JPH0647010Y2 - マスキング部材 - Google Patents
マスキング部材Info
- Publication number
- JPH0647010Y2 JPH0647010Y2 JP1988138396U JP13839688U JPH0647010Y2 JP H0647010 Y2 JPH0647010 Y2 JP H0647010Y2 JP 1988138396 U JP1988138396 U JP 1988138396U JP 13839688 U JP13839688 U JP 13839688U JP H0647010 Y2 JPH0647010 Y2 JP H0647010Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- masking member
- substrate
- sectional area
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 スパッタリング法、真空蒸着法などにより透明導電膜な
どの薄膜を選択的に形成するためのマスキング部材に関
する。
どの薄膜を選択的に形成するためのマスキング部材に関
する。
最近、断熱性能、アンテナ性能、防曇性能などを付与す
るために、ITO膜、NESA膜、AgとZnを組み合わせた多層
膜などの透明導電膜が自動車用窓ガラスに設けられるよ
うになってきているが、必ずしもこれらの透明導電膜は
窓ガラス全面に設けられることはなく、後述するように
部分的に設けることが必要とされることがある。
るために、ITO膜、NESA膜、AgとZnを組み合わせた多層
膜などの透明導電膜が自動車用窓ガラスに設けられるよ
うになってきているが、必ずしもこれらの透明導電膜は
窓ガラス全面に設けられることはなく、後述するように
部分的に設けることが必要とされることがある。
この場合に、透明膜といえども膜形成部分と膜非形成部
分の境界部分が透過率の違いなどにより目立ってしま
い、美観上は勿論、安全上も好ましいものではなかっ
た。
分の境界部分が透過率の違いなどにより目立ってしま
い、美観上は勿論、安全上も好ましいものではなかっ
た。
一方、シェードバンド、黒枠などの着色膜について
は、、膜形成部分と膜非形成部分の境界部分て出来るだ
け、目立たないように、ぼかし模様が施されており、断
面積の大きい膜から小さい膜に順次配列する方法あるい
は膜厚を次第に小さくする方法が知られている。
は、、膜形成部分と膜非形成部分の境界部分て出来るだ
け、目立たないように、ぼかし模様が施されており、断
面積の大きい膜から小さい膜に順次配列する方法あるい
は膜厚を次第に小さくする方法が知られている。
透明導電膜はスパッタリング法、真空蒸着法などの方法
により形成されるが、従来の膜厚を次第に小さくする方
法では、透過率が変わるので、境界部分が却って目立っ
てしまう。
により形成されるが、従来の膜厚を次第に小さくする方
法では、透過率が変わるので、境界部分が却って目立っ
てしまう。
また、マスキング部材に透孔を設け断面積の大きいもの
から小さいものに配列したものにおいて、透孔を従来の
ように透明基板に垂直方向に断面積を等しくしたもので
は、透孔部分に相当する位置に形成された膜は、マスキ
ング部材の厚みのために、周辺部分が薄くなってやはり
境界部分が目立ってしまうことは避けられない。
から小さいものに配列したものにおいて、透孔を従来の
ように透明基板に垂直方向に断面積を等しくしたもので
は、透孔部分に相当する位置に形成された膜は、マスキ
ング部材の厚みのために、周辺部分が薄くなってやはり
境界部分が目立ってしまうことは避けられない。
本考案はこのような点に鑑みてなされたもので、膜形成
部分と膜非形成分の境界部分を出来るだけ目立たないよ
うに形成するためのマスキング部材を提供することを目
的とする。
部分と膜非形成分の境界部分を出来るだけ目立たないよ
うに形成するためのマスキング部材を提供することを目
的とする。
本考案は、透明基板に密着させ、スパッタリング法、真
空蒸着法により該基板上に選択的に薄膜を形成するため
のマスキング部材であって、前記基板側を絞った構造
で、断面積の異なる透孔を複数個設けるとともに、断面
積の大なるものから小なるものへ順次配設するようにし
たことを特徴とする。
空蒸着法により該基板上に選択的に薄膜を形成するため
のマスキング部材であって、前記基板側を絞った構造
で、断面積の異なる透孔を複数個設けるとともに、断面
積の大なるものから小なるものへ順次配設するようにし
たことを特徴とする。
スパッタリング法、真空蒸着法において基板上に選択的
に薄膜を形成する場合に、マスキング部材を基板に密着
させる必要があり、移動中あるいは真空に引くときにマ
スキング部材と基板が位置ずれを起こさないように、マ
スキング部材はある程度の重量すなわち厚さが必要であ
る。このようなマスキング部材に従来のような垂直方向
の孔を設けたのではスパッタされた粒子あるいは加熱蒸
発粒子が基板に対して必ずしも直角に移動しないので、
膜の周縁部が薄くなるのは避けられないが本考案は、マ
スキング部材の孔を粒子の到来方向に対して広く、すな
わち基板方向に絞った構造としたので断面積の小さな膜
であっても均一厚さとすることができるものである。
に薄膜を形成する場合に、マスキング部材を基板に密着
させる必要があり、移動中あるいは真空に引くときにマ
スキング部材と基板が位置ずれを起こさないように、マ
スキング部材はある程度の重量すなわち厚さが必要であ
る。このようなマスキング部材に従来のような垂直方向
の孔を設けたのではスパッタされた粒子あるいは加熱蒸
発粒子が基板に対して必ずしも直角に移動しないので、
膜の周縁部が薄くなるのは避けられないが本考案は、マ
スキング部材の孔を粒子の到来方向に対して広く、すな
わち基板方向に絞った構造としたので断面積の小さな膜
であっても均一厚さとすることができるものである。
実施例１ 以下、図面を参照して本考案を詳細に説明する。
第１図は本考案のマスキング部材を使用したマグネトロ
ンスパッタリング装置の概略断面図、第２図は本考案の
マスキング部材の一実施例を示す一部平面図である。
ンスパッタリング装置の概略断面図、第２図は本考案の
マスキング部材の一実施例を示す一部平面図である。
真空チャンバー１内には２組の永久磁石２を内蔵するマ
グネトロンカソード３とアノード４が設けられ、その下
に例えば、95wt％In2O3−5wt％SnO2焼結体をターゲット
５として配設する。一方、ターゲット５に対して平行と
なるように板ガラスなどの透明基板６を保持台７に保持
し、透明基板６上には厚さ1mmのフッ素ゴム製のマスキ
ング部材８を載置、密着させる。マスキング部材８には
第２図に示すように、円形状の複数の透孔９を基板６側
に絞った構造にして穿設する。
グネトロンカソード３とアノード４が設けられ、その下
に例えば、95wt％In2O3−5wt％SnO2焼結体をターゲット
５として配設する。一方、ターゲット５に対して平行と
なるように板ガラスなどの透明基板６を保持台７に保持
し、透明基板６上には厚さ1mmのフッ素ゴム製のマスキ
ング部材８を載置、密着させる。マスキング部材８には
第２図に示すように、円形状の複数の透孔９を基板６側
に絞った構造にして穿設する。
このようなDCマグネトロンスパッタリング装置におい
て、排気系10により真空チャンバーを高真空、例えば10
-5Torr〜10-6Torrまで排気したのちガス導入バルブ11に
よりArとO2の混合ガスを導入する。
て、排気系10により真空チャンバーを高真空、例えば10
-5Torr〜10-6Torrまで排気したのちガス導入バルブ11に
よりArとO2の混合ガスを導入する。
マグネトロンカソード３とアノード４の両電極間に高電
圧を印加すると、永久磁石２の磁界によってマグネトロ
ン放電が起こり、ターゲット５がスパッタされた透明基
板６に例えば酸化インジウム−酸化錫系薄膜（ITO膜）
などの透明導電膜が形成される。
圧を印加すると、永久磁石２の磁界によってマグネトロ
ン放電が起こり、ターゲット５がスパッタされた透明基
板６に例えば酸化インジウム−酸化錫系薄膜（ITO膜）
などの透明導電膜が形成される。
このようにして得られる透明導電膜はぼかし模様以外の
部分は勿論、ぼかし模様部分も断面積の小さな円形状膜
に至るまで均一な厚さに製膜され、境界部分が目立た
ず、ぼかされて形成される。
部分は勿論、ぼかし模様部分も断面積の小さな円形状膜
に至るまで均一な厚さに製膜され、境界部分が目立た
ず、ぼかされて形成される。
ぼかし模様は自動車窓ガラス等に応用される。例えば、
透明導電膜をアンテナとして使用する場合、FMラジオ放
送波、TV（VHF）放送波を好適に受信できるが、さらにT
V（UHF）放送波まで受信するには、窓ガラス上部から下
部に若干の余白部を残して透明導電膜を形成し、余白部
にTV（UHF）放送波を好適に受信する線状のプリントア
ンテナを設ければ、全体として広帯域受信アンテナとな
る。
透明導電膜をアンテナとして使用する場合、FMラジオ放
送波、TV（VHF）放送波を好適に受信できるが、さらにT
V（UHF）放送波まで受信するには、窓ガラス上部から下
部に若干の余白部を残して透明導電膜を形成し、余白部
にTV（UHF）放送波を好適に受信する線状のプリントア
ンテナを設ければ、全体として広帯域受信アンテナとな
る。
また車両用の前部窓ガラスの一部にヘッドアップディス
プレイ用の薄膜を設け、さらに断熱性能を付与する場
合、AgとZnOを組み合わせたような多層膜を透明導電膜
として窓ガラスほぼ全面に設けることになるが、ヘッド
アップディスプレイ用薄膜と重なる部分は可視光透過率
を70％以上に保つために、マスキングする必要がある。
プレイ用の薄膜を設け、さらに断熱性能を付与する場
合、AgとZnOを組み合わせたような多層膜を透明導電膜
として窓ガラスほぼ全面に設けることになるが、ヘッド
アップディスプレイ用薄膜と重なる部分は可視光透過率
を70％以上に保つために、マスキングする必要がある。
以上のような車両用の窓ガラスの透明導電膜の製膜には
本考案のマスキング部材を使用すると好適である。
本考案のマスキング部材を使用すると好適である。
以上、好適な実施例により説明したが、本考案はこれら
に限定されるものではなく、種々の応用が可能である。
に限定されるものではなく、種々の応用が可能である。
マスキング部材は可撓性の優れたフッ素ゴムは平板基板
だけでなく、湾曲した曲面基板にも充分、適合して基板
との密着度を高めるので好ましいが、その他フッ素樹脂
などの樹脂、アルミ板、SUSなどの金属でもよい。
だけでなく、湾曲した曲面基板にも充分、適合して基板
との密着度を高めるので好ましいが、その他フッ素樹脂
などの樹脂、アルミ板、SUSなどの金属でもよい。
マスキング部材に穿設される透孔の絞る角度すなわちタ
ーゲットに対して開く角度は基板の垂直方向に対してほ
ぼ30°以上あればよい。
ーゲットに対して開く角度は基板の垂直方向に対してほ
ぼ30°以上あればよい。
本考案のマスキング材により選択的に製膜される薄膜は
透明導電膜の場合に特に好適でITO膜以外にもNESA膜、A
gとZhOを組み合わせた多層膜（例えば基板/ZhO/Ag/Zn/Z
hO）、AgとTiO2との多層膜など各種の膜であってもよ
い。また、製膜する方法は各種のスパッタリング法の他
真空蒸着法であってもよい。
透明導電膜の場合に特に好適でITO膜以外にもNESA膜、A
gとZhOを組み合わせた多層膜（例えば基板/ZhO/Ag/Zn/Z
hO）、AgとTiO2との多層膜など各種の膜であってもよ
い。また、製膜する方法は各種のスパッタリング法の他
真空蒸着法であってもよい。
また透明基板としては板ガラス以外にもポリカーボネー
ト等の透明樹脂であってもよい。
ト等の透明樹脂であってもよい。
本考案のマスキング部材はスパッタリング法、真空蒸着
法により選択的に薄膜を形成するに際し、透明基板に載
置するだけでもよく、得られる選択膜は断面積が小さく
ても周縁部分まで全体が均一な厚さに形成されるもの
で、窓ガラスの膜形成部分と膜非形成部分との境界部に
ぼかし模様を形成する場合などに好適なものである。
法により選択的に薄膜を形成するに際し、透明基板に載
置するだけでもよく、得られる選択膜は断面積が小さく
ても周縁部分まで全体が均一な厚さに形成されるもの
で、窓ガラスの膜形成部分と膜非形成部分との境界部に
ぼかし模様を形成する場合などに好適なものである。
第１図は本考案のマスキング部材を使用したマグネトロ
ンスパッタリング装置の概略断面図、第２図は本考案の
マスキング部材の一実施例を示す一部平面図である。 １…真空チャンバー ３…マグネトロンカソード ５…ターゲット、６…透明基板 ８…マスキング部材、９…透孔
ンスパッタリング装置の概略断面図、第２図は本考案の
マスキング部材の一実施例を示す一部平面図である。 １…真空チャンバー ３…マグネトロンカソード ５…ターゲット、６…透明基板 ８…マスキング部材、９…透孔
Claims (1)
- 【請求項１】透明基板に密着させ、スパッタリング法に
より該基板上に選択的に薄膜を形成するためのマスキン
グ部材であって、前記基板側を絞った構造で、断面積の
異なる透孔を複数個設けるとともに、断面積の大なるも
のから小なるものへ順次配設するようにしたことを特徴
とするマスキング部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988138396U JPH0647010Y2 (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | マスキング部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1988138396U JPH0647010Y2 (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | マスキング部材 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0257954U JPH0257954U (ja) | 1990-04-26 |
| JPH0647010Y2 true JPH0647010Y2 (ja) | 1994-11-30 |
Family
ID=31400694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1988138396U Expired - Lifetime JPH0647010Y2 (ja) | 1988-10-24 | 1988-10-24 | マスキング部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0647010Y2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5244736A (en) * | 1975-10-08 | 1977-04-08 | Hitachi Ltd | Partial ion plating apparatus |
-
1988
- 1988-10-24 JP JP1988138396U patent/JPH0647010Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5244736A (en) * | 1975-10-08 | 1977-04-08 | Hitachi Ltd | Partial ion plating apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0257954U (ja) | 1990-04-26 |
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