JPH0643462A - 電界制御複屈折効果型液晶表示装置 - Google Patents
電界制御複屈折効果型液晶表示装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電界制御複屈折効果型液晶表示装置に関し、
視角毎に色が変化することを防止できるようにすること
を目的とする。 【構成】 第１及び第２の対向する基板１６，１８と、
該第１の基板の内面に設けられた電極２１及び配向膜２
２と、該第２の基板の内面に設けられた電極２４及び配
向膜２６と、該第１及び第２の基板の間に挿入された液
晶２０とからなる、電界制御複屈折効果型液晶表示装置
において、該第１の基板の配向膜２２及び該第２の基板
の配向膜２６が１画素の大きさ以下の単位で微小な領域
に区分して配向処理され、該微小な領域において電圧印
加時の液晶の傾斜方向が互いに反対になるようにした構
成とする。
視角毎に色が変化することを防止できるようにすること
を目的とする。 【構成】 第１及び第２の対向する基板１６，１８と、
該第１の基板の内面に設けられた電極２１及び配向膜２
２と、該第２の基板の内面に設けられた電極２４及び配
向膜２６と、該第１及び第２の基板の間に挿入された液
晶２０とからなる、電界制御複屈折効果型液晶表示装置
において、該第１の基板の配向膜２２及び該第２の基板
の配向膜２６が１画素の大きさ以下の単位で微小な領域
に区分して配向処理され、該微小な領域において電圧印
加時の液晶の傾斜方向が互いに反対になるようにした構
成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は印加電圧に応じて液晶の
分子の立ち上がり角度が変わる電界制御複屈折効果型液
晶表示装置に関する。
分子の立ち上がり角度が変わる電界制御複屈折効果型液
晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、一対の対向する基板の
間に液晶を挿入した液晶パネルからなる。一方のガラス
基板の内面には共通電極及び配向膜が設けられ、他方の
基板の内面には画素電極及び配向膜が設けられる。最近
では、後者の基板に画素電極とともにアクティブマトリ
クス回路を形成することが多くなっている。さらに、こ
れらの基板の外側にはそれぞれ偏光板が設けられる。こ
れらの偏光板は偏光の透過軸が互いに直交、又は平行す
るように配置される。
間に液晶を挿入した液晶パネルからなる。一方のガラス
基板の内面には共通電極及び配向膜が設けられ、他方の
基板の内面には画素電極及び配向膜が設けられる。最近
では、後者の基板に画素電極とともにアクティブマトリ
クス回路を形成することが多くなっている。さらに、こ
れらの基板の外側にはそれぞれ偏光板が設けられる。こ
れらの偏光板は偏光の透過軸が互いに直交、又は平行す
るように配置される。
【０００３】今日使用されている液晶表示装置はツイス
トネマチック型の液晶表示装置である。ツイストネマチ
ック型の液晶表示装置では、両基板の配向膜のラビング
方向は相互にほぼ垂直になっており、液晶の分子の配向
方向は一方の基板から他方の基板に向かうにつれて螺旋
状にツイストしていく。さらに、一方の基板にカラーフ
ィルタ及びブラックマトリクスを設けることにより、カ
ラー表示を行うことができる。
トネマチック型の液晶表示装置である。ツイストネマチ
ック型の液晶表示装置では、両基板の配向膜のラビング
方向は相互にほぼ垂直になっており、液晶の分子の配向
方向は一方の基板から他方の基板に向かうにつれて螺旋
状にツイストしていく。さらに、一方の基板にカラーフ
ィルタ及びブラックマトリクスを設けることにより、カ
ラー表示を行うことができる。
【０００４】ツイストネマチック型の液晶表示装置で
は、液晶に電圧を印加したときに液晶の分子が特定の方
向に向いて立ち上がり、液晶の分子が向いた方向に従っ
て透過率の視角特性が生じることが知られている。すな
わち、液晶表示装置を画面に対する法線からある角度を
なす位置から見ると、表示が白くなりすぎ、あるいは黒
くなりすぎるようになる。このため、観視者の位置によ
っては、画像の明暗のコントラストが低下する。
は、液晶に電圧を印加したときに液晶の分子が特定の方
向に向いて立ち上がり、液晶の分子が向いた方向に従っ
て透過率の視角特性が生じることが知られている。すな
わち、液晶表示装置を画面に対する法線からある角度を
なす位置から見ると、表示が白くなりすぎ、あるいは黒
くなりすぎるようになる。このため、観視者の位置によ
っては、画像の明暗のコントラストが低下する。
【０００５】このようなツイストネマチック型の液晶表
示装置の視角特性の問題点を解決するために、特開昭５
４−５７５４号公報や特開昭６３−１０６６２４号公報
では、１画素内で液晶の分子の配向方向の異なる２つの
領域を形成することを提案している。これにより、ある
視角特性とそれに相補的な視角特性とを混合することに
より、全体としての視角特性の向上を図ることができ
る。
示装置の視角特性の問題点を解決するために、特開昭５
４−５７５４号公報や特開昭６３−１０６６２４号公報
では、１画素内で液晶の分子の配向方向の異なる２つの
領域を形成することを提案している。これにより、ある
視角特性とそれに相補的な視角特性とを混合することに
より、全体としての視角特性の向上を図ることができ
る。
【０００６】ツイストネマチック型の液晶表示装置以外
のタイプの液晶表示装置も知られている。例えばゲスト
ホスト型（ＧＨ）液晶表示装置や、電界制御複屈折効果
型（ＥＣＢ）液晶表示装置がある。ツイストネマチック
型の液晶表示装置はカラー表示のためにカラーフィルタ
を設けることが必要である。しかし、電界制御複屈折効
果型液晶表示装置は印加電圧の値の制御により所望の色
を取り出すことができ、ツイストネマチック型の液晶表
示装置のようにカラーフィルタを用いる必要がない。従
って、電界制御複屈折効果型液晶表示装置は簡便にカラ
ー表示できる液晶表示装置として期待されている。
のタイプの液晶表示装置も知られている。例えばゲスト
ホスト型（ＧＨ）液晶表示装置や、電界制御複屈折効果
型（ＥＣＢ）液晶表示装置がある。ツイストネマチック
型の液晶表示装置はカラー表示のためにカラーフィルタ
を設けることが必要である。しかし、電界制御複屈折効
果型液晶表示装置は印加電圧の値の制御により所望の色
を取り出すことができ、ツイストネマチック型の液晶表
示装置のようにカラーフィルタを用いる必要がない。従
って、電界制御複屈折効果型液晶表示装置は簡便にカラ
ー表示できる液晶表示装置として期待されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかし、電界制御複屈
折効果型液晶表示装置には色の変化としての視角特性が
ある。例えば、印加電圧をある値にして赤色を表示した
場合、表示画面の法線方向から見ると赤色に見えるが、
法線方向に対してある角度の位置から見ると赤色以外の
色に見えることがある。この点から、電界制御複屈折効
果型液晶表示装置の応用が制限されていたと言える。本
発明の目的は、視角毎に色が変化することを防止できる
電界制御複屈折効果型液晶表示装置を提供することであ
る。
折効果型液晶表示装置には色の変化としての視角特性が
ある。例えば、印加電圧をある値にして赤色を表示した
場合、表示画面の法線方向から見ると赤色に見えるが、
法線方向に対してある角度の位置から見ると赤色以外の
色に見えることがある。この点から、電界制御複屈折効
果型液晶表示装置の応用が制限されていたと言える。本
発明の目的は、視角毎に色が変化することを防止できる
電界制御複屈折効果型液晶表示装置を提供することであ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明による電界制御複
屈折効果型液晶表示装置は、第１及び第２の対向する基
板１６，１８と、該第１の基板の内面に設けられた電極
２１及び配向膜２２と、該第２の基板の内面に設けられ
た電極２４及び配向膜２６と、該第１及び第２の基板の
間に挿入された液晶２０とからなる、電界制御複屈折効
果型液晶表示装置において、該第１の基板の配向膜２２
及び該第２の基板の配向膜２６が１画素の大きさ以下の
単位で微小な領域Ａ，Ｂに区分して配向処理され、該微
小な領域Ａ，Ｂにおいて電圧印加時の液晶の傾斜方向が
互いに反対になるようにしたことを特徴とするものであ
る。
屈折効果型液晶表示装置は、第１及び第２の対向する基
板１６，１８と、該第１の基板の内面に設けられた電極
２１及び配向膜２２と、該第２の基板の内面に設けられ
た電極２４及び配向膜２６と、該第１及び第２の基板の
間に挿入された液晶２０とからなる、電界制御複屈折効
果型液晶表示装置において、該第１の基板の配向膜２２
及び該第２の基板の配向膜２６が１画素の大きさ以下の
単位で微小な領域Ａ，Ｂに区分して配向処理され、該微
小な領域Ａ，Ｂにおいて電圧印加時の液晶の傾斜方向が
互いに反対になるようにしたことを特徴とするものであ
る。
【０００９】
【作用】上記した構成においては、第１の基板の配向膜
及び該第２の基板の配向膜が微小な領域に区分して配向
処理され、微小な領域Ａ，Ｂにおいて液晶の立ち上がる
方向が互いに反対になるようになっている。表示画面の
法線方向から見ると印加電圧に応じた所望の色に見え
る。法線方向に対してある角度の位置から見る場合に
は、所望の色以外の色が見える可能性があるが、本発明
では、微小な領域Ａ，Ｂの境界部を斜めに通り抜けて進
む光は液晶の分子が反対方向に立ち上がることにより複
屈折の効果が相殺されるようになり、所望の色に対して
異なった色が見える可能性が小さくなる。この観点から
は、配向の分割は細かいほど良い。さらに、微小な領域
Ａ，Ｂの境界部以外の位置でそれぞれ微小な領域Ａ，Ｂ
を通り抜ける光は所望の色以外の第２の色及び第３の色
を呈するが、これらの第２の色及び第３の色は加色によ
り第４の色を呈し、かつパネル法線方向に対して、対称
な特性を示す。
及び該第２の基板の配向膜が微小な領域に区分して配向
処理され、微小な領域Ａ，Ｂにおいて液晶の立ち上がる
方向が互いに反対になるようになっている。表示画面の
法線方向から見ると印加電圧に応じた所望の色に見え
る。法線方向に対してある角度の位置から見る場合に
は、所望の色以外の色が見える可能性があるが、本発明
では、微小な領域Ａ，Ｂの境界部を斜めに通り抜けて進
む光は液晶の分子が反対方向に立ち上がることにより複
屈折の効果が相殺されるようになり、所望の色に対して
異なった色が見える可能性が小さくなる。この観点から
は、配向の分割は細かいほど良い。さらに、微小な領域
Ａ，Ｂの境界部以外の位置でそれぞれ微小な領域Ａ，Ｂ
を通り抜ける光は所望の色以外の第２の色及び第３の色
を呈するが、これらの第２の色及び第３の色は加色によ
り第４の色を呈し、かつパネル法線方向に対して、対称
な特性を示す。
【００１０】特に、該第１の基板の配向膜２２及び該第
２の基板の配向膜２６がそれぞれ積層して設けられた下
層側の配向材層５１と上層側の配向材層５３とからな
り、該上層側の配向材層５３が該微小な領域に応じて開
口するようにパターニングされ、該上層側の配向材層５
３及び該下層側の配向材層５１が同時にラビングされ、
該第１の基板の配向膜２２及び該第２の基板の配向膜２
６の各々において、ある微小な領域における液晶の分子
のプレチルトが該ある微小な領域に隣接する微小な領域
における液晶の分子のプレチルトと異なるようにする
と、微小な配向処理を容易に行うことができる。
２の基板の配向膜２６がそれぞれ積層して設けられた下
層側の配向材層５１と上層側の配向材層５３とからな
り、該上層側の配向材層５３が該微小な領域に応じて開
口するようにパターニングされ、該上層側の配向材層５
３及び該下層側の配向材層５１が同時にラビングされ、
該第１の基板の配向膜２２及び該第２の基板の配向膜２
６の各々において、ある微小な領域における液晶の分子
のプレチルトが該ある微小な領域に隣接する微小な領域
における液晶の分子のプレチルトと異なるようにする
と、微小な配向処理を容易に行うことができる。
【００１１】
【実施例】図１は、本発明の第１実施例の電界制御複屈
折効果型（ＥＣＢ）液晶表示装置の液晶パネル１０を示
し、図２はこの液晶パネル１０の部分詳細図である。図
１及び図２において、液晶パネル１０は、一対の透明な
ガラス基板１６，１８の間に液晶２０を封入したもので
ある。液晶２０はネマチック液晶を使用している。図示
しない光源からの光は矢印Ｉの方から液晶パネル１０に
入射し、観視者は入射方向とは逆の方向から液晶パネル
１０を見るものとし、以後の説明においては、光の入射
側の基板１６を下基板と呼び、観視者側の基板１８を上
基板と呼ぶことにする。この液晶パネル１０の両側には
偏光板（図示せず）が互いに垂直、あるいは平行な透過
軸をもつように配置される。
折効果型（ＥＣＢ）液晶表示装置の液晶パネル１０を示
し、図２はこの液晶パネル１０の部分詳細図である。図
１及び図２において、液晶パネル１０は、一対の透明な
ガラス基板１６，１８の間に液晶２０を封入したもので
ある。液晶２０はネマチック液晶を使用している。図示
しない光源からの光は矢印Ｉの方から液晶パネル１０に
入射し、観視者は入射方向とは逆の方向から液晶パネル
１０を見るものとし、以後の説明においては、光の入射
側の基板１６を下基板と呼び、観視者側の基板１８を上
基板と呼ぶことにする。この液晶パネル１０の両側には
偏光板（図示せず）が互いに垂直、あるいは平行な透過
軸をもつように配置される。
【００１２】下基板１６の内面にはＩＴＯの画素電極２
１及び配向膜２２が設けられ、上基板１８の内面には共
通電極２４及び配向膜２６が設けられる。下基板１６に
設けられた画素電極２１はアクティブマトリクス回路に
接続される。図３に示されるように、アクティブマトリ
クス回路は縦、横にマトリクス状に延びるデータバスラ
イン３０及びゲートバスライン３２を含み、画素電極２
１は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）３４を介してデータバ
スライン３０及びゲートバスライン３２に接続される。
画素電極２１の下側には蓄積容量電極３６が設けられ
る。
１及び配向膜２２が設けられ、上基板１８の内面には共
通電極２４及び配向膜２６が設けられる。下基板１６に
設けられた画素電極２１はアクティブマトリクス回路に
接続される。図３に示されるように、アクティブマトリ
クス回路は縦、横にマトリクス状に延びるデータバスラ
イン３０及びゲートバスライン３２を含み、画素電極２
１は薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）３４を介してデータバ
スライン３０及びゲートバスライン３２に接続される。
画素電極２１の下側には蓄積容量電極３６が設けられ
る。
【００１３】図１及び図２は、ＥＣＢ液晶表示装置のう
ち、ホモジニアス配向型の液晶２０の例を示す図であ
る。概して、ホモジニアス配向型の液晶２０の場合、下
基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６は水
平配向材が使用され、平行な方向にラビングされる。ラ
ビングにより、液晶２０はプレチルトする。よって、電
圧を印加していない状態（図１、Ａ）では、液晶の分子
は下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６
とほぼ平行に配向し、電圧を印加する（図１、Ｂ）と、
液晶の分子は下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の
配向膜２６に対して電圧値に応じて立ち上がる。
ち、ホモジニアス配向型の液晶２０の例を示す図であ
る。概して、ホモジニアス配向型の液晶２０の場合、下
基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６は水
平配向材が使用され、平行な方向にラビングされる。ラ
ビングにより、液晶２０はプレチルトする。よって、電
圧を印加していない状態（図１、Ａ）では、液晶の分子
は下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６
とほぼ平行に配向し、電圧を印加する（図１、Ｂ）と、
液晶の分子は下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の
配向膜２６に対して電圧値に応じて立ち上がる。
【００１４】本発明では、１画素を単位として微小な領
域Ａ及び微小な領域Ｂに分割し、微小な領域Ａと微小な
領域Ｂとで配向状態を異ならせている。ただし、配向状
態の異なる程度は、ホモジニアス配向型の液晶２０の基
本的な特徴が維持される範囲内のものである。
域Ａ及び微小な領域Ｂに分割し、微小な領域Ａと微小な
領域Ｂとで配向状態を異ならせている。ただし、配向状
態の異なる程度は、ホモジニアス配向型の液晶２０の基
本的な特徴が維持される範囲内のものである。
【００１５】微小な領域Ａ，Ｂの設定例は図３にも示さ
れている。図３では、微小な領域Ａ，Ｂは、画素電極２
１のほぼ中央を通る線及びその両側のデータバスライン
３０で区分されている。これらの微小な領域Ａ，Ｂは各
画素電極２１を横方向に横切るようにゲートバスライン
３０と平行にストライプ状に設けられる。このように、
微小な領域Ａ，Ｂは１画素を単位として、あるいは１画
素以下の面積を単位として分割されている。
れている。図３では、微小な領域Ａ，Ｂは、画素電極２
１のほぼ中央を通る線及びその両側のデータバスライン
３０で区分されている。これらの微小な領域Ａ，Ｂは各
画素電極２１を横方向に横切るようにゲートバスライン
３０と平行にストライプ状に設けられる。このように、
微小な領域Ａ，Ｂは１画素を単位として、あるいは１画
素以下の面積を単位として分割されている。
【００１６】微小な領域Ａ，Ｂの配向状態を異ならせる
ため、下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜
２６は次のように配向処理されたものである。上記した
ように、下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向
膜２６は水平配向材が使用される。実施例では、微小な
領域Ａ，Ｂの各々において、下基板１６の配向膜２２の
近傍の液晶の分子のプレチルトと上基板１８の配向膜２
６の近傍の液晶の分子のプレチルトが異なるようになっ
ている。
ため、下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜
２６は次のように配向処理されたものである。上記した
ように、下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向
膜２６は水平配向材が使用される。実施例では、微小な
領域Ａ，Ｂの各々において、下基板１６の配向膜２２の
近傍の液晶の分子のプレチルトと上基板１８の配向膜２
６の近傍の液晶の分子のプレチルトが異なるようになっ
ている。
【００１７】図２に示されるように、下基板１６の配向
膜２２及び上基板１８の配向膜２６は、それぞれ、積層
して設けられた下層側の配向材層５１と上層側の配向材
層５３とからなる。上層側の配向材層５３は一つの微小
な領域Ａ又はＢに対応する開口部を有する。従って、上
層側の配向材層５３のあるところではその配向処理が液
晶２０に作用し、上層側の配向材層５３の開口部ではそ
の下に露出する下層側の配向材層５１の配向処理が液晶
２０に作用する。
膜２２及び上基板１８の配向膜２６は、それぞれ、積層
して設けられた下層側の配向材層５１と上層側の配向材
層５３とからなる。上層側の配向材層５３は一つの微小
な領域Ａ又はＢに対応する開口部を有する。従って、上
層側の配向材層５３のあるところではその配向処理が液
晶２０に作用し、上層側の配向材層５３の開口部ではそ
の下に露出する下層側の配向材層５１の配向処理が液晶
２０に作用する。
【００１８】下層側の配向材層５１と上層側の配向材層
５３とからなる配向膜２２，２６は次のようにして形成
される。まず、それぞれの基板の電極上に、下層側の配
向材層５１及び上層側の配向材層５３を順にそれぞれ全
面的に塗布する。下層側の配向材層５１は、無機系の配
向材（例えばＡＴ−Ｌ０２８（日産化学製）等）からな
り、上層側の配向材層５３は有機系の配向材（例えばＪ
ＡＬＳ−２１９（日本合成ゴム製）等）からなる。次
に、上層側の配向材層５３の上にレジストを塗布し、レ
ジストを露光及びエッチング処理して所定の開口部を有
するマスクとし、そこで上層側の配向材層５３をエッチ
ングによりパターニングする。そしてレジストを剥離し
た後で、下層側の配向材層５１及び上層側の配向材層５
３を同時にラビングする。
５３とからなる配向膜２２，２６は次のようにして形成
される。まず、それぞれの基板の電極上に、下層側の配
向材層５１及び上層側の配向材層５３を順にそれぞれ全
面的に塗布する。下層側の配向材層５１は、無機系の配
向材（例えばＡＴ−Ｌ０２８（日産化学製）等）からな
り、上層側の配向材層５３は有機系の配向材（例えばＪ
ＡＬＳ−２１９（日本合成ゴム製）等）からなる。次
に、上層側の配向材層５３の上にレジストを塗布し、レ
ジストを露光及びエッチング処理して所定の開口部を有
するマスクとし、そこで上層側の配向材層５３をエッチ
ングによりパターニングする。そしてレジストを剥離し
た後で、下層側の配向材層５１及び上層側の配向材層５
３を同時にラビングする。
【００１９】従って、上層側の配向材層５３、及び上層
側の配向材層５３の開口部から露出した下層側の配向材
層５１は同じ方向にラビングされる（図２で左から右
へ、図３の矢印Ｒの方向）。ラビングにより、液晶２０
は一定の方向に配向するとともに、プレチルトする。液
晶のプレチルトは、液晶の分子が上層側の配向材層５３
に接触しているか、あるいは下層側の配向材層５１に接
触しているかによって異なる。試験では、上層側の配向
材層５３に接している液晶のプレチルト角度（α 1 ）が
約４度程度となり、下層側の配向材層５１に接している
液晶のプレチルト角度（α2 ）は約１度程度となること
が確認された。
側の配向材層５３の開口部から露出した下層側の配向材
層５１は同じ方向にラビングされる（図２で左から右
へ、図３の矢印Ｒの方向）。ラビングにより、液晶２０
は一定の方向に配向するとともに、プレチルトする。液
晶のプレチルトは、液晶の分子が上層側の配向材層５３
に接触しているか、あるいは下層側の配向材層５１に接
触しているかによって異なる。試験では、上層側の配向
材層５３に接している液晶のプレチルト角度（α 1 ）が
約４度程度となり、下層側の配向材層５１に接している
液晶のプレチルト角度（α2 ）は約１度程度となること
が確認された。
【００２０】図２では、微小な領域Ａにおいては、液晶
の分子は、上基板１８の配向膜２６の上層側の配向材層
５３に接触し、かつ下基板１６の配向膜２２の下層側の
配向材層５１に接触するようになっている。従って、微
小な領域Ａにおいては、液晶の分子は、上基板１８側の
上層側の配向材層５３の近傍では角度α1 でプレチルト
し、下基板１６側の下層側の配向材層５１の近傍では角
度α2 でプレチルトしている。この場合、角度α1 の方
が角度α2 よりも大きい。
の分子は、上基板１８の配向膜２６の上層側の配向材層
５３に接触し、かつ下基板１６の配向膜２２の下層側の
配向材層５１に接触するようになっている。従って、微
小な領域Ａにおいては、液晶の分子は、上基板１８側の
上層側の配向材層５３の近傍では角度α1 でプレチルト
し、下基板１６側の下層側の配向材層５１の近傍では角
度α2 でプレチルトしている。この場合、角度α1 の方
が角度α2 よりも大きい。
【００２１】また、微小な領域Ｂにおいては、液晶の分
子は、上基板１８の配向膜２６の下層側の配向材層５１
に接触し、かつ液晶下基板１６の配向膜２２の上層側の
配向材層５３に接触するようになっている。従って、微
小な領域Ｂにおいては、液晶の分子は、上基板１８側の
下層側の配向材層５１の近傍では角度α2 でプレチルト
し、下基板１６側の上層側の配向材層５３の近傍では角
度α1 でプレチルトしている。この場合、角度α1 の方
が角度α2 よりも大きい。
子は、上基板１８の配向膜２６の下層側の配向材層５１
に接触し、かつ液晶下基板１６の配向膜２２の上層側の
配向材層５３に接触するようになっている。従って、微
小な領域Ｂにおいては、液晶の分子は、上基板１８側の
下層側の配向材層５１の近傍では角度α2 でプレチルト
し、下基板１６側の上層側の配向材層５３の近傍では角
度α1 でプレチルトしている。この場合、角度α1 の方
が角度α2 よりも大きい。
【００２２】このように、微小な領域Ａ，Ｂにおいて、
液晶の分子が対向する基板のうちの一方の基板１６（１
８）側では大きい角度α1 でプレチルトし、他方の基板
１８（１６）側では小さい角度α2 でプレチルトしてい
る場合、電圧を印加したときには、基板面に拘束されな
い中間部の液晶の分子は図２の矢印で示されるようにプ
レチルト角度の大きい方向に立ち上がる。
液晶の分子が対向する基板のうちの一方の基板１６（１
８）側では大きい角度α1 でプレチルトし、他方の基板
１８（１６）側では小さい角度α2 でプレチルトしてい
る場合、電圧を印加したときには、基板面に拘束されな
い中間部の液晶の分子は図２の矢印で示されるようにプ
レチルト角度の大きい方向に立ち上がる。
【００２３】従って、図２に示されるように、微小な領
域Ａにおいては、液晶の立ち上がりは左上がりで右下が
りになり、微小な領域Ｂにおいては、液晶の立ち上がり
は左下がりで右上がりになる。すなわち、微小な領域Ａ
の液晶の分子と微小な領域Ｂの液晶の分子は互いに反対
方向に傾斜して立ち上がるようになっている。
域Ａにおいては、液晶の立ち上がりは左上がりで右下が
りになり、微小な領域Ｂにおいては、液晶の立ち上がり
は左下がりで右上がりになる。すなわち、微小な領域Ａ
の液晶の分子と微小な領域Ｂの液晶の分子は互いに反対
方向に傾斜して立ち上がるようになっている。
【００２４】ＥＣＢ液晶表示装置の基本的な作用は公知
の通りである。液晶層の厚さがｄ、入射側の偏光子の透
過軸が液晶のディレクタと角度θをなすときに、液晶パ
ネル１０の透過光強度Ｉは、 Ｉ＝Ｉ0 sin2２θsin2（πＲ／λ） である。Ｒ＝ｄΔｎsin2φ（Ｖ）であり、リタデーショ
ンと呼ばれる。透過光強度Ｉは、液晶層の厚さｄ、透過
光の波長λ、印加電圧Ｖにより変化する。φは液晶の分
子の立ち上がりの角度であり、印加電圧Ｖの関数であ
る。
の通りである。液晶層の厚さがｄ、入射側の偏光子の透
過軸が液晶のディレクタと角度θをなすときに、液晶パ
ネル１０の透過光強度Ｉは、 Ｉ＝Ｉ0 sin2２θsin2（πＲ／λ） である。Ｒ＝ｄΔｎsin2φ（Ｖ）であり、リタデーショ
ンと呼ばれる。透過光強度Ｉは、液晶層の厚さｄ、透過
光の波長λ、印加電圧Ｖにより変化する。φは液晶の分
子の立ち上がりの角度であり、印加電圧Ｖの関数であ
る。
【００２５】図１の（Ａ）に示されるように、印加電圧
が０のときに黒表示となり、図１の（Ｂ）に示されるよ
うに、印加電圧をかけると白及び色表示となる。図４に
示されるように、ＥＣＢ液晶表示装置に白色光を入射さ
せた場合、特定の波長をもった各色の光の透過率はそれ
ぞれ特定の印加電圧の値でピークを示すことが知られて
いる。そこで、所望の色の透過率のピークに相当する電
圧値を印加すると、その所望の色の光が透過して、観視
者に見えることになる。
が０のときに黒表示となり、図１の（Ｂ）に示されるよ
うに、印加電圧をかけると白及び色表示となる。図４に
示されるように、ＥＣＢ液晶表示装置に白色光を入射さ
せた場合、特定の波長をもった各色の光の透過率はそれ
ぞれ特定の印加電圧の値でピークを示すことが知られて
いる。そこで、所望の色の透過率のピークに相当する電
圧値を印加すると、その所望の色の光が透過して、観視
者に見えることになる。
【００２６】図５は液晶パネル１０に入射光Ｉが入射
し、液晶パネル１０を透過した光を観視者が見る場合を
示している。Ｅ１は法線方向から液晶パネル１０を見る
場合を示し、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ法線方向に対して
ある角度の位置から液晶パネル１０を見る場合を示して
いる。上記した所望の色は、法線方向から液晶パネル１
０を見る場合を標準にして定められたものである。法線
方向に対してある角度の位置から液晶パネル１０を見る
場合には、光の透過方向で見た液晶層の厚さｄ及び液晶
の分子の立ち上がりの角度φが標準時よりも変化するこ
とになる。従って、この場合には、別の色が見える可能
性がある。
し、液晶パネル１０を透過した光を観視者が見る場合を
示している。Ｅ１は法線方向から液晶パネル１０を見る
場合を示し、Ｅ２及びＥ３はそれぞれ法線方向に対して
ある角度の位置から液晶パネル１０を見る場合を示して
いる。上記した所望の色は、法線方向から液晶パネル１
０を見る場合を標準にして定められたものである。法線
方向に対してある角度の位置から液晶パネル１０を見る
場合には、光の透過方向で見た液晶層の厚さｄ及び液晶
の分子の立ち上がりの角度φが標準時よりも変化するこ
とになる。従って、この場合には、別の色が見える可能
性がある。
【００２７】本発明では、微小な領域Ａの液晶の分子と
微小な領域Ｂの液晶の分子は互いに反対方向に、あるい
は対称に立ち上がるようになっている。そのため、表示
画面の法線方向から液晶パネル１０を見ると、微小な領
域Ａ，Ｂにおける液晶の分子の立ち上がり方向は逆であ
るけれども電気光学効果は同じであるので、配向状態が
異なっていても印加電圧に応じた所望の色に見える。
微小な領域Ｂの液晶の分子は互いに反対方向に、あるい
は対称に立ち上がるようになっている。そのため、表示
画面の法線方向から液晶パネル１０を見ると、微小な領
域Ａ，Ｂにおける液晶の分子の立ち上がり方向は逆であ
るけれども電気光学効果は同じであるので、配向状態が
異なっていても印加電圧に応じた所望の色に見える。
【００２８】法線方向に対してある角度の位置から液晶
パネル１０（例えばＥ２の光）を見る場合には、従来は
所望の色以外の色が見える可能性があった。このような
場合、本発明では、微小な領域Ａ，Ｂの境界部を斜めに
通り抜けて進む光は液晶の分子が反対方向に立ち上がる
ことにより複屈折の効果が相殺されるようになり、所望
の色に対して異なった色が見える可能性が小さくなる。
しかも、微小な領域Ａ，Ｂの境界部以外の位置でそれぞ
れ微小な領域Ａ，Ｂを通り抜ける光は所望の色以外の第
２の色及び第３の色を呈するが、これらの第２の色及び
第３の色は加色により第４の色を呈し、かつパネル法線
方向に対して、対称な特性（色）を示す。このようにし
て、本発明においては、視角毎に色が変化することを防
止できるＥＣＢ液晶表示装置が得られる。
パネル１０（例えばＥ２の光）を見る場合には、従来は
所望の色以外の色が見える可能性があった。このような
場合、本発明では、微小な領域Ａ，Ｂの境界部を斜めに
通り抜けて進む光は液晶の分子が反対方向に立ち上がる
ことにより複屈折の効果が相殺されるようになり、所望
の色に対して異なった色が見える可能性が小さくなる。
しかも、微小な領域Ａ，Ｂの境界部以外の位置でそれぞ
れ微小な領域Ａ，Ｂを通り抜ける光は所望の色以外の第
２の色及び第３の色を呈するが、これらの第２の色及び
第３の色は加色により第４の色を呈し、かつパネル法線
方向に対して、対称な特性（色）を示す。このようにし
て、本発明においては、視角毎に色が変化することを防
止できるＥＣＢ液晶表示装置が得られる。
【００２９】図６及び図７は本発明の第２実施例のＥＣ
Ｂ液晶表示装置の例を示す図である。液晶パネル１０
は、一対の透明なガラス基板１６，１８の間に液晶２０
を封入したものである。下基板１６の内面にはＩＴＯの
画素電極２１及び配向膜２２が設けられ、上基板１８の
内面には共通電極２４及び配向膜２６が設けられる。画
素電極２１はアクティブマトリクス回路に接続される
（図３）。
Ｂ液晶表示装置の例を示す図である。液晶パネル１０
は、一対の透明なガラス基板１６，１８の間に液晶２０
を封入したものである。下基板１６の内面にはＩＴＯの
画素電極２１及び配向膜２２が設けられ、上基板１８の
内面には共通電極２４及び配向膜２６が設けられる。画
素電極２１はアクティブマトリクス回路に接続される
（図３）。
【００３０】図６及び図７は、ＥＣＢ液晶表示装置のう
ち、ＤＡＰ配向型の液晶２０の例を示す図である。概し
て、ＤＡＰ配向型の液晶２０の場合、下基板１６の配向
膜２２及び上基板１８の配向膜２６は垂直配向材が使用
される。本発明では、ラビングが実施され、ラビングに
より、液晶２０はプレチルトする。よって、電圧を印加
していない状態（図６、Ａ）では、液晶の分子は下基板
１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６とほぼ垂
直に（ホメオトロピック）配向し、電圧を印加する（図
６、Ｂ）と、液晶の分子は下基板１６の配向膜２２及び
上基板１８の配向膜２６に対して傾斜するようになる。
ち、ＤＡＰ配向型の液晶２０の例を示す図である。概し
て、ＤＡＰ配向型の液晶２０の場合、下基板１６の配向
膜２２及び上基板１８の配向膜２６は垂直配向材が使用
される。本発明では、ラビングが実施され、ラビングに
より、液晶２０はプレチルトする。よって、電圧を印加
していない状態（図６、Ａ）では、液晶の分子は下基板
１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６とほぼ垂
直に（ホメオトロピック）配向し、電圧を印加する（図
６、Ｂ）と、液晶の分子は下基板１６の配向膜２２及び
上基板１８の配向膜２６に対して傾斜するようになる。
【００３１】本発明では、１画素を単位として微小な領
域Ａ及び微小な領域Ｂに分割し、微小な領域Ａと微小な
領域Ｂとで配向状態を異ならせている。微小な領域Ａ，
Ｂの設定は図３に示された例と同様にすることができ
る。微小な領域Ａ，Ｂの配向状態を異ならせるため、下
基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６は、
それぞれ、積層して設けられた下層側の配向材層５１と
上層側の配向材層５３とからなる。上層側の配向材層５
３は一つの微小な領域Ａ又はＢに対応する開口部を有す
る。従って、上層側の配向材層５３のあるところではそ
の配向処理が液晶２０に作用し、上層側の配向材層５３
の開口部ではその下に露出する下層側の配向材層５１の
配向処理が液晶２０に作用する。
域Ａ及び微小な領域Ｂに分割し、微小な領域Ａと微小な
領域Ｂとで配向状態を異ならせている。微小な領域Ａ，
Ｂの設定は図３に示された例と同様にすることができ
る。微小な領域Ａ，Ｂの配向状態を異ならせるため、下
基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２６は、
それぞれ、積層して設けられた下層側の配向材層５１と
上層側の配向材層５３とからなる。上層側の配向材層５
３は一つの微小な領域Ａ又はＢに対応する開口部を有す
る。従って、上層側の配向材層５３のあるところではそ
の配向処理が液晶２０に作用し、上層側の配向材層５３
の開口部ではその下に露出する下層側の配向材層５１の
配向処理が液晶２０に作用する。
【００３２】下層側の配向材層５１はラビングの影響を
受けにくいもの（例えばチッソ石化製のＢＭＯＡＰ）を
使用し、上層側の配向材層５３はラビングの影響を受け
やすいもの（例えば日産化学製のＲＮ−７２２）を使用
する。製造時には、下層側の配向材層５１及び上層側の
配向材層５３を塗布し、上層側の配向材層５３の上にレ
ジストによるマスクをして上層側の配向材層５３をエッ
チングによりパターニングする。そしてレジストを剥離
した後で、下層側の配向材層５１及び上層側の配向材層
５３を同時にラビングする。
受けにくいもの（例えばチッソ石化製のＢＭＯＡＰ）を
使用し、上層側の配向材層５３はラビングの影響を受け
やすいもの（例えば日産化学製のＲＮ−７２２）を使用
する。製造時には、下層側の配向材層５１及び上層側の
配向材層５３を塗布し、上層側の配向材層５３の上にレ
ジストによるマスクをして上層側の配向材層５３をエッ
チングによりパターニングする。そしてレジストを剥離
した後で、下層側の配向材層５１及び上層側の配向材層
５３を同時にラビングする。
【００３３】従って、上層側の配向材層５３に接触する
液晶は基板面に垂直な方向に対してプレチルトする。下
層側の配向材層５１に接触している液晶はプレチルトぜ
す、基板面に垂直な方向に配向している。電圧を印加し
たときには、液晶の分子は図７の矢印で示されるように
プレチルトのある方向に傾斜する。微小な領域Ａと微小
な領域Ｂではプレチルトは反対方向になっており、従っ
て微小な領域Ａ，Ｂの液晶の分子は電圧印加時に互いに
反対方向に傾斜する。その結果、視角毎に色が変化する
ことを防止できることは前の実施例と同様である。
液晶は基板面に垂直な方向に対してプレチルトする。下
層側の配向材層５１に接触している液晶はプレチルトぜ
す、基板面に垂直な方向に配向している。電圧を印加し
たときには、液晶の分子は図７の矢印で示されるように
プレチルトのある方向に傾斜する。微小な領域Ａと微小
な領域Ｂではプレチルトは反対方向になっており、従っ
て微小な領域Ａ，Ｂの液晶の分子は電圧印加時に互いに
反対方向に傾斜する。その結果、視角毎に色が変化する
ことを防止できることは前の実施例と同様である。
【００３４】図８及び図９は本発明の第３実施例のＥＣ
Ｂ液晶表示装置の例を示す図である。液晶パネル１０
は、一対の透明なガラス基板１６，１８の間に液晶２０
を封入したものである。下基板１６の内面にはＩＴＯの
画素電極２１及び配向膜２２が設けられ、上基板１８の
内面には共通電極２４及び配向膜２６が設けられる。画
素電極２１はアクティブマトリクス回路に接続される
（図３）。
Ｂ液晶表示装置の例を示す図である。液晶パネル１０
は、一対の透明なガラス基板１６，１８の間に液晶２０
を封入したものである。下基板１６の内面にはＩＴＯの
画素電極２１及び配向膜２２が設けられ、上基板１８の
内面には共通電極２４及び配向膜２６が設けられる。画
素電極２１はアクティブマトリクス回路に接続される
（図３）。
【００３５】図８及び図９は、ＥＣＢ液晶表示装置のう
ち、ハイブリッド型（ＨＡＮ）の液晶２０の例を示す図
である。概して、ＨＡＮ配向型の液晶２０の場合、一方
の基板の配向膜には垂直配向材が使用され、他方の基板
の配向膜には水平配向材が使用される。電圧を印加して
いない状態（図８、Ａ）では、液晶の分子は一方の基板
の配向膜の近傍ではその配向膜とほぼ垂直に配向し、他
方の基板の配向膜の近傍ではその配向膜とほぼ水平に配
向する。ラビングにより、水平配向している液晶はプレ
チルトしている。電圧を印加する（図８、Ｂ）と、液晶
の分子は最初の配向状態からさらに傾斜するようにな
る。
ち、ハイブリッド型（ＨＡＮ）の液晶２０の例を示す図
である。概して、ＨＡＮ配向型の液晶２０の場合、一方
の基板の配向膜には垂直配向材が使用され、他方の基板
の配向膜には水平配向材が使用される。電圧を印加して
いない状態（図８、Ａ）では、液晶の分子は一方の基板
の配向膜の近傍ではその配向膜とほぼ垂直に配向し、他
方の基板の配向膜の近傍ではその配向膜とほぼ水平に配
向する。ラビングにより、水平配向している液晶はプレ
チルトしている。電圧を印加する（図８、Ｂ）と、液晶
の分子は最初の配向状態からさらに傾斜するようにな
る。
【００３６】前の実施例と同様に、この実施例でも、１
画素を単位として微小な領域Ａ及び微小な領域Ｂに分割
し、微小な領域Ａと微小な領域Ｂとで配向状態を異なら
せている。微小な領域Ａ，Ｂの配向状態を異ならせるた
め、下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２
６は、それぞれ、積層して設けられた下層側の配向材層
５１と上層側の配向材層５３とからなる。上層側の配向
材層５３は一つの微小な領域Ａ又はＢに対応する開口部
を有する。従って、上層側の配向材層５３のあるところ
ではその配向処理が液晶２０に作用し、上層側の配向材
層５３の開口部ではその下に露出する下層側の配向材層
５１の配向処理が液晶２０に作用する。
画素を単位として微小な領域Ａ及び微小な領域Ｂに分割
し、微小な領域Ａと微小な領域Ｂとで配向状態を異なら
せている。微小な領域Ａ，Ｂの配向状態を異ならせるた
め、下基板１６の配向膜２２及び上基板１８の配向膜２
６は、それぞれ、積層して設けられた下層側の配向材層
５１と上層側の配向材層５３とからなる。上層側の配向
材層５３は一つの微小な領域Ａ又はＢに対応する開口部
を有する。従って、上層側の配向材層５３のあるところ
ではその配向処理が液晶２０に作用し、上層側の配向材
層５３の開口部ではその下に露出する下層側の配向材層
５１の配向処理が液晶２０に作用する。
【００３７】下層側の配向材層５１は垂直配向材（例え
ば前記ＢＭＯＡＰやＲＮ−７２２）を使用し、上層側の
配向材層５３は水平配向材（例えば前記ＡＴ−Ｌ０２８
やＪＡＬＳ−２１９）を使用する。この場合にも、上層
側の配向材層５３をパターニングし、ラビングする。従
って、上層側の配向材層５３に接触する液晶は水平に配
向し、かつプレチルトする。下層側の配向材層５１に接
触する液晶は垂直に配向し、わずかにプレチルトするか
プレチルトしない。
ば前記ＢＭＯＡＰやＲＮ−７２２）を使用し、上層側の
配向材層５３は水平配向材（例えば前記ＡＴ−Ｌ０２８
やＪＡＬＳ−２１９）を使用する。この場合にも、上層
側の配向材層５３をパターニングし、ラビングする。従
って、上層側の配向材層５３に接触する液晶は水平に配
向し、かつプレチルトする。下層側の配向材層５１に接
触する液晶は垂直に配向し、わずかにプレチルトするか
プレチルトしない。
【００３８】従って、電圧を印加したときには、液晶の
分子は図９の矢印で示されるようにプレチルトのある方
向に傾斜する。微小な領域Ａと微小な領域Ｂではプレチ
ルトは反対方向になっており、従って微小な領域Ａ，Ｂ
の液晶の分子は電圧印加時に互いに反対方向に傾斜す
る。その結果、視角毎に色が変化することを防止できる
ことは前の実施例と同様である。
分子は図９の矢印で示されるようにプレチルトのある方
向に傾斜する。微小な領域Ａと微小な領域Ｂではプレチ
ルトは反対方向になっており、従って微小な領域Ａ，Ｂ
の液晶の分子は電圧印加時に互いに反対方向に傾斜す
る。その結果、視角毎に色が変化することを防止できる
ことは前の実施例と同様である。
【００３９】図１０は本発明の第３実施例の反射型のＥ
ＣＢ液晶表示装置を示す図である。図１と同様に、液晶
パネル１０は、一対の透明なガラス基板１６，１８の間
に液晶２０を封入したものである。下基板１６の内面に
はＩＴＯの画素電極２１及び配向膜２２が設けられ、上
基板１８の内面には共通電極２４及び配向膜２６が設け
られる。画素電極２１はアクティブマトリクス回路に接
続され、アクティブマトリクス回路は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）３４を含む（図３）。
ＣＢ液晶表示装置を示す図である。図１と同様に、液晶
パネル１０は、一対の透明なガラス基板１６，１８の間
に液晶２０を封入したものである。下基板１６の内面に
はＩＴＯの画素電極２１及び配向膜２２が設けられ、上
基板１８の内面には共通電極２４及び配向膜２６が設け
られる。画素電極２１はアクティブマトリクス回路に接
続され、アクティブマトリクス回路は薄膜トランジスタ
（ＴＦＴ）３４を含む（図３）。
【００４０】この実施例でも、１画素を単位として微小
な領域Ａ及び微小な領域Ｂに分割し、微小な領域Ａと微
小な領域Ｂとで配向状態を異ならせている。この実施例
では、下基板１６の画素電極２１の下に反射層６０が設
けられる。従って、入射光は上基板１８側から入射し、
反射層６０で反射して上基板１８側から出射するように
なる。
な領域Ａ及び微小な領域Ｂに分割し、微小な領域Ａと微
小な領域Ｂとで配向状態を異ならせている。この実施例
では、下基板１６の画素電極２１の下に反射層６０が設
けられる。従って、入射光は上基板１８側から入射し、
反射層６０で反射して上基板１８側から出射するように
なる。
【００４１】さらに、上基板１８にはホワイトマトリク
ス６２が設けられる。図１１に示されるように、ホワイ
トマトリクス６２は従来のブラックマトリクスと類似構
成であり、画素電極２１に対応する開口部６２ａを有
し、画素電極２１に隣接するＴＦＴ３４を覆うようにな
っている。ホワイトマトリクス６２の形成は、上基板１
８上にアルミニウム膜を蒸着、又はスパッタ法で３００
０Ａの厚さに形成し、フォトリソ法によりマトリクス状
にパターニングする。得られた基板を３００℃の温度の
酸化雰囲気で熱処理を施し、目的とするホワイトマトリ
クス基板を得た。この基板を用いることで、反射型のＥ
ＣＢ液晶表示装置の明るさを改善することができ、液晶
パネルの見栄えを著しく改善することができた。
ス６２が設けられる。図１１に示されるように、ホワイ
トマトリクス６２は従来のブラックマトリクスと類似構
成であり、画素電極２１に対応する開口部６２ａを有
し、画素電極２１に隣接するＴＦＴ３４を覆うようにな
っている。ホワイトマトリクス６２の形成は、上基板１
８上にアルミニウム膜を蒸着、又はスパッタ法で３００
０Ａの厚さに形成し、フォトリソ法によりマトリクス状
にパターニングする。得られた基板を３００℃の温度の
酸化雰囲気で熱処理を施し、目的とするホワイトマトリ
クス基板を得た。この基板を用いることで、反射型のＥ
ＣＢ液晶表示装置の明るさを改善することができ、液晶
パネルの見栄えを著しく改善することができた。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
電界制御複屈折効果型液晶表示装置の視角毎に色が変化
することを防止できる。
電界制御複屈折効果型液晶表示装置の視角毎に色が変化
することを防止できる。
【図１】本発明の第１実施例を示す図であり、（Ａ）は
電圧が０のときを示し（Ｂ）は電圧が印加されたときを
示す図である。
電圧が０のときを示し（Ｂ）は電圧が印加されたときを
示す図である。
【図２】図１の液晶パネルの部分詳細図である。
【図３】図１の下基板を示す平面図である。
【図４】各色の透過率を示す図である。
【図５】液晶パネルの視角を示す図である。
【図６】本発明の第２実施例を示す図であり、（Ａ）は
電圧が０のときを示し（Ｂ）は電圧が印加されたときを
示す図である。
電圧が０のときを示し（Ｂ）は電圧が印加されたときを
示す図である。
【図７】図６の液晶パネルの部分詳細図である。
【図８】本発明の第３実施例を示す図であり、（Ａ）は
電圧が０のときを示し（Ｂ）は電圧が印加されたときを
示す図である。
電圧が０のときを示し（Ｂ）は電圧が印加されたときを
示す図である。
【図９】図８の液晶パネルの部分詳細図である。
【図１０】本発明の第４実施例を示す図である。
【図１１】図１０の上基板を示す図である。
１６，１８…基板 ２０…液晶 ２１，２４…電極 ２２，２６…配向膜
Claims (4)
- 【請求項１】 第１及び第２の対向する基板（１６，１
８）と、該第１の基板の内面に設けられた電極（２１）
及び配向膜（２２）と、該第２の基板の内面に設けられ
た電極（２４）及び配向膜（２６）と、該第１及び第２
の基板の間に挿入された液晶（２０）とからなる、電界
制御複屈折効果型液晶表示装置において、該第１の基板
の配向膜（２２）及び該第２の基板の配向膜（２６）が
１画素の大きさ以下の単位で微小な領域（Ａ，Ｂ）に区
分して配向処理され、該微小な領域（Ａ，Ｂ）において
電圧印加時の液晶の傾斜方向が互いに反対になるように
したことを特徴とする電界制御複屈折効果型液晶表示装
置。 - 【請求項２】 該第１の基板の配向膜（２２）及び該第
２の基板の配向膜（２６）がそれぞれ積層して設けられ
た下層側の配向材層（５１）と上層側の配向材層（５
３）とからなり、該上層側の配向材層（５３）が該微小
な領域に応じて開口するようにパターニングされ、該上
層側の配向材層（５３）及び該下層側の配向材層（５
１）が同時にラビングされ、該第１の基板の配向膜（２
２）及び該第２の基板の配向膜（２６）の各々におい
て、ある微小な領域（Ａ，Ｂ）における液晶の分子のプ
レチルトが該ある微小な領域に隣接する微小な領域
（Ｂ，Ａ）における液晶の分子のプレチルトと異なるよ
うにしたことを特徴とする請求項１に記載の電界制御複
屈折効果型液晶表示装置。 - 【請求項３】 該液晶が、ホモジニアス配向型液晶、Ｄ
ＡＰ配向型液晶、及びハイブリッド配向型液晶の１つか
らなることを特徴とする請求項１に記載の電界制御複屈
折効果型液晶表示装置。 - 【請求項４】 該第１及び第２の基板の一方にＴＦＴ及
び反射層が設けられ、反射型液晶表示装置とするととも
に、該反射層が設けられたのと反対側の基板に、少なく
とも該ＴＦＴを覆うようにホワイトマトリクスが設けら
れることを特徴とする請求項１に記載の電界制御複屈折
効果型液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19685492A JP2787875B2 (ja) | 1992-07-23 | 1992-07-23 | 電界制御複屈折効果型液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19685492A JP2787875B2 (ja) | 1992-07-23 | 1992-07-23 | 電界制御複屈折効果型液晶表示装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0643462A true JPH0643462A (ja) | 1994-02-18 |
| JP2787875B2 JP2787875B2 (ja) | 1998-08-20 |
Family
ID=16364766
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19685492A Expired - Fee Related JP2787875B2 (ja) | 1992-07-23 | 1992-07-23 | 電界制御複屈折効果型液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2787875B2 (ja) |
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-
1992
- 1992-07-23 JP JP19685492A patent/JP2787875B2/ja not_active Expired - Fee Related
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