JPH0646617B2 - 光磁気記録材料の製造方法 - Google Patents
光磁気記録材料の製造方法Info
- Publication number
- JPH0646617B2 JPH0646617B2 JP59153499A JP15349984A JPH0646617B2 JP H0646617 B2 JPH0646617 B2 JP H0646617B2 JP 59153499 A JP59153499 A JP 59153499A JP 15349984 A JP15349984 A JP 15349984A JP H0646617 B2 JPH0646617 B2 JP H0646617B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- film
- magneto
- optical recording
- recording material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Compounds Of Iron (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録材料、特に、光磁気記録材料の製造方
法に関するものである。
法に関するものである。
（従来の技術） 近年、情報記録の高密度化、記録媒体の耐久性の向上お
よび記録速度の高速化の要請に伴い、垂直磁気ヘッドや
ＭＲヘッドにより、膜面に対して垂直方向の磁化容易軸
を有する薄膜に外部磁界を印加して磁気バブルを形成さ
せて情報を記録する垂直磁気記録方式、あるいは垂直磁
化膜の微少部分にレーザー光などを照射してその微少部
分に磁気バブルを形成させて情報を記録する光磁気記録
方式が開発されている。これらの記録方式に於ける記録
媒体の磁気記録材料は、磁化が膜面に垂直に向くように
垂直異方性を有すること、安定な磁気バブルを形成する
こと、経時変化が小さく安定であることが要求される。
よび記録速度の高速化の要請に伴い、垂直磁気ヘッドや
ＭＲヘッドにより、膜面に対して垂直方向の磁化容易軸
を有する薄膜に外部磁界を印加して磁気バブルを形成さ
せて情報を記録する垂直磁気記録方式、あるいは垂直磁
化膜の微少部分にレーザー光などを照射してその微少部
分に磁気バブルを形成させて情報を記録する光磁気記録
方式が開発されている。これらの記録方式に於ける記録
媒体の磁気記録材料は、磁化が膜面に垂直に向くように
垂直異方性を有すること、安定な磁気バブルを形成する
こと、経時変化が小さく安定であることが要求される。
特に、垂直磁気記録にあつては、保磁力(Hc)が数１００
〜２０００エルステツドであること、磁化が高いことな
どの条件を満足させることが要求されるが、光磁気記録
媒体の磁気記録材料としては更に、 （１）キユリー温度または磁気補償温度が１００〜３０
０℃の範囲にあること、 （２）カー(Kerr)回転角またはフアラデイ回転角が大き
いこと、などが要求される。これらの条件を満足するた
めには、材料特性として、 （イ）垂直一軸異方性を有すること、 （ロ）異方性磁界(Hk)が反磁界(Hd＝４πMs)より大きい
こと、 （ハ）キユリー温度または磁気補償温度が１００〜３０
０℃の範囲にあること、 （ニ）カー効果またはフアラデイ効果ができるだけ大き
いこと、などが要求される。しかしながら、従来の磁気
記録材料では、これらの条件を総て満足させることは困
難であった。
〜２０００エルステツドであること、磁化が高いことな
どの条件を満足させることが要求されるが、光磁気記録
媒体の磁気記録材料としては更に、 （１）キユリー温度または磁気補償温度が１００〜３０
０℃の範囲にあること、 （２）カー(Kerr)回転角またはフアラデイ回転角が大き
いこと、などが要求される。これらの条件を満足するた
めには、材料特性として、 （イ）垂直一軸異方性を有すること、 （ロ）異方性磁界(Hk)が反磁界(Hd＝４πMs)より大きい
こと、 （ハ）キユリー温度または磁気補償温度が１００〜３０
０℃の範囲にあること、 （ニ）カー効果またはフアラデイ効果ができるだけ大き
いこと、などが要求される。しかしながら、従来の磁気
記録材料では、これらの条件を総て満足させることは困
難であった。
（発明が解決しようとする問題点） 従来、前記垂直磁気記録に於ける磁気記録媒体の材料と
しては、Co-Cr系、Co-V系、Ba−フエライト系、Ni-Co-
P、Co-Ni-Mn-Pなどがあるが、特に注目されているのはC
o-Cr系、Ba−フエライト系塗布膜である。しかしなが
ら、これらの磁気記録材料では、垂直磁気記録媒体とし
て要求される特性、特に、安定な磁気バブルを形成でき
ること、経時変化が小さく安定であることなどを十分に
満足させることができないという問題があつた。
しては、Co-Cr系、Co-V系、Ba−フエライト系、Ni-Co-
P、Co-Ni-Mn-Pなどがあるが、特に注目されているのはC
o-Cr系、Ba−フエライト系塗布膜である。しかしなが
ら、これらの磁気記録材料では、垂直磁気記録媒体とし
て要求される特性、特に、安定な磁気バブルを形成でき
ること、経時変化が小さく安定であることなどを十分に
満足させることができないという問題があつた。
他方、光磁気記録材料の材料としては、YGaFeO、TbFeO、G
dIGなどの単結晶、MnBi、MnCuBi、PtCoなどの多結晶、GdC
o、GdFe、TbFe、GdTbFe、GdTbFeCoなどのアモルフアス磁性
体などが知られている。このうち、アモルフアス磁性体
は、スパッタリング法などにより薄膜化され、その製造
過程で垂直一軸異方性が付与され、キュリー温度書き込
みと磁気補償温度書き込みの両方で書き込みが可能であ
り、異方性磁界(Hk)の反磁界(Hd＝４πMs)より大きく、
数Ｋエルステッドの値を有し、また組成をコントロール
することによりキュリー温度または磁気補償温度を１０
０〜３００℃の範囲に設定できるという利点を有してい
る。
dIGなどの単結晶、MnBi、MnCuBi、PtCoなどの多結晶、GdC
o、GdFe、TbFe、GdTbFe、GdTbFeCoなどのアモルフアス磁性
体などが知られている。このうち、アモルフアス磁性体
は、スパッタリング法などにより薄膜化され、その製造
過程で垂直一軸異方性が付与され、キュリー温度書き込
みと磁気補償温度書き込みの両方で書き込みが可能であ
り、異方性磁界(Hk)の反磁界(Hd＝４πMs)より大きく、
数Ｋエルステッドの値を有し、また組成をコントロール
することによりキュリー温度または磁気補償温度を１０
０〜３００℃の範囲に設定できるという利点を有してい
る。
しかしながら、このアモルフアス磁性体薄膜は化学的に
不安定なため、大気中の水分または酸素により酸化反応
を生じ、経時的劣化を引き起こすという難点がある。こ
の酸化反応を防止するために、前記アモルフアス磁性体
薄膜の上にSiO2膜、窒化アルミニウム膜などの保護膜を
形成する手段が講じられてはいるが、それでもなお完全
な酸化防止が図られていないのが現状である。また、ア
モルフアス磁性体薄膜は磁気カー回転角（θk)が小さ
く、しかも概ねGd、Co、Tbといった希少元素で構成されて
いるため、非常に高価な材料であり、コストが高いとい
う難点もあつた。
不安定なため、大気中の水分または酸素により酸化反応
を生じ、経時的劣化を引き起こすという難点がある。こ
の酸化反応を防止するために、前記アモルフアス磁性体
薄膜の上にSiO2膜、窒化アルミニウム膜などの保護膜を
形成する手段が講じられてはいるが、それでもなお完全
な酸化防止が図られていないのが現状である。また、ア
モルフアス磁性体薄膜は磁気カー回転角（θk)が小さ
く、しかも概ねGd、Co、Tbといった希少元素で構成されて
いるため、非常に高価な材料であり、コストが高いとい
う難点もあつた。
前記磁性アモルフアス磁性体薄膜の欠点を解消するため
に、酸化物磁性体を光磁気記録媒体として使用する試み
が行なわれている。特に、研究の対象となつているBaフ
エライトを中心とするマグネトプランバイト型酸化物
は、Ｃ軸に結晶磁気異方性を有し、高い保磁力を有する
という利点を有している。しかしながら、キュリー温度
が４５０〜５００℃と極めて高いという問題がある。こ
の問題はAl、Geなどの非磁性元素を置換固溶させること
により解決されるが、キュリー温度を１００〜３００℃
にまで下げるには極めて多量の置換が必要であり、その
結果、磁気特性は大幅に低下するため、実用上難点があ
る。
に、酸化物磁性体を光磁気記録媒体として使用する試み
が行なわれている。特に、研究の対象となつているBaフ
エライトを中心とするマグネトプランバイト型酸化物
は、Ｃ軸に結晶磁気異方性を有し、高い保磁力を有する
という利点を有している。しかしながら、キュリー温度
が４５０〜５００℃と極めて高いという問題がある。こ
の問題はAl、Geなどの非磁性元素を置換固溶させること
により解決されるが、キュリー温度を１００〜３００℃
にまで下げるには極めて多量の置換が必要であり、その
結果、磁気特性は大幅に低下するため、実用上難点があ
る。
従って、本発明は、磁気特性の経時的変化が小さく、光
磁気記録に要求される諸特性を満足させる光磁気記録材
料を提供することを目的とする。具体的には、光磁気記
録媒体として要求される垂直異方性が得られ、高い保磁
力を有し、かつ、キュリー温度が低く、更にはカー効果
またはファラデイ効果が大きい光磁気記録材料を提供す
ることを目的とする。
磁気記録に要求される諸特性を満足させる光磁気記録材
料を提供することを目的とする。具体的には、光磁気記
録媒体として要求される垂直異方性が得られ、高い保磁
力を有し、かつ、キュリー温度が低く、更にはカー効果
またはファラデイ効果が大きい光磁気記録材料を提供す
ることを目的とする。
（問題点を解決するための手段） 本発明者等は、コバルトフェライト系磁性体に付いて研
究した結果、驚くべきことに、コバルトフェライト系に
おいて、化学量論的組成よりもFeを過剰に含む、いわゆ
る鉄過剰の組成にすると、高い保磁力が得られることを
見出だした。また、コバルトフェライトのFe過剰の組成
に於いて、Feの一部をAlで置換することによって、保磁
力を大幅に向上させ、Hk＞４πMsの条件を満足させると
同時に、キュリー温度を低下させることができることを
見出す一方、光磁気記録材料を形成する際、磁場中で冷
却すると、特に垂直異方性を向上させることができるこ
とを見出だした。本発明はこのような知見にもとずいて
完成されたものである。
究した結果、驚くべきことに、コバルトフェライト系に
おいて、化学量論的組成よりもFeを過剰に含む、いわゆ
る鉄過剰の組成にすると、高い保磁力が得られることを
見出だした。また、コバルトフェライトのFe過剰の組成
に於いて、Feの一部をAlで置換することによって、保磁
力を大幅に向上させ、Hk＞４πMsの条件を満足させると
同時に、キュリー温度を低下させることができることを
見出す一方、光磁気記録材料を形成する際、磁場中で冷
却すると、特に垂直異方性を向上させることができるこ
とを見出だした。本発明はこのような知見にもとずいて
完成されたものである。
即ち、本発明は、光磁気記録材料を製造するにあたり、
酸化コバルト、酸化鉄及び酸化アルミニウムからなり、
一般式： Cox(Fe1-yAly)3-xO4 （式中、０＜ｘ＜１、０．２５≦ｙ≦０．７５であ
る。）で示される組成を有する薄膜を支持体上に形成し
た後、前記薄膜の表面に対し垂直方向に磁場を印加しな
がら冷却するようにしたものである。
酸化コバルト、酸化鉄及び酸化アルミニウムからなり、
一般式： Cox(Fe1-yAly)3-xO4 （式中、０＜ｘ＜１、０．２５≦ｙ≦０．７５であ
る。）で示される組成を有する薄膜を支持体上に形成し
た後、前記薄膜の表面に対し垂直方向に磁場を印加しな
がら冷却するようにしたものである。
本発明に係る光磁気記録材料の組成に於いて、x、yを前
記範囲に限定したのは次の理由による。即ち、ｘ＝０で
は本発明の磁気記録材料であるCoフェライトを構成せ
ず、所定の特性を有するものが得られないからであり、
ｘ≧１では高い保磁力が得られないからである。また、
Alは、保磁力を向上させ、Hk＜４πMsの条件を満足させ
ると同時に、キュリー温度を低下させるためにFeの一部
と置換されるが、その置換量ｙが０．２５未満では十分
な効果が得られず、ｙが０．７５を越えると、Alが過剰
になり４πMsが低下し、磁気ヘッドの再生出力および磁
気光学効果が充分に得られなくなるからである。
記範囲に限定したのは次の理由による。即ち、ｘ＝０で
は本発明の磁気記録材料であるCoフェライトを構成せ
ず、所定の特性を有するものが得られないからであり、
ｘ≧１では高い保磁力が得られないからである。また、
Alは、保磁力を向上させ、Hk＜４πMsの条件を満足させ
ると同時に、キュリー温度を低下させるためにFeの一部
と置換されるが、その置換量ｙが０．２５未満では十分
な効果が得られず、ｙが０．７５を越えると、Alが過剰
になり４πMsが低下し、磁気ヘッドの再生出力および磁
気光学効果が充分に得られなくなるからである。
本発明に係る光磁気記録材料は、膜状の形態でも有用な
ものである。即ち、スパツタリング法、真空蒸着法、イ
オンプレーテイング法、無電解メツキ法などの膜形成手
段で形成された膜状の磁気記録材料は、膜面に垂直な方
向に磁化容易軸を有するもので、垂直磁気記録媒体、光
磁気記録媒体として特に有用である。
ものである。即ち、スパツタリング法、真空蒸着法、イ
オンプレーテイング法、無電解メツキ法などの膜形成手
段で形成された膜状の磁気記録材料は、膜面に垂直な方
向に磁化容易軸を有するもので、垂直磁気記録媒体、光
磁気記録媒体として特に有用である。
（実施例） 以下、本発明を実施例に従って詳細に説明する。なお、
この実施例では、便宜上、保磁力Hcを特性評価対象とし
ているが、HkはHcよりも大きな値をとることが広く認識
されており、少なくともHc＞４πMsならば、Hk＞４πMs
が成立しうることを予め付記しておく。
この実施例では、便宜上、保磁力Hcを特性評価対象とし
ているが、HkはHcよりも大きな値をとることが広く認識
されており、少なくともHc＞４πMsならば、Hk＞４πMs
が成立しうることを予め付記しておく。
実施例１ Co2O3、Fe2O3、Al2O3の各原料を用意し、各原料を第１表
の組成比率のものが得られるように秤量した。得られた
各混合物を水と共にボールミルに投入し、４時間混合し
た後、脱水、乾燥した。次いで、電気炉にて９００℃で
２時間仮焼した。仮焼物を水と共にボールミルに投入
し、２４時間粉砕した後に、得られた粉末にバインダを
加え、脱水、乾燥し、粉末プレス機により１０００kg／
cm2の圧力で成形した。この成形物を電気炉にて１３０
０℃で２時間焼成した。
の組成比率のものが得られるように秤量した。得られた
各混合物を水と共にボールミルに投入し、４時間混合し
た後、脱水、乾燥した。次いで、電気炉にて９００℃で
２時間仮焼した。仮焼物を水と共にボールミルに投入
し、２４時間粉砕した後に、得られた粉末にバインダを
加え、脱水、乾燥し、粉末プレス機により１０００kg／
cm2の圧力で成形した。この成形物を電気炉にて１３０
０℃で２時間焼成した。
得られたセラミツクスの特性を測定し、その結果を第２
表に示す。
表に示す。
なお、第１表および第２表中、＊を付したものは本発明
の範囲外の組成を有するものであり、他のものは本発明
の範囲内のものである。
の範囲外の組成を有するものであり、他のものは本発明
の範囲内のものである。
第２表中の４πMs,Hs,キュリー温度は振動試料型磁力計
で測定した。
で測定した。
第１図〜第５図は第１表に示した各組成について、Al量
と各特性の関係を示す図である。
と各特性の関係を示す図である。
図から明らかなように、この発明にかかるものはHcが高
いとともに、低いキュリー温度(Hc)を有するものが得ら
れている。
いとともに、低いキュリー温度(Hc)を有するものが得ら
れている。
特に好ましくは、０．３３≦ｘ＜１，０＜ｙ≦０．５の
範囲で良好な特性が得られている。
範囲で良好な特性が得られている。
また、第２表から、Coフェライトの化学量論組成よりも
Co量を減少させることにより、４πMsは小さくなるもの
の、Hcは大きくなることがわかる。特にｘ＝０．７５，
０．５，０．３３ではFeの一部をAlで置換することによ
りHcが２０００〜４０００Oeと大きい値を示すものが得
られている。また、TcもAlを存在させることによって低
くなり、光磁気記録媒体に必要な値を満足している。
Co量を減少させることにより、４πMsは小さくなるもの
の、Hcは大きくなることがわかる。特にｘ＝０．７５，
０．５，０．３３ではFeの一部をAlで置換することによ
りHcが２０００〜４０００Oeと大きい値を示すものが得
られている。また、TcもAlを存在させることによって低
くなり、光磁気記録媒体に必要な値を満足している。
実施例２ 実施例１の各試料のうち、試料番号Ｃ３，Ｄ３，Ｅ３の
組成のものをターゲットとし、石英ガラス支持体上にス
パッタリング法により Cox(Fe1-yAly)3-xO4 からなる垂直磁化膜を形成した。
組成のものをターゲットとし、石英ガラス支持体上にス
パッタリング法により Cox(Fe1-yAly)3-xO4 からなる垂直磁化膜を形成した。
垂直磁化膜の作成条件を以下に示す。
残留ガス圧 ８×１０-7Torr Ｏ２ガス圧 ５×１０-4Torr (Ar＋O2)ガス圧 ２×１０-2Torr 放電電力 ４００Ｗ プレスパッタ時間 ３０min メインスパッタ時間 １２０min 基板温度 ４５０℃ 膜厚 ２０００Å 得られた膜を空気中に取り出し、４００℃まで昇温した
のち、膜面に垂直な方向に約２ＫOeの直流磁場をかけ、
そのままの状態で室温まで冷却した。
のち、膜面に垂直な方向に約２ＫOeの直流磁場をかけ、
そのままの状態で室温まで冷却した。
この磁化膜について、４πMs,HcおよびTcを測定したと
ころ、第３表のような効果を示した。
ころ、第３表のような効果を示した。
なお、特性の評価は振動試料型磁力計により求めた。
第３表の結果を第２表と比較した場合、ほぼ、近似した
値を示しており、膜の組成は焼結体の組成組成に比べて
ほとんどズレのないものであると判断できる。
値を示しており、膜の組成は焼結体の組成組成に比べて
ほとんどズレのないものであると判断できる。
第６図はCo0.75(Fe0.5Al0.5)2.25O4の磁化膜のヒステリ
シスループを示す。第６図からこの磁化膜が膜面に垂直
な方向に磁化容易軸を有していることがわかる。なお、
図中実線は磁化膜に対して垂直方向のヒステリシスルー
プを示し、破線は磁化膜に対して平行方向のヒステリシ
スループを示す。
シスループを示す。第６図からこの磁化膜が膜面に垂直
な方向に磁化容易軸を有していることがわかる。なお、
図中実線は磁化膜に対して垂直方向のヒステリシスルー
プを示し、破線は磁化膜に対して平行方向のヒステリシ
スループを示す。
また、Co0.75(Fe0.75Al0.25)2.25O4からなる磁化膜のλ
＝７８０nmでのファラデイ回転角Ｆおよび吸収係数αは Ｆ＝１．１×１０-4deg・cm1- α＝１．３×１０-4cm1- となり、磁気光学性能指数ψ＝｜２Ｆ／α｜はψ＝１．
６９deg と大きい値を示しており、光磁気記録媒体として優れた
特性と有している。
＝７８０nmでのファラデイ回転角Ｆおよび吸収係数αは Ｆ＝１．１×１０-4deg・cm1- α＝１．３×１０-4cm1- となり、磁気光学性能指数ψ＝｜２Ｆ／α｜はψ＝１．
６９deg と大きい値を示しており、光磁気記録媒体として優れた
特性と有している。
なお、上記した実施例では磁場中冷却した磁化膜につい
て特性を測定したが、磁場中冷却していない磁化膜は実
用的性能を有するが、ファラデイ回転角Ｆは多少劣るこ
とは判明している。
て特性を測定したが、磁場中冷却していない磁化膜は実
用的性能を有するが、ファラデイ回転角Ｆは多少劣るこ
とは判明している。
また、支持体として石英ガラスを用いたが、その他、プ
ラスチック、セラミックス、金属などが使用できる。
ラスチック、セラミックス、金属などが使用できる。
さらに、磁化膜と支持体との間、あるいは磁化膜の上面
に、高透磁率層、保護層、断熱層、反射層などが任意に
設けられる。
に、高透磁率層、保護層、断熱層、反射層などが任意に
設けられる。
さらにまた、膜形成手段はスパッタリング手段であった
が、その他真空蒸着法、イオンプレーテイング法、無電
解メッキ法などが使用できる。
が、その他真空蒸着法、イオンプレーテイング法、無電
解メッキ法などが使用できる。
（効果） 以上の各実施例から明らかなように、この発明によれ
ば、CoフェライトのFeを過剰とし、さらに、Feの一部を
Alで置換することにより、垂直異方性が得られる一方、
高い保磁力(Hc)を有し、キュリー温度が低く、さらには
カー効果またはファラデイ効果の大きい光磁気記録媒体
を提供することができる。また、本発明に係る光磁気記
録材料は光磁気記録媒体としての用途に有用なものであ
る。
ば、CoフェライトのFeを過剰とし、さらに、Feの一部を
Alで置換することにより、垂直異方性が得られる一方、
高い保磁力(Hc)を有し、キュリー温度が低く、さらには
カー効果またはファラデイ効果の大きい光磁気記録媒体
を提供することができる。また、本発明に係る光磁気記
録材料は光磁気記録媒体としての用途に有用なものであ
る。
第１図〜第５図はAl量と各特性の関係を示す図、第６図
はCo0.75(Fe0.5Al0.5)2.25O4の磁化膜のヒステリシスル
ープを示す図である。
はCo0.75(Fe0.5Al0.5)2.25O4の磁化膜のヒステリシスル
ープを示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 万代 治文 京都府長岡京市天神２丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 村田 充弘 京都府長岡京市天神２丁目26番10号 株式 会社村田製作所内 (72)発明者 田中 元治 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 町田 元 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (56)参考文献 特公 昭51−24241（ＪＰ，Ｂ１) 特公 昭56−23296（ＪＰ，Ｂ１)
Claims (2)
- 【請求項１】酸化コバルト、酸化鉄及び酸化アルミニウ
ムからなり、一般式： Cox(Fe1-yAly)3-xO4 （式中、０＜ｘ＜１、０．２５≦ｙ≦０．７５であ
る。）で示される組成を有する薄膜を支持体上に形成し
た後、前記薄膜の表面に対し垂直方向に磁場を印加しな
がら冷却することを特徴とする光磁気記録材料の製造方
法。 - 【請求項２】前記薄膜をスパッタリング法、真空蒸着
法、イオンプレーテイング法及び無電解メッキ法からな
る群から選ばれた一つの方法で形成する特許請求の範囲
第１項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59153499A JPH0646617B2 (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 光磁気記録材料の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59153499A JPH0646617B2 (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 光磁気記録材料の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6132407A JPS6132407A (ja) | 1986-02-15 |
| JPH0646617B2 true JPH0646617B2 (ja) | 1994-06-15 |
Family
ID=15563893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59153499A Expired - Lifetime JPH0646617B2 (ja) | 1984-07-23 | 1984-07-23 | 光磁気記録材料の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0646617B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101648075B1 (ko) * | 2016-01-29 | 2016-08-23 | 대구대학교 산학협력단 | 이산화탄소를 이용한 여과막의 스케일 저감 장치 및 그를 이용한 방법 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6379227A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-09 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体 |
| US6667897B1 (en) * | 2002-06-28 | 2003-12-23 | International Business Machines Corporation | Magnetic tunnel junction containing a ferrimagnetic layer and anti-parallel layer |
| JP5170360B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2013-03-27 | 戸田工業株式会社 | 赤外線反射能を有する黒色系複合酸化物粒子粉末及びその製造方法、並びに黒色系顔料、該赤外線反射能を有する黒色系顔料を用いた塗料及び樹脂組成物 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5124241A (en) * | 1974-08-22 | 1976-02-27 | Canon Kk | Mamokonadono ridatsuboshiho |
| JPS5623296A (en) * | 1980-06-27 | 1981-03-05 | Kinzoku Kako Gijutsu Kenkyusho:Kk | Bright tin-cobalt alloy plating liquid |
| JPS60204691A (ja) * | 1984-03-28 | 1985-10-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Ｃｏフエライト垂直磁化膜の製造方法 |
| JPH0664762B2 (ja) * | 1984-06-11 | 1994-08-22 | 株式会社リコー | 光磁気記録媒体 |
-
1984
- 1984-07-23 JP JP59153499A patent/JPH0646617B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101648075B1 (ko) * | 2016-01-29 | 2016-08-23 | 대구대학교 산학협력단 | 이산화탄소를 이용한 여과막의 스케일 저감 장치 및 그를 이용한 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6132407A (ja) | 1986-02-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4367257A (en) | Thin magnetic recording medium | |
| US4544602A (en) | Magneto-optical recording medium having a ferrimagnetic recording layer | |
| GB2173964A (en) | Magneto optical recording medium | |
| JP2896193B2 (ja) | 酸化物結晶配向膜の製造方法及び酸化物結晶配向膜並びに光磁気記録媒体 | |
| US4995024A (en) | Magneto-optical recording element | |
| JPS6115308A (ja) | 光磁気記録材料 | |
| JP2721205B2 (ja) | 非晶質酸化物磁性体及び磁心及び磁気記録媒体 | |
| JPH0646617B2 (ja) | 光磁気記録材料の製造方法 | |
| JPH0515778B2 (ja) | ||
| US5100741A (en) | Magneto-optic recording systems | |
| JPS60107751A (ja) | 光熱磁気記録媒体 | |
| Raasch et al. | Exchange coupling and switching fields of RE—TM double and triple layer stacks for direct overwrite | |
| JPS60187954A (ja) | 磁性薄膜記録媒体 | |
| JPS62137810A (ja) | 磁気記録材料 | |
| JPH0570922B2 (ja) | ||
| JPS62137811A (ja) | 磁気記録材料 | |
| JP2948589B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS60173745A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS62267950A (ja) | 磁気光学記録媒体 | |
| JPS61188759A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH06274953A (ja) | 光磁気記録用ガーネット膜の磁気特性調整方法 | |
| JPS63104243A (ja) | 光磁気記録素子 | |
| JP2876062B2 (ja) | 磁性膜 | |
| JP2553145B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0536134A (ja) | 光磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |