んでいる。与えられたタンク４３内の流体レベルが高レベルセンサー１１２の下へ下降するとき、関連するポンプをオンへ転じ、流体をタンク４３へ配送する信号が発生する。与えられたタンク４３内の流体レベルが高レベルセンサー１１２の上へ上昇する時、関連するポンプをオフへ転する信号が発生する。流体が低レベルセンサー１１４の下方へ下降するとき、すべての処理が停止する。

アスター制御モジュール１６は、タンク４３を補給するための高レベルセンサー１１２がポンプをオンに転じた後関連するポンプの運転のだめの最大時間を確立する。もし高レベルセンサー力くこの時間内に流体の存在を検出しなければ、マスター制御モジュール１６は関連するポンプを不能化し、そしてユーザーのための警告信号を発生する。

通常このタイムアウト条件は関連する大量流体容器４２が空になった時に発生する。制御モジュール１６は関連するポンプを不能化するだけであるから、ユーザーは他のシステム作業を中断することなく空の容器を除去し、新しい充満した大量流体容器４２で交換することができる。ユーザーはそれ故、システム１０全体を遮断することなく大量流体を“飛行中”に変更することができる。

（２）内臓流体廃棄システム４６（これは図２４が詳細に示す）は、操作の間発生した廃棄流体をモジュール１４内の他のコンパートメント５０（図１を見よ）に貯えられる廃棄流体容器４８へ輸送する。

廃棄流体回路４６は、システム１０から廃棄流体タンク３１Ｂ中へ廃棄流体を吸引する真空ポンプ３１６を含んでいる。インライン疎水性フィルター３２０は、廃棄流体によって保育されるバクテリアおよび病原のような汚染物が真空ポンプ３１６へ入り、そして大気中へ押出されるのを防止する。

間歇的に運転される排出ポンプ３２２は、流体を廃棄流体タンク３１８から廃棄流体中に保存されるバクテリアまたは病原物質を破壊する適当な消毒剤をそれ自体含んでいる廃棄流体容器４８へ吸引する。タンク３１８中の流体レベルセンサー３２４は排出ポンプ３２２をオンおよびオフへ転する。

図１が示すように、光センサ−４７は廃棄流体容器４８の存在を検出する。他のセンサー４９はコンパートメント５０へのドア５３の開放を検出する。図２３が示すように、センサー４９がドア５３が開いていることを検出した時、またはセンサー４７が廃棄流体容器４８が存在しないことを検出した時、制御モジュール１６は廃棄ポンプ３２２を不能化する。容器４８が存在し、ドア５０が閉じている時だけ、制御モジュール１６は廃棄ポンプ３２２の運転を許容する。それ故ユーザーはシステムｌＯ全体を遮断することなく廃棄流体４８を“飛行中”廃棄流体容器を空にしまたは交換することができる。ひずみゲージ５５は廃棄流体容器の重量を感知する。その重量が規定された量に達した時、オペレーターに容器４８を空にするように告げる信号が発生する。もしオペレーターが規定した時間内に応答しなければ、制御モジュール１６はオペレーターが上述した態様で容器４８を空にするまで廃棄ポンプ３２２を不能化する。

（３）内蔵環境制御システム５２（これは図２５が詳細に示す）は、各処理ステーション２２ないし３６の指示された温度および室温条件をモニターし、維持する。後で記載するように、環境制御システム５２の一部の要素はモジュール１４内のコンノ寸−トメント５１内に収容され、他の要素は種々のワークステーションの部分である。図示した具体例では、３０ないし４５°Ｃ（そして好ましくは約４２℃）の範囲の温度がシステム５２によって維持される。

これら内蔵サポートシステム４０．４６および５２の他の面は後で詳細に記載されるであろう。

ａ、シャツトル部材シャツトル部材２０（図５ないし７を見よ）は、個々の試験キャリア１２を各処理ステーション２２ないし３６へ搬入用する。シャツトル部材２０はまた、ＤＣｔ源３８へ接続したそれ専用の制御機構（図２２が示すような）を含んでいる。

この制御機構はシャ・ソトル部材を制御モジュール１６から受取った指示された指令に従って運転する。それ故シャツトル部材２０は処理モジュール１４のなお他のモジュール化部品を構成する。

シャツトル部材は三つの別々の方向に可動である。

（１）一方向において（図５においてＡで指定した矢印により示される）、シャツトル部材２０は軸５４のまわりを３６０°またはその指示された小さい増分を回転する。

（２）他の方向において（図５においてＢで指定した矢印により示される）、シャツトル部材２０は、回転軸５４に沿って軸方向に位置する位置の指示された範囲内を上昇および下降運動する。

（３）第３の方向において（図５においてＣで指定した矢印により示される）、シャツトル部材２０は、回転軸５４へ放射方向に向かっておよび遠去かる位置の指示された範囲内を運動する。

シャツトル部材およびその関連するプラットフォームは多様に構成し得る。図示した具体例（図５に全体として最良に示されている）において、シャツトル部材２０はターンテーブル５８へ取付けられた支持フレーム５６を含んでいる。第１のステッパモータ６０は回転軸５４のまわりでターンテーブル５８および取付けたフレーム５６を回転する。第１のステッパモータ６０はシャツトル制御機構から受取った信号に応答して作動する。

支持フレーム５６は可動デツキ６２を支持している。デツキ６２は、ターンテーブル５８０回転軸５４と一般に平行に伸びる軌道６４中でフレーム５６の上を可動である。第２のステッパモータ６８へ連結された駆動スクリュー６６がデツキ６２を軌道６４に沿って上下に進める。第２のステッパモータ６８もシャツトル制御機構から受取った信号に応答して作動する。

図示した具体例において、駆動スクリュー６６の時計方向回転はデツキ６２を回転軸５４に沿って下方に（ターンテーブル５８へ向かって）進める。駆動スクリュー６６の反時計方向回転はデツキ６２を回転軸５４に沿って上方に（ターンテーブル５８から遠方へ）進める。

シャツトルプラットフオーム７０自体は、ターンテーブル５８の回転軸５４の放射方向へ延びる他の軌道７２中、デ・ツキ上で可動である。第３のステッパモータ７６へ連結したベルト駆動７４は、プラットフォーム７０をこの軌道７２に沿って回転軸５４へ向かってそしてその遠方へ進める。第３のステツノ（モータ７６もシャ・ントル制御機構から受取った信号に応答して作動する。

図示した機構において、シャツトルプラットフォーム７０はターンテーブル５８が回転する時（第１のステ・ソノ（モータ６０を活動化することにより）その第１の方向（矢印Ａ）に、デ・ツキ６２カベ上下動するとき（第２のステッパモータ６８を活動化すること（こより）その第２の方向（矢印Ｂ）に、そしてブラ・ノドフオーム７０力（デツキ６２上て内外に運動するとき（第３のステラ／＜モータ７６の活動化により）その第３の方向（矢印Ｃ）に動く。

ｂ、シャツトル部材による試験キャリアの輸送今や主として図９ないし１５を参照されたい。これら図面が示すように、シャツトルプラットフォーム７０は、キャリアを種々の処理ステーション２２ないし３６間で輸送するため試験キャリア１２と固着係合出入へ可動である。試験キャリア１２．シャ・ソトルブラットフォーム７０、および処理ステーション２２ないし３６は各自この目的のために特別に形成される。

さらに詳しくは、キャリア１２のテストウェル１８は共通の底平面８４（図９を見よ）に沿って終わっている。試験キャリア（ままた、２対の対向側壁７８（ＡおよびＢ）および８０（ＡおよびＢ）を含んでいる。側壁の第１の対７８Ａ／Ｂはテストウェル１８の指示された行に平行に延びる。側壁の第２の対８０Ａ／Ｂはテストウェル１８の指示された行に平行に延びる。図９が示すように、第１の側壁７８Ａ／Ｂは共にウェル１８の底平面８４の下方で終わっている。第２の側壁８０Ａ／Ｂはウェル１８の底平面８４の上方で終わっている。

ノツチしたキーみぞ８２（ＡおよびＢ）が各第１の側壁７８Ａ／Ｂに形成され、各キーみぞ８２Ａ／Ｈの最上端縁８４はウェル１８の底平面８４の上方を延びている。二つのキーみぞ８２Ａ／Ｂはそれらのそれぞれの側壁７８Ａ／Ｂで相互に一般に軸方向に整列している。第１の側壁７８Ａ／Ｂは、キャリア１２全輻に沿ってキーみぞ８２Ａ／Ｂの両側から延びるフランジつき底縁８６Ａ／Ｂで終わっている。

シャツトルプラットフォーム７０（図１１を見よ）は、横みぞ８８およびみぞ８８内の盛り上ったキー路９０を含んでいる。シャツトルプラットフォーム７０上のみぞ８８および盛り上ったキー路９０は、キャリア１２の向きに応じてキャリア１２上の一方のフランジつき底辺と関連するキーみぞ（８６Ａと８２Ａか８６Ｂと８２Ｂのどちらか）を相互に捕捉する。このかみ合い部分の協力はキャリア１２を輸送のためプラットフォーム７０上に固定する（図１２が示すように）。

図６ないし８が最良に示すように、処理モジュール１４は処理ステーション２２ないし３６に関連するいくつかのシャツトルアクセス（これらは一般に参照番号２３，２５，２７，２９．３１および３５によって固定されている）を含み、そこでキャリア１２はシャツトルプラットフォーム７０により取上げられ、およびおろし去られることができる。

図１２ないし１５は代表的シャツトルアクセスを図示する。アクセスは支持表面９２および切り欠き部分９４を有する。切り欠き部分９４はシャツトル７０および関連するデツキよりも幅広であるが、しかし第１の側面７８Ａ／Ｂに沿って測ったキャリア１２はど幅広ではない。

表面９２上に適正に支持された時（図１３を見よ）、キャリア１２は切り欠き部分９４を差し渡し、ノツチしたキャリアキーみぞ８２Ａ／Ｂは一般に切り欠き部分９４の中心線に沿って配置される。

図１２ないし１５が示すように、これら相互の補完的な形状はシャツトル部材２０によるキャリア２０の種々の処理ステーション２２ないし３６への搬出入を可能化する。

シャツトルプラットフォーム７０を与えられたアクセス支持表面９２上に支持された試験キャリアとの保合にもたらすため（図１４および１５を見よ）、第３のステッパモーター７６はシ忙ノトルブラットフォーム７０を指定された取上げ位置へその放射方向（矢印Ｃ）に動かす。この位置（図１５に示した）において、シャツトルプラットフォーム７０はキャリア１２がその上に安置されている切り欠き部分９４の直下に中央決めされて配置され、最後方キャリア側壁７８Ｂのフランジつき底縁８ＢＢおよびキーみぞ８２Ｂはプラットフォーム７０のみぞ８８およびキー路９０と整列に一致する。

次に第２のステッパモータ６８は、ウェル１８の底すなわち図９に示したキャリアウェル１８の底平面８４との接触にその軸方向経路（矢印Ｂ）にシャツトルプラットフォーム７０を持ち上げる。この運動はキャリアをアクセス表面９２から離して持ち上げる（図１２が示すように）。

プラットフォーム７０がキャリア１２を持ち上げる時、プラットフォームみぞ８８は最後尾キャリア側壁７８Ｂのフランジつき底縁８６Ｂを捕捉し、係合する。

プラットフォームキー路９０は該キャリア側壁７８Ｂに形成したノツチしたキーみぞ８２Ｂを同時に捕捉する。

上方へ持ち上げられた第２の側壁８０Ａ／Ｂは、プラットフォーム７０がウェル１８の全底平面８４を均一に横断する支持接触を形成することを許容し、この態様においてプラットフォーム７０とキャリア１２の間の支持接触の面積を最大にする。

図１２が示すように、キャリア１２の側方および横寸法はシャツトルプレート７０および下に横たわるデツキ６２の対応寸法を上廻っている。このため番いの部分間の係合が発生する時、キャリア１２の一部分はシャツトルプラットフォームおよび下に横たわるデツキ６２の各側および先頭綴をオーバーハングする。

番いの部分間のこれらの保合が発生する時、キャリア１２はシャツトルプラットフォーム７０上の固定輸送位置に効果的に係止される（図１２を見よ）。プラットフォーム７０とキャリア１２間のかみ合い接続は、プラットフォーム７０がキャリア１２を輸送するため種々の経路中を運動する時、キャリア１２がプラットフォーム７０上でスライド運動するのを防止する。

キャリア１２は、図１２および１３に示したステップの一般に逆順序を辿ることにより、シャツトルプラットフォーム７０から除去され、そして所望のアクセス支持表面上に置かれる。第１のステッパモータ６０がシャツトルプラットフォーム７０と選択したキャリア支持表面９２と整列される。第３のステッパモータ７６は、プラットフォーム７０を（矢印Ｃ）切り欠き部分９４上方のおろし去り位置へ動かす（図１２が示すように）。第２のステッパモータ６８は、プラットフォーム７０を下降させ（矢印Ｂ）、キャリア１２を支持表面９２上に着座するようにもたらし、そしてフランジつきキャリア底縁８６Ｂをプラットフォームみぞ８８から外して持ち上げ、同時に二つのキーみぞ８２Ｂを９０から分離する（図１３を見よ）。

図１２ないし１５が示すように、アクセス支持表面９２は、好ましくはキャリア１２のフランジつき縁８６Ａ／Ｂを捕捉し、キャリア１２を所定位置に保持するための１以上の横断みぞ９６を含んでいる。アクセス支持表面は、キャリア上のキー８２Ａ／Ｂと係合するキー路９７を含むことができる。

アクセス支持表面９２は、支持表面上のキャリア１２をシャツトル部材２０と無関係に動かすための機構を含むこともできる。これは後で詳しく記載されるであろう。

図１６ないし２１が示すように、いくつかのワークステーションは、アクセス支持表面９２上に支持されたカバー９３を含んでいる。カバー９３は温度を制御し、処理の間ウェル１８から蒸発する流体損失を防止する。図示した好ましい具体例においては、すべてのインキュベーションステーション２８Ａないし１はカバー９３を含んでいる。

シャツトル部材２０はカバー９３をキャリア１２上に配置し、同時にキャリア１２をインキュベーションステーション２８に置く。

シャツトル部材２０はカバー９３をキャリア１２から除去し、同時にキャリア１２をインキュベーションステーションから輸送し、カバー９３をそのワークステーションへ残す。

さらに詳しくは、各カバーは内側リップ１０３および外側リップ１０５を含んでいる。各カバー９３の外側リップ１０５は一対のピン９５上に懸架される。各ピン９５は上方つめ９９および下方つめ１０１を有するトラック９７に係合される。

ピン９５が上方つめ９９内に相互に安着している時（図１６および１７Ａ／Ｂが示すように）、カバー９３の外側リップ１０５は支持表面９２の上方に懸架される。これはシャツトルプラットフォーム７０がキャリア１２をカバー９３の下の関連するアクセス中へ輸送する（図１８において矢印Ｃが示すように）ことを許容する。前方キャリア縁７８Ａはカバー９３の内側リップと係合する。

シャツトルプラットフォーム７０がアクセス中へ放射方向に動くときの僅かの上方軸方向運動（矢印Ｂ）は、ピン９５をそれらの上方つめ９９から離す（図１８が示すように）。同時に後方キャリア縁７８Ｂはカバー９３の外側リップ１０５と係合する。

シャツトルプラットフォーム７０が次に軸後方下方に動くとき（図１９中の矢印Ｂ）、キャリア１２は支持表面９２上に着座する。

ピン９５はトラック９７で下方つめ１０１中へスライドする。シャツトルプラットフォーム７０は放射方向に引込み（図１９において矢印Ｃ）、図２０および２１が示すように支持表面９２上に今やカバーされたキャリア１２を後に残す。

シャツトルプラットフォーム７０がキャリア１２をアクセスの外へ輸送する時のカバー９３の除去は、これらステップの逆シーケンスを辿る。シャツトルプラットフォーム７０の軸方向上昇運動はキャリア１２と支持表面９２から持ち上げ、ピン９５をそれら下方つめ１０１から離す。下方への軸方向運動を組合せたプラットフォーム７０のアクセスの外への放射方向運動は、ピン９５をそれらの上方つめ９９内に着座することをもたらし、外側カバーリップ１０５をキャリア１２から持ち上げる。続く放射方向運動はカバー９３ないしキャリア１２をアクセスから輸送する。

図１１ないし１５が示すように、シャツトル部材２０は、好ましくはシャツトルプラットフォーム７０上に試験キャリア１２の存在を検出するための位置センサー９８を含んでいる。図示した具体例においては、位置センサー９８は試験キャリア１２の下面へ向かって赤外線ビームを発射するエミッターを含む。この位置センサーはまた、もし試験キャリア１２がシャッタープラットフォーム７０上に適切に位置決めされていれば、試験キャリア１２の下面から反射された後の赤外線ビームを受光するデテクターを含んでいる。

シャツトル制御機構は、シャツトルプラットフォーム７０が取り上げ作業の後試験キャリア１２を適切に係合したことを確かめるため位置センサー９８を作動する。シャツトル制御機構はまた、おろし去り作業の後試験キャリア１２がシャツトルプラットフォームから除去されたことを確かめるため位置センサー９８を作動する。シャツトル制御機構はまた、試験キャリアがずれていないことを確かめるため、その指示された取上げおよびおろし去り点間の過渡期間に位置センサー９８を周期的に作動する。

試験キャリア１２がシャツトルプラットフォーム７０上に存在しなければならない時反射信号の不存在、または試験キャリア１２が存在してはならない時反射信号の存在は、制御モジュール１６へエラー信号を送信する。エラー信号を受信した時、制御モジュール１６はオペレーターへエラーメツセージを提供し、エラーが修正されるまでシステムの作業を棚上げする。

２、中央ハブ今や主として図６ないし８を参照されたい。これら図面が示すように、異なる処理ステーション２２ないし３６は、多方向シャツトル部材２０のまわりに円弧方向に離れたそして垂直に積み重ねられた関係に配置される。この構造において、シャツトル部材２ｏはすべての処理ステーションへのアクセスを得るため囲まれた中央静止ハブ１００内で作動する。ハブ１００はシャツトル部材２０の回転軸５４と軸方向に整列している。アクセスは、シャツトル部材２０をその回転軸５４のまわりの種々の不連続回転、軸方向および放射方向経路内を動かすことによって得られる。

中央ハブ１００を通るアクセスのための処理ステーションの特定の配置は勿論変化することができる。図示した具体例（図７および８を見よ）においては、ステーション配置は、一般に図８にＡＩないしＡ４と指定した円弧方向に離れた４位置において中央ハブ１００を通るアクセスを提供する。

キャリア分配ステーション２２．サンプル分配ステーションおよび一つのインキュベーションステーション２８Ａ（それぞれ）へアクセス２３／２５／２９Ａは、第１の円弧方向位置Ａ１において中央ハブ１００を通って提供される。この位置において、キャリア分配ステーション２２のためのハブアクセス２３は、シャツトル部材２０の回転軸５４に沿っ゛て測定し、サンプル分配ステーション２４のためにハブアクセス２５の垂直方向上方に重ねられる。インキュベーションステーション２８Ａのためのハブアクセス２９Ａは、サンプル分配ステーション２４のためのハブアクセス２５の下方垂直に重ねられる。図示した配置においては、垂直に重ねたアクセス２３．２５および２９Ａは、一般にシャツトル部材２ｏの回転軸５４に沿って軸方向に整列しており、すなわちそれらは一つが他の一つの頂部にある。

試薬分配ステーション２６および追加の４インキユベーシヨンステーシヨン２８　Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅ　（それぞれ）へのアクセス２７／２９Ｂ−Ｅは、第２の円弧方向位置Ａ２において中央ハブ１００を通って提供される。この位置において、試薬分配ステーション２６へのアクセス２７は、シャツトル部材２ｏの回転軸５４に沿って測定し、追加のインキュベーションステーション２８Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅへのハブアクセスの上方に垂直に重ねられる。アクセス２９　Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅはそれ自身やはり一つが他の上に垂直に重ねられる。垂直に重ねたアクセス２７および２９Ｂ／Ｃ／Ｄ／Ｅはすべて一つが他の上にシャツトル部材２０の回転軸５４に沿って軸方向に整列される洗浄ステーション３０および基質分配ステーションへのアクセス３１は、第３の円弧方向位置Ａ３において中央ハブ１００を通って提供される。この位置において、ステーション３ｏおよび３２０両方は共通のハブアクセス３１を共有する。追加の４インキユベーシヨンステーシヨン２８Ｆ／Ｇ／Ｈ／Ｉへのアクセス２９　Ｆ／Ｇ／Ｈ／Ｉも第３の円弧方向位１ｆＡ３において提供され、洗浄および基質分配ステーション３０および３２のための共通のハブアクセス３１の下に一つが他方の上に垂直に重ねられる。垂直に重ねられたアクセス３１および２９Ｆ／Ｇ／Ｈ／　■はすべてシャツトル部材２ｏの回転軸５４に沿って軸方向に整列される。

リーダーステーション３４およびキャリア処分ステーション３６へのアクセスは、第４の円弧方向位置Ａ４において中央ハブ１００を通って提供される。この位置において、リーダーステーション３４は処分ステーションの上に位置決めされる。しかしながら、リーダーおよび処分ステーション３４および３６は、共通のいくらか垂直方向に広くなったアクセスを共有する。

追加の円弧位置における配置により、そして中央ハブ１００に沿って上下に他の垂直方向に重ねることにより、追加の処理ステーションを中央ハブ１００へ追加することができることを認識すべきである。また、シャツトル部材２ｏの各方向運動のため、垂直に重ねたアクセスはシャツトル部材２００回転軸５４のまわりに一つが他方の上に互いに整列していることを必要としないことを認識すべきである。

すべての処理ステーション２２ないし３６ヘアクセスするための中央ハブ１００の配置は、図示した好ましい具体例が示すように、処理ステーション２２ないし３６の一つを他の上に垂直に重ねることを許容するコンパクトな作業ゾーンを形成する。処理モジュール１４はそのため、多数のワークステーションの存在にもがかわらず、比較的小さい「足跡」を提供する。

３、中央ハブ１００内の環境の制御中央作業ハブ１００のコンパクトサイズは、モジュール内の処理区域の湿度および温度の制御を簡単にする。

さらに詳しくは、環境制御システム５２（図２および２５を見よ）は、作業ハブ１００に奉仕する中央湿度制御サブシステム１０２を含んでいる。サブシステム１０２はモジュール１４の後部コンバーメント５１内に配置される（図２が示すように）サブシステムｌＯ２は、環境温度の空気を吸引し、そして処理した空気を３０°Ｃないし４０″Ｃの間の最終所望温度および約７０％の相対湿度レベルにおいてアクセス３５に隣接して配置される出口開口１１６を通ってハブｌＯＯ中へ輸送する調湿器１０４を含んでいる。加熱され調湿された空気は中央ハブ１００アクセス区域全体を満たし、そして処理ステーション２２ないし３６の相互接続された区域中に分散する加えて（後で記載するように）、環境制御システム５２はワークステーション２２および３６内の温度をモニターし、そして制御する。ワークステーションは適正な内温を維持するため発泡絶縁材１０６（図４を見よ）で包囲される。

Ｃ，マスター制御モジュールマスター制御モジュール１６（図１に全体が最良に示されている）は、選択された実行すべき各分析操作のために確立されたプロトコールに従った処理モジュールの全体の作業を順番に実行するように、処理ステーション２２ないし３６の種々の制御機構へ適切な指令信号を発する。ケーブル１１８がマスター制御モジュール１６を処理モジュール１４へ連結する（図２が示すように）。

マスター制御モジュール１６は、主マイクロプロセッサ−ＣＰＵ１２２（図２３を見よ）を包囲するハウジング１２０を含んでいる。ＣＰＵ　１２２は、処理モジュール１４内に支持されているシャツトルに部材２０および処理ステーション２２ないし３６のための種々の制御機構へ決められた指令信号を発する。ＣＰＵ１２２はまた、制御機構が計画したシーケンスに従って作動しており、失敗が発生してないことを確かめるため、種々の制御機構に対して周期的な状態質問を発する。

一般的作動において、状態質問を受取った時、与えられた制御機構はもしその時ある仕事に従事中であれば“Ｂｕｓｙ”信号を送り返し、もしその仕事が完了し次の指令信号を望んでいるならば“Ｎｏ　Ｂｕｓｙ”信号を送り返すであろう。

この主従関係において、ＣＰＵ１２２は処理モジュール１４の全体の作動を調整し、制御する。

種々の構成が可能であるが、図示した具体例（図２２を見よ）においては、ＣＰＵ１２２は多タスクシーケンスを許容するＩＢＭＰＣ互換性ＣＰＵボードを含んでいる。種々の入力／出力（Ｉｌｏ）デバイスが慣用のデータおよびアドレスバス１２４および１２６を通って主ＣＰＵ　１２２と通信する。種々の配置が可能である。図示した具体例においては、入力デバイスは慣用のキーボード１２８の形を取り、出力デバイスは慣用のビデオモニター１３０およびプリンター（図１を見よ）の形を取る。

デジタル情報を記憶するための大容量記憶装置１３４はバス１２４および１２６を通って主ＣＰＵ１２２と通信する。大容量記憶装置１３４はその内部メモリ内にマスター制御スケジュール５９０を保持する。マスター制御スケジュール５９０は、ステップシーケンス、ステップタイミングおよび他の作業パラメータのような個々のプロトコールの種々のプロセス要件を統合する。

シャツトル部材２０および処理ステーション２２なｕ％Ｌ、３６の個々の制御機構へＣＰＵ１２２によって発せられる指令信号（±マスター制御スケジュール５９０に基づいて誘導される。マスター制御スケジュール５９０は、処理ステーション２２なｐｚし３６の作動と協調して試験キャリア１２の種々の処理ステーション２２なｕＸｔ、３６への搬入および搬出を調整し、それにより処理モジュール１４の全体の作動を調整する。

例証した処理システム１０のための特定のマスター制御スケジュール５９０は後で詳しく記載されるであろう。

■、好ましい具体例の処理モジュールの詳しし１説明これから種々の処理ステーションの全体の作動および図示しｔこ好ましい具体例の特定の構造的配置が記載されるであろう。処理ステーション２２および３６は、キャリア１２力（処理モジュール１４を通って進むときそれが遭遇する同じ一般的シーケンスで、すなわち（１）キャリア分配ステーション２２．（２）サンプル分配ステーション２４．（３）試薬分配ステーション、（４）インキュベーションステーション２８Ａないし１．　（５）洗浄ステーション３０゜（６）基質分配ステーション３２．（７）リーダーステーション３４、および（８）キャリア処分ステーション３６の順（こ記載されるであろう。

一般的しイアウドとして（図１が示すよう（＝）、正面力Ａら見て、キャリア分配ステーション２２は処理モジュール１４の頂部中央部分を占め、サンプル分配ステーション２４および試薬分配ステーション２６の間に位置する。

背後から見て（図４が示すように）、中央ハブ１００およびシャ部区域の後部中央区域を占める。リーダーおよび廃棄ステーション３４．３６は一方の内側部区域を占め、試薬分配ステーション２６の内部部分は処理モジュール１４の他の内側部区域を占める。種々のインキュベーションステーション２８ＡないしＩは、直前に記載した中央ハブ１００のまわりの種々の位置に分散される。

Ａ、キャリア分配ステーション図２６ないし３０が示すように、キャリア分配ステーション２２は、複数の試験キャリア１２を垂直に積み重ねた配置に保つ貯蔵ビン１３６を含んでいる。透明なガラス板を有するヒンジつきドア１３８（図１を見よ）が処理モジュール１４の正面からビン１３６へのアクセスを提供する。

ドア１３８を開くことにより、試験キャリア１２はユーザーによって第１のキャリア側壁７８Ａ／Ｂが頭部から尾部まで対面するようにビン１３６中へ装填されることができる。図２７が示すように、ビン１３６の上部は、キャリア１２の頭部から尾部までの寸法よりかなり大きい頭部から尾部寸法を有し、それにより装填を容易にする隙間を提供する。前方案内棒１４２は、ドア１３Ｂを開いた時ビン１３６内に積まれたキャリア１２がぐらつくのを防止する。

やはり図２７が示すように、ビン１３６の下部は、キャリア１２の頭尾同寸法より僅かに大きい減少した頭尾同寸法を有する。ここでは前方および後方案内板１４６がキャリア１２を垂直方向に整列させるようにキャリア１２の後側壁７８Ａおよび７８Ｂと接触している。

ビン１３６の下部は、キャリア分配ステーションのｔこめのノ１ブアクセス２３（シャ・メト１１部材の第１の円弧方向位置（こある）と連通している。

図２６ないし２８が示すよう４二、一対の対向して離れｔこスト・ノブ１５０が頭尾方向にビン下部１４４を差し渡す。（ｆね１５２１！、各ストップ１５０をアクセス２３へ延び、ギヤ１ノア１２の垂直スタ・ツクの通路中へ突出する位置へ自力１つて付勢する（図２６カ鳴示すように）。ビン１３６中の最下方のギヤ１ノア１２の第２のＩｎ壁８０Ａ／Ｂは、アクセス２３中へのキャ１」ア１２の放出を阻止するよう（二通常これらのスト・ツブ１５０）こ対抗してもたれてし）る。

ストップ１５０は各自キャ１ノア分配ステーション２２のＩＩｍ機構へ連結された゛ルノイド１５４へ連結される。ｖ制御信号力（終了した時、ばね１５２はストップ１５０をそれらの平常の延びｔこ位置（図２９が示すような）へ自動的（こ復帰させる。

シャツトル部材２０のｔこめの詐制御機構（ま、ギヤ１３フ分配ビン１３６から試験キャリア１２を１時（こ１個取り出すよう（こギヤ１３フ分配ステーション２２のための制御機構と協調してず乍用する。

さらに詳しくは試験キャリア１２を取り出すべき時（こ、開制御モジュール１６は決められた制御指令をシャ・ソトル制御機構へ発する。

図２８に実線てそして図３１ｉこ、α線で示すよう（こ、シャツトル邸１従機構は、シャットルブラ・ソトフォーム７０を／％ツブクセス２３中ハ、そしてビン１３６中の最下試験キヤＩＪア１２との接触（二上方へ膿かす。シャットルブラ・ソトフォーム７０（よ最下ギヤ１ノア１２をス１ツブ１５０から離して持ち上＋ｆ、それｌこよりギヤ１Ｊア１２全体の：タックをも持ち上げる。次にキャリア分配ステーションのための制御機構はストップ１５０を引込める（やはり図２８に示したように）。

図２９が示すように、ストップ１５０を引込め、シャツトルプラットフォーム７０は最下キャリア１２をストップ１５０の下方へ動かすように下降する。ストップ１５０はそれらの平常の延びた位置へ復帰する。図３０が示すように、シャツトルプラットフォーム７０がさらに下降するとき、最下キャリア１２はノ＼ブアクセス２３中へ動き、次の隣接するキャリア１２の側壁８０Ａ／Ｂが今や延びたストップ１５０に対抗して静置されるようにもたらされる。

図３１に実線で示すように、シャツトル制御機構は次に、今や放されたキャリア１２を支持しているシャットルブラ・ソトフォーム７０を次の章で記載するサンプル分配ステーション２４のためのノ＼ブアクセス２５へ動かす。

ビン１３６の上部にあらかじめ定められたレベルに設置された第１の赤外線センサー１５６（図２７を見よ）は、最頂位キャリア１２がセンサー１５６のレベルの下方へ下降した時を感知する。これが発生した時、オペレーターディスプレーのため、“注意：キャリアビンを再充填せよ″のメツセージが発せられる。ビン１３６の下部のあらかじめ定められたレベルに設置された第２の赤外線センサ］　−１５８は、最頂位キャリア１２がセンサー１５８のレベル下方へ降下した時を感知する。これが発生した時、“低キヤリアレベル”ｂ　メツセージ（好ましくは可聴警報とともに）オペレーターのため（こ発せられる。好ましくは、制御モジュール１６は、スタックのレベζ　ルを少なくとも下限センサー１５８の上方にもって来るよ引こ追加のキャリア１２が置かれるまで、キャリア１２のその後の分配を防図３１が示すように、試験キャリア１２がキャリアビン１３６から取出され、関連するハブアクセス２３へ入ったとき（上に記載したように）、シャツトル制御機構は、最初プラットフォーム７０をハブアクセス２３の外へ動かすようにプラットフォーム７０を放射方向内側へ（主シャツトルフレーム５６へ向かって）動かし、次に軸方向下方へ、そして次にプラットフォーム７０（そして、それと共にキャリア１２）をサンプル分配ステーション２４のためのノ１ブアクセス２４へ動かすように放射方向外側へ動かす。

■、サンプル分配ステーション２４ヘキャリアの配送サンプル分配ステーション２４は、処理モジュール１４の正面から見て（図１および３２が示すように）、キャリア分配ステーション２２の右側に位置するピペッティングステーション１６２を含んでいる。

図３２に最良に示されているように、サンプルピペッティングステーション１６２自体はサンプル分配ステーション２４のノ１ブアクセス２５から離れている。

包囲された通路１６４がノ１ブアクセス２５からサンプルピペッティングステーション１６２へ通じている。

図３２が示すように、輸送具１６６は通路１６４中ハブアクセス２５とサンプルピペッティングステーション１６２の間を可動である。

通路１６４は既に記載した支持表面９２を含んでいる。通路１６４の支持表面９２は受取ったキャリア１２のフランジつき底縁８６Ａ／Ｂと係合する図１２に示した溝と類似の一対の離れた溝９６を含んでいる。

図３２が示すように、輸送具１６６は、キャリア１２が支持表面９２上に置かれる時隣接する側壁８０Ｂと係合する外へ延びるフィンガーカ月６８を含んでいる。

輸送具１６６はステッパモータ１７２によって駆動される軸ねじ１７０に沿って運ばれる。ステッパモータ１７２はサンプル分配ステーションのための制御機構によって作動される。ステッパモータ１７２はねじ１７０を回転し、輸送具１６６をねじ１７０に沿ってサンプルピペッティングステーション１６２へ向かって、またはハブアクセス２５へ向かって進める。フィンガー１６８によって係合される時、輸送具１６６はステッパモータ１７２が作動するときキャリア１２をみぞ９６内へ動かす。

シャツトル制御機構は、輸送具１６６をハブアクセス２５内の適正な位置へ動かし、シャツトルプラットフォーム７０が到着してキャリア１２をハブアクセス２５中に配置する時キャリア１２をフィンガー１６８と係合させるように、サンプル分配ステーションのための制御機構と協調する。次に、サンプル分配ステーションの制御機構はステッパモータ１７２を作動し、輸送具１６６（そしてそれと共にキャリア１２）をサンプルピペッティングステーション１６２へ（図３２の矢印で示すように）動かす。

輸送具１６６は、流体サンプルがキャリア１２中へ分配される時他の任務を実行するためシャツトル部材２０を離脱させる。

図示した好ましい具体例においてはく図３２が示すように）、環境制御システム５２は、ハブアクセス２５とサンプルピペッティングステーションの間を結ぶ通路１６４の直下に配置された電気抵抗ヒーター１７４を含んでいる。関連するサーミスター１７６は、図示した具体例では３０ないし４５°Ｃの範囲内である所望温度にヒーターを維持する。関連するサーミスター１７６と共に加熱した落下天井エレメントｌＯ８も設置される。それにより試験キャリア１２は、それがソース標本を受取る時コンスタントな所望温度に曝露され続ける。前に記載したように、発泡体１０６がワークステーション２４の内部区域を絶縁する。

２、サンプル分配ステーションへのソース標本の配送図３３が示すように、サンプル分配ステーション２４は一つ以上の標本ソース容器をサンプルピペッティングステーション１６２へ搬出入するサンプル配送アセンブリ１７８を含んでいる。

処理モジュール１４の正面から見て（図３３が示すように）、サンプル配送アセンブリ１７８はサンプルピペッティングステーション１６２の上下両側に配置される。配送アセンブリは標本供給機構１８０（サンプルピペッティングステーションの右へ）と、標本排出機構（サンプルピペッティングステーションの左へ）を含んでいる。サンプルピペッティングステーション１６２は二つの機構１８０および１８２の間の通路に配置される。

標本供給および排出機構１８０および１８２に試験管１８６の一つ以上の台１８４（図３５にも示されている）を収容する。各試験管１８６は処理モジュール１４によって分析すべきソース流体の標本を収容する。図示した具体例においてはソース流体は血漿または血清である。

台１８４は、供給機構１８０からサンプルピペッティングステーション１６０中へおよびそれを通って一時に一台づつ運ばれ、そこて試験管１８６から流体が待機している試験キャリア１２へ移される。台は次に排出機構へ動く。

ａ、ソース標本台図３５が示すように、各ソース標本台１８４は複数の試験管１８６を支承することができる。図示した具体例においては、試験管１８６は各台１８４内に直列に配置される。単一のキャリア１２が１２までのソース標本を取り扱うことができる図示した具体例では、各音１８４は１２本までの試験管１８６を支承することができる。

このため各音１８４は１個のキャリア１２に対し十分なソース標本を収容する。

図示した具体例では、標本供給機構は一時に１０個までの台１８４を取り扱うことができ、それにより１０個の試験キャリアを充填するのに十分なソース容器を供給する。

各音は種々に構成できる。

図示した具体例においては（図３５および３６を見よ）、各ラック１８４は軽量成形プラスチックでつくられ、再使用のためオートクレーブ滅菌される。台１８４は、一般に等間隔のリブ１９０を含む、底で開いたベース部分１８８を含んている。リブ１９０はベース部分１８８を内部ポケット１９２に分割し、ポケット１９２の数は台１８４上に支承できる試験管の数に等しい。

台１８４は、頂部において開いている内部区域を形成する直立側壁１９４を含んている。一方の側壁１９４は窓１９６のシリーズを形成するように決められた間隔でカットされている。各窓１９６はベース部分１８８中の隣り合う二つのリブの間に一般に配置され、そのため各試験管はそのラベル１８７が対応する窓１９６の外へ面するように台１８４中に配置することができる。

図示した具体例においては、外側へ付勢されたばね１９８（図３５を見よ）が各試験管１８６を対応する窓１９６へ向かって押し付け、各試験管１８６をサンプルピペッティングステーション１６２を通って運ぶ時そのラベル１８７を露出させて台１８４内で静止に保つ。可撓性ばね１９８はまた、ユーザーが異なる直径の試験管１８６を台＋８４内に配置することを許容する。

図３５が示すように、各音１８４はそれを独特に同定するしるしを持ったラベルを含んでいる。ラック１８４内の各試験管１８６もその白味のソースを独特に同定するしるしを持った個々のラベル１８７を含んでいる。この態様において各音１８４を与えられたキャリアＩ２へそして与えられたキャリア１２内の各ウェルをその中味のソースおよび実行すべき特定のアッセイへ相関させる記録を確立することができる。

後で詳細に記載されるように、この記録はシステム１ｏによって好ましくは自動的に発生される。

ｂ、ソース標本供給および排出機構図３３に最良に示されているように、標本供給機構１８０は、サンプルピペッティングステーション１６２への配送を待っている台１８４を列にして保持する傾斜路２００を含んでいる。第１のコンベア２０２は傾斜路２００上の台１８４をサンプルピペッティングステーション１６２へ順番に配送する。

種々の構造が可能であるが、図示した具体例（図３３が示すように）においては、第１のコンベア２０２は傾斜路２００中に形成された軌道内を二頭型てで可動な一対の押し捧２０４を含んでいる。

各押し捧２０６は、駆動プーリー２１０を遊びプーリー２１２の間を延びるベルト２０８へ連結される。各駆動プーリー２１０は代わって他のベルト駆動２１６によってステッパモータ２１８へ接続された共通の駆動シャフト２１４へ取付けられる。

サンプル分配ステーションの制御機構は、押し捧２０４を二頭型てで軌道２０６を通って進めるようにステッパモータ２１８を作動させる。押し捧２０４は傾斜路２００中に存在する最前部の台１８４に押し付けられ、それおよびグループ中その後のすべての他の台をサンプルピペッティングステーション１６２へ向かってスライドさせる。毎回ステッパモータ２１８が作動し、毎サイクルの間、１個の台１８４がサイプルビベツティングステーション１６２へ配送されるように、離れた距離押レバー２０４を進める。

図示した具体例（図３６が示すように）では、磁石２２０が各音の底へ取付けられる。磁石ホール効果センサー２２２がサンプルピペッティングステーション１６２の台１８４が配送される区域（図３３が示すように）に設置される。このセンサー２２２は磁石２２０の存在を検出し、それにより台１８４のサンプルピペッティングステーション１６２へ通ずる傾斜路２２４への配送を検出する。

種々の構造が可能であるが、図示した具体例（図３７が示すように）では、第２のコンベア２２６は、傾斜路２２４上に形成された軌道２３０の上下に直角軌道中二頭立てで動く一対の押し捧２２８を含んでいる。押し捧２２８に偏心リンク２３２上で台１８４の底部分１８８の隣接するリブ間の間隔またはその数倍に等しい距離で離れている。偏心リンク２３２は、共通回転のため二つの中間歯車２３８　Ａ／Ｂによってステッパモータ２３６へ連結された、二つの離れた駆動歯車２３４　Ａ／Ｂへ回転自在に取付けられる。

サンプル分配ステーションのための制御機構はステッパモータ２３６をサイクル態様で作動させ、その間に駆動歯車２３４　Ａ／Ｂは反時計方向に完全１回転する。

このサイクルは、軌道２３０の下に引込んだ第１の位置にある押し捧２２８て始まる。駆動歯車２３４　Ａ／Ｂが反時計方向へ約９００回転するとき、偏心的に連結された押し捧２２８は軌道２３０の上方へ突出している垂直上方通路へ二頭型てで動く。図３７が示すように、押し棒は台１８４の底の二つの離れたリブ１９０と係合する。駆動歯車２３４　Ａ／Ｂがさらに９０°回転し続ける時、押し捧２２８は駆動２３０上の水平通路中を（図３７図の右から左へ）台１８４の底の二つの隣接するリブ１９０間の距離に相当する距離を動く。係合している台１８４はそれによって隣接する試験管の間の間隔に等しい距離傾斜路２２４上を前進する。

駆動歯車が残りの１８０°回転するとき、連結された押し捧は軌道２３０の外の垂直方向下方の通路内に二頭型てて動き、そして軌道２３０からさらに引込まれながら次のサイクルの準備のため第１の位置へ戻る。

ステッパモータ２３６の各サイクルの間、第２のコンベアは傾斜路２２４上の台１８４を段階的にサンプルピペッティングステーション１６２の下を１回試験管１８６を１本づつサンプル排出機構へ向かって進める。

図３４が示すように、赤外線スキャナー２４０は台１８４および試験管１８６上のラベル１８５／１８７をそれらがサンプルピペッティングステーション１６２を通って前進する時に読取る。スキャナー２４０は情報を主制御モジュール１６へ送り、そこで与えられたキャリア１２への各ラック１８４、およびその中味のソースおよび実行すべき特定のアッセイへの与えられたキャリア１２内の各ウェル１８を配列するデーターベースがつくられる。

やはり図３３が示すように、サンプル排出機構１８２は、サンプルピペッティングステーション１６２を出る待合１８４を受入れるため他の傾斜路２４２を含んでいる。第３のコンベア２４４は傾斜路２４２上の台２４２をサンプルピペッティングステーション１６２から遠方へ進める。

種々の構造が可能であるが、図示した具体例（図３８に示す）では、第３のコンベア２４４は傾斜路２４２中に形成されたスロット２４８中を二頭型てて可動な一対の押し捧２４６Ａ／Ｂを含んでいる。リンク２５０が押し捧２４６Ａ／Ｂを連結する。一方の押し捧２４６Ａはベルト駆動２５６によりステッパモータ２５４へ連結された軸ねじ２５２上に支承される。他方の押し棒２４６Ｂはロッド（図示せず）に沿って押し捧２４６Ａと共に二頭型てて可動である。サンプル分配ステーションの制御機構は、押し捧２４６Ａ／Ｂをサイクル態様で運転するようにステッパモータ２５４を作動する。

このサイクルは第１の位置（図３８に実線で示した）にある押し捧２４６Ａ／Ｂで始まる。台１８４は、サンプルピペッティングステーション１６２から押し捧２４６　Ａ／Ｂの次の排出位置へ第２のコンベア２２６によりガイド２６０に沿って動く。制御機構はステッパモータ２５４を作動する。ステッパモータ２５４は軸ねじ２５２を回転し、押し棒２４６Ａ／Ｂをそれらの休息位置から前方へ（図３８において右から左へ）固定距離を第２の位置（図３８に点線で示した）へ前進させる。この固定距離は台１８４の幅より大きい。前進している押し捧２４６Ａ／Ｂは隣接する台１８４に当接し、それおよびその前方に位置するすべての他の台１８４をグループとしてサンプルピペッティングステーション１６２の遠方へスライドさせる。

第２の位置へ到着した時、ステッパモータ２５４は軸ねじ２５２を逆回転し、押し捧２４６Ａ／Ｂを後方へ（図３８において左から右へ）それらの休息位置へ戻す。サイクルは終わり、他の台１８４の排出位置への配送を待つ。

３、ソース標本のキャリアへの配送図３２ないし３９に最良に示すように、アクセス２５からサンプルピペッティングステーション１６２へ通ずる通路１６４は、サンプルピペッティングステーションの区域において２本の離れたスロット２６４および２６６を有するパネル２６２の下を延びている。

スロット２６４および２６６の中心線は一般に平行でありそして頭尾方向（処理モジュール１４の正面から見て）に延びている。スロット２６４および２６６は、キャリア１２上の各列に配置されるウェル１８の数（これは例証具体例においてはウェル１８の８個の距離）を差し渡すのに必要な距離軸方向（細長い）の長さで延びる。

スロット２６４および２６６の中心線は、台１８４上の隣接する試験管１８６の中心間の間隔またはその倍数と一致するあらかじめ定めた距離だけ離れる。

制御機構は、後で詳しく記載されるあらかじめ定めたシーケンスに従って、選択した列を一方のスロット２６４または２６６との所望の整列に位置決めするため、パネル２６２の下のキャリア１２を動かすように輸送具１６６を作動する。

処理モジュール１４の正面から見て、その上で台１８４がサンプルピペッティングステーションを通って進行する傾斜路２２４は、スロットしたパネル２６２の前方に配置される（図３９が示すように）。

ａ、サンプルピペットサブアセンブリなお主として図３９を参照すると、サンプル分配ステーション２４は、ソース流体を試験管１８６からスロット２６４および２６６を通して露出されたキャリア１２のウェル１８へ移すため、ピペッティングステーション傾斜路２２４とスロットつきパネル２６２０間を可動であるサンプルピペットサブアセンブリ２６８を含んでいる。サンプル分配ステーション２４の制御機構は、制御モジュール１６の全体の指令に従って、これら流体移換作業を調整する。

サンプルピペットサブアセンブリ２６８は、ピペッティングステーション傾斜路２２４およびスロットつきパネル２６２を差し渡す一対の並置した静止ブーム２７０および２７２を含んでいる。一方のブーム２７０はランプ２２４から軸方向に一方のスロット２７０の上を延び、他方のブーム２７２は軸方向に他方のスロット２６６の上を延びる。サブアセンブリ２６８は、それぞれ各ブーム２７０および２７２上に取り付けられた第１および第２のピペット２７４および２７６を含んでいる。各ピペット２７４および２７６はそれを通って流体が移されるピペットプローブ２７５および２７７を含んでいる。

各ピペット２７４および２７６はそれぞれのブーム２７０および２７２上の架台２７８および２８０へ取り付けられる。各架台２７８および２８０は、関連するスロット２７０，２７２と傾斜路２２４の間を水平方向に（これは図３９において頭尾方向である）その関連するブーム２７０および２７２上を独立に可動である。制御機構によって運転される架台ステッパモータ２８４によって駆動される架台駆動ベルト２８２は、そのそれぞれのブーム２７０／２７２上を水平に架台２７８／２８０を動かす。

第１および第２のピペット２７４／２７６は各自それぞれのブーム２７０／２７２上を垂直方向に（上下に）独立に可動である（図３２にも示すように）。制御機構によって運転されるステッパモータ（図示せず）によって駆動される慣用のジヤツキねじ２８６が各ピペット２７４／２７６をそれぞれのブーム２７０／２７２上を垂直に動かす。

制御機構は、選択したプローブ２７５／２７７が所望の試験管１８６またはキャリアウェル１８の中心線と整列するように、関連するピペット２７４／２７６の水平方向の正確な運動を確実にするため各架台ステッパモータ２８４を選択的に作動する。制御機構はまた、試験管１８６またはキャリアウェル１８の整列した中心線の軸方向に関連するプローブ２７５／２７７を下降または上昇させるための各ジヤツキねじステッパモータを選択的に作動する。

サンプルピペットサブアセンブリ２６８は、一つづつ各プローブ２７５／２７７のための洗浄ウェル２９０／２９２を含んでいる（図３９を見よ）。図示した具体例では、洗浄ウェル２９０／２９２は、傾斜路２２４と関連するスロット２６４／２６６間の関連するプローブ２７５／２７７の運動通路内に配置される。制御機構は、選択したプローブ２７５／２７７が適正な時間にその洗浄ウェル２９０／２９２に関し位置決めされるように、架台ステッパモータ２８４とジヤツキねじステッパモータを選択的に作動する。そこでは後で詳しく記載するように、洗浄液がプローブ２７５／２７７を通ってウェル２９０／２９２中へ運ばれる。

図２３は、サンプル分配ステーション２４のための代表的な流体配送回路４０を示す。そこに示すように、サンプルピペットサブアセンブリ２６８は、第１および第２ピペツト２７４／２７６へ流体を配送するための、各自関連する弁２９５，２９７および２９９を有する三つの注射筒ポンプ２９４，２９６および２９８を含んでいる。別の高容量回転洗浄ポンプ３００は洗浄液を第１のピペット２７４を通って輸送する。

第１の注射筒ポンプ２９４は、ソース流体を関連するプローブ２７５へ送入するように第１のピペット２７４と連通ずる。第１および第２の注射筒ポンプ２９６および２９８は第２のピペット２７６と連通ずる。これらポンプ２９６および２９８はソース流体（第２のポンプを通って）そして希釈液を（第３のポンプを通って）第２のピペット２７６のプローブ２７７へ送入および送出するように協調して作動する。

図４０および４１が示すように、各注射筒ポンプ２９６／２９８は、出口３０４と、出口３０４へ向かっておよび離れてポンプ室３０２内を可動なピストン３０６を有するポンプ室３０２を含んでいる。ポンプピストン３０６の出口３０４から離れる運動は流体を関連するプローブ２７５／２７７中へ引き（または吸い）、ポンプピストン３０６の出口３０４へ向かう運動は流体を関連するプローブ２７５／２７７から追い出す。

ポンプピストン３０６は、軸ねじ３１０およびガイド捧３１２上に支承されたアクチュエーター３０８へ取付けられる。ステッパモータ３１４は、アクチュエーター３０８をねじ３１０に沿って軸方向に上方または下方へ進め、それによって取付けたポンプピストン３０６をポンプ室出口３０４へ向かってまたは離れて動かすように、各軸ねじ３１０を回転する。制御機構は、プローブ２７５／２７７による液体の搬送を調整するように所望のステッパモータ３１４を選択的に作動する。

図２３に示すように、洗浄ウェル２９０および２９２は、それ自体図２４に示されている洗浄液回路４６と連通している。

４、作動シーケンス図示した具体例においては、サンプル分配ステーションのための制御機構はステップの決められたシーケンス（これは図４２が概略的に示している）に従ってキャリア１２を満たす。

一般に、このシーケンスは、第２のプローブ２７７を連続的に洗浄しながら、第１のプローブ２７５をソース（すなわち試験管１８６）と、あらかじめ指定したウェルの間を流体を移送するために使用する。このシーケンスは次に、第２のプローブ２７７を、第１のプローブ２７５によって前もって満たされた一つのウェル１８中に存在する流体を上に引き、あらかじめ定めた量の希釈液をそれへ加え、そして次に希釈したサンプルを一以上のほかのテストウェル１８へ排出することによってソース流体の希釈したサンプルを調製するために同時に使用しながら、第１のプローブ２７５を洗浄する。

この任務分割は、第１のプローブ２７５を比較的高容積液体移送（単位時間あたり）のため最適化し、同時に第２のプローブ２７７をソース流体の精密な希釈液をつくるため比較的小容積流体移換のため最適化することを許容する。図示した具体例においては、第１のプローブ２７５は約０．０２４インチの内径を有するが、第２のプローブ２７７は０．０１０インチのより小さい内径を有する。別体の高容積洗浄ポンプ３００は、第１のプローブ２７５の大きい流体ハンドリング容量のために設置される。

サンプル分配シーケンスは、充填すべきキャリア１２をアクセス部位２５へ以前に記載した態様で輸送することによって始まる。そこから輸送具１６６がキャリア１２をサンプルピペッティングステーションへ動かし、第１列の８個のウェル（すなわち第１のテスト区域全体）が第１のスロット２６４の下に整列するようにキャリア１２を位置決めする。

同じ一般的期間に、第１および第２のコンベア２０２および２２６は、サンプルピペッティングステーションへ分析すべき第１のソース流体の試験管１８６を保持する台１８４を運搬する。台１８４は、分析すべき第１のソース流体を収容している試験管１８６の中心線が第１のブーム２７０の下に位置決めされるように位置決めされる。

例証具体例においては、赤外線管検出器３２６（図３４を見よ）が第１のブーム２７０の直下のその正しい位置に配置された時、試験管１８６の存在を感知する。試験管１８６がその正しい位置を誤ったりまたは他のように外れている時はエラー信号が発せられる。

この前記置の間、第１のプローブはその洗浄ウェル２９０内に配置される。

図４３ないし４５が示すように、洗浄ウェル２９０は三つの室３２８．３３０および３３２に分割されている。出口３３４は第１の室３２８から延びている。廃棄流体システム４６の真空ポンプは洗浄液を室３２８から吸引するために出口３３４と連通している。

第３の室３３２中の入口３３６は、洗浄液を図示した具体例では傾斜路２４２の下に配置されている（図２３および図３３に点線で示されているように）タンクＲ６から洗浄液ポンプ３３８を通って輸送する。

使用において、プローブ２７５は最初第１の室３２８に配置される（図４４が示すように）。溶液はタンクＲ２から（高容量洗浄ポンプ３００を通って）第１のプローブ２７５の内部から物質を洗い落とすようにポンプされる。

次に、プローブ２７５は第２の室３３０へ配置される（図４５が示すように）。

溶液はタンクＲ２から高容量ポンプ３００によりプローブ２７５を通って再びポンプされる。この溶液はプローブ２７５の外側のまわりを閉じられた第２の室内で激しく循環し、出口３３４を通って排出のため第１の室３２８へあふれる。これはプローブ２７５の外側区域を洗浄する。

最後にプローブ２７５は第３の室３３２内に配置される（図４６が示すように）。液体はプローブのまわりを入口３３６を通って連続的に循環し、出口３３４を通って排出のため第１の室３２８中へあふれる。ここではプローブ２７５は使用する時まで浸漬する。

制御モジュール１６はサンプル分配作業の間毎にプローブ２７５を浸漬させる。

制御モジュール１６はまた、好ましくは、システムｌＯが保守のため一時的に停止される間、または処理活動の途切れの間プローブ２７５をその浸漬位置（すなわち第３の室３３２内）へ動かすユーザー作動“休憩”指令を含んでいる。

ウェル２９３の構造はウェル２９０と同じである。プローブ２７７の洗浄および浸漬のシーケンスも、洗浄液をプローブ２７７を通って輸送するために使用される洗浄ポンプ３００が必要なことを除いて、直前に記載したシーケンスと同じである。第２のプローブ２７７は小さい直径を持っているため、注射筒ポンプ２９８の運転が十分な洗浄効果を提供する。

試験キャリア１２および台１８４が所定位置に動くとき、洗浄ポンプ３００の運転は停止する。図示した具体例においては、第１の注射筒ポンプ２９４は関連するポンプ室３０２内の緩衝液のあらかじめ定めた小容積を捕捉するよう作動する（ピストン３０６を下方へ動かすことにより）。洗浄サイクルの後事１のプローブのための注射筒ポンプ２９４内に捕捉された緩衝液のこの小容積は、後でソース標本の第１の希釈サンプルをつくるために使用される。しかしながら他の配置においてはこの当初ステップは省略することができる。

第１のピペット２７４は、次に第１のプローブ２７５を洗浄ウェル２９０から引き上げ、そしてそれを待機しているあらかじめ位置決めされた試験管１８６の上の整列にビーム２７０上を水平に動かすように作動する。次に第１のプローブ２７５は試験管１８６中のソース流体中へ下降する。

第１の注射筒ポンプ２９４は、ポンプピストン３０６を押し下げ、ソース流体のある容積を第１のプローブ２７５中に引くように作動する（図４２においてステップＡが示すように）。プローブ２７５（今やソース流体にある容積を収容している）は試験管１８６から引き上げられる。

次に第１のプローブ２７５は、キャリア１８の列ｌの行ｌを占領している第１のテスト列の第１のテストウェル１８またはテストウェル（Ｒ１，ＣＩ）の上に一致する初期位置へブーム２７０上を水平に動く。第１のプローブ２７５は次にジヤツキねじステッパモータ２８８を作動することによってテストウェル（Ｒ１，ＣＩ）中へ下降する。

第１の注射ポンプ２９４はポンプピストン３０６を引き上げるように作動し、第１のプローブ２７５を通って第１のウェル（Ｒ１゜Ｃ１）中へ生の（未希釈）ソース流体の決められた部分標本を排出する（図４２のステップＢが示すように）。

第１のプローブ２７５は次にウェル（Ｒ１，ＣＩ）から引き上げられる。輸送具１６６は今やキャリア１２を第２の列のテストウェル１８が第１のスロット２６４と整列するように１行幅（図３５において左へ）動かすように作動し、該プローブ２７５は第１のテスト行に関しては初期化されたままである。第１のプローブは次に第１のテスト行の第２のテストウェル１８またはテストウェル（Ｒ１、Ｃ２）中へ下降する。第１の注射筒ポンプ２９４は、第１のプローブ２７５を通ってウェル（Ｒ１，Ｃ２）中へ生（未希釈）のソース流体を押し出すように（ポンプピストン３０６をさらに上げて）作動する（図４２のステップＣが示すように）。プローブ２７５は再び上昇する。

テストウェル（Ｒ１，ＣＩ）および（Ｒ１，Ｃ２）は今や各自これら処理区域ＣＩおよびＣ２（図１０が示すように）中のサンプルについて実施されるＨＢｓ　（Ａｇ）およびＨＢｃ　（Ａｇ）アッセイに必要な、ソース流体の生（未希釈）サンプルを収容する。

輸送具１６６は次に、第３の列のテストウェル１８をスロット２６４との整列にもたらすため、今や上昇した第１のプローブ２７５を第１のテスト行に関して初期化を保って、キャリア１２を左へ他の１列幅だけ進めるたように作動する。初期化されたプローブ２７５は次に、第１のテスト行のための第３のウェルまたはテストウェル（Ｒ１，Ｃ３）中へ下降する。第１の注射筒ポンプ２９４は再び残りのソース流体をプローブ２７５からテストウェル（Ｒ１，Ｃ３）中へ排出するように作動する（図４２のステップＤが示すように）。図示した具体例においては、この最終ストロークをもって緩衝液の捕捉された容積をポンプ室３０２からテストウェル１８中へ排出され、それによりこのテスト区域Ｃ３において実行すべきＡＬＴアッセイに必要なソース流体が第１の希釈液をつくる（図１０を見よ）。

図４２のステップＡないしＤが示すように、第１のプローブ２７５はサンプルを選択したテスト行の３個のテストウェル１８（すなわち列１ないし３）中へ運ぶように作動する間、第２のプローブ２７７はその洗浄ウェル２９７中に浸漬し、そして第２の注射筒ポンプ２９６は緩衝液を第２のプローブ２７７を洗浄するため送り続ける。

好ましくは、ソース流体はキャリア１２のテストウェル１８へ入る前に試験キャリア１２の温度へ加熱される。この結果は種々の手段によって得ることができるが、例証具体例（図４７に示す）においては、環境制御システムが第１のプローブ２７５の先端にまわりに巻いた抵抗線を含み、それにより電気抵抗ヒーター３４６を形成する。プローブヒーター３４６へ連結したサーミスター３４８が通路１６４が加熱される同じ温度である３０ないし４５℃の範囲のコンスタントな温度へ維持する。ヒーターおよびサーミスター３４６および３４８は第１のプローブ２７５をカプセル化するプラスチックシェル３５０内にシールされる。

図示した好ましい具体例（図４７が示す）においては、サンプル分配ステーション２４のための制御機構はやはり第１のプローブ２７５に先端に支承された液体レベルセンサー３５２を含んでいる。

このセンサー３５２はプラスチックシェル３５０から外側へあらかじめ定めた距離を延び、プローブ２７５の先端から離れている。センター３５２とプローブ２７５間の電気伝導（両者が流体と接触した時に発生する）は第１の注射筒ポンプ２９４の運転を終了する信号を発生する。ジヤツキねじ構造と組合せたこのセンサー３５２は、第１のプローブ２７５が一貫してソース流体の精密な部分標本をテストウェル１８へ運ぶことを確実にする。

部分標本が第３のテストウェル（Ｒ１，Ｃ３）へ運ばれた後、第１のプローブ２７５は上昇し、そしてスロット２６４からその洗浄ウェル２９０の上の合致に水平に動かされる。第１のプローブ２７５はその洗浄ウェル２９０中へ下降する。

その間第２のプローブ２７７への洗浄液の流れは止められ、第１のプローブ２７５への洗浄液の流れが洗浄ポンプ３００の運転によって始まる。

輸送具１６６はテストキャリア１２を６列幅分有へ（図３５で見て）動かし、ウェルの第３の列（Ｃ３）を第２のスロット２６６との整列にもたらす（図４２のステップＥが示すように）。

第２のプローブ２７７はその洗浄ウェル２９２から引き上げられ、そのブーム２７２上を第２のスロット２６６へ動かされる。第２のプローブ２７７は第３の列の第１の行、すなわちテストウェル（Ｒ１，Ｃ３）との一致に第２のスロット２６６上の初期化位置に配置される。

一旦初期化されると、第２のプローブ２７７は前に第１のプローブ２７５によってウェル（Ｒ１，Ｃ３）中へ運ばれた第１の希釈サンプル液中へ下降する。第２の注射筒ポンプ２９６は流体の決められた容積をこのウェル（Ｒ１，Ｃ３）からプローブ２７７中へ吸引するように前に記載した態様で運転され、第３の注射筒ポンプ２９８は緩衝液のある容積を関連するポンプ室３０２中へ引くように運転される（図４２のステップＥが示すように）。次に第２のプローブ２７７は第１のテスト列中の第４のウェル１８．すなわちウェル（Ｒ１，Ｃ４）中へ下降する。流体の部分標本が第２の注射筒ポンプ２９６の運転によって第２のプローブ２７７を通ってウェル（Ｒ１、Ｃ４）中へ運ばれる（図４２のステップＦを示すように）。同時に第３の注射筒ポンプ２９８は緩衝液の決められた量を第２のプローブ２７７を通って導入し、それによって処理区域Ｃ４（図１Ｏを見よ）において実行すべきＨＩＶ−１アツセイのための第２の希釈液をつくるように運転される。

シーケンスは繰り返し、第２のプローブ２７７は再び上昇し、キャリア１２は再び一つの列の上に動く。第２のプローブ２７７はソース流体の第１の希釈液を第１のテスト列の第５および第６のウェル、すなわちテストウェル（Ｒ１，Ｃ５）および（Ｒ１，Ｃ６）中へ次々に運ぶため下降し、毎回運ばれたサンプルをさらに希釈するため第３の注射筒ポンプ２９８の運転によってさらに希釈液を加える（図４２のステップＧおよびＨが示すように）。それにより処理区域Ｃ５およびＣ６において実行すべきＨＴＩＶ−１およびＴＰＡのための第３および第４の希釈液が調製される。

希釈シーケンスが終了すると、第２のプローブは上昇し、そしてその洗浄ウェル２９２へ動き、第３の注射筒ポンプ２９８が第２のプローブ２７７を洗浄するため緩衝液を輸送する。同時に、第１のプローブ２７５への洗浄液の輸送が停止する。第１のプローブ２７５はその洗浄液ウェル２９０の外へ上昇し、洗浄液が第２のプローブ２７７へ運ばれる間に他の配送シーケンスへ復帰する。

直前に記載した配送および希釈シーケンスは第２ないし第６のソース標本について繰り返され、その間に第２および後続のテスト行（Ｒ２ないしＲ６）中のテストウェル（ＣＩないしＣ６）が満たされる。各シーケンスの開始において、キャリア１２は第１の列のテストウェル１８を第１のスロット２６４との整列に戻すように輸送具１６６によって再位置決めされる。同時に、ラック１８４は分析すべき次のソース標本を収容している試験管１８６を第１のブーム２７０との整列にもたらすため左へ一段階動かされる。第１のプローブ２７５の位置はこの時、ソース流体を試験管１８６から次のテスト列の第１のテストウェル１８、すなわち第２のソース標本のための第２のテスト行の第１の列、すなわちテストウェル（Ｒ２，Ｃ１）へ、第３のソース標本のための第３のテスト行の第１の列すなわちテストウェル（Ｒ３，ＣＩ）、第４のソース標本のための第４の行の第１の列すなわちウェル（Ｒ４，ＣＩ）等々最初の６ソ一ス標本のためのウェルへ運ぶために初期化される。

第７および残りのソース標本については、第１のプローブ１７５の位置は、ソース流体を第７および残りの試験管１８６から、第１および後続のテスト行の第７の列すなわち第７のソース標本のためのウェル（Ｒ１，Ｃ７）、第８のソース標本のためのウェル（Ｒ２、Ｃ７）、第８のソース標本のためのウェル（Ｒ３，Ｃ７）等々へ運ぶために再初期化される。

一方は充填し、他方は洗浄する二つの個々に作動されるプローブ２７５および２７７を使用することにより、サンプル分配ステーションはプローブを洗浄しそして輸送することによるロスタイムを最小化する。また、第１のプローブ２７５だけが生（未希釈）の流体へ直接曝露される。また、使用する希釈技術は第２のプローブ２７７を使用するため、希釈プロセスのためのソースウェルがキャリア１２上の試験部位としても最終的に従事する。

サンプルピペッティングステーション１６２にあるキャリア１２がそれが収容しなければならないソース標本の全部に受取った時、サンプル分配ステーション２４のための制御機構は輸送具１６６を作動させる。輸送具１６６は、キャリア１２（今やソース標本で満たされている）をサンプルピペッティングステーション１６２からハブアクセス２５へ戻すように動かす。

上述のシーケンス全体を通じ、制御モジュール１６はサンプル分配ステーション２４の制御機構へ状態質問を周期的に送っていた。

ソース標本のサンプルが試験キャリア１２へ送られている間は、制御機構は“Ｂｕｓｙ”信号で応答する。流体移換作業が停止した時、そして試験キャリア１２がハブアクセス２５へ復帰した時、制御機構は制御モジュール１６の状態質問に対して“Ｎｏｔ　Ｂｕｓｙ”信号を送り返す。

“Ｎｏｔ　Ｂｕｓｙ”信号を受取った時、主制御モジュール１６はシャツトル部材２０の制御機構へ適切な指令信号を送り、待機している試験キャリア１２を取り上げるためハブアクセス２５ヘシヤツトル部材２０を送るように制御機構に命令する。この指令信号はまた、シャツトル部材２０のための制御機構に対し、キャリア１２をこの例証具体例では試薬分配ステーション２６である次のワークステーションへ輸送するように命令する。

Ｃ１試薬分配ステーション正面から見て（図１が示すように）、試薬分配ステーション２６は、大量流体の貯蔵容器４２およびタンク４３が貯蔵されているコンパートメント４４の上方の処理モジュール１４の左手部分を占領する。

試薬分配ステーション２６のためのハブアクセス２７はシャツトル部材２０の第２の円弧上位ｆｌＡ２に配置される。このハブアクセス２７は、直前に記載したキャリアおよびサンプル分配ステーション２２および２４のためのハブアクセス２３および２５から９０’円弧上で離れている（図７および８が示すように）。

図示した具体例では、ハブアクセス２７はハブアクセス２３と同じ水平面と一般に同じ平面にある（図８を見よ）。

１、キャリアの試薬ステーションへの配送一旦制御モジュール１６からの適切な指令信号を受取った時、シャツトル部材２０はシャツトル制御機構によって発する指令に応答してキャリア１２をハブアクセス２５からハブアクセス２７へ輸送する。

これら指令に応答して、シャツトル部材２０はハブアクセス２５においてキャリア１２を取上げるためプラットフォーム７０を第１の円弧位置へ回転する。この円弧位置にある時、プラットフォーム７０はハブアクセス２５中へ放射方向外側へ（主シャツトルフレーム５６から遠方へ）動くが、その向きはアクセスの切り欠き部分９４の下方の指示された取上げ位置に入るように軸方向上方または下方に調節される（図１４に一般的に示すように）。次にプラットフォーム７０は以前記載した態様でキャリア１２を係合するために上昇する。次にプラットフォーム７０はハブアクセス２５の外へ放射方向内側へ（主シャツトルフレーム５６へ向かって）動き、そしてシャツトル部材７０は第２の円弧位置へ回転する。次にプラットフォーム７０は試薬分配ステーション２６のためのハブアクセス２７中のそのおろし去り位置へ係合したキャリア１２を動かすため、適切な軸方向上下調節と共に放射方向外側へ動く。

図４８が示すように、試薬分配ステーション２６は、キャリア１２を受領するための支持作業表面９２を含む試薬ピペッティングステーション３５４を含んでいる。作業表面９２はハブアクセス２７中の切り欠き部分９４を有する。切り欠き部分が試薬分配ステーション２６と会合するとき、シャツトルプラットフォーム７０は、作業表面９２の平面の上のおろし去り位置にあるキャリア１２と共にこの切り欠き部分９４へ侵入する。プラットフォーム７０は次に切り欠き部分９４を通って下降し、キャリア１２をプラットフォーム７０から持ち上げ、作業表面９２へおろす。

サンプル分配ステーション２４の作業表面と同様に、試薬分配ステーション２４の作業表面９２は離れた一対の溝９６を含んでいる（図４８が示すように）。溝９６はキャリア１２が作業表面９２上に置かれる時キャリア１２のフランジつき縁８６Ａ／Ｂを捕捉する。試薬分配ステーション２６はまた、一方の溝９６を軸方向に沿って作業表面９２内を横に可動なそれ自身専用の輸送具３５６を含んでいる。

図４８が示すように、輸送具３５６は、試薬分配ステーション２６のための制御機構によって運転されるステッパモータ３６０によって駆動される軸ねじ３５８によって支承される。ステッパモータ３６０はねじ３５８に時計または反時計方向に回転し、輸送具３５６をねし３５８に沿って反対直線方向（図４８において左または右へ）に進める。

輸送具３５６はキャリア１２の後方側壁７８Ｂ上のキー路８２Ｂとかみ合うような特別な形状とされる。シャツトル制御機構は、輸送具３５６をハブアクセス２７内の適正な位置へ動かしくステッパモータ３６０の運転により）、シャツトルプラットフォーム７０が到着し、キャリア１２をハブアクセス２７におろす時キャリアキー路８２Ｂと適正に係合するようにサンプル分配ステーション２４０制御機構と協調して作動する。ステッパモータ３６０のその後の作動化はキャリア１２を作業表面９２上の横溝内の輸送具３５６と共通に動かす。

シャツトル部材２０はそれによって試薬が分配される同地の任務を実行するため自由になる。

図示した好ましい具体例（図４８が示すように）においては、環境制御システム５２は試薬ピペッティングステーション３５４の作業表面９２の上下に配置された一以上の電気抵抗ヒーター３６２を含んでいる。関連するサーミスター（図示せず）は、図示した具体例では３０ないし４５°Ｃの範囲内の所望の温度に維持する。試薬キャリア１２はそれによって試薬分配ステーション２６にある間、同じコンスタントな温度へ曝露され続ける。

２、試薬分配ステーションへの試薬の配送図４３が示すように、試薬分配ステーション２６は試薬供給サブアセンブリ３６６を含んでいる。試薬供給サブアセンブリ３６６は試薬キャリア３７０を収容する試薬貯蔵室３６８を含んでいる（図４９を見よ）。試薬キャリア３７０は、ユーザーによってその中へ複数の試薬バイアル３７４が配置されている一連の貯蔵ビン３７２を含んでいる。試薬キャリア３７０は、試薬バイアル３７４を収容しているビン３７２を、試薬貯蔵室３６８の上方に配置された試薬供給ステーション３７６へ、そして次に試薬ピペッティングステーション３５４へ輸送する。

処理モジュールの背面から見て（図４８のように）、試薬貯蔵室３６８および試薬供給ステーション３７６は、試験キャリア１２が配送される試薬ピペッティングステーション３５４の右へ直接上下に配置される。

ａ、試薬バイアルおよびバック図示した具体例（図５０および５２が示すように）においては、各試薬バイアル３７４は慣用のプラスチック成形技術によって比較的安価な不活性プラスチック材料からつくられる。

各バイアル３７４は、試薬、緩衝液、酵素標識、または固相粒子のような、与えられたアッセイに使用すべき添加物質を収容する。

各バイアル３７４はキャリア機構から除去され、その流体源がなくなった後播てられることを意図する。処理モジュール１４の正面からユーザーによって開閉できるアクセスドア（図１および５３を見よ）は、試薬貯蔵室３６３ヘアクセスを提供する。

与えられた分析操作はしばしば２タイプ以上の添加材料の添加を必要とするので、バイアル３７４は２個以上のバイアル３７４をあらかじめ定めた態様で集積した試薬パック３８８を形成するようにまとめて連結するための手段３９０を含んでいる。与えられた試薬パック（図５１ないし５３に示した）は、与えられたｌアッセイのだめの試薬添加操作に必要なすべての添加材料を収容する。

図４８が示すように、集積バック３８８は試薬キャリア３７０によって輸送されるビン３７２中に支承される。与えられたキャリアビン３７２はこのため与えられた一つの分析操作に必要な添加材料を供給するために専念できる。

図示した好ましい具体例においては、試薬キャリア３７０は、与えられた分析操作のための適切な添加材料源を収容し、そして共通の試薬ピペッティングステーション３５４において異なる分析操作を助けるためのビン３７２０列を含んでいる。試薬パック３８８を形成するための連結手段３９０は種々に構成できる。図示した具体例においては、連結手段３９０は与えられたバイアル３７４の試薬パック３８８内の適正な配置を確実にするように構成される。

連結手段３９０は、各自バイアル３７４の首のまわりに嵌合できる開口３９４を有するホルダー３９２を含んでいる。図示した具体例（図５１が示す）においては、典型的な試薬パック３８８は３バイアル３７４を収容する。この試薬パック３８８はこの端部バイアル３７４　Ａ／Ｂと中間バイアル３７４Ｃを有する。

この配置において、ホルダー３９２は二つの丸いコーナーを有する一端３９３と、一方の丸いコーナーを切り欠いた反対端３９５を有する。丸くしたコーナーは試薬キャリア３７０のハブ４１０Ａ／Ｂを妨害し、ホルダ一端３９３がハブ４１０Ａ／Ｂへ面してビン３７４内への試薬パック３８８の配置を防止する。ビン３７４内へ試薬パック３７４を嵌合するため、ユーザーは切り欠いたホルダ一端３９５が図５２および５３が示すようにハブ４１０Ａ／Ｂへ面するようにホルダーを向けなければならない。

ｂ、試薬キャリアビン貯蔵ビン３７２は３つの集積グループに合体され（図４９が示すように）、各３ビングループはそれによって３バイアル試薬パツクを収容する。

図４９が示すように、試薬キャリア３７０はその上に３ビングループが取付けられる駆動ベルトを有する中央円陣形コンベア４０６を含んでいる。駆動ベルト４０８は、試薬分配ステーション２６のための駆動機構によって作動化されるステッパモータ４１２に応答して二つのハブ４１０Ａ／Ｈのまわりを回転する。

円陣コンベア４０６の回転は、一点において試薬供給ステーション３７６の下を延びている試薬貯蔵室３６８中の一般に楕円形通路に３ビングループを運ぶ。制御された態様で円陣コンベア４０６を始動しそして停止することにより、選侭したビングループを試薬供給ステーション３７６の下に配置することができる。

供給ステーション３７６は、ステーション３７６の直下に位置するビングループから流体を吸引するための二つの隣接するアクセス部位４１４および４１６を含んでいる。各アクセス開口Ａ／Ｂ／Ｃは供給ステーション３７６の直下に配置された特定のビングループに含まれる１個のバイアル３７４の口３８４と一致する。

Ｃ２固相常磁性粒子の貯蔵図示した具体例においては、アッセイは結合部位として固相常磁性粒子４２２を使用する。この構成において、試薬バック３８８の選択した試薬バイアル３７４は懸濁液中に常磁性粒子４２２を保持している。図示した具体例（図４８が示す）においては、最外側貯蔵ビン３７２を占領している端部バイアル３７４Ａが常磁性粒子の懸濁液４２２を収容している。これはバイアルホルダー３９２の丸いコーナ一端３９３へ最も近いバイアル３７４Ａである。

常磁性粒子４２２は貯蔵中貯蔵バイアル３７４Ａの底へ沈降し得る。このため試薬分配ステーション２６は、常磁性粒子４２２を試験キャリア１２へ配送する前に懸濁液へ攪拌するための手段４２４を含んでいる。

図示した具体例（図４８および５１が示す）においては、常磁性粒子を収容しているバイアル３７４Ａは内部攪拌環４２６を含んでいる。この攪拌環４２６は低残留磁気を有する常磁性材料製である。図示した好ましい具体例においては、不活性プラスチック材料が攪拌環４２６の常磁性材料をカプセル化する。

攪拌環４２６はバイアル３７４Ａ内にゆるく支承され、そのためそれは外部の力に応答してバイアル３７４Ａ内を動くのが自由である。けれども攪拌環４２６は、常磁性粒子が懸濁される流体の底へ沈むのに十分な重さを有する。攪拌環４２６は残留磁気を持っていないため、懸濁した常磁性粒子４２２は攪拌環４２６によって磁気的に吸引または反発されない。

試薬分配ステーション２６はさらに、試薬貯蔵室３６８の床の下の選択した位置に配置された攪拌ステッパモータ４２８（図４８を見よ）を含んでいる。攪拌ステッパモータ４２８はモータ４２８の運転に応答して回転する磁気ローターアーム４３０を含んでいる。

撹拌モータ４２８は、常磁性粒子４２２のバイアル３７４Ａを支持しているビンが試薬供給ステーション３７６へ向かう通路中で磁気ローターアーム４３０上に位置決めできるように配置される。図示した具体例では、攪拌モータは試薬供給ステーション３７６の前方的９０°　（図４９が示すように時計方向で計って）キャリア３７０のビンの外の通路に位置する。

攪拌環４２６を収容しているバイアル３７４Ａが磁気ローターアーム４３０の上の位置に停止する時、攪拌モータ４２８の運転はローターアーム４３０を回転し、そしてバイアル３７４Ａの内部の磁気攪拌環４２６を回転する。回転する攪拌環４２６は常磁性粒子４２２を懸濁液内に一般に均一に再懸濁する局所的混合作用を発生する。バイアル３７４Ａはローターアーム４３０により発生する回転磁場によって有意に影響されないプラスチック材料でつくられる。

好ましくは、攪拌環４２６は、局所的混合物用の有効性を最大化するように、バイアル３７４Ａの全内底面を実質上占領する寸法と図４８が最良に示すように、試薬分配ステーション２６は、選択した試薬パック（供給ステーション３７６の下に位置する）から試薬キャリア１２（試薬ピペッティングステーション３５４に位置する）のウェル！８へ添加材料を移すため、試薬ビペツテインダステーション３５４と試薬供給ステーション３７６の間を可動な試薬ピペットサブアセンブリ４３２を含んでいる。試薬分配ステーションの制御機構は多くの点でサンプルピペットサブアセンブリ２６８と構造が類似している。サンプルピペットサブアセンブリ２６８と同様に、試薬ピペットサブアセンブリ４３２は、試薬ピペッティングステーション３５４と試薬供給ステーション３７６を差し渡す一対の並置した静止ブーム４３４および４３６を含んでいる。一方のブーム４３４は供給ステーション２６中の三つのアクセス部位４１４Ａ／Ｂ／Ｃ）の第１のセットに奉仕し、他方のブーム４３６は三つのアクセス部位４１６　Ａ／Ｂ／Ｃの他のセットに奉仕する。

やはりサンプルピペッティングアセンブリ２６８と同様に、各ブーム４３４および４３６へそれぞれ取付けられた第１および第２のピペット４３８および４４０を含む。各ピペット４３８および３４０は流体を吸引しそして排出するためのプローブ４４２および４４４を含む。各プローブ４４２および４４４は、それ自身のカプセル化された電気抵抗ヒーター３４６（サーミスター３４８つき）および液体レベルセンサー３５２を含み、それらはサンプル分配ステーション２４の第１のプローブ２７５について以前記載したもの（図４７が示すように）と同じ構造および作動である。やはり前に記載したように、各プローブ４４２および４４４のためのヒーター３４６は３０ないし４５℃の範囲内の所望の温度を維持し、該温度へ添加材料がテストウェル１８へ分配される時に加熱される。

各ピペット４３８および４４０は各自それぞれのブーム４３４および４３６上の可動架台（図示せず）へ取付けられる。各架台は、関連するブーム４３４／４３６上で関連するアクセス部位４１４／４１６と試薬ピペッティングステーション３５４の間を水平方向（図４８において左右）に独立に可動である。制御機構によって作動される架台ステッパモータ４５０（図４に示す）は関連する架台４４６をそれぞれのブーム４３４／４３６上を水平に動かす。架台ステッパモータ４５０は、試薬分配ステーション２６のための制御機構の全体の制御に従って、選択したプローブを所望の試薬アクセス部位４１４／４２６およびキャリアウェル１８と軸方向に整列するためのプローブ４３８および４４０の正確な水平方向運動を確実にする。

第１および第２のピペット４３８および４４０はステッパモータ（図示せず）によって駆動されるジヤツキねじ４５２によりそれぞれのブーム上を垂直方向（上下）にも独立に可動である。ジヤツキねじステッパモータは、再び試薬分配ステーション２６の制御機構に従い、試薬アクセス部位４１４／４１６およびキャリアウェル１８に関し関連するプローブ４１４／４１６を下降および上昇させる前に記載したサンプルピペットサブアセンブリ２６８と同様に、試薬ピペットサブアセンブリ４３２は各プローブ４４２および４４４のための洗浄ウェル４５６を含む。図示した具体例（図４８が示す）では、洗浄ウェルは試薬ピペッティングステーション３５４と試薬アクセス部位４１４／４１６の間の関連するプローブ４４２／４４４の運動通路中に配置される。

洗浄ウェル４５６は図４３ないし４６に示した洗浄ウェル２９０と同じに製作される。試薬プローブ４４２および４４４の洗浄シーケンスはサンプル分配プローブ２７５および２７６について前に記載したシーケンスと同じである。試薬分配ステーション２６に関連する洗浄ウェル４５６は、洗浄液供給タンクＲ６および廃棄流体タンク３１８（図２３が示す）と連通している。

流体供給システム４０（図２３を見よ）は、各自弁４５９／４６１／４６３／４６５と関連する４台の注射筒ポンプ４５８／４６０／４６２／４６４を含む。システム４０は流体をタンクＲ３から試薬ピペットサブアセンブリ４３２へ運搬する。

第１および第２の注射筒ポンプ４５８および４６０は第１の試薬ピペット４３８に関連し、第３および第４の注射筒ポンプ４６２および４６４は第２の試薬ピペット４４０に関連する。第１および第３のポンプ４５８および４６２はそれぞれのプローブおよび４４０の洗浄サイクルの間運転される。第２および第４のポンプ４６０および４６４はそれぞれのプローブ４３８および４４０を通って試薬を吸引し、そして分配するために従事する。

試薬注射筒ポンプ４５８／４６０／４６２／４６４はサンプルピペットサブアセンブリ２６８に関連する注射筒ポンプ２９４／２９６／２９８と同じに製作される。

４、作動シーケンス図示した具体例（図４８に示した）においては、試薬バイアル３７４は、最外側ビンが常磁性粒子４２２（内蔵攪拌捧４２６と共に）を保持するバイアル３７４Ａを支承し、中間ビンがサンプルのための緩衝液を保持するバイアル３７４Ｃを支承し、最内側ビンが特定のアッセイのための酵素標識を保持するバイアル３７４Ｂを支承するように、試薬キャリア３７０上に配置される。

図示した具体例においては、試薬分配ステーション２６のための制御機構はあらかじめ決められたステップのシーケンスに従っ°Ｃキャリア１２を充填する。一般にこのシーケンスは第２のプローブ４４４が洗浄されている間に流体を試験キャリアへ運ぶために第１のプローブ４４２を使用する。シーケンスは次に第２のプローブ４４４を流体を試験キャリア１２へ運ぶために使用する間に第１のプローブを使用する。

さらに詳しくは、シーケンスは、試験キャリア１２が以前に記載した態様で試薬分配ステーション２６へ到着した時に始まる。制御機構は輸送具３５６を作動し、キャリア１２を試薬ピペッティングステーション３５４へ、８個のテストウェルの第１の列、すなわちテストウェル（Ｒ１ないしＲ８，Ｃｉ）とプローブ４４２の運動通路との軸方向整列にもたらす。図示した具体例では、この列（ＣＩ）はＨＢｓ　Ａｇアッセイのための８種の異なるソースサンプルを収容する。

同じ一般的期間中、制御機構はＨＢｓ　Ａｇアッセイのための試薬を支承する試薬パックを第１のアクセス部位４１４の下の所定位置に動かすため円陣コンベア４０６を作動する。

制御機構は第１のプローブ４４２を洗浄ウェル４５６から引き上げる。第１のプローブ４４２は次にブーム４３４上を中間アクセス開口４１４Ｃ上の一致に水平方向に動く。第１のプローブ４４２は次に中間試薬バイアル３７４Ｃ中に下降し、そして第２の注射筒ポンプ４６０が試薬の第１のプローブ４４２中へ吸引するように運転される。その間第３の注射筒ポンプ４６２によって洗浄液がその洗浄ウェル４５６にある第２のプローブ４４４を通って連続的に運ばれる。

第１のプローブ４４２（今や試薬の容積を収容している）はアクセス開口４１４Ｃから上昇する。第１のプローブ４４２は次にブーム４３４上をウェルＲ１，ＣＩ上の一致位置へ水平方向に動く。第１のプローブ４４２はウェル（Ｒ１，ＣＩ）中へ下降し、そして第２の注射筒ポンプ４６０が試薬の決められた部分標本をウェル（Ｒ１、Ｃ１）に収容されているサンプル中へ排出するように作動される。

第１のプローブ４４２は次にウェル（Ｒ１，ＣＩ）から上昇し、ウェル（Ｒ２，ＣＩ）上の一致へ第１の列を１行動く。プローブ４４２は下降し、試薬の他の部分標本が排出される。このシーケンスは列（Ｃ１）中のすべての８個のサンプルウェル（Ｒ１ないしＲ８）が試薬の部分標本を受け取るまで第１の列中の続いている各行について繰り返される。

図示した具体例においては、キャリア１２の７番目の行中のすべての試験ウェル、すなわちウェル（Ｒ１ないしＲ８，Ｃ７）はＨＢｓ　Ａｇアッセイ専用である。この配置において、試薬が第１の列（Ｒ１ないしＲ８，ＣＩ）中のすべてのウェルへ添加された後、第１のプローブ４４２は上昇し、そして追加の試薬をこれらテストウェルＩ８へ分配のため吸引するため中間アクセス部位４１４Ｃへ復帰する。その間、輸送具３５６はキャリア１２の７番目の列（Ｃ７）を第１のプローブ４４２０通路上の軸方向整列に動かすように作動する。第１のプローブ４４２は、同じ分析操作へ向けられた８個の追加ウェル（Ｒ１ないしＲ８）へ試薬を加えるため７番目の列（Ｃ７）を次々に復帰しそして移動する。

第！のプローブ４４２がこのシーケンスを完了した時、それはその洗浄ウェル４５６へ動く。第１の注射筒ポンプ４５８は流体を第１のプローブ４４２を洗浄するために運ぶように運転される。この時、制御機構は、８個のテストウェル１８の第１の列、すなわちテストウェル（Ｒ１ないし８．ＣＩ）を第２のプローブ４４４の運動通路との軸方向整列に位置決めするため輸送具３５６を作動させるこの出来事のシリーズと協調して、第１のプローブ４４２が試薬をテストウェルの第２のグループ（Ｒ１ないしＲ８，Ｃ７）へなお添加している間、円陣コンベア４０６は試薬パックを試薬供給ステーション３７６から遠方へ攪拌モータ４２８上の試薬パックの最外側バイアル４７４Ａが配置される位置へ動（。撹拌モータ４２８は、常磁性粒子４２２を懸濁液へ混合し戻すためバイアル４７４Ａ内の攪拌捧４２６を回転するためあらかじめ定めた期間（例えば５秒）作動する。円陣コンベア４０６は次に試薬パックを今度は第２のアクセス部位４１６との一致に試薬供給ステーション３７６へもたらすようにシーケンスする。

試薬パックが第２のアクセス部位４１６へ到着した時、第３の注射筒ポンプ４６２の運転が停止し、第２のプローブ４４４がその洗浄ウェル４５６から上昇する。第２のプローブ４４４は、今や攪拌した常磁性粒子懸濁液を保持しているバイアル４７４Ａが位置する、アクセス部位４１６のアクセス開口４１６Ａ上の一致へ動く。第２のプローブ４４４は下降し、第４の注射筒ポンプ４６４は懸濁した常磁性粒子４２２をバイアル４７４Ａからプローブ４４４中へ吸引するために作動される。

このときまでに、輸送具３５６はテストウェルの第１の列（Ｒ１ないしＲ８，ＣＩ）を第２のプローブ４４４との整列に動かしている。第２のプローブ４４４はこの列（ＣＩ）を逐次動き、懸濁した常磁性微粒子の部分標本を各テストウェル（Ｒ１ないしＲ８）を加える。

第２のプローブ４４４は次にアクセス部位４１６Ａへ復帰し、バイアル３７４Ａから懸濁した常磁性粒子４２２の他の供給を吸引する。その間、輸送具３５６はキャリアの７番目の列（ウェルＲ１ないしＲ８，Ｃ７）を第２のプローブ４４４の通路上の軸方向整列へ動かすように作動する。第２のプローブ４４４は、同じ分析操作へ向けられた８個の追加ウェル（Ｒ１ないしＲ８，Ｃ７）へ懸濁した常磁性粒子４２２を添加するため７番目の列を次々に動く。

第２のプローブ４４４が分配すべき粒子４２２の第２のバッチを吸引し、粒子４２２をテストウェル（Ｒ１ないしＲ８，Ｃ７）へ運んでいる時、円陣コンベア４０６は他の決められた試薬パック３８８を第１のアクセス部位４１４との一致へ動かすように運転される。このパック３８８はキャリア１２の第２および第８列中のサンプルと共通の分析操作（これは例証具体例ではＨＢｓ　Ａｇアッセイ）のための試薬と常磁性粒子を収容している。

第２のプローブ４４４が常磁性粒子４２２の第２のバッチを試薬ウェル（Ｒ１ないしＲ８，Ｃ７）へ運ぶその役目を完了した時、第２のプローブ４４４はその洗浄ウェル４５６へ動く。第３の注射筒ポンプ４６２は洗浄液を第２のプローブ４４４を通ってポンプするように運転される。

輸送具３５６はキャリアの第２の列（テストウェルＲ１ないしＲ８、Ｃ２）を第１のプローブ４４２の運動通路との軸方向整列に動かす。第１のプローブ４４２は、試薬を中間バイアル３７４Ｃから第２および第８の列（Ｃ２およびＣ８）の８個のテストウェル（Ｒ１ないしＲ８）へ分配するためＨＢｓ　Ａｇアッセイに関し直前に記載した同じ態様で作動する。同様な態様で、円陣コンベア４０Ｂは、常磁性粒子４２２の関連するバイアル３７４Ａを混合のため攪拌モータ４２８へもたらすようにシーケンスし、そして第２のプローブ４４４は常磁性粒子４２２を第２および第８の列（Ｃ２およびＣ８）のテストウェル（Ｒ１ないしＲ８）へ分配するため輸送具３５６と協調して作動する。

上記のシーケンスは、同じアッセイに向けられた試験区域の各対（ＣＩ／Ｃ７；Ｃ２／Ｃ８；Ｃ３／Ｃ９；Ｃ４／Ｃ１Ｏ；Ｃ５／Ｃ１１；Ｃ６／Ｃｌ２）について繰り返される。第１のプローブは必要な試薬を分配し、第２のプローブ４４４は洗浄される。第１のプローブ４４２が洗浄されている間に第１のプローブは常磁性粒子（混合後）を分配する。

すべての試薬が分配された後、制御機構は、キャリア１２をシャツトル部材２０による取り上げのため切り欠き部分９４に関して決められた向きで試薬分配ステーション２６のためのハブアクセス２７へ返す。制御機構（これはこれまで主制御モジュール１６からの周期的状態質問に対して“Ｂｕｓｙ”信号を送り返していた）は主制御モジュール１６からの次の状態質問に応答して“Ｎｏｔ　Ｂｕｓｙ”信号を送る。

“Ｎｏｔ　Ｂｕｓｙ”信号を受取ったとき、主制御モジュール１６はシャツトル部材２０のための制御機構へ指令信号を送り、キャリア１２（試薬および常磁性粒子が添加されている）を取り上げるためハブアクセス２７ヘシヤツトル部材２０を送るように制御機構へ命令する。指令信号はまた、キャリア１２を次の指定したワークステーションへ輸送するようにシャツトル部材のための制御機構に命令する。

説明目的のため、残りのワークステーションは、インキュベーションステーション２８、洗浄ステーション３０、基質分配ステーション３２、リーダーステーション３４、およびキャリア処分ステーション３６の順に記載されるであろう。しかし、試験キャリア１２が試薬分配ステーションの後で辿るワークステーションの正確なシーケンスは実施すべき分析操作のプロトコールによって変化することを認識すべきである。例証具体例において従う正確なシーケンスは種々のワークステーションが記載された後に論ぜられるであろう前に一般的に記載し、そして図６ないし８が示すように、処理モジュール１４は各自中央ハブ１００へのそれ自身のアクセス２９ＡないしＩを持っているい（つかのインキュベーションステーション２８ＡないしＩを含んでいる。図示した特定具体例においては、中央ハブ１００のまわりに円弧上に離れそして軸方向に重ねたアクセスを有する９個のインキュベーションステーションがある。

各インキュベーションステーション２８Ａないし■は、同じ態様に構成されるので、シャツトル部材２０の第１の円弧位置になるインキュベーションステーション２８Ａのみが記載されるであろう。

１、インキュベーションステーションのキャリアの配送適切な指令信号が制御モジュール１６から受信された時、シャツトル部材２０はキャリア１２をインキュベーションステーション２８Ａの選択したハブアクセス２９Ａへ輸送する。記載は試薬分配ステーション２６のためのアクセスからインキュベーションステーション２８Ａへのキャリア１２の輸送と仮定する。

これら指令に応答し、シャツトル部材７０は以前記載した態様でハブアクセス２７にあるキャリア１２を取り上げるために第２の円弧位置Ａ２ヘブラットフォーム７０を回転させる。キャリア１２を係合した時、プラットフォーム７０は第１の円弧位置へ回転する。

プラットフォーム７０は次に係合したキャリア１２をインキュベートステーション２８Ａのためのハブアクセス中へ動かす。

インキュベーションステーションは前に記載したように支持表面９２および切り欠き部分９４を含んでいる。それは図１６ないし２１に示したようにカバー９３を含んでいる。

２、インキュベーションステーションの作動環境制御システム５２は各インキュベーションの支持表面の下に配置した電気抵抗ヒーターエレメント４６８を含んでいる（図２５が示す）。関連するサーミスター４７０は、例証具体例では３０ないし４５°Ｃの範囲にある所望の温度にヒーターエレメント４６８を維持する。

決められた間隔後、インキュベーションステーション２８Ａの制御システムは制御モジュール１６からの状態質問に応答して“ＮＯｔ　Ｂｕｓｙ”信号を発する。代わって制御モジュール１６はシャツトル部材２０ヘインキユベーシヨンステーシヨン２８Ａへ来てキャリア１２を取り上げる信号を発する。取り上げシーケンスはサンプルおよび試薬分配ステーション２４および２６に関して以前に記載のと同じである。

制御モジュール１６はまた、キャリア１２を次の指定したワークステーションへ輸送するようにシャツトル部材２０に命令する。説明のため、次のワークステーションは洗浄ステーション３０であると仮定する。

Ｅ、洗浄ステーション洗浄ステーション３０は処理モジュール１４の中央後部分を占領する（図４が示す）。

洗浄ステーション３０のためのハブアクセス３１はシャツトル部材２０の第３の円弧位置Ａ３に位置する（図６および８が最良に示す）。

例証具体例では、洗浄ステーション３０は希釈および吸引によって洗浄する。しかしながら洗浄ステーション３０は濾過または他の方法によって洗浄できることを認識すべきである。

１、洗浄ステーションへキャリアの配送適切な指令信号が制御モジュール１６から受信された時、シャツトル部材２０はキャリア１２をシャツトル部材制御機構によって発せられる追加の指令に応答してその以前のワークステーション（これはインキュベーションステーションアクセス２９Ａと仮定した）から洗浄ステーション３０へ輸送する。

洗浄ステーション３０はキャリア１２を受取りそして輸送するための支持床４７２（図５４が示す）を含んでいる。床４７２はハブアクセス３１中の切り欠き部分９４を持っている。サンプルおよび試薬分配ステーション２４および２６に関連した切り欠き部分９４とのように、シャツトルプラットフォーム７０はキャリア１２が床４７２の平面の上方に位置決めされるそのおろし去り位置に洗浄ステーション切り欠き部分へ侵入する。プラットフォーム７ｏは次にキャリア１２をプラットフォーム７ｏを離して床４７２へ持ち上げるように切り欠き部分９４を通って下降する。床４７２は、キャリア１２が床４７２を占領する時キャリア１２のフランジ縁８６ＡおよびＢを捕捉する離れた一対の横断溝９６を含んでいる。

図５４が示すように、洗浄ステーション３ｏは一方の溝９６に沿って床４７２に沿って軸方向に可動な輸送具４７４を含んでいる。

輸送具４７４は駆動ブーＩＪ−４７８と遊びプーリー４８０の間を延びるベルト４７６によって支承される。洗浄ステーション３ｏのための制御機構によって作動されるステッパモータ４８２は駆動プーリー４７８を回転し、それによって輸送具４７４を床４７２に沿って反対直線方向（図５４において左または右）に進める。

図５６が示すように、輸送具４７４は反対を面する二つの把持アーム４８４および４８６を有する。各把持アーム４８４および４８６はキャリア側壁８０ＡおよびＢの底縁を捕捉するように特別につくられている。輸送具４７４はそれにより二つのキャリア１２を一方は前方に（第１把持アーム４８４により係合）他方は後方に（第２の把持アーム４８６により係合）一時に収容することが床４７２上のキャリア１２の運動シーケンスは後で詳しく記載されるであろう。

シャツトル制御機構は輸送具４７４を（ステッパモータ４８２を介して）ハブアクセス３１の適正位置に、シャツトルプラットフォーム７０が到着しそしてキャリア１２をハブアクセス３１中に逐次おろす時前方のキャリア１２を第１の把持アームでそして次に後方のキャリア１２を第２の把持アームで逐次捕捉するように動かすため洗浄ステーション３０のための制御機構と協調して作用する。ステッパモータ４８２のその後の作動化は把持アーム４８４および４８６によって係合したキャリア１２を床４７２に沿って動かす。

独立に作動される輸送具４７４は洗浄プロセスが進行する同地の役目のためシャツトル部材２０を自由にする。

洗浄ステーション３０は洗浄作業を実施するためピペットサブアセンブリ４８８（図５４および５５を見よ）を含んでいる。ピペットサブアセンブリ４８８は、キャリア１２が輸送具４７４によって動かされる通路を横断して床４７２を差し渡すブーム４９０に沿って配置される。

洗浄ステーション３０は、全体の指定したテスト区域（すなわち各列中のＲ１ないしＲ８）内に配置されたすべてのサンプルに対して同時に、そしてこの配置においては各テスト区域を順番に（すなわち列毎に）逐次洗浄作業を実行するように意図されている。輸送具４７４はキャリア１２をピペットサブアセンブリ４８８の下を段階的態様で一時に全テスト区域進めることによってこのシーケンスを簡単化する。ピペットサブアセンブリ４８８は、例証した具体例において８個であるキャリア１２上に区切られた与えられたｌテスト区域内のテストウェル１８の最大個数と同じ数のプローブセットのシリーズを含んでいる。８本のプローブセット４９２はキャリア１２上の１テスト区域内のウェル１８の間隔に等しい距離だけ離れている。

制御機構によって作動されるステッパモータ４９４はピペットサブアセンブリ４８８を１単位として昇降するように従事し、それによりプローブセット４９２とその下に位置するテスト領域に関して同調して動かす。

図示した好ましい具体例（図５７ないし５９が示す）においては、各プローブセット４９２は一対のプローブ４９６および４９８を含む。使用において、一方のプローブ４９６は流体を関連するテストウェル１８から吸引し、他方のプローブ４９８は洗浄液（典型的には食塩水）をウェル１８の中味へ添加する。

図２３が示すように、流体配送システム４０は洗浄液を洗浄プローブ４９８へ輸送するポンプ５００を含んでいる。吸引プローブ４９６は関連する真空ポンプ３１６を関して廃流体システム４６の廃流体タンク３１８と連通している（図２３および２４を見よ）。

好ましい配置（図５７ないし５９が示す）においては、吸引プローブ４９６は洗浄プローブ４９８の下方へ延びる。吸引プローブ４９６は洗浄プローブ４９８から横に偏心している。好ましい配置においては、洗浄プローブ４９８は各関連するウェル１８の中心線と一般に一致し、吸引プローブ４９６は中心線から関連するウェル１８の側壁へ偏心している。吸引プローブ４９６はウェル１８の中心線から偏心している必要はなく、ウェル１８の中心線へ近いまたは沿った位置範囲にあることができることを認識すべきである。

図示した具体例（図５４を見よ）においては、床４７２は輸送具４７４によって背中合わせして係合された二つのキャリア１２を収容するのに十分な距離だけピペットサブアセンブリ４８８の位置をこえて延びている。

処理モジュール１４の環境制御システム５２は洗浄床４７２の下に配置された電気抵抗ヒーター５０２を含んでいる（図５５を見よ）。関連するサーミスター５０４は、例証具体例においては３ｏないし４５°Ｃの範囲内にヒーター５０２を所望温度に維持する。

２、作動の一般的シーケンス二つのキャリア１２を洗浄すべきとき、最初輸送具４７４が、前方把持アーム４８４がハブアクセス３１へ配送された第１のキャリア１２を係合するように切り欠き部分９４に関して位置決めされる。次に輸送具４７４が前進し、後方把持アーム４８６がハブアクセス３】へ配送された次のキャリア１２を係合するようにステッパモータ４８２によって再位置決めされる。

二つのキャリア１２が把持アーム４８４および４８６によって係合された時、制御機構は輸送具４７４を作動し、第１　（前方）および第２（後方）キャリア１２を１時に１テスト区域（すなわち１列）洗浄ピペットサブアセンブリの下へ逐次進める。

与えられたテスト列がピペットサブアセンブリ４８８の下の所定位置へ進んだ時、輸送具４７４は停止し、そしてステッパモータ４９４はピペットサブアセンブリ４８８を１単位として列の関連するウェル１８中へ下降させる（図５７が示すように）。

図５８が示すように、最初ピペットサブアセンブリ４８８は、長い吸引プローブ４９６が関連するウェル１８の側壁に隣接して流体中にあらかじめ定めた深さに位置決めされるのに十分な深さ下降する。図５８が示すように、吸引プローブ４９６の先端４９７は側壁の方向に斜面とされ、そのため各テストウェル１８の中心から遠方を向いている。廃棄流体システム４６の真空ポンプ３１６は、ウェル１８から流体を吸引するためすべての吸引プローブ４９６へ連続的に同時に除圧を適用する。吸引プローブ４９６は流体内に懸濁している未結合物質のある量を除去し、ウェル１８内に固相支持体およびそれへ結合した複合体を残す。

次にステッパモータ４９４は、短い洗浄プローブ４９８が一般に各ウェル１８の頂部に位置決めされるようにピペットサブアセンブリ４８８を上昇する（図５９が示すように）。次に洗浄ポンプ５００は洗浄液のあらかじめ定めた量を各洗浄プローブ４９８を通ってウェル１８中へ同時に配送する。洗浄液は残っている未結合物質を後からの吸引のため再懸濁し、そしてウェル１８の中味の希釈を始める。

輸送具４７４は次にキャリア１２を次の列がピペットサブアセンブリ４８８の直下に配列されるように隣接する列間の距離だけ進める。上記の吸引／洗浄サイクルは各テスト列について（洗浄を受けないＡＬＴのためのテスト列Ｃ３およびＣ９を除いて）繰り返される。

測定すべき複合体が常磁性粒子４２２へ結合している例証具体例においては、粒子４２２を洗浄／吸引プロセスの間ウェルのあらかじめ選択した区域に濃縮することが望ましい。この結果は種々の方法で得られるが、例証具体例においては動的磁場（図示せず）が洗浄床４７２の下に位置する。磁場は粒子をテストウェルの中心部分に集め、濃縮するように時間的に方向および強度が変化する。この磁場のさらに詳しい議論は、本出願と誼受入を共通にする、Ｋａｕｌらの“常磁性粒子を使用する固相アッセイのための洗浄／吸引システムおよび方法”と題する米国特許出願にみられる。

第１および第２のキャリア１２が上に記載した吸引／洗浄サイクルへ逐次かけられた後、輸送具４７４はキャリア１２を出発位置へ戻し、そこでは第１（前方）のキャリア１２の第１列がピペットサブアセンブリ４８８の下に配置される。第１および第２のキャリア１２のための全体の吸引／洗浄サイクルが再び実施され、その後あらかじめ定めた追加の回数繰り返される。例証具体例においては、各ウェル１８は少なくとも５回の吸引／洗浄サイクルを受ける。

あらかじめ定めた回数の吸引／洗浄サイクル後、輸送具４７４は第１および第２のキャリア１８を出発位置へ戻し、再び第１のキャリア１２の第１列を直線にピペットサブアセンブリ４８８の直下に配置する。次に第１および第２のキャリア１２は再びピペットサブアセンブリ４８８を下を最終吸引サイクルのため１時に１列づつ進行する。この洗浄サイクルの最終サイクルにおいて、ピペットサブアセンブリ４８８は各列について（列Ｃ３およびＣ９を除いて）各ウェル１８から流体吸引するためにだけ下降および上昇する。以前のサイクルと異なり、この洗浄シーケンスの最終サイクルの間は洗浄液は添加されない。

直前に記載した洗浄／吸引シーケンスは各処理区域（キャリア列）について変えることができることを認識すべきである。例えば、異なる容積の洗浄液を異なる処理区域へ導入することができる。代わって、一つ以上の処理区域を、例えばＡＬＴアッセイのための列Ｃ３およびＣ９について行ったように、完全にとばすことができる。他の変法においては、洗浄後吸引サイクルをとばし、それにより分離時間を長くすることができる。

上に記載した洗浄シーケンスを行った後、輸送具４７４は、第２（後方）のキャリア１２（後方把持アーム４８６によって係合された）を洗浄床４７２の切り欠き部分９４上の取り上げ位置へ戻す。

適切な“Ｎｏｔ　Ｂｕｓｙ”信号が制御モジュール１６に次の状態質問に応答して送られ、制御モジュール１６はシャツトル部材２゜が第２のキャリア１２を前に記載した態様で取り上げるために動く指令信号を発する。このキャリア１２は規定されたプロトコールに従って次のワークステーションへ輸送される。

例証具体例においては、キャリア１２はシャツトル部材２ｏによって試薬分配ステーション２６へ戻される。そこではキャリア１２上の指定した処理区域へ以前記載した態様で酵素ラベルが添加される。キャリア１２は次にシャツトル部材２ｏによって以前記載した態様においてインキュベーションステーション２８ＡないしＩへ戻される。２回目のインキュベーションを受けた後、キャリア１２はシャツトル部材２０によって、最初に記載したシーケンスと同じである２回目の洗浄シーケンスのために洗浄ステーション３ｏへ戻される。この処理シーケンスにおいて、２回目の洗浄シーケンスを受けるキャリア１２は最終的に前方把持アーム４８４に係合される第１（前方）のキャリア１２となる。

第２（後方）キャリア１２が洗浄ステーション３ｏから除去された直後、そしてこのキャリア１２が試薬分配ステーション２６およびインキュベーションステーション２８によって処理されている間に、その時輸送具４７４によって係合されている第１（前方）のキャリア１２は基質の配送のため基質分配ステーション３２へ運ばれる。図示した具体例（図４４が示す）においては、基質分配ステーション３２は洗浄ステーション３０と同じ床４７２を共用し、それにより同じハブアクセス３１を共用する。この理由のため、図示した具体例においては、第１（前方）のキャリア１２は吸引／洗浄シ−ケンス後床４７２から除去されず、基質分配ステーション３２へ後で直接輸送するためそこにとどまる。このシーケンスは後で詳しく記載されるであろう。

しかしながら、異なる配置において、基質分配ステーション３２は異なるハブアクセス部位を持つことができることを認識すべきである。この配置においては、輸送具４７４は、前方把持アーム４８４によって係合された第１（前方）のキャリア１２をシャツトル部材２０による取り上げのため床４７２の切り欠き部分９４へ進め、そして基質分配ステーション３２か、またはプロトコールによって決められた次のどんなワークステーションへも輸送するであろう。

Ｆ、基質分配ステーション図示した具体例（図５４が示す）においては、基質分配ステーション３２は洗浄ステーション３０と同じ床４７２およびノ１ブアクセス３１を共用し、後方把持アーム４８６によって係合されるキャリア１２（これは洗浄ステーション３０へ配送される最後のキャリア１２である）は、洗浄シーケンスを始めて受け、その後試薬分配ステーションへ配送のためシャツトル部材２０によって取り上げられるキャリア１２である。前方把持アーム４８４によって係合される第１（前方）のキャリア１２（これは洗浄ステーション３０へ配送される最初のキャリア１２である）は、洗浄シーケンスを２回目に受け、その後シャツトル部材２０をさらに使用することなく基質分配ステーション３２へ直接輸送されるキャリア１２である。

１、基質ステーションへのキャリアの配送基質分配ステーション３２は、基質添加を実施するための基質ピペットサブアセンブリ５０６（図５４に示した）と、基質の吸引を実行するための別の基質吸引サブアセンブリ５０８を含んでいる。

基質ピペットサブアセンブリ５０６は、キャリア１２の運動通路を横断して床４７２を差し渡すブーム５１０に沿って配置される。

図示した具体例においては、基質ピペットサブアセンブリ５０６は、床４７２のキャリア１２の運動通路内に既に記載した洗浄ピペットサブアセンブリ４８８の前方に配置される。図２３が示すように、流体配送システム４０は基質をピペットサブアセンブリ５０６へ運搬するポンプ５１２を含んでいる。

基質分配ステーション３２は、基質を指定したテスト区域内に配置されたすべてのサンプルへ同時に、そしてこの配置においては各テスト区域へ順番に逐次加えることを意図している。それ故輸送具４７４は、キャリア１２を基質ピペットサブアセンブリ５０６の下を床４７２に沿って１時に１テスト区域全体分進める。

ピペットサブアセンブリは、キャリア１２上に区切られた与えられたテスト区域内のテストウェル１８の最大数と同じ数の基質プローブのシリーズ５１４を含んでいる。図示した具体例においては、それ数基質ピペットサブアセンブリ５０６は、キャリア１２上のテスト列内のウェルの間隔に等しい距離を離れた８本のプローブ５１４（図５４を見よ）を含んでいる。

制御機構によって作動されるステッパモータは、基質ピペットサブアセンブリ５０６をその下に配置されたテスト区域のウェルの内外へ１単位として上昇および下降させるように働く。

図示した具体例においては、基質分配ステーション３２のための吸引サブアセンブリ５０８は、洗浄ピペットサブアセンブリ４８８によって使用される同じ吸引プローブ４９６を使用する。しかしながら、異なる配置を使用できることを認識すべきである。例えば、基質ピペットサブアセンブリ５０６および吸引サブアセンブリ５０８は、同じブーム５１０上に横並びにまたは背中合わせに配置する第２（後方）キャリア１２（後方把持アーム４８６により係合された）がシャツトル部材２０によって除去された後、制御機構は輸送具４７４を作動し、第１のキャリア１２を基質ピペットサブアセンブリ５０６を下を一時に１テスト区域分（すなわち１列）進める。与えられたテスト列がピペットサブアセンブリ５０６の下へ進む時、輸送具４７４は停止し、そしてステッパモータ５１６はピペットサブアセンブリ５０６を１単位として関連する各ウェル１８中へ下降し、所望量の基質を分配するように下降させる。

ステッパモータ５１６は次に基質ピペットサブアセンブリ５０６をウェル１８の外へ上昇し、そして輸送具４７６はキャリア１２を次の指定した列がピペットサブアセンブリ５０６の下へ配置されるように隣接する列間の距離分道める。このシーケンスは、直前に記載したように、基質を受領すべきキャリア１２上のすべての列のウェル１８へ基質が加えられ終わるまで繰り返される。

次に輸送具４７４は、キャリア１２を吸引サブアセンブリ５０８（これは洗浄ピペットサブアセンブリ５０８の吸引プローブ４９６からなる）へ進め、キャリア１２の第１列を直線にサブアセンブリ５０８の直下へ位置決めする。洗浄シーケンスの吸引だけのサイクルが基質液をウェル１８から前に記載した吸引プローブを通って吸引するために繰り返される。

シーケンスの吸引だけのサイクルの後、輸送具４７４は、ウェル１８へ基質の他の部分標本の添加のためキャリア１８を基質ピペットサブアセンブリ５０６を通って１時に１列分後へ進める。好ましくは、時間節約の利益のため、キャリア１２は基質ピペットサブアセンブリ５０６を通って反対方向（すなわち図５４において右から左へ）に進む。

洗浄液の添加次いで吸引（洗浄シーケンスの間）次に基質の添加および吸入、次いで基質の最終添加（基質添加サイクルの間）の上のシーケンスは事実上緩衝液交換を構成し、その間残存する洗浄緩衝液は基質緩衝液で交換される。

洗浄ステーション３０の作動シーケンスに関して前に説明したように、直前に記載した基質添加および吸引シーケンスの間常磁性粒子４２２（存在する時）をウェル１８内に濃縮することが好ましい。以前に述べた同じ動的磁場をこの目的のために使用することができる。

直前に記載した基質添加／吸引シーケンスは処理区域（キャリア列）毎に変えることができることを認識すべきである。例えば、基質の異なる容積を異なる処理区域へ導入することができる。代わりに、−以上の処理区域を完全にとばすことができる。

キャリア１２が基質ピペットサブアセンブリ５０６を通って２回進められた後、輸送具４７４はキャリア１２を床１２を４７２の切り欠き部分９４上の取り上げ位置へ戻す。“Ｎｏｔ　Ｂｕｓｙ”信号が制御モジュール１６０次の状態質問に応答して送られ、制御モジュール１６はキャリア１２を以前記載した態様で取り上げるようにシャツトル部材２０を動かす指令信号を発する。このキャリア１２は、例証具体例ではリーダーステーション３４である、規定されたプロトコールに従った次のワークステーションへ輸送される。

第１のキャリア１２が基質分配ステーション３２を通過し、リーダーステーション３４へ配送のためシャツトル部材２０によって除去された後、ハブアクセス３１（洗浄ステーション３０および基質分配ステーションに対して共通）は、以前に記載した態様で二つの新しいキャリア１２を一方は１回目の洗浄シーケンスのため他方は２回目の洗浄シーケンスおよび後続の基質添加のため受領するために開いている。

Ｇ、リーダーステーション前方から見て（図４が示すように）、リーダーステーション３４は処理モジュール１４の内部の左手部分を占領する。リーダーステーション３４のためのハブアクセス３５は、ハブアクセス２７および２９Ｄ／Ｅ／Ｆから約１８０°、そしてハブアクセス３１および２９Ｇ／Ｈ／Ｉ（時計方向に）および２３．２５、および２９Ａ／Ｂ／Ｃ（反時計方向に）から約９０°円弧上で離れた、シャツトル部材２０の第４の円弧位置に配置される（図６を見よ）。

１、光学サブアセンブリリーダーステーション３４（図６０が示すように）は、キャリア１２内に収容されたサンプルの蛍光を測定するための光学サブアセンブリ５１８を含んでいる。

光学サブアセンブリ５１８は、一端においてキセノン光源５２２と、他端においてそれ自体蛍光センサー５２６と連通する光増幅管５２４と連通ずる励起管５２０を含んでいる。励起管５２０と光増幅管５２４０間にフィルターブロック５２８が配置される。フィルターブロック５２８は、励起管５２０からの入射光をサンプルへ向け、そしてサンプルからの出射蛍光を光増幅間５２４を通ってセンサー５２６へ向ける二色性レンズ５３０を含んでいる。

フィルターブロック５２８（図６１も見よ）は、励起チューブ５２０、サンプルおよび光増幅管５２４の間を延びる光路中へ選択的に動き得る１個以上の発光フィルター５３２を含んでいる。各発光フィルター５３２は、波長が読み取るべき特定のアッセイに依存するセンサー５２６によって測定すべき蛍光の所望波長を選び出す。

図６１が示すように、フィルターブロック５２８は、駆動ベルト５３６およびプーリー５３８によりステッパモータ５４０へ接続された運搬具５３４へ取り付けられる。リーダーステーション３４のための制御機構はステッパモータ５４０を作動し、所望の発光フィルター５３２を励起管５２０と光増幅管５２４の間の光路との一致へ動かす。

図６０が示すように、励起管５２０中の入射光の存在を感知するシリコン検出器５４２が設置される。レンズ５４４は各発光フィルター５３２と協同して入射光を二色レンズ５３０を通ってシリコン検出器５４２へ通過させるためにフィルターブロック５２８内に設置される。検出器５４２による入射光の不存在は（光源５２２が故障したとき）エラー信号を発生する。

２、リーダーステーションへのキャリアの配送制御モジュール１６から適切な指令信号を受信した時、シャツトル部材２０は、シャツトル制御機構によって発せられる追加の指令信号に応答してキャリア】２を以前のワークステーションから（これは基質分配ステーション３２であると仮定した）ハブアクセス３５へ輸送する。

＠６０および６１が示すように、リーダーステーション３４はキャリア１８を受けるため光学サブアセンブリ５１８の下に配置された床５４６を含んでいる。床５４６は、ハブアクセス３５に位置する他のワークステーションと同じタイプの切り欠き部分９４を有する。前に記載したように、シャツトルプラットフォーム７ｏはキャリア１２と共にこの切り欠き部分９４へ侵入し、次に切り欠き部分９４を通ってキャリア１２をプラットフォーム７ｏから離して床５４６へ持ち上げるために下降する。

図６０が示すように、床５４６は、キャリア１２が床５４６上に置かれる時キャリア１２のフランジ縁８６Ａ／Ｂを補足する離れた一対の横断溝９６を含んでいる。床５４６はキャリア側壁７８Ｂ上に形成されたノツチキー路８２Ｂと係合するキー路５４８も含んでいる。

図６２が示すように、環境制御システム５２は床５４６の上方の下った天井５５１中に配置された電気抵抗ヒーター５５０を含む。

関連するサーミスター（図示せず）がヒーター５５０を所望の温度（これは例証具体例では３０ないし４５°Ｃの範囲内にある）に維持する。

３、光学サブアセンブリに関しキャリアの位置決めリーダーステーション３４は、キャリア１２を光学サブアセンブリに関し選択的に位置決めする輸送機構（図６２に最良に示される）を含んでいる。これはシャツトル機構２０をリーディングプロセスの闇他の機能を果たすように自由にする。

輸送機構５５４を使用し、各テストウェル１８を選択的に光学サブアセンブリ５１８の下へ個々に配置することができる。

輸送機構５５４は、行がキャリア１２上に並べられる方向（これは図６２においてアクセス３５から見て左から右へ）に一般に平行な第１の通路（図６２に矢印で示した）中を床５４６を動かす第１の輸送具５５６を含んでいる。

輸送機構５５４はまた、第１の輸送具５５６と独立して作動でき、列がキャリア１２上に並べられる方向（これは図６２においてアクセス３５から見て前後方向）に一般に平行な第２の通路（図６２に矢印で示す）中を床５４６を動かす第２の輸送具５５８を含んでいる。

輸送機構５５４は種々に構成することができる。図示した具体例においては、第１の輸送具５５６は、床５４６がその上を第１の通路を可動な支持台５６０を含んでいる。床５４６の一側は支持台５６０上の案内環５６２とスライド自在に係合し、床５４６の他側は支持台５６０上の軌道内を移動する案内車輪５６４を含んでいる。

ステッパモータ５６８へ連結したベルト駆動５６６は支持台５６０上の第１の通路内を床５４６を動かす。

支持台５６０自体は案内環５７０の他の対の上に運動のために支持される。他のステッパモータ５７４へ連結された他の駆動ベルト５７２は支持台５６０を案内環５７０に沿って第２の方向に動かすキャリア１２がリーダー床５４６へ配送された後、ステッパモータ５６８および５７４は、個々のテストウェル１８を光学サブアセンブリ５１８に関して位置決めするため、リーダーステーション制Ｉｌ＠横によって独立に作動される。ステッパモータ５４０はまた、所望の発光ヒイルタ−５３２を光路中に位置決めするように作動する。

図示した具体例においては、光学サブアセンブリ５１８は、与えられた区域（列に配列された）内のテストウェル１８の逐次読み取りを区域を通る逐次テストウェル毎に（行ごとに）進めることによって行う。

このシーケンスにおいて、床５４６は、最初所望のテスト区域（列）の第１のテストウェル１８を光学サブアセンブリ５１８との作動整列に持って来るように位置決められる。光学サブアセンブリ５１８は、そのサンプルの測定された蛍光であるそのテストウェル１８についての第１の動的読みを取るように作動する。第２の輸送具５５８のステッパモータは、床５４６を動かし、所望の区域の次のテストウェル１８を光スキャナーとの作動整列にもたらし、そしてそのテストウェル１８の動的読みが取られる。このシーケンスは、この列のすべてのウェル１８が光サブアセンブリを通って進み、そして第１の動的読みのすべてが取られるまで繰り返される。

輸送機構は次に、次の指定した試験区域のためのテストウェル１８を第１の動的読みの他のシリーズのため光学サブアセンブリ５１８の次々の作動整列に持って来るように作動する。テストウェル１８についての第１の動的読みは個々に制御モジュール１６の大量記憶バイス１３４中に記憶される。

キャリア１２上に収容された標本についてすべての第１の動的読みが取られた時、床５４６はシャツトル部材２０のための取り上げ位置へ復帰する。“Ｎｏｔ　Ｂｕｓｙ”信号が制御モジュール１６へ送られる。制御モジュール１６は代わって、ハブ１００において以前に記載した態様でキャリア１２を取り上げるためシャツトル部材２０を動かす指令信号を発する。キャリア１２は利用し得るインキュベーションステーションＡないしＩの一つへ決められた時間輸送され、その後動的読みの第２のシリーズのためリーダーステーション３４へ戻される。動的読みの第２のシリーズも制御モジュール１６の大量記憶デバイス１３４中に記憶される。

第１の動的読みおよび第２の動的読みの結果は、各ウェル１８について測定した蛍光の経時変化を計算するために比較される。この蛍光の経時変化はその特定サンプルについての特定のアッセイについて得られた最終量的測定を表わす。結果は、プリンターによってユーザーが読むことのできるディスプレーのため制御モジュール１６へ送られる。

同時に、シャツトル部材２０は、キャリア１２を提供されたプロトコールに従って次のワークステーションを輸送するために送られる。例証具体例においては、次のステーションはキャリア処分ステーション３６である。

Ｈ，キャリア処分ステーションキャリア処分ステーション３６はリーダーステーション３４（図６２が示す）と同じハブアクセス３５を共用する。

キャリア処分ステーション３６は、ハブアクセス３５（図６３が示す）に位置する切り欠き部分９４を有する床５７６を含んでいる。前に記載したように、シャツトルプラットフォーム７０はキャリア１２と共にこの切り欠き部分９４へ侵入し、次に切り欠き部分９４を通ってキャリア１２をプラットフォーム７０から床５７６中へ持ち上げるように下降する。

図６４および６５が示すように、床５７６は出口開口５７８上のわなドア５７７上に乗っている。出口開口５７８は、廃棄流体容器５０と同じコンパートメントを占める（図１を見よ）キャリア廃棄容器５８２へ通ずるシュート５８０へ通じている。

わなドア５７７はシャフト５８６によってステッパモータ５８８へ取り付けられる。ステッパモータ５８８は平常はわなドア５８８および床５７６を一般に水平位置（図６３および６４に示す）に保持する。キャリア処理ステーションのための制御機構から信号を受取った時、ステッパモータ５８８はシャフト５８６を回転し、わなドア５７７および床５７６を傾ける（図６５が示すように）。ステッパモータ５８８は次に、わなドア５７７および床５７６を水平位置へ戻すように作動する。

床５７６は、シャツトル部材からハブアクセス３５を通ってキャリア１８を受取るように配置される。シャツトル部材２０がハブアクセス３５から引き込められた後、ステッパモータ５８８は床５７６を傾けるように作動する。キャリア１８は床５７６から出口開口５７８およびシュート５８０を通って廃棄容器５８２中へ滑り落ちる（図６５が示すように）。床５７６は処分のための他のキャリア１２の受取りを待機するその水平位置へ復帰する。

■、好ましい具体例における制御モジュールの他の特定説明図６６は、ＨＢ　ｓ　７　ッセイ、　ＨＢ　Ｃ７ッｔ’　イ、　ＨＩ　Ｖ　−Ｉ　Ａ　ｂ’アッセイ、ＨＴＬＶ−Ｉ　Ａｂアッセイ、　およびＴＰＡ　Ａｂアッセイに対するプロトコールの時間シーケンスを図解的に示している。図６７は、ＡＬＴアッセイのためのプロトコールの時間シーケンスを図解的に示している。

例証具体例においては、マスター制御スケジュール５９０は、単一のキャリア１２について実行すべき個々のプロトコールの種々の要件を、各キャリア１２についてステップシーケンス、ステップタイミングおよび他の作動パラメーターの形で統合する。マスター制御スケジュールはまた、決められた時間間隔で追加のキャリア１２を処理のためシステム１０へ導入し、その後で与えられた時点においてシステム内に存在する各キャリア１２に対する個々のプロトコールの実行を調整する。

マスター制御スケジュールはそれにより、すべての異なるイムノアッセイ操作が処理モジュール１４内に存在する多数テストキャリア１２に対して実行される統合されたタイミングシーケンスを確立する。好ましいシーケンスにおいては、マスター制御スケジュールは約８分毎に新しい試験キャリア１２をシステム１０へ導入する。

各試験キャリア１２はシステムｌＯ内に約１２０分間とどまり、その間に６種の異なるイムノアッセイが図６６および６７に示した時間シーケンスに従ってキャリア１２上に収容された１６のソース標本について実行される。

この態様において、マスター制御スケジュールは、シャツトル部材２０および８個の処理ステーションの独立した作動を１時間あたり約１２０イムノアツセイを実施するように調整する。

図示した好ましい具体例においては、制御モジュール１６のＣＰＵ１２２は、ユーザーに各試験キャリア１２の与えられた時点における処理システム内の位置を示すため、ビデオモーター１３０上に連続的にディスプレーされる状態レポートをつくり出す。

■、結論例証した具体例における分析システム１０の説明は、本発明の範囲を特定のタイプのアッセイまたは含まれる特定のアッセイ技術へ制限することを意図しない。

本発明を具体化する分析システム１０は、免疫化学反応、または複合体を結合するため固相を使用し、または蛍光基質に依存しない、異なるアッセイ操作および異なるアッセイ技術を使用することができる。本発明は、本出願にすべて詳細に記載しなかったけれども多種類の分析タイプおよび技術に使用のため適用可能である。

本発明の種々の局面の特色および利益は請求の範囲に述べられている。

ＦＩＧ、３７ＦＩＧ、５にＦＩＧ、　５７　ＦＩＧ、　５８　ＦＩＧ、　５９

Claims

【特許請求の範囲】

１．軸を有するハブを区切るための手段を含んでいるフレーム、ハブ軸に関して第１の位置においてハブへ開いているアクセスを有するフレーム上の第１のワークステーション、ハブ軸に関して第２の位置においてハブへ開いているアクセスを有するフレーム上の第２のワークステーションを備え、前記第１および第２の位置はハブ軸に関し異なる円弧位置に配置され、そしてハブ軸の軸方向に一般に離れており、ハブ内に配置されそして材料をワークステーションへ関連するハブアクセスを通って搬出入するためのプラットフォームを含んでいるシャットル手段にして、プラットフォームを異なる円弧位置間をハブ軸のまわりで回転的に動かすために、プラットフォームをハブアクセスがそこに位置する第１および第２の位置の選択した一つとの整列にハブ軸を軸方向に動かすために、そしてブラツトフォームを選択して整列したアクセスへ向かっておよびそれから離れてハブ軸の放射方向へ動かすために作動するシャットル手段を備えていることを特徴とする分析操作を実施するためのシステム。
２．ハブ軸は一般に垂直方向に延びている請求項１のシステム。
３．少なくとも一つのワークステーションは、操作に関連する少なくとも一つの役目を果たすための処理手段を含んでいる請求項１のシステム。
４．ワークステーションの一つはインキュベーション室を含んでいる請求項１のシステム。
５．インキュベーション室は、材料をインキュベーションステーションへ搬出入するシャットルプラットフォームの運転に応答して、インキュベーション室を開く上昇位置と、インキュベーション室を閉じる下降位置との間を可動なカバーを含んでいる請求項４のシステム。
６．軸を有するハブを区切るための手段を含んでいるフレーム、ハブ軸に関して第１の円弧位置においてハブへ開いているアクセスを有するフレーム上の第１のワークステーション、第１の円弧位置においてハブへ開いており、その位置においてハブ軸の軸方向に第１のアクセスから離れている第２のアクセスを有するフレーム上の第２のワークステーション、ハブ軸に関し第１および第２のアクセスの第１の円弧位置から円弧方向に離れている一般に第２の位置においてハブへ開いている第３のアクセスを有するフレーム上の第３のワークステーション、ハブ内に配置されそして材料をワークステーションへ関連するアクセスを通って搬出入するためのプラットフォームを含んでいるシャットル手段にして、プラットフォームを第１，第２および第３のアクセスの選択した一つとの整列ヘハブ軸のまわりを回転的にそして軸方向に動かすために、そしてプラットフォームを選択しに整列したハブアクセスへ向かっておよびそれから離れてハブ軸の放射方向へ動かすために作動するシャットル手段を備えていることを特徴とする分析操作を実施するためのシステム。
７．一般に第２の円弧位置においてハブへ開いており、そしてその位置においてハブ軸の軸方向に第３のアクセスから離れている第４のアクセスを有する第４のワークステーションをさらに備え、シャットル手段は、プラットフォームを第１，第２，第３および第４のアクセスの選択した一つとの整列ヘハブ軸のまわりを回転的にそしてハブ軸に沿って軸方向に動かすため、そしてプラットフォームを選択した整列したハブアクセスへ向かっておよびそれから離れてハブ軸の放射方何へ動かすために作動する請求項６のシステム。
８．異なる処理役目を果たすための少なくとも二つのワークステーションに関連した処理手段をさらに含んでいる請求項４または６のシステム。
９．ハブは包囲された区域を区切り、そして処理した空気を包囲されたハブ区域へ運ぶためのフレーム上の環境制御手段をさらに含んでいる請求項４または６のシステム。
１０．少なくとも一つのワークステーションにおいて所望温度を維持するためのフレーム上の環境制御手段をさらに含んでいる請求項４または６のシステム。
１１．分析すべき少なくとも一つのサンプルを保持するための手段を含む試験キャリア、軸を有するハブ区切るための手段を含んでいるフレーム、分析操作に関連する少なくとも一つの処理役目を果たすための処理手段を含んでいるフレーム上の第１のワークステーションにして、ハブ軸に関し第１の位置においてハブへ開いているアクセスを有する第１のワークステーション、分析操作に関連する少なくとも一つの処理役目を果たすための処理手段を含んでいるフレーム上の第２のワークステーションにして、第２の位置においてハブへ開いているアクセスを有する第２のワークステーションを備え、第１および第２の位置はハブ軸に関し異なる円弧位置に配置され、そしてハブ軸の軸方向に離れており、ハブ内に配置されそして材料を関連するハブアクセスを通ってワークステーションへ搬出入するためのプラットフォームを含んでいるシャットル手段にして、プラットフォームを異なる円弧位置間をハブ軸のまわりで回転的に動かすために、ハブアクセスがそこに位置する第１および第２の位置の選択した一つとの整列へ動かすために、そしてプラットフォームを選択した整列したハブアクセスへ向かっておよびそれから離れてハブ軸の放射方向へ動かすために作動するシャットル手段を備えていることを特徴とする分析操作を実施するためのシステム。
１２．試験キャリアは第１および第２の指定した処理区域と、第１の指定区域内に分析すべき少なくとも一つのサンプルを保持しそして第２の指定区域内に分析すべき少なくとも一つの他のサンプルを保持するための手段を含んでおり、少なくとも一つのワークステーションは第１の指定区域に保持されたサンプルについて第１の規定された処理役目を実行するための、そして第２の指定区域に保持されたサンプルについて第２の規定された処理役目を実行するための手段を含んでいる請求項１１のシステム。
１３．ハブ軸は一般に垂直方向に延びている請求項１１または１２のシステム。
１４．内部区域を囲みそして内部区域内にハブを区切るための手段を含んでいるハウジング、内部区域内に支持されそしてハブへ開いたアクセスを有する第１のワークステーション、内部区域内に支持されそしてハブへ開いたアクセスを有する第２のワークステーション、関連するハブアクセスを通ってワークステーションへ材料を搬出入するためハブ内を可動なシャットル手段、処理した空気をハブ中へ運ぶための第１の手段および各ワークステーション内を所望の温度条件に別々に維持するための第２の手段を含んでいるハウジング内の環境制御手段を備えていることを特徴とする分析操作を実施するためのシステム。
１５．分析すべき少なくとも一つのサンプルを保持するための手段を含んでいる試験キャリア、軸を有するハブを区切るための手段を含んでいるフレーム、分析操作に関連する少なくとも一つの処理役目を果たすための処理手段を含んでいるフレーム上の第１のワークステーションにして、ハブ軸に関し第１の位置においてハブへ開いているアクセスを有する第１のワークステーション、分析操作に関連する少なくとも一つの処理役目を果たすための処理手段を含んでいるフレーム上の第２のワークステーションにして、ハブ軸の軸方向に第１の位置から離れた第２の位置においてハブへ開いたアクセスを有する第２のワークステーション、ハブ内に配置されそして関連するハブアクセスを通って試験キャリアをワークステーションへ搬出入するためのプラットフォームを含んでいるシャットル手段にして、プラットフォームをハブアクセスがそこに位置する第１および第２の位置の選択した一つとの整列へ動かすために、そしてプラットフォームを選択した整列したハブアクセスへ向かっておよびそれから離れてハブ軸の放射方向へ動かすために作動するシャットル手段、ワークステーション上の試験キャリアを動かすための、シャットル手段と独立して作動する少なくとも一つのワークステーション上の輸送手段を備えていることを特徴とする分析操作を実施するためのシステム。
１６．試験キャリアは第１および第２の指定した処理区域と、第１の指定区域内に分析すべき少なくとも一つのサンプルを保持しそして第２の指定区域内に分析すべき少なくとも一つの他のサンプルを保持するための手段を含んでおり、少なくとも一つのワークステーションは第１の指定区域に保持されたサンプルについて第１の規定された処理役目を実行するための、そして第２の指定区域に保持されたサンプルについて第２の規定された処理役目を実行するための手段を含んでいる請求項１５のシステム。
１７．輸送手段を有する少なくとも一つのワークステーションにおいてアクセスは処理手段から離れており、輸送手段は試験キャリアをアクセスと関連する処理ステーションの間を動かすために作動する請求項１５のシステム。
１８．軸を有するハブを区切るための手段を含んでいるフレーム、ハブ軸に関し第１の位置においてハブへ開いているアクセスを有するフーム上のインキュベーションワークステーションにして、インキュベーション室とそしてインキュベーション室を開く上昇位置およびインキュベーション室を閉じる下降位置の間を可動なカバーを含んでいるインキュベーションワークステーション、ハブ軸に関し第２の位置においてハブへ開いているアクセスを有するフレーム上の第２のワークステーションを備え、第１および第２の位置はハブ軸に関し異なる円弧位置に配置され、そして一般にハブ軸の軸方向に離れており、ハブ内に配置され、そして関連するハブアクセスを通って材料をワークステーションへ搬出入するためのプラットフォームを含んでいるシャットル手段にして、プラットフォームを異なる円弧位置をハブ軸のまわりで回転的に動かすために、プラットフォームをハブアクセスがそこに位置する第１および第２の位置の選択した一つとの整列ヘハブ軸の軸方向に動かすために、そしてブラツトフォームを選択して整列したハブアクセスへ向かっておよびそれから離れてハブ軸の放射方向に動かすために作動するシャットル手段を備え、ブラットフォームは材料をインキュベーションワークステーションへ搬出入する間インキュベーションステーション上のカバーをその上昇および下降位置間を動かすためにさらに作動することを特徴とする分析操作を実施するためのシステム。