JPH0649051A - エポキシ基含有化合物の製造方法 - Google Patents
エポキシ基含有化合物の製造方法Info
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- JPH0649051A JPH0649051A JP4203763A JP20376392A JPH0649051A JP H0649051 A JPH0649051 A JP H0649051A JP 4203763 A JP4203763 A JP 4203763A JP 20376392 A JP20376392 A JP 20376392A JP H0649051 A JPH0649051 A JP H0649051A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】コバルト、マンガンまたは鉄の錯化合物とケト
ン化合物の併存下に行う反応により、エポキシ基含有化
合物を得る方法。 【構成】二重結合性化合物（Ｉ）を、特定のコバルト化
合物、マンガン化合物または鉄化合物から選ばれる少な
くとも一種の錯化合物（例えば（II）′′′′）と、ケ
トン化合物（III）との存在下に、酸素含有ガスと反応
させる工程を含む、エポキシ基含有化合物（IV）の製造
方法。 〔式中Ｒ１はＨ、アルキル、アリール；Ｒ２，Ｒ３は
Ｈ、アルキル、アリール、アリールアルキル、又は互に
結合して環を形成；Ｒ１９〜Ｒ２２，Ｒ２４〜Ｒ２７は
Ｈ、低級アルキル、低級アルコキシ；Ｒ２３，Ｒ２８は
低級アルキル、アリール；Ｒ，Ｒ′，Ｒ″はアルキル、
アリール、又は互いに結合して環を形成〕
ン化合物の併存下に行う反応により、エポキシ基含有化
合物を得る方法。 【構成】二重結合性化合物（Ｉ）を、特定のコバルト化
合物、マンガン化合物または鉄化合物から選ばれる少な
くとも一種の錯化合物（例えば（II）′′′′）と、ケ
トン化合物（III）との存在下に、酸素含有ガスと反応
させる工程を含む、エポキシ基含有化合物（IV）の製造
方法。 〔式中Ｒ１はＨ、アルキル、アリール；Ｒ２，Ｒ３は
Ｈ、アルキル、アリール、アリールアルキル、又は互に
結合して環を形成；Ｒ１９〜Ｒ２２，Ｒ２４〜Ｒ２７は
Ｈ、低級アルキル、低級アルコキシ；Ｒ２３，Ｒ２８は
低級アルキル、アリール；Ｒ，Ｒ′，Ｒ″はアルキル、
アリール、又は互いに結合して環を形成〕
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエポキシ基含有化合物の
製造方法に関し、特に、コバルト、マンガンまたは鉄の
錯化合物とケトン化合物の併存下に行う新規な反応によ
り、エポキシ基含有化合物を得る方法に関する。
製造方法に関し、特に、コバルト、マンガンまたは鉄の
錯化合物とケトン化合物の併存下に行う新規な反応によ
り、エポキシ基含有化合物を得る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、エポキシ基含有化合物を製造する
方法として、二重結合を有する化合物を、ベンゼン、ク
ロロホルムあるいは四塩化炭素などの不活性溶媒中で、
過安息香酸、過ギ酸、過フタル酸、過プロピオン酸、過
酪酸あるいはトリフルオロ過酢酸などの有機過酸化物で
酸化する方法が知られている。特に、工業的には、過酸
化物を生じさせる物質、例えば、氷酢酸と不飽和化合物
との混合物に、強酸触媒を加えて６０〜７０℃に加熱し
ながら過酸化水素を加えて過酢酸を生成させ、この過酢
酸を利用してエポキシ基含有化合物を製造する方法が行
われている。
方法として、二重結合を有する化合物を、ベンゼン、ク
ロロホルムあるいは四塩化炭素などの不活性溶媒中で、
過安息香酸、過ギ酸、過フタル酸、過プロピオン酸、過
酪酸あるいはトリフルオロ過酢酸などの有機過酸化物で
酸化する方法が知られている。特に、工業的には、過酸
化物を生じさせる物質、例えば、氷酢酸と不飽和化合物
との混合物に、強酸触媒を加えて６０〜７０℃に加熱し
ながら過酸化水素を加えて過酢酸を生成させ、この過酢
酸を利用してエポキシ基含有化合物を製造する方法が行
われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記方
法における反応は、過敏な反応であるため、選択的にエ
ポキシ化反応を行うことが困難であり、しかもエポキシ
基含有化合物の生成に伴って、生成したエポキシ基含有
化合物の一部が重合することがある。また、この反応
は、反応温度が５０℃以上の厳しい反応条件下で行なわ
れるため、副反応が生起し易く、エポキシ基含有化合物
を高収率で得ることができない。また酸化剤として使用
する過酸類は高価かつ取扱いが危険なものであるため、
工業的に高コストになるという不利がある。
法における反応は、過敏な反応であるため、選択的にエ
ポキシ化反応を行うことが困難であり、しかもエポキシ
基含有化合物の生成に伴って、生成したエポキシ基含有
化合物の一部が重合することがある。また、この反応
は、反応温度が５０℃以上の厳しい反応条件下で行なわ
れるため、副反応が生起し易く、エポキシ基含有化合物
を高収率で得ることができない。また酸化剤として使用
する過酸類は高価かつ取扱いが危険なものであるため、
工業的に高コストになるという不利がある。
【０００４】さらに、有機過酸化物を使用しないエポキ
シ基含有化合物の製造方法として、不飽和化合物に次亜
ハロゲン酸を使用してハロヒドリンを生成させ、次いで
このハロヒドリンをアルカリ処理し、エポキシ基を生成
する方法も知られているが、この方法は、構造の複雑な
オレフィン類には適用できない。
シ基含有化合物の製造方法として、不飽和化合物に次亜
ハロゲン酸を使用してハロヒドリンを生成させ、次いで
このハロヒドリンをアルカリ処理し、エポキシ基を生成
する方法も知られているが、この方法は、構造の複雑な
オレフィン類には適用できない。
【０００５】そこで本発明の目的は、エポキシ基含有化
合物の製造に用いられてきた従来の反応に比して温和な
反応条件で行なうことができ、過酸類等の高価な酸化剤
を使用しないため工業的に低コストで行なうことがで
き、また良好な触媒効率で、エポキシ基含有化合物を得
ることができる新規な方法を提供することにある。
合物の製造に用いられてきた従来の反応に比して温和な
反応条件で行なうことができ、過酸類等の高価な酸化剤
を使用しないため工業的に低コストで行なうことがで
き、また良好な触媒効率で、エポキシ基含有化合物を得
ることができる新規な方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、一般式（Ｉ）：
決するために、一般式（Ｉ）：
【０００７】
【化８】
【０００８】〔式中、Ｒ1 は直鎖または分岐状のアルキ
ル基もしくはアリール基であり、置換基を有していても
よく、Ｒ2 およびＲ3 は、同一でも異なってもよく、水
素原子、アルキル基、アリール基およびアリールアルキ
ル基から選ばれる少なくとも１種の基もしくは原子であ
り、Ｒ1 とＲ3 は、相互に結合して環を形成していても
よく、さらに、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は同時に結合して
環を形成していてもよい〕で表わされる二重結合性化合
物を、次式（ＩＩ）〜（ＩＩ）’’’：
ル基もしくはアリール基であり、置換基を有していても
よく、Ｒ2 およびＲ3 は、同一でも異なってもよく、水
素原子、アルキル基、アリール基およびアリールアルキ
ル基から選ばれる少なくとも１種の基もしくは原子であ
り、Ｒ1 とＲ3 は、相互に結合して環を形成していても
よく、さらに、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は同時に結合して
環を形成していてもよい〕で表わされる二重結合性化合
物を、次式（ＩＩ）〜（ＩＩ）’’’：
【０００９】
【化９】
【００１０】〔式中、Ｍはコバルト原子、マンガン原子
または鉄原子であり、Ｒ4〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10およびＲ
12〜Ｒ14は同一でも異なってもよく、低級アルキル基、
アリール基、低級アルコキシ基、ハロゲン化アルキル
基、下記式（ａ）もしくは下記式（ｂ）： −ＣＯ2 Ｒ15
（ａ） （ここで、Ｒ15はアルキル基またはアリール基である） −Ｎ（Ｒ16）（Ｒ17）
（ｂ） （ここで、Ｒ16およびＲ17は同一でも異なってもよく、
アルキル基またはアリール基であり、Ｒ16およびＲ17は
相互に結合して環を形成していてもよく、環内に酸素原
子または窒素原子を含んでいてもよい。）で表わされる
基であり、また、Ｒ4 〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10およびＲ12〜
Ｒ14の隣合うものはそれぞれ相互に結合して環を形成し
ていてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さ
らに結合して芳香環を形成してもよく、この芳香環は置
換基を有していてもよい。また、Ｘ1 およびＸ2 は酸素
原子または窒素原子であり、Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子
である場合、Ｒ7 およびＲ11は存在しないものとし、Ｘ
1 およびＸ2 が窒素原子である場合、Ｒ7 およびＲ11は
同一でも異なってもよく、低級アルキル基、アリール
基、低級アルコキシ基またはハロゲン化アルキル基を示
し、Ｒ7 とＲ11はそれぞれ相互に結合して環を形成して
いてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さら
に結合して、芳香環を形成してもよく、この芳香環は置
換基を有していてもよい。また、Ｙは、ハロゲン原子ま
たは陰イオン、もしくは一般式（ｃ）： −ＯＣＯＲ18
（ｃ） （Ｒ18はアルキル基またはアリール基を示す）で表され
る基である〕で表されるコバルト化合物、マンガン化合
物または鉄化合物から選ばれる少なくとも一種の錯化合
物と、一般式（ＩＩＩ）：
または鉄原子であり、Ｒ4〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10およびＲ
12〜Ｒ14は同一でも異なってもよく、低級アルキル基、
アリール基、低級アルコキシ基、ハロゲン化アルキル
基、下記式（ａ）もしくは下記式（ｂ）： −ＣＯ2 Ｒ15
（ａ） （ここで、Ｒ15はアルキル基またはアリール基である） −Ｎ（Ｒ16）（Ｒ17）
（ｂ） （ここで、Ｒ16およびＲ17は同一でも異なってもよく、
アルキル基またはアリール基であり、Ｒ16およびＲ17は
相互に結合して環を形成していてもよく、環内に酸素原
子または窒素原子を含んでいてもよい。）で表わされる
基であり、また、Ｒ4 〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10およびＲ12〜
Ｒ14の隣合うものはそれぞれ相互に結合して環を形成し
ていてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さ
らに結合して芳香環を形成してもよく、この芳香環は置
換基を有していてもよい。また、Ｘ1 およびＸ2 は酸素
原子または窒素原子であり、Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子
である場合、Ｒ7 およびＲ11は存在しないものとし、Ｘ
1 およびＸ2 が窒素原子である場合、Ｒ7 およびＲ11は
同一でも異なってもよく、低級アルキル基、アリール
基、低級アルコキシ基またはハロゲン化アルキル基を示
し、Ｒ7 とＲ11はそれぞれ相互に結合して環を形成して
いてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さら
に結合して、芳香環を形成してもよく、この芳香環は置
換基を有していてもよい。また、Ｙは、ハロゲン原子ま
たは陰イオン、もしくは一般式（ｃ）： −ＯＣＯＲ18
（ｃ） （Ｒ18はアルキル基またはアリール基を示す）で表され
る基である〕で表されるコバルト化合物、マンガン化合
物または鉄化合物から選ばれる少なくとも一種の錯化合
物と、一般式（ＩＩＩ）：
【００１１】
【化１０】
【００１２】〔ここで、Ｒ、Ｒ′およびＲ″は同一でも
異なっていてもよく、直鎖もしくは分岐状のアルキル基
またはアリール基であり、ＲとＲ′およびＲ′とＲ″は
互いに結合して環を形成していてもよい〕で表されるケ
トン化合物との存在下に、酸素含有ガスと反応させる工
程を含む、一般式（ＩＶ）：
異なっていてもよく、直鎖もしくは分岐状のアルキル基
またはアリール基であり、ＲとＲ′およびＲ′とＲ″は
互いに結合して環を形成していてもよい〕で表されるケ
トン化合物との存在下に、酸素含有ガスと反応させる工
程を含む、一般式（ＩＶ）：
【００１３】
【化１１】
【００１４】〔Ｒ1 〜Ｒ3 は前記一般式（Ｉ）において
定義した通りである〕で表されるエポキシ基含有化合物
の製造方法を提供するものである。
定義した通りである〕で表されるエポキシ基含有化合物
の製造方法を提供するものである。
【００１５】以下、本発明のエポキシ基含有化合物の製
造方法（以下、「本発明の方法」という）について詳細
に説明する。
造方法（以下、「本発明の方法」という）について詳細
に説明する。
【００１６】本発明の方法における出発物質である二重
結合性化合物を表す一般式（Ｉ）において、Ｒ1 は直鎖
または分岐状のアルキル基もしくはアリール基である。
Ｒ1の直鎖または分岐状のアルキル基としては、例え
ば、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ
−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−
ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデ
シル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、
フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェ
ニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ナフチル基等が挙げ
られる。また、Ｒ1 は置換基を有していてもよい。
結合性化合物を表す一般式（Ｉ）において、Ｒ1 は直鎖
または分岐状のアルキル基もしくはアリール基である。
Ｒ1の直鎖または分岐状のアルキル基としては、例え
ば、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ
−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−
ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデ
シル基等が挙げられる。アリール基としては、例えば、
フェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェ
ニル基、ｐ−フルオロフェニル基、ナフチル基等が挙げ
られる。また、Ｒ1 は置換基を有していてもよい。
【００１７】Ｒ2 およびＲ3 は同一でも異なってもよ
く、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基または
アリール基である。この置換もしくは非置換のアルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチ
ル基等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェ
ニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル
基、ｐ−フルオロフェニル基、ナフチル基等が挙げられ
る。またＲ2 とＲ3 は相互に結合して環を形成してもよ
く、例えば、相互に結合してシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の
環を形成していてもよい。
く、水素原子、置換もしくは非置換のアルキル基または
アリール基である。この置換もしくは非置換のアルキル
基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチ
ル基等が挙げられ、アリール基としては、例えば、フェ
ニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル
基、ｐ−フルオロフェニル基、ナフチル基等が挙げられ
る。またＲ2 とＲ3 は相互に結合して環を形成してもよ
く、例えば、相互に結合してシクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の
環を形成していてもよい。
【００１８】またＲ1 とＲ3 は相互に結合して環を形成
してもよく、例えば、相互に結合して、ノルボルニル基
などの基を形成してもよい。
してもよく、例えば、相互に結合して、ノルボルニル基
などの基を形成してもよい。
【００１９】前記一般式（Ｉ）で表される二重結合性化
合物の代表例として、下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１０）
で表されるものが挙げられる。
合物の代表例として、下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１０）
で表されるものが挙げられる。
【００２０】
【化１２】
【００２１】本発明の方法は、前記一般式（Ｉ）で表さ
れる二重結合性化合物を、前記一般式（ＩＩ）〜（Ｉ
Ｉ）’’’で表されるコバルト化合物、マンガン化合物
および鉄化合物から選ばれる少なくとも一種の錯化合物
と、前記一般式（Ｖ）で表されるケトン化合物の共存下
に、酸素含有ガスと反応させる方法である。
れる二重結合性化合物を、前記一般式（ＩＩ）〜（Ｉ
Ｉ）’’’で表されるコバルト化合物、マンガン化合物
および鉄化合物から選ばれる少なくとも一種の錯化合物
と、前記一般式（Ｖ）で表されるケトン化合物の共存下
に、酸素含有ガスと反応させる方法である。
【００２２】本発明で用いられるコバルト、マンガンま
たは鉄化合物を表す前記一般式（ＩＩ）〜（Ｉ
Ｉ）’’’において、Ｍはコバルト原子、マンガン原子
または鉄原子であり、Ｒ4 〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10、Ｒ12〜
Ｒ14は同一でも異なってもよく、低級アルキル基、アリ
ール基、低級アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、あ
るいは前記式（ａ）または（ｂ）で表される基である。
この低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基などが挙げられ、アリール基としては、フェニル基、
ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基などが
挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトキシ基、プロピルオキシ基、フェノキシ基等が
挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、例えば、
トリフルオロメチル基等が挙げられる。
たは鉄化合物を表す前記一般式（ＩＩ）〜（Ｉ
Ｉ）’’’において、Ｍはコバルト原子、マンガン原子
または鉄原子であり、Ｒ4 〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10、Ｒ12〜
Ｒ14は同一でも異なってもよく、低級アルキル基、アリ
ール基、低級アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、あ
るいは前記式（ａ）または（ｂ）で表される基である。
この低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル
基などが挙げられ、アリール基としては、フェニル基、
ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基などが
挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ
基、エトキシ基、プロピルオキシ基、フェノキシ基等が
挙げられる。ハロゲン化アルキル基としては、例えば、
トリフルオロメチル基等が挙げられる。
【００２３】また、前記式（ａ）において、Ｒ15はアル
キル基またはアリール基であり、このアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられ、アリー
ル基としてはフェニル基などが挙げられる。
キル基またはアリール基であり、このアルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基等が挙げられ、アリー
ル基としてはフェニル基などが挙げられる。
【００２４】さらに、前記式（ｂ）において、Ｒ16およ
びＲ17は同一でも異なってもよく、アルキル基またはア
リール基であり、このアルキル基としては、例えば、メ
チル基、エチル基等が挙げられ、アリール基としてはフ
ェニル基などが挙げられ、またＲ16およびＲ17は相互に
結合してピロリジン環、ピペリジン環等を形成していて
もよく、環内に酸素原子または窒素原子を含んでモルフ
ォリン環等を形成してもよい。
びＲ17は同一でも異なってもよく、アルキル基またはア
リール基であり、このアルキル基としては、例えば、メ
チル基、エチル基等が挙げられ、アリール基としてはフ
ェニル基などが挙げられ、またＲ16およびＲ17は相互に
結合してピロリジン環、ピペリジン環等を形成していて
もよく、環内に酸素原子または窒素原子を含んでモルフ
ォリン環等を形成してもよい。
【００２５】また、Ｒ4 〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10、Ｒ12〜Ｒ
14の隣合うものはそれぞれ相互に結合して環を形成して
いてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さら
に結合して芳香環を形成してもよく、この芳香環に、メ
チル基、エチル基等の低級アルキル基、メトキシ基、エ
トキシ基等の低級アルコキシ基、あるいはフッ素、塩
素、臭素等のハロゲン原子等の置換基を有していてもよ
い。
14の隣合うものはそれぞれ相互に結合して環を形成して
いてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さら
に結合して芳香環を形成してもよく、この芳香環に、メ
チル基、エチル基等の低級アルキル基、メトキシ基、エ
トキシ基等の低級アルコキシ基、あるいはフッ素、塩
素、臭素等のハロゲン原子等の置換基を有していてもよ
い。
【００２６】また式（ＩＩ）〜（ＩＩ）’’’中、Ｘ1
およびＸ2 は酸素または窒素から選ばれる原子を示し、
Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子である場合、Ｒ7 、Ｒ11は存
在しないものとし、Ｘ1 およびＸ2 が窒素原子である場
合、Ｒ7 、Ｒ11は同一でも異なってもよく、メチル基、
エチル基等の低級アルキル基、フェニル基、ナフチル基
等のアリール基を示す。Ｒ7 とＲ11はそれぞれ相互に結
合して環を形成していてもよく、例えば、−ＣＨ2 ＣＨ
2 −基や−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −基等の脂環式の環を形
成してもよい。さらにこの環が芳香環をなしていてもよ
く、フェニル基の１、２−位やナフチル基の２、３−位
となっていてもよく、この芳香環はメチル基等の低級ア
ルキル基やメトキシ基等の低級アルコキシ基を有してい
てもよく、また、脂環式の環や芳香環の中に酸素や窒素
などの原子が含まれていてもよく、それが、例えば、−
ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −
やピリジンの２、３−位となっていてもよい。
およびＸ2 は酸素または窒素から選ばれる原子を示し、
Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子である場合、Ｒ7 、Ｒ11は存
在しないものとし、Ｘ1 およびＸ2 が窒素原子である場
合、Ｒ7 、Ｒ11は同一でも異なってもよく、メチル基、
エチル基等の低級アルキル基、フェニル基、ナフチル基
等のアリール基を示す。Ｒ7 とＲ11はそれぞれ相互に結
合して環を形成していてもよく、例えば、−ＣＨ2 ＣＨ
2 −基や−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −基等の脂環式の環を形
成してもよい。さらにこの環が芳香環をなしていてもよ
く、フェニル基の１、２−位やナフチル基の２、３−位
となっていてもよく、この芳香環はメチル基等の低級ア
ルキル基やメトキシ基等の低級アルコキシ基を有してい
てもよく、また、脂環式の環や芳香環の中に酸素や窒素
などの原子が含まれていてもよく、それが、例えば、−
ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −
やピリジンの２、３−位となっていてもよい。
【００２７】また、Ｙは、ハロゲン原子または陰イオ
ン、もしくは前記式（ｃ）で表される基である。一般式
（ｃ）において、Ｒ18はアルキル基またはアリール基で
あり、例えば、前記式（ａ）のＲ15について例示のもの
と同じ基が挙げられる。
ン、もしくは前記式（ｃ）で表される基である。一般式
（ｃ）において、Ｒ18はアルキル基またはアリール基で
あり、例えば、前記式（ａ）のＲ15について例示のもの
と同じ基が挙げられる。
【００２８】さらに、前記式（ＩＩ）、（ＩＩ）’、
（ＩＩ）’’および（ＩＩ）’’’で表されるコバルト
化合物の代表例として、下記一般式（ＩＩ）″″
（ＩＩ）’’および（ＩＩ）’’’で表されるコバルト
化合物の代表例として、下記一般式（ＩＩ）″″
【００２９】
【化１３】
【００３０】で表されるコバルト化合物が挙げられる。
この一般式（ＩＩ）″″において、Ｒ 19〜Ｒ22、Ｒ24〜
Ｒ27は低級アルキル基または低級アルコキシ基を示し、
低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、ま
た低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エ
トキシ基等が挙げられる。また、Ｒ23またはＲ28は低級
アルキル基を示し、Ｒ23とＲ28は互いに結合して環を形
成してもよく、例えば、−ＣＨ2 ＣＨ2 −基や−ＣＨ2
ＣＨ2 ＣＨ2 −基を形成してもよく、さらにこの環が芳
香環をなしていてもよく、フェニル基の１、２−位やナ
フチル基の２、３−位となっていてもよく、その芳香環
中に酸素や窒素などの原子が含まれていてもよく、例え
ば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −やピリジンの２、３−位となっていてもよい。
この一般式（ＩＩ）″″において、Ｒ 19〜Ｒ22、Ｒ24〜
Ｒ27は低級アルキル基または低級アルコキシ基を示し、
低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル
基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、ま
た低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エ
トキシ基等が挙げられる。また、Ｒ23またはＲ28は低級
アルキル基を示し、Ｒ23とＲ28は互いに結合して環を形
成してもよく、例えば、−ＣＨ2 ＣＨ2 −基や−ＣＨ2
ＣＨ2 ＣＨ2 −基を形成してもよく、さらにこの環が芳
香環をなしていてもよく、フェニル基の１、２−位やナ
フチル基の２、３−位となっていてもよく、その芳香環
中に酸素や窒素などの原子が含まれていてもよく、例え
ば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｎ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −やピリジンの２、３−位となっていてもよい。
【００３１】この一般式（ＩＩ）〜（ＩＩ）’’’で表
されるコバルト、マンガンまたは鉄化合物または（Ｉ
Ｉ）″″で表されるコバルト化合物の代表例として下記
式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３２）で表される化合物を挙
げることができる。
されるコバルト、マンガンまたは鉄化合物または（Ｉ
Ｉ）″″で表されるコバルト化合物の代表例として下記
式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−３２）で表される化合物を挙
げることができる。
【００３２】
【化１４】
【００３３】
【化１５】
【００３４】本発明の方法において、（ＩＩ）〜（Ｉ
Ｉ）’’’で表されるコバルト、マンガンまたは鉄化合
物、および（ＩＩ）″″で表されるコバルト化合物は、
１種単独でも２種以上を組み合わせてもよい。
Ｉ）’’’で表されるコバルト、マンガンまたは鉄化合
物、および（ＩＩ）″″で表されるコバルト化合物は、
１種単独でも２種以上を組み合わせてもよい。
【００３５】また、これらのコバルト、マンガンまたは
鉄化合物は、いずれの方法によって得られたものでもよ
く、特に限定されない。また、市販品を用いてもよい。
鉄化合物は、いずれの方法によって得られたものでもよ
く、特に限定されない。また、市販品を用いてもよい。
【００３６】これらのコバルト、マンガンまたは鉄化合
物の錯化合物は、例えば、所望のコバルト、マンガンま
たは鉄化合物に対応する配位子をＣｏＣｌ2 、ＭｎＣｌ
3 、ＦｅＣｌ3 とを用いて、脱塩法で製造することがで
きる。このようにして得られた錯化合物は、反応溶媒等
を除去した後、乾燥してそのまま使用してもよいし、有
機溶媒で抽出精製してもよいし、減圧下、昇華精製して
使用してもよい。
物の錯化合物は、例えば、所望のコバルト、マンガンま
たは鉄化合物に対応する配位子をＣｏＣｌ2 、ＭｎＣｌ
3 、ＦｅＣｌ3 とを用いて、脱塩法で製造することがで
きる。このようにして得られた錯化合物は、反応溶媒等
を除去した後、乾燥してそのまま使用してもよいし、有
機溶媒で抽出精製してもよいし、減圧下、昇華精製して
使用してもよい。
【００３７】本発明の方法において、前記一般式（Ｉ
Ｉ）〜（ＩＩ）’’’で表される錯化合物、もしくは
（ＩＩ）″″で表されるコバルト化合物の使用量は、通
常、出発原料である前記式（Ｉ）で表される二重結合性
化合物１モルに対して０．００５〜３０モル％の割合で
あり、特に、エポキシ基含有化合物の収率が高い点で、
０．１モル％〜１０モル％の割合が一般的である。
Ｉ）〜（ＩＩ）’’’で表される錯化合物、もしくは
（ＩＩ）″″で表されるコバルト化合物の使用量は、通
常、出発原料である前記式（Ｉ）で表される二重結合性
化合物１モルに対して０．００５〜３０モル％の割合で
あり、特に、エポキシ基含有化合物の収率が高い点で、
０．１モル％〜１０モル％の割合が一般的である。
【００３８】本発明の方法においては、前記一般式（Ｉ
Ｉ）〜（ＩＩ）’’’で表されるコバルト、マンガンま
たは鉄化合物、もしくは（ＩＩ）″″で表されるコバル
ト化合物とともに、前記一般式（ＩＩＩ）で表されるケ
トン化合物が用いられる。
Ｉ）〜（ＩＩ）’’’で表されるコバルト、マンガンま
たは鉄化合物、もしくは（ＩＩ）″″で表されるコバル
ト化合物とともに、前記一般式（ＩＩＩ）で表されるケ
トン化合物が用いられる。
【００３９】一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ、Ｒ′およ
びＲ″は同一でも異なってもよく、直鎖または分岐状の
アルキル基もしくはアリール基を示す。直鎖または分岐
状のアルキル基としては、例えば、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル
基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられ
る。アリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−メ
トキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−フルオ
ロフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、Ｒと
Ｒ′、Ｒ′とＲ″は互いに結合して環を形成していても
よく、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基
等を形成していてもよい。
びＲ″は同一でも異なってもよく、直鎖または分岐状の
アルキル基もしくはアリール基を示す。直鎖または分岐
状のアルキル基としては、例えば、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル
基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられ
る。アリール基としては、例えば、フェニル基、ｐ−メ
トキシフェニル基、ｐ−クロロフェニル基、ｐ−フルオ
ロフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。また、Ｒと
Ｒ′、Ｒ′とＲ″は互いに結合して環を形成していても
よく、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロノニル基
等を形成していてもよい。
【００４０】また、この一般式（ＩＩＩ）で表されるケ
トン化合物の代表例として、一般式（ＩＩＩ）’：
トン化合物の代表例として、一般式（ＩＩＩ）’：
【００４１】
【化１６】
【００４２】で表される化合物が挙げられる。この一般
式（ＩＩＩ）’において、Ｒa 、Ｒb、Ｒc およびＲd
のうち少なくとも一つは水素原子を示し、他は水素原子
または低級アルキル基である。またｎは１〜１０の整数
を示す。
式（ＩＩＩ）’において、Ｒa 、Ｒb、Ｒc およびＲd
のうち少なくとも一つは水素原子を示し、他は水素原子
または低級アルキル基である。またｎは１〜１０の整数
を示す。
【００４３】この一般式（ＩＩＩ）、（ＩＩＩ）’で表
されるケトン化合物の代表例として下記式（ＩＩＩ−
１）〜（ＩＩＩ−１５）で表される化合物を挙げること
ができる。
されるケトン化合物の代表例として下記式（ＩＩＩ−
１）〜（ＩＩＩ−１５）で表される化合物を挙げること
ができる。
【００４４】
【化１７】
【００４５】本発明において、前記一般式（ＩＩＩ）、
（ＩＩＩ）’で表されるケトン化合物は、１種単独でも
２種以上を組み合わせても用いられる。
（ＩＩＩ）’で表されるケトン化合物は、１種単独でも
２種以上を組み合わせても用いられる。
【００４６】本発明の方法において、この一般式（ＩＩ
Ｉ）、（ＩＩＩ）’で表されるケトン化合物の使用量
は、出発物質である前記一般式（Ｉ）で表される二重結
合性化合物１モルに対して、通常、１モル以上、好まし
くは１〜１００モルが一般的であり、溶媒として用いて
もよい。
Ｉ）、（ＩＩＩ）’で表されるケトン化合物の使用量
は、出発物質である前記一般式（Ｉ）で表される二重結
合性化合物１モルに対して、通常、１モル以上、好まし
くは１〜１００モルが一般的であり、溶媒として用いて
もよい。
【００４７】また、本発明の方法において、反応は他の
不活性溶媒を用いて行うこともできる。用いられる不活
性溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン等の炭化水素系溶
媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒、または
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が好まし
い。
不活性溶媒を用いて行うこともできる。用いられる不活
性溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン等の炭化水素系溶
媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶媒、または
ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒が好まし
い。
【００４８】本発明の方法で用いられる酸素含有ガス
は、酸素ガス（純酸素）でもよいし、酸素含有窒素ガス
（例えば空気）等の酸素含有不活性ガスでもよい。
は、酸素ガス（純酸素）でもよいし、酸素含有窒素ガス
（例えば空気）等の酸素含有不活性ガスでもよい。
【００４９】酸素含有ガス中の酸素の分圧は、好ましく
は０．１〜１０ａｔｍ程度、さらに好ましくは０．２〜
２．０ａｔｍ程度である。
は０．１〜１０ａｔｍ程度、さらに好ましくは０．２〜
２．０ａｔｍ程度である。
【００５０】反応温度は、通常３０〜１８０℃であり、
さらに４０〜１５０℃が好ましい。
さらに４０〜１５０℃が好ましい。
【００５１】反応圧力は、溶媒が気化しない限り、常圧
で十分である。
で十分である。
【００５２】以上の反応によって得られる反応混合物か
ら、目的のエポキシ基含有化合物を、公知の方法、例え
ば、蒸留、吸着による方法、抽出、再結晶等の方法を組
み合わせて得ることができる。
ら、目的のエポキシ基含有化合物を、公知の方法、例え
ば、蒸留、吸着による方法、抽出、再結晶等の方法を組
み合わせて得ることができる。
【００５３】本発明の方法で得られる前記一般式（Ｉ
Ｖ）で表されるエポキシ基含有化合物の代表的なものと
して、下記式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−１０）で示される
ものが挙げられる。
Ｖ）で表されるエポキシ基含有化合物の代表的なものと
して、下記式（ＩＶ−１）〜（ＩＶ−１０）で示される
ものが挙げられる。
【００５４】
【化１８】
【００５５】また本発明の方法は、下記式：
【００５６】
【化１９】
【００５７】で表される含窒素化合物から選ばれる少な
くとも１種を添加して行ってもよく、これは用いるコバ
ルト化合物に配位させるためのものであるから、その使
用量は用いるコバルト化合物に対して、通常、１〜１０
倍モル、好ましくは１〜３倍モルの添加で十分である
くとも１種を添加して行ってもよく、これは用いるコバ
ルト化合物に配位させるためのものであるから、その使
用量は用いるコバルト化合物に対して、通常、１〜１０
倍モル、好ましくは１〜３倍モルの添加で十分である
【００５８】
【実施例】以下、本発明の実施例を挙げ、本発明を具体
的に説明する。
的に説明する。
【００５９】（実施例１〜８）各例において、前記式
（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前記
式（ＩＩ−６）で表されるコバルト化合物０．０６ｍｍ
ｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表１に示すケトン化合
物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時
間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−１）で表さ
れるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスクロ
マトグラフィーで求めた。結果を表１に示す。
（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前記
式（ＩＩ−６）で表されるコバルト化合物０．０６ｍｍ
ｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表１に示すケトン化合
物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時
間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−１）で表さ
れるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスクロ
マトグラフィーで求めた。結果を表１に示す。
【００６０】
【表１】
【００６１】（実施例９〜１７）各例において、前記式
（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前記
式（ＩＩ−７）で表されるコバルト化合物０．０６ｍｍ
ｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表２に示すケトン化合
物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時
間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−１）で表さ
れるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスクロ
マトグラフィーで求めた。結果を表２に示す。
（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前記
式（ＩＩ−７）で表されるコバルト化合物０．０６ｍｍ
ｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表２に示すケトン化合
物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時
間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−１）で表さ
れるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスクロ
マトグラフィーで求めた。結果を表２に示す。
【００６２】
【表２】
【００６３】（実施例１８〜２０）各例において、前記
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前
記式（ＩＩ−７）で表されるコバルト化合物０．０６ｍ
ｍｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表３に示すケトン化
合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６
時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−４）で表
されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスク
ロマトグラフィーで求めた。結果を表３に示す。
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前
記式（ＩＩ−７）で表されるコバルト化合物０．０６ｍ
ｍｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表３に示すケトン化
合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６
時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−４）で表
されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスク
ロマトグラフィーで求めた。結果を表３に示す。
【００６４】
【表３】
【００６５】（実施例２１〜３０）各例において、前記
式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前
記式（ＩＩ−１３）で表されるコバルト化合物０．０６
ｍｍｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表４に示すケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−６）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表４に示す。
式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、前
記式（ＩＩ−１３）で表されるコバルト化合物０．０６
ｍｍｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、および表４に示すケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−６）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表４に示す。
【００６６】
【表４】
【００６７】（実施例３１〜３７）各例において、前記
式（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
５に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−１）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表５に示す。
式（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
５に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−１）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表５に示す。
【００６８】
【表５】
【００６９】（実施例３８〜４３）各例において、前記
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
６に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−４）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表６に示す。
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
６に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−４）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表６に示す。
【００７０】
【表６】
【００７１】（実施例４４〜５１）各例において、前記
式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
７に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−６）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表７に示す。
式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
７に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させて、前記式（ＩＶ−６）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表７に示す。
【００７２】
【表７】
【００７３】（実施例５２〜５８および９５）各例にお
いて、前記式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍ
ｍｏｌ、表８に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ
（２．０ｍｏｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表
されるケトン化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気
下、７５℃で６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（Ｉ
Ｖ−６）で表されるエポキシ基含有化合物を得、その生
成量をガスクロマトグラフィーで求めた。結果を表８に
示す。
いて、前記式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍ
ｍｏｌ、表８に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ
（２．０ｍｏｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表
されるケトン化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気
下、７５℃で６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（Ｉ
Ｖ−６）で表されるエポキシ基含有化合物を得、その生
成量をガスクロマトグラフィーで求めた。結果を表８に
示す。
【００７４】
【表８】
【００７５】（実施例５９〜６６）各例において、前記
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
９に示すマンガン化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（ＩＶ−４）で表
されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスク
ロマトグラフィーで求めた。結果を表９に示す。
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
９に示すマンガン化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏ
ｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（ＩＶ−４）で表
されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガスク
ロマトグラフィーで求めた。結果を表９に示す。
【００７６】
【表９】
【００７７】（実施例６７〜７０）各例において、前記
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１０に示すマンガン化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍ
ｏｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケト
ン化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃
で６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（ＩＶ−４）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表１０に示す。
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１０に示すマンガン化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍ
ｏｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケト
ン化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃
で６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（ＩＶ−４）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表１０に示す。
【００７８】
【表１０】
【００７９】（実施例７１、７２）各例において、前記
式（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１１に示すマンガン化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍ
ｏｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケト
ン化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃
で６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（ＩＶ−１）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表１１に示す。
式（Ｉ−１）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１１に示すマンガン化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍ
ｏｌ％）、および前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケト
ン化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃
で６時間加熱撹拌して反応させ、前記式（ＩＶ−１）で
表されるエポキシ基含有化合物を得、その生成量をガス
クロマトグラフィーで求めた。結果を表１１に示す。
【００８０】
【表１１】
【００８１】（実施例７３〜７５）各例において、前記
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１２に示す鉄化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏｌ
％）、および表１２に示すケトン化合物５．０ｍｌとと
もに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時間加熱撹拌して反
応させ、前記式（ＩＶ−４）で表されるエポキシ基含有
化合物を得、その生成量をガスクロマトグラフィーで求
めた。結果を表１２に示す。
式（Ｉ−４）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１２に示す鉄化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏｌ
％）、および表１２に示すケトン化合物５．０ｍｌとと
もに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時間加熱撹拌して反
応させ、前記式（ＩＶ−４）で表されるエポキシ基含有
化合物を得、その生成量をガスクロマトグラフィーで求
めた。結果を表１２に示す。
【００８２】
【表１２】
【００８３】（実施例７６〜８８）各例において、表１
３に示すオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表１３に示すコバ
ルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、およ
び前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン化合物５．０
ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時間加熱撹
拌して反応させ、表１３に示すエポキシ基含有化合物を
得、その生成量をガスクロマトグラフィーで求めた。結
果を表１３に示す。特に、実施例７６および７７におい
て、エポキシ基含有化合物１ｍｏｌの生成に対して消費
された２−メチルシクロヘキサノンの量を測定したとこ
ろ、各々０．７０ｍｏｌおよび１．０２ｍｏｌであるこ
とがわかった。また、同様に、実施例７８では、エポキ
シ基含有化合物１ｍｏｌの生成に対して１．０１ｍｏｌ
の２−メチルシクロヘキサノンが消費されていた。
３に示すオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表１３に示すコバ
ルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍｏｌ％）、およ
び前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン化合物５．０
ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で６時間加熱撹
拌して反応させ、表１３に示すエポキシ基含有化合物を
得、その生成量をガスクロマトグラフィーで求めた。結
果を表１３に示す。特に、実施例７６および７７におい
て、エポキシ基含有化合物１ｍｏｌの生成に対して消費
された２−メチルシクロヘキサノンの量を測定したとこ
ろ、各々０．７０ｍｏｌおよび１．０２ｍｏｌであるこ
とがわかった。また、同様に、実施例７８では、エポキ
シ基含有化合物１ｍｏｌの生成に対して１．０１ｍｏｌ
の２−メチルシクロヘキサノンが消費されていた。
【００８４】
【表１３】
【００８５】（実施例８９〜９４）各例において、前記
式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１４に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍ
ｏｌ％）、および表１４に示す含窒素化合物を表１４に
示す量添加し、前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させ、表１４に示すエポキシ基
含有化合物を得、その生成量をガスクロマトグラフィー
で求めた。結果を表１４に示す。
式（Ｉ−６）で表されるオレフィン３．０ｍｍｏｌ、表
１４に示すコバルト化合物０．０６ｍｍｏｌ（２．０ｍ
ｏｌ％）、および表１４に示す含窒素化合物を表１４に
示す量添加し、前記式（ＩＩＩ−６）で表されるケトン
化合物５．０ｍｌとともに、純酸素雰囲気下、７５℃で
６時間加熱撹拌して反応させ、表１４に示すエポキシ基
含有化合物を得、その生成量をガスクロマトグラフィー
で求めた。結果を表１４に示す。
【００８６】
【表１４】
【００８７】
【発明の効果】本発明の方法によれば、エポキシ基含有
化合物の製造に用いられてきた従来の反応に比して温和
な反応条件で、酸素含有ガスにより簡便な操作で効率良
くエポキシ基含有化合物を製造できる。本発明の方法
は、過酸類等の高価な酸化剤を使用しないため工業的に
低コストで行なうことができ、また良好な触媒効率で、
エポキシ基含有化合物を得ることができるため、工業的
に有用である。また本発明の方法においては、反応で共
存させるケトンの消費量が生成するエポキシ化合物に対
して１等量程度と少なくてすむという利点も有してい
る。
化合物の製造に用いられてきた従来の反応に比して温和
な反応条件で、酸素含有ガスにより簡便な操作で効率良
くエポキシ基含有化合物を製造できる。本発明の方法
は、過酸類等の高価な酸化剤を使用しないため工業的に
低コストで行なうことができ、また良好な触媒効率で、
エポキシ基含有化合物を得ることができるため、工業的
に有用である。また本発明の方法においては、反応で共
存させるケトンの消費量が生成するエポキシ化合物に対
して１等量程度と少なくてすむという利点も有してい
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 303/16 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ (72)発明者 萬 清 隆 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三 井石油化学工業株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、Ｒ1 は、水素原子、直鎖または分岐状のアルキ
ル基もしくはアリール基であり、置換基を有していても
よく、Ｒ2 およびＲ3 は同一でも異なってもよく、水素
原子、アルキル基、アリール基およびアリールアルキル
基から選ばれる少なくとも１種の基もしくは原子であ
り、Ｒ1 とＲ3 は相互に結合して環を形成していてもよ
く、さらに、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は同時に結合して環
を形成していてもよい〕で表わされる二重結合性化合物
を、次式（ＩＩ）〜（ＩＩ）’’’： 【化２】 〔式中、Ｍはコバルト原子、マンガン原子または鉄原子
であり、Ｒ4〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10およびＲ12〜Ｒ14は同
一でも異なってもよく、低級アルキル基、アリール基、
低級アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、下記式
（ａ）もしくは下記式（ｂ）： −ＣＯ2 Ｒ15
（ａ） （ここで、Ｒ15はアルキル基またはアリール基である） −Ｎ（Ｒ16）（Ｒ17）
（ｂ） （ここで、Ｒ16およびＲ17は同一でも異なってもよく、
アルキル基またはアリール基であり、Ｒ16およびＲ17は
相互に結合して環を形成していてもよく、環内に酸素原
子または窒素原子を含んでいてもよい。）で表わされる
基であり、また、Ｒ4 〜Ｒ6 、Ｒ8 〜Ｒ10およびＲ12〜
Ｒ14の隣合うものはそれぞれ相互に結合して環を形成し
ていてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さ
らに結合して芳香環を形成してもよく、この芳香環は置
換基を有していてもよい。また、Ｘ1 およびＸ2 は酸素
原子または窒素原子であり、Ｘ1 およびＸ2 が酸素原子
である場合、Ｒ7 およびＲ11は存在しないものとし、Ｘ
1 およびＸ2 が窒素原子である場合、Ｒ7 およびＲ11は
同一でも異なってもよく、低級アルキル基、アリール
基、低級アルコキシ基またはハロゲン化アルキル基を示
し、Ｒ7 とＲ11はそれぞれ相互に結合して環を形成して
いてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよく、さら
に結合して、芳香環を形成してもよく、この芳香環は置
換基を有していてもよい。また、Ｙは、ハロゲン原子ま
たは陰イオン、もしくは一般式（ｃ）： −ＯＣＯＲ18
（ｃ） （Ｒ18はアルキル基またはアリール基を示す）で表され
る基である〕で表されるコバルト化合物、マンガン化合
物または鉄化合物から選ばれる少なくとも一種の錯化合
物と、一般式（ＩＩＩ）： 【化３】 〔ここで、Ｒ、Ｒ′およびＲ″は同一でも異なっていて
もよく、直鎖もしくは分岐状のアルキル基またはアリー
ル基であり、ＲとＲ′およびＲ′とＲ″は互いに結合し
て環を形成していてもよい〕で表されるケトン化合物と
の存在下に、酸素含有ガスと反応させる工程を含む、一
般式（ＩＶ）： 【化４】 〔Ｒ1 〜Ｒ3 は前記一般式（Ｉ）において定義した通り
である〕で表されるエポキシ基含有化合物の製造方法。 - 【請求項２】前記錯化合物が、一般式（ＩＩ）″″： 【化５】 〔式中、Ｒ19〜Ｒ22、Ｒ24〜Ｒ27は同一でも異なっても
よく、水素原子または低級アルキル基もしくは低級アル
コキシ基である。また、Ｒ23とＲ28は低級アルキル基ま
たはアリール基であり、これらは相互に結合して環を形
成していてもよく、環内に窒素原子を含んでいてもよ
く、さらに結合して芳香環を形成してもよく、この芳香
環は置換基を有していてもよい〕で表されるコバルト化
合物である請求項１に記載のエポキシ基含有化合物の製
造方法。 - 【請求項３】前記ケトン化合物が、下記式（ＩＩ
Ｉ）’： 【化６】 〔式中、Ｒa 、Ｒb 、Ｒc およびＲd のうち少なくとも
一つは水素原子を示し、他は、水素原子または低級アル
キル基を示す。またｎは１〜１０の整数を示す〕で表さ
れるケトン化合物である請求項１に記載のエポキシ基含
有化合物の製造方法。 - 【請求項４】下記式（Ｖ）： 【化７】 で表される含窒素化合物から選ばれる少なくとも１種の
存在下に反応を行う請求項２または３に記載のエポキシ
基含有化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4203763A JPH0649051A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | エポキシ基含有化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4203763A JPH0649051A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | エポキシ基含有化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0649051A true JPH0649051A (ja) | 1994-02-22 |
Family
ID=16479426
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4203763A Withdrawn JPH0649051A (ja) | 1992-07-30 | 1992-07-30 | エポキシ基含有化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0649051A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007225469A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Sii Nanotechnology Inc | 蛍光ｘ線分析装置 |
| US7582786B2 (en) | 1992-12-07 | 2009-09-01 | Eukarion Inc. | Synthetic catalytic free radical scavengers useful as antioxidants for prevention and therapy of disease |
| JP2009533336A (ja) * | 2006-04-07 | 2009-09-17 | インペリアル イノヴェイションズ リミテッド | テロメラーゼ阻害剤 |
| CN112608793A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-06 | 河南中烟工业有限责任公司 | 凸显中式卷烟甜味特征的吡喃酮香原料的制备方法及应用 |
-
1992
- 1992-07-30 JP JP4203763A patent/JPH0649051A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7582786B2 (en) | 1992-12-07 | 2009-09-01 | Eukarion Inc. | Synthetic catalytic free radical scavengers useful as antioxidants for prevention and therapy of disease |
| JP2007225469A (ja) * | 2006-02-24 | 2007-09-06 | Sii Nanotechnology Inc | 蛍光ｘ線分析装置 |
| JP2009533336A (ja) * | 2006-04-07 | 2009-09-17 | インペリアル イノヴェイションズ リミテッド | テロメラーゼ阻害剤 |
| CN112608793A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-06 | 河南中烟工业有限责任公司 | 凸显中式卷烟甜味特征的吡喃酮香原料的制备方法及应用 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |