JPH06503454A - 平行移動基準目盛を有する走査ビーム制御装置 - Google Patents

Abstract

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Description

【発明の詳細な説明】 平行移動基準目盛を有する走査ビーム制御装置発明の技術分野 本発明はレーザ・プロッタ（スキャナとしても知られている）および文書スキャ ナ、特に平盤型の文書スキャナに使用する走査装置に関する。

発明の背景 平盤走査装置は技術的に周知である。例えば、ロイド（Ｌｌｏｙｄ）による発明 に関する米国特許第３．７５２．５５８号を参照されたい。精密プロッタ、プリ ンタなどのような高速走査装置では、物体フィールド形式、特にフラット形式を 通じて像ピクセルを正確にめる際に多くの問題点が存在する。物体の面を横切っ て横方向に移動される走査ビームはしばしば、非一定速度を有し、一様でない長 さの通路を横切らなければならない。つまり光学ひずみ、走査速度、平形式の上 への走査の投影により走査の方向（この場合はＹ方向と呼ばれる）に誤りを生じ ることがあり、それはまた単に機器の振動に起因することがある。

誤りは、面の直角性誤差（すなわち回転の中心からのラインに対する走査多角形 の面の非直交性）、面半径誤差（すなわち回転の中心からの面の距離の誤差）軸 受の振動、空気乱流、機械的公差、振動、テーブル駆動誤差などのような走査の 不正確による走査の方向（この場合はＸ方向と呼ばれる）を横切る方向にも生じ ることがあり、そのような誤差はピクセルのラインの配置と共に直線性に影響を 及ぼすことがあり、つまり装置の垂直解像度に影響を及ぼす。近代の走査装置は 直径１５μｍ程度の集束ビームおよび中心間で１７２ミル（０，１３ｍｍ）に隔 置されたピクセルを使用することができる一方、機械および光学装置は典型的に 多大の費用でそのような解像度を得る。

従来技術の固定プラテン（Ｐｌａｔｅｎ）装置は、ＸおよびＹの両方向にそのよ うな解像度を経済的に達成する基礎を提供しない。

この場合参考として含まれるウエルマーズ（ｆｅｌｍｅｒｓ）らによる発明の米 国特許第４．６６１．６９９号は、二方向基準目盛を使用する平らな物体面の上 に変調されたコヒーレントな光の単一ビームの走査を制御する移動プラテン走査 装置を開示している。装置は変調前にレーザ・ビームを分割して、変調ビームと 平行に補助の未変調基準ビームを向ける。未変調基準ビームは、変調ビームから の微小な分岐または異なる偏光によって変調されたビームと区別することができ る。ビームは回転する多角形から反射されて、基準ビームは二方向基準目盛を通 して検光器の上に送られる。この装置は、データが二方向基準目盛の上に走査ビ ームの位置から導かれるピクセル・クロックに同期される点で、誤差を両方向に ついて修正したり補償したりする必要性を示す。

固定した光学装置を有しかつプラテンの変更を必要とする走査装置が機械的設計 を困難にするのは、プラテンが大きな慣性を有するからである。さらに、移動す るプラテン・スキャナの使用が不便であり、固定プラテン装置が望ましいという 点で操作上の欠点があり、固定プラテン装置が好適である。変調ビームと基準ビ ームとの間のわずかな発散に依存するスキャニング装置は、２つのビームが遭遇 するすべての光学表面における一切の部分的不完全性に対して敏感である。固定 サイズおよび間隔が減少されるにつれて、この敏感度性は一段と重要になる。す べての近代的な高解像度走査装置において、全文書を走査するに要する時間は重 要である。ピクセルのサイズおよび間隔が減少されるにつれて、与えられた文書 をカバーするために一段と多い走査線が要求される。すべてのラスタ・ラインを 順に走査する装置が全文書を走査するのに長時間かかるのは、全文書を走査する 時がラスク線の数に比例して増加するからであり、またスピン回転する多角形ス キャナの回転速度の上限が存在するからである。

発明の概要 本発明は、米国特許第４．６６１．６９９号の発明を超える改良を提供する。本 発明の好適実施例により、固定プラテンおよび光学撮像装置ならびに平行移動さ れた基準目盛を有する走査装置は、物体表面上に変調光ビーム（または１組の平 行な、個別に変調された光ビーム）を走査するために具備されている。装置には 変調光ビームおよび基準光ビームを含む結合された光ビームを提供する光源装置 と、走査線に沿って結合された光ビームを移動させる光学撮像装置と、変調光ビ ームの少なくとも若干が一方向に連続し、かつ基準光ビームの少な（とも若干が 別の方向に連続するように、結合された光ビームを分割するために横方向に置か れたビーム分割装置と、ビーム分割装置に剛性取付けされて、基準光ビームがビ ーム分割装置を出てから基準光ビームを受けて２つの方向の基準ビーム位置に応 動して、走査線に沿うビーム位置を表わすクロック信号および走査線を横切る方 向のビーム位置を表わすバーニヤ位置信号を供給して走査線を横切る方向に一連 の各走査を精密に置くようなビーム分割装置の平行移動を制御する光学ステッピ ング装置とを含む基準目盛装置とが含まれている。

図面の簡単な説明 図１は本発明の光学装置のそれぞれを表わす線図であり、 図２ａ、図２ｂおよび図２０は光学通路長さ等化装置の動作を示し、 図３８は基準目盛を示し、 図３ｂは本発明に用いられるような基準目盛を示し、図４ａ、　ｆＭ４ｂおよび 図４０は多重光ビームを発生させて制御する代替方法について制御および誤差修 正装置を表わす略図であり、図４ａおよび第４ｂ図はガス・レーザの使用法を示 し、図４０はダイオード・レーザの使用法を示す。

図５ａは像面を横切る走査線を示す。

図５ｂはｍ本のラスク線を各む単一走査線を示す。

発明の詳細な説明 装置の機能は、一連の各走査内で相互に精密な場所にピクセルを置くことである 。

１、光学装置の概要 図１は好適な実施例の光学装置を示す。光学装置は、変調ビームと基準ビームを 結合してそれらが結合ビーム２の内部で同軸的な直線となるようにするビーム・ ミキサ１と、Ｘ方向へビームの精密な調節を行うビーム方向調節器３と、走査に 渡ってビームを集束状態に保ちながら平らな像の面をＹ方向に横切る変調ビーム を走査する光学撮像装置４とを備える。この光学装置は、さらに、固定ミラー５ ．１８０°　ミラー６、分割ミラー７、像面１４を定めるプラテン１３、基準目 盛１０及び検光装置１１を含む。

分割ミラーは結合された光ビームをその変調成分８およびその基準成分９に分離 する。基準目盛および光検知装置は共に、基準目盛組立体を含む。本発明の好適 実施例の光学装置は、米国特許第４．６６１．６９９号に記載された光学装置、 特に光学撮像装置４および基準目盛１０の若干の素子を含む。しかし、他の光学 装置および他の基準装置を使用することもできる。

以下において移動装置という正確な光学移動装置は、基準目盛組立体１２を線形 基準目盛１５に関して制御電子回路によって指令される精密なＸ位置に配置する 。従うて、基準目盛組立体１２の一部である分割ミラー７は、走査されたビーム をＸ方向のプラテンに精密に沿って位置決めする。新しい各走査ごとに、移動装 置は基準目盛組立体１２を精密にＸ方向に位置決めする。いま図４ａを参照する と、Ｘ位置計算器４９および移動駆動電動機４０４は、基準目盛組立体１２を、 Ｘ位置計算器４９が受けた走査位置セット点に基づく所要位置まで駆動する。移 動装置のもう１つの機能は、光学撮像装置４と像面１４との間の光学通路の長さ を一定値に保つことによってプラテン上のビームを集束状態に保つことを保証す ることである。通路長さ等化装置の作動は図２ａ、図２ｂおよび図２０に示され ている。通路長さ等化装置１６の光学成分は、固定ミラー５．１８００　ミラー ６および分割ミラー７である。移動装置は１８０°ミラーを、基準目盛組立体が 横切る距離の半分だけ移動させる。ミラー６および７はいずれも、同じ線形基準 目盛１５に関して正確に位置決めされる。好適実施例では、１８０°ミラーは第 ２駆動ミラーによって線形基準目盛に関して移動される。もう１つの実施例では 、この相対運動は２．１の機械的減速駆動により達成される。

固定ミラー５および１８０°　ミラー６は、光学軸線をプラテン１３に平行な方 向に回転させるので、大きな光学撮像装置を一段と便利に置くことができ、占有 スペースが少なくなる。

基準目盛センサ組立体１２の一部であるスプリッタ・ミラー７は、結合された光 ビーム８の変調成分をプラテンの上に向け、また基準成分９を基準目盛センサの 上に向ける。本発明は偏光光学装置を用いて、書き込みビームからの基準ビーム を微分したり、それが２つのレーザ、すなわち書き込みビーム用の１つの波長を 用いる書き込みレーザと、基準ビーム用の異なる波長を使用する基準レーザとを 使用することができる。好適実施例では、装置は書き込みビーム用の青アルゴン ・レーザおよび基準ビーム用のヘリウム・ネオン・レーザを使用する。固体レー ザ・ダイオードは、書き込みビームと基準ビームを発生させるのに用いられる。

図４８から、書き込みレーザ４３の代わりに、多ビーム発生器４１２およびピク セル変調器４２のｍ個のレーザ・ダイオードが使用される。図４Ｃは、別個に制 御される出力を持つレーザ・ダイオード４１３を示す。

鋸歯状波発生器４１は、ｍ個のダイオードを変調するｍ個の並列信号を発生させ る。拡大および回転組立体４１５は、装置のアドレス能力についてピクセル位置 のスペースをとって調節する。基準レーザ、すなわちダイオードは異なる周波数 を有するので、それを精密な目盛の上に向けることができる。鋸歯方向の間隔取 りは、拡大力および回転組立体によって修正される。基準ビームは、周波数によ る微分の代替としての偏光によって微分される。

２、基準目盛およびクロック動作 図３ａに示される基準目盛は、米国特許第４．６６１．６９９号に説明されてい るものと同じ基準目盛である。目盛の他の部分と異なる透明度を持つ１組の指標 形成スポーク３１は、前縁３２、中央線３３、および後縁３４を有する。光学撮 像装置４には、結合されたビームをＹ方向に走査する多角形スキャナが含まれる 。多角形スキャナは大きな運動量を有するので、それはピクセル・クロック信号 を発生させる親クロックとして使用される。ピクセル・クロック信号は、Ｙ方向 に走査している走査が基準目盛１０の前縁３２を横切るときに発生され、かつ基 準目盛センサによって検知される。ピクセル・クロ・ツク信号は、ピクセル・ク ロック同期装置４５で形成されて、鋸歯状波発生器４１を同期させるのに用いら れる。Ｘ方向のバーニヤ信号は、Ｙ方向に走査しているビームが基準目盛１０の 後縁３４の角度付き部分を横切るときに発生されて、基準目盛センサ１２によっ て検知される。これらの信号は、ピクセル・クロック同期装置４５で形成されて 、Ｘ方向におけるビームの位置を修正するのに用いられる。

３、ビーム発生動作 本発明の好適実施例では、ピクセル書き込みレートを最大にするために、書き込 みビームはｍ個の多重平行ビームである。図５８および図５ｂは、鋸歯状波５２ をプロットするｍ個の平行ビームを示す。これらｍ個の平行ビームは、図５ｂに おいて平行なうスタ線５３．５４、および５５によって表わされる。これらのビ ームは、平行に処理されて同時に書かれる。

いま図４ａおよび図４ｂから、ピクセル・クロック同期装置４５は、鋸歯状波発 生器４１にピクセル・クロック信号を送る。鋸歯状波発生器において、データ入 力信号（Ｘ。

Ｙｌおよび強度）はピクセル・クロック信号と組み合わされて、ｍ個の平行な電 子信号をピクセル変調器４２に供給する。書き込みレーザ４３は、コヒーレント な光の単一ビームを多重ビーム発生器４１２に向ける。多重ビーム発生器は、単 ビームを多重の実質的に平行なビームの鋸歯状波に分離させる。ｍ個の平行な未 変調光ビームの鋸歯状波はピクセル変調器４２に向けられる。ピクセル変調器は 、鋸歯状波発生器からの対応する信号と共にビームの鋸歯状波で各ビームを変調 する。ピクセル変調器の出力は、平行な変調ビームの鋸歯状波４６である。つま り変調、すなわちこれらの各ビームの強度は別々のピクセルの撮像を可能にする ように別個に制御される。（この結果を得るための１つの方法は、１９９１年２ 月１２日発行の米国特許第４．９９２．８９０号に説明されている。）これによ って、多面体の面誤差、露出時間などのような組織的誤差を修正するためにピク セル強度（つまりサイズ）の電子的調節が可能となる。さらに、多ビーム発生器 で作られたビームの数は、スクリーニングのようなパターン化された像の発生時 に生じることがあるビート周波数から生じる波紋を回避するために、ｍ個だけ減 少される。この鋸歯状波（またはビーム）は、ビーム・ミキサ１に入り、ここで それは基準レーザ４４、または偏光された基準ビームと結合される。ビーム・ミ キサの出力は、結合されたビーム２、鋸歯状波の相互線形結合、および基準ビー ムである。

固体レーザが使用されるとき、書き込みガス・レーザおよび図４ａの多ビーム発 生器は、図４０に示されるような固体レーザ４１３に置き替えられる。この実施 例では、図４８の基準ガス−レーザは、基準の固体レーザ１４１によって置き替 えられ、また図４８のビーム・ミキサは、拡大および回転組立体４１５によって 置き替えられる。制御装置の残部は図４８および図４ｂに見られる通り同じであ る。

４、走査位置ぎめ 走査位置ぎめ機能は図４８に示されている。走査位置ぎめとは、１つの走査線か ら次の走査線まで進むのに要するＸ方向の連続移動のことである。すべての移動 は、線形エンコーダ目盛１５に関して行われる。移動位置センサ４７によって得 られる位置データは、移動エンコーダ４８に送られ、そこからＸ位置計算器４９ に送られる。Ｘ位置計算器は、走査位置セットポイントにより定められる位置ま で基準目盛組立体を駆動するように制御器として働く。

Ｘ位置計算器からのＸ位置信号は、加算器４０２に送られて、そこから移動駆動 増幅器４０３に送られる。この増幅器は、順次基準目盛組立体１２を駆動する移 動駆動電動機４０４を駆動する。Ｘ位置計算器は、１８０°ミラーを駆動する出 力をも供給する。この信号、すなわち２で割ったＸ位置は、加算器４０７および １８０°　ミラー駆動増幅器４０８を通過して、１８０°ミラ一駆動電動機４０ ９を駆動する。この電動機は、１８０°ミラー６を位置ぎめする。

図４８および図４ｂは、ビーム方向調節装置の代替構造を示す。図４ａは、多ビ ーム発生および変調後に行われるビーム方向調節を示す。図４ｂは、多ビーム発 生および変調前に行われるビーム方向調節を示す。上記に説明された実施例では 、基準ビームは変調ビームの波長と異なる波長を持つ。別法として、偏光基準ビ ームは、米国特許第３．７５２．５５８号に説明された通りに使用することがで きる。

５、走査位置（粗）誤差修正 走査位置（粗）誤差修正装置は、閉ループ制御装置である。移動位置センサ４７ は、線形エンコーダ目盛１６に関する基準目盛組立体１２の位置を表わす信号を 得る。移動位置センサ４７の出力は移動エンコーダ４８に送られて、そこからＸ 誤差計算器４０１に入る。Ｘ誤差計算器の出力は、加算器４０２に入るＸ粗膜差 信号である。Ｘ誤差計算器の出力は、加算器４０２に入るＸ粗膜差信号である。

加算器の出力は、誤差を減少するように基準目盛組立体を移動させる電動機４０ ４を駆動するために増幅器４０３を介して進む。この装置は大きな、低周波誤差 を修正する。

６、細密誤差修正 Ｘにおける精密な場所からの逸脱は、面誤差、軸受動揺、空気騒乱、機械的公差 、振動電子ドリフト、サーボ・レスポンス、１８０°　ミラーにより導かれた誤 差によって一部導かれる。つまり１つの走査内で、ピクセルの各Ｙ位置について 、精密なＸ位置誤差修正が要求される。細密誤差修正装置は、閉ループ制御装置 である。基準目盛の前縁からピクセル・クロック信号を受けるピクセル・クロッ ク同期装置４５は、上述の通り基準目盛指標の後縁の中央部分からＸ偏差バーニ ヤ信号を受信する。

ピクセル・クロック同期装置４５は、Ｘ方向誤差を表す信号（ΔＸ）をＸ誤差計 算器４０１に供給する。Ｘ誤差計算器からの細密誤差信号は、増幅器４１０を介 してビーム方向調節器３に進む。好適実施例のビーム方向調節器は、音響−光学 変調器である。音響−光学変調周波数の制御によって、結合されたビーム２はＸ 方向に良好に操作されて誤差を減少させる。この装置は高周波誤差を修正する。

音響−光学変調器は波長依存であるので、目盛因子は制御電子回路内でそれぞれ 修正する。

７、通路長さ誤差修正 通路長さ誤差は、光学撮像装置と物体または像面との間の通路長さが焦点距離誤 差の集まりを超える量だけ所望の通路長さから逸脱するときに生じる。そのよう な誤差は、２で分割された移動エンコーダ４８の出力信号と、１８０°　ミラー ・エンコーダ４０６の出力との差から算出される。通路長さ誤差修正装置は、閉 ループ制御装置である。

加算器４０７は、１８０″ミラ一位置センサ４０５からの位置信号を、１８０° エンコーダ４０６を介して受信する。加算器４０７は、この信号を所望位置（Ｘ 位置＋２）と比較する。

増幅器４０８によって増幅された合成出力信号は、誤差を減少させるような方向 に１８０°　ミラーを駆動する１８０６　ミラー駆動電動機４０９を働かせる。

別法として、ミラーは機械的にリンクされ、かつ通路長さ粗誤差修正はその支持 点からのミラー装置（なるべく１８０°　ミラーであることが望ましい）の１つ の位置のサーボ調節によって行わ図５ｂから、隣接ビーム間の光学干渉を回避す るために、ビームはＹ方向のラスク線に沿う整数のピクセルによってオフセット される。ラスク線のオフセットは図５ｂに５６として示されている。制御電子回 路のデータは、対応する量によってオフセットされる。

９、アドレス能力調節 アドレス能力はピクセル間隔、すなわち２個の隣接ピクセル間の距離である。Ｘ 方向のアドレス能力は、Ｙ方向のアドレス能力と異なることがある。また、本発 明における各方向のアドレス能力は、別々に調節することができる。Ｙ方向では 、ピクセル間隔はピクセル・クロックの周波数を変更することによって変えるこ とができる。

Ｘ方向では、ピクセル間隔は、走査されている文書の表面での２個のビーム間の 距離に対応する。っまりピクセル間隔は、光学的または電気光学的のいずれかに よってビーム分離を変えることで変更することができる。本発明の好適実施例に おいて、ガス・レーザが使用されかつ音響−光学変調器が使用されて、多重平行 ビームを変調する。各変調ビームの偏向角は、変調信号の搬送周波数に関連され る。変調器の搬送周波数を変えると、ビームの角度が変わり、したがって文書で のビーム分離が変わる。つまり、Ｘ方向のアドレス能力は、ピクセル変調器用の 適当な搬送周波数を選択することによって制御される。アドレス能力調節のこれ らの方法は、下記に説明される通りビームの数を変えると共に使用することがで きる。

１０、要求された遮へい周波数の整合 望ましくないアーチファクトを回避するために、遮へい周波数の逆数はアドレス 能力の整数倍でなければならない。与えられた遮へい周波数では、アドレス能力 はこの要求に合致するように選択することができる。他の遮へい周波数を合致さ せるために、供給された数より少ない多数の平行ビームが使用される。好適実施 例では、８個の平行ビームが供給されて、一段と少ない数のビーム（範囲１〜７ の中の）が使用される。例えば、平行ビームおよび０．５ミル（２０００ピクセ ル／インチ）のアドレス能力を持つ装置は、１２５ｄｐｉおよび２５０ｄｐｉの 遮へい周波数を支持する。使用されるビームの数を７まで減少させると、アドレ ス能力が変わり、また（おのおのの逆数が新しいアドレス能力の整数倍である） 異なる１組の遮へい周波数を利用することができる。

１１、直交度 光学移動装置は定速モードで作動され、かつプロットされた像の直交度を保証す るために、軸線ＸおよびＹ′は図５ｃに示されるような鋸歯状波の幅によって非 直交にされる。ラスク線５７に対するオフセットの角度は図５ｂに５８として図 示されている。

ミラー装置は、面ミラーから得られるクロックに基づいて連続駆動される（段階 モードではなく定速モードで）。ｍ個のビームが鋸歯状波として書かれるにつれ て、非直交度が導かれる。非直交度は、ピクセル間隔のｍ倍である。基準目盛を 機械的にオフセットすることによって、非直交度を修正する措置が得られる。別 法として、非直交度の修正は、基準信号が基準目盛に沿う距離の関数としてサー ボされる波形のデユーティ・サイクルを変えることによって電子的に行うことが できる。図３ｂから、制御装置は常時中央線３３の上に基準ビームを保持する。

走査中にビーム分割装置の連続平行移動から生じる非直交度を補償するために、 デユーティ・サイクルの線形度を（基準ビームが図３ｂで左から右へ走査するに つれて）変えると、スキュー線３５のような線の上に基準ビームを保持する。ス キュー線３５の角度は、デユーティ・サイクロが変化する量を調節することによ って変えられるので、ビーム鋸歯状波の幅にしたがって補償を調節することがで きる。いずれかの方法が、ビームの異なるピクセル間隔および異なる数の非直交 度に合うように使用される。

１２、文書走査 説明された装置は、透明および反射性の両文書を走査することができる。いずれ の場合にも、光集収装置が目盛移動装置に接続されて、媒体により反射されたり 送られたりする光を集束する。集光装置は、掃引されたビームの方向に沿って光 を集束する既知の方法を使用する。

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Claims (20)

【特許請求の範囲】
1. １．変調光ビームの物体表面上への走査を制御する装置であり、 （ａ）変調光ビームおよび基準光ビームを含む結合された光ビームを供給する光 源装置と、 （ｂ）走査線に沿って結合された光ビームを移動させるために、物体表面に関し て固定位置を有する光学撮像装置と、 （ｃ）結合された光ビームの通路内にあって物体表面に平行に横運動するように 横運動自在に置かれ、変調光ビームの少なくとも若干は第１方向に連続しかつ基 準光ビームの少なくとも若干が第２方向に連続するビーム・スプリッタ装置と、 （ｄ）基準ビームの少なくとも若干がビーム・スプリッタ装置を出てから基準光 ビームの少なくとも若干を受けるように置かれた基準目盛と、２つの方向の基準 ビーム位置に応じて、走査線に沿うビーム位置を表わすクロック信号および走査 線に対して横方向にあるビーム位置を表わすバーユや位置信号を供給する基準目 盛センサ装置と、 （ｅ）走査線を横切る方向に一連の各走査を精密に置くようにビーム・スプリッ タ装置を横移動させる横移動装置とを含む、ことを特徴とする制御装置。
2. ２．結合された光ビームの通路にあって、折重なったビームの反射装置を含み、 結合された光ビームをその到来通路に平行な通路上に結合光ビームを復帰させ、 この場合横移動装置には、光学走査装置と物体表面との間に固定した光学通路長 さを保ち、かつ一連の各走査の間、物体表面で変調光ビームを集束状態に保つよ うな方法で、物体表面に平行でかつ走査線に対して横方向に同じ方向にあるビー ム・スプリッタ装置とを含む、ことを特徴とする請求項１記載の制御装置。
3. ３．ビーム・スプリッタ装置の位置を表わす信号と折重なったビーム反射装置の 位置を表わす信号とを供給する線形エンコーダ目盛センサ装置と、 走査線を横切る方向で走査の位置を修正する粗誤差修正装置と、 折重なったビーム反射装置と、線形エンコーダ目盛センサ装置により検知された 誤差を修正するような方法で折重なったビーム反射装置とビーム・スプリッタ装 置との間の距離を調節する装置をさらに含む粗誤差修正装置とを含む、ことを特 徴とする請求項２記載の装置。
4. ４．走査線を横切る方向に走査の位置の良好な修正を提供する結合された光ビー ムの方向を調節するビーム方向調節装置を持つ良好な誤差修正装置と、基準目盛 装置からバーユや位置信号を受けてビーム方向調節装置を制御する装置をさらに 含む、ことを特徴とする請求項３記載の装置。
5. ５．ビーム方向調節装置が音響−光学変調器を含む、ことを特徴とする請求項４ 記載の装置。
6. ６．音響−光学変調器はさらに、物体の表面でのビーム間の距離を調節する装置 を含む、ことを特徴とする請求項５記載の装置。
7. ７．音響−光学変調器によって導かれた波長依存の誤差を補償する電子回路装置 をさらに含む、ことを特徴とする請求項５記載の装置。
8. ８．光源装置は、信号波長を持つ変調光ビームと、変調光ビームの波長と異なる 信号波長を持つ基準光ビームとをさらに含み、かつ変調光ビームから基準光ビー ムをスペクトル分離する装置をさらに含む、ことを特徴とする請求項１記載の装 置。
9. ９．平行移動装置は、ビーム・スプリッタ装置を移動し、折重なったビーム反射 装置を移動し、さらにビーム・スプリッタ装置を移動させる距離の半分だけビー ム・スプリッタ装置を移動する機械装置を含む、ことを特徴とする請求項２記載 の装置。
10. １０．平行移動装置は、ビーム・スプリッタ装置を移動し、折重なったビーム反 射装置を移動し、さらに折重なったビーム反射装置を、それがビーム・スプリッ タ装置を移動させる距離の半分だけ移動する電気装置を含む、ことを特徴とする 請求項２記載の装置。
11. １１．物体表面が透明なプラテンによって定められる、ことを特徴とする請求項 １記載の装置。
12. １２．光源装置はさらに、多重、平行、独自変調光ビームを含む変調光ビームを 供給する装置を含む、ことを特徴とする請求項１記載の装置。
13. １３．物体表面で隣接ビーム間の距離を変えるような方法で、ビームの数を選択 する装置をさらに含む、ことを特徴とする請求項１２記載の装置。
14. １４．多重、平行、独自に変調された光ビームを鋸歯状波として平行に処理しか つ同時に書く装置をさらに含む、ことを特徴とする請求項１２記載の装置。
15. １５．鋸歯状波内の隣接ビームが、相互干渉を回避するような方法で、走査線に 平行な方向にオフセットされる、ことを特徴とする請求項１４記載の装置。
16. １６．鋸歯状波が、走査される像の直交性を保証するような方法で、物体表面の 基準線に関して放射状にオフセットされる、ことを特徴とする請求項１５記載の 装置。
17. １７．平行移動装置はさらにビーム・スプリッタを絶えず平行移動する装置を含 み、またこの場合装置はさらに、走査中にビーム・スプリッタの運動から生じる 非直交性を補償する平行移動補償装置を含む、ことを特徴とする請求項１記載の 装置。
18. １８．平行移動装置はさらに、ビーム・スプリッタを絶えず平行移動する装置を 含み、 この場合装置はさらに走査中のビー・スプリッタの運動から生じる非直交性を補 償する平行移動補償装置を含み、また この場合平行移動補償装置は物体表面での隣接ビーム間の距離に従って補償を調 節する装置を含む、ことを特徴とする請求項６項または請求項１３記載の装置。
19. １９．物体表面上への変調光ビームの走査を制御し、走査線を１つの方向に精密 に位置決めし、かつ変調を横方向にビーム位置と精密に同期させる方法であって 、変調光ビームと基準光ビームとを含む結合された光ビームを供給する段階と、 走査線に沿って結合された光ビームを移動させる段階と、 走査線に沿うすべての点で変調光ビームを集束する段階と、 結合された光ビームの少なくとも１部が第１通路に沿って移動し、かつ結合され た光ビームの少なくとも１部が第２通路に沿って移動するように、結合された光 ビームをスプリットする段階と、 第１通路からの基準光ビームの少なくとも１部を受ける段階と、 第１通路上の基準ビーム位置に応動しかつ第２通路上の変調ビームの部分の走査 線に沿う位置を表わすクロック信号を供給する段階と、 基準ビーム位置に応動し、かつ走査線を横切る方向の変調ビーム位置を表わすバ ーユヤ位置信号を供給する段階と、 結合された光ビームの少なくとも１部を、走査線を横切る方向に一連の各走査を 精密に位置決めするために、固定した物体表面を横切って移動させる段階と、変 調光ビーム源から物体表面までの固定した光学通路長さを維持する段階と、 一連の各走査について物体表面で変調光ビームを集束の形に保つ段階とを含む、 ことを特徴とする制御方法。
20. ２０．多重、平行で、独自に変調されたコヒーレント光ビームの物体表面上の走 査を制御し、走査線を１つの方向に精密に位置決めし、横方向のビーム位置と変 調を同期させる方法であり、 多重、変調の、実質的に平行な光ビームと基準光ビームとを含む結合された光ビ ームを供給する段階と、走査線に沿って結合された光ビームを移動する段階と、 各多重、変調の、実質的に平行な光ビームを走査線に沿う鋸歯状波内に集束する 段階と、 結合された光ビームの少なくとも１部が第１通路に沿って走行し、かつ結合され た光ビームの少なくとも１部が第２通路に沿って走行するように、結合された光 ビームをスプリットする段階と、 基準光ビームの少なくとも１部を第１通路から受ける段階と、 第１通路上の基準ビーム位置に応動しかつ第２通路上の変調ビームの部分の走査 線に沿う位置を表わすクロック信号を供給する段階と、 基準ビーム位置に応動しかつ走査線を横切る方向にある変調ビーム位置を表わす バーユヤ位置信号を供給する段階と、 走査線を横切る方向にある各一連の走査を精密に位置決めするために、固定した 物体表面を横切って結合した光ビームの少なくとも１部を移動する段階と、変調 光ビーム源から物体表面までの固定した光学通路長さを維持する段階と、 変調光ビームを一連の各走査について物体表面で集束の形に保つ段階とを含む、 ことを特徴とする方法。