JPH0636576A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH0636576A
JPH0636576A JP4194337A JP19433792A JPH0636576A JP H0636576 A JPH0636576 A JP H0636576A JP 4194337 A JP4194337 A JP 4194337A JP 19433792 A JP19433792 A JP 19433792A JP H0636576 A JPH0636576 A JP H0636576A
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bit line
blb
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bla
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Shizuo Cho
静雄 長
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 大容量化及び低電源電位化の際に、ビット線
のセンスアンプ動作の高速化と、データバスへのデータ
転送の高速化を可能にする。 【構成】 センス動作開始時に、カレントアンプ110
0 〜110n-1 は第1のセンスアンプ駆動信号SA1
a,SA1bに基づき、ビット線対BLa0 ,BLb0
〜BLan-1 ,BLbn-1 上の微少な電位差を増幅す
る。この増幅出力は、コラムスイッチ400 〜40n-1
を介してデータバスDBa,DBbへ転送される。次
に、第2のセンスアンプ駆動信号SA2a,SA2bを
供給すると、カレントアンプ1100 〜110n-1 の出
力の状態に応じて駆動回路1200 ,1300 〜120
n-1 ,130n-1 が動作し、ビット線対BLa0 ,BL
0 〜BLan-1 ,BLbn-1 を電源電位レベルまで増
幅する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、センスアンプ回路を有
するダイナミック・ランダム・アクセス・メモリ(以
下、DRAMという)等の半導体集積回路、特にそのセ
ンスアンプ回路の回路構成に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図2は、従来の半導体集積回路の一構成
例を示すDRAMのセンスアンプ回路付近の回路図であ
る。このDRAMでは、イコライズ信号EQN (但し、
Nは反転を意味する)に基づき相補的な複数のビット線
対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 をそれ
ぞれビット線電位VBLにプリチャージする複数のビット
線プリチャージ回路100 〜10n-1 を有している。各
ビット線プリチャージ回路100 〜10n-1は、イコラ
イズ信号EQN によってゲート制御される3個のNチャ
ネル型MOSトランジスタ(以下、NMOSという)1
1,12,13でそれぞれ構成されている。各NMOS
11は、各ビット線BLb0 〜BLbn-1 とビット線電
位VBLとの間にそれぞれ接続され、さらに各NMOS1
2が、各ビット線BLa0 〜BLan-1 とビット線電位
BLとの間にそれぞれ接続されている。各NMOS13
は、各ビット線BLb0 〜BLbn-1 とBLa0 〜BL
n-1 との間にそれぞれ接続されている。
【0003】複数のビット線対BLa0 ,BLb0 〜B
Lan-1 ,BLbn-1 と複数のワード線WL,…との交
差箇所には、1トランジスタ1キャパシタ構造のメモリ
セル200 〜20n-1 がそれぞれ構成されている。各メ
モリセル200 〜20n-1 は、固定電位VCPに接続され
情報を記憶するセル容量CS と、ワード線WLによって
オン,オフ制御されるNMOSからなるトランスファゲ
ート21とで、それぞれ構成され、セル容量CS の電荷
の有無によって情報を記憶し、ワード線WLを“H”レ
ベルにすることによって記憶ノードとビット線間の情報
の入出力を行う機能を有している。
【0004】各ビット線BLa0 ,BLb0 〜BLa
n-1 ,BLbn-1 には、ビット線容量CB がそれぞれ接
続されている。これらの各ビット線容量CB は、各ビッ
ト線BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 にそ
れぞれ寄生する容量をトータルしたものである。各メモ
リセル200 〜20n-1 内のセル容量CS に蓄積された
情報の電位は、ビット線容量CB とセル容量CS との容
量によって分割されるため、各ビット線対BLa0 ,B
Lb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 に読出された情報の電
位が非常に小さくなる。
【0005】各ビット線対BLa0 ,BLb0 〜BLa
n-1 ,BLbn-1 には、データ読出し時に相補的なセン
スアンプ駆動信号SAa,SAbによってその各ビット
線対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 上の
電位差を感知して電源電位近くまで増幅するセンスアン
プ回路300 〜30n-1 がそれぞれ接続されている。各
センスアンプ回路300 〜30n-1 は、センスアンプ駆
動信号SAbによって活性化されるたすきがけ接続(ク
ロスカップル)された1対のNMOS31,32と、セ
ンスアンプ駆動信号SAaによって活性化されるたすき
がけ接続された1対のPチャネル型MOSトランジスタ
(以下、PMOSという)33,34とで、それぞれ構
成されている。
【0006】各ビット線対BLa0 ,BLb0 〜BLa
n-1 ,BLbn-1 と相補的なデータバスDBa,DBb
との間には、各コラム線CL0 〜CLn-1 によりオン,
オフ制御されるコラムスイッチ400 〜40n-1 がそれ
ぞれ接続されている。各コラムスイッチ400 〜40
n-1 は、データ読出し時に各ビット線対BLa0 ,BL
0 〜BLan-1 ,BLbn-1 のデータをデータバスD
Ba,DBbへ転送し、データ書込み時には該データバ
スDBa,DBb上のデータを各ビット線対BLa0
BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 へ転送する機能を有
し、各コラム線CL0 〜CLn-1 の“H”レベルによっ
てオン状態となる1対のNMOS41,42でそれぞれ
構成されている。
【0007】図3は図2の回路のタイミングチャートで
あり、この図を参照しつつ、図2の動作を説明する。例
えば、メモリセル200 に“1”の情報が書込まれてお
り、それをデータバスDBa,DBbへ読出す場合の読
出し動作を説明する。まず、イコライズ信号EQN
“H”レベルにして各ビット線プリチャージ回路100
〜10n-1 によって各ビット線対BLa0 ,BLb0
BLan-1 ,BLbn-1 をビット線電位VBLにプリチャ
ージすると同時に、各ビット線対BLa0 ,BLb0
BLan-1 ,BLbn-1 間の電位を等しくする。
【0008】各ビット線プリチャージ回路100 〜10
n-1 の動作後、イコライズ信号EQN を“L”レベルに
して各ビット線プリチャージ回路100 〜10n-1 内の
NMOS11〜13をオフ状態にし、各ビット線対BL
0 ,BLb0 〜BLan-1,BLbn-1 間をそれぞれ
切り離す。そして、ワード線WLを“H”レベルにして
各メモリセル200 〜20n-1 内のトランスファゲート
21をオン状態にし、各セル容量CS に蓄積された電荷
を各ビット線BLb0 〜BLbn-1 に読出す。これによ
り、ビット線BLb0 の電位がビット線BLa0 の電位
BLよりわずかに大きくなる。なお、セル容量CS
“0”の情報が蓄えられているときには、ビット線BL
0 の電位がビット線BLa0 の電位VBLよりわずかに
小さくなる。従って、ビット線BLb1 〜BLbn-1
電位は、各メモリセル201 〜20n-1 内のセル容量C
S に蓄積された情報に応じて、プリチャージされたビッ
ト線電位VBLよりわずかに電位差を持っている。
【0009】次に、センスアンプ駆動信号SAaを
“H”レベル、センスアンプ駆動信号SAbを“L”レ
ベルにすると、各センスアンプ300 〜30n-1 が活性
化し、各ビット線対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1
BLbn-1 間のわずかな電位差に感応し、該ビット線対
BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 を電源電
位VCCと接地電位VSSにまで除々に増幅する。その後、
各ビット線対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLb
n-1 上のデータをデータバスDBa,DBbへ転送する
に十分な電位差が該ビット線対BLa0 ,BLb0 〜B
Lan-1 ,BLbn-1 上に生じたときに、例えばコラム
線CL0 を“H”レベルに立上げると、コラムスイッチ
400 のNMOS41,42がオン状態となり、ビット
線BLa0 ,BLb0 上のデータがデータバスDBa,
DBbへ転送される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の回路では、大容量化及び低電源電位化に伴い、次の
ような問題が生じ、高速化の大きな障害となっていた。 (a) センス動作開始時、センスアンプ駆動信号SA
a,SAbと各ビット線対との電位差が小さい。即ち、
各センスアンプ回路300 〜30n-1 内のNMOS3
1,32及びPMOS33,34のクロスカップルを構
成するトランジスタのオン抵抗が大きく、各ビット線対
BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 の充放電
時間が長いという問題がある。この問題は、低電源電位
化に伴い、NMOS31,32及びPMOS33,34
の各ゲート・ソース間の電位差が小さくなるので、より
顕在化する。さらに、大容量の場合には、センスアンプ
駆動信号SAa,SAbに結線されるセンスアンプ回路
300 〜30n-1 の個数、つまりビット線対数が増加す
るので、該センスアンプ駆動信号SAa,SAbを介し
て充放電される電荷量が大きくなり、結果として各ビッ
ト線対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1
充放電時間が長くなる。 (b) 前記(a)の理由により、センス開始後、ビッ
ト線情報をデータバスDBa,DBbへ転送可能となる
時間が長くなる。本発明は、前記従来技術が持っていた
課題として、センスアンプ動作開始後のビット線の充放
電時間が長く、さらにビット線情報をデータバスへ転送
可能となる時間が長くなるという点について解決した、
センスアンプ回路を有する半導体集積回路を提供するも
のである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するために、ビット線対上の電位差を感知して電源電
位近くまで増幅するセンスアンプ回路を備え、該センス
アンプ回路の出力をデータバスへ転送する半導体集積回
路において、センスアンプ回路を次のように構成してい
る。即ち、前記センスアンプ回路は、少なくとも一対の
MOSトランジスタが前記ビット線対にたすきがけ接続
され、第1のセンスアンプ駆動信号により該ビット線対
上の電位差を感知増幅して出力端子から出力するカレン
トアンプと、前記第1のセンスアンプ駆動信号よりもタ
イミングの遅れた第2のセンスアンプ駆動信号に基づ
き、前記カレントアンプの出力状態に応じて前記ビット
線対の充放電を行う駆動回路とを備え、前記カレントア
ンプの出力端子と前記データバスとの間でデータの入出
力を行う構成にしている。
【0012】
【作用】本発明によれば、以上のようにセンスアンプ回
路を有する半導体集積回路を構成したので、カレントア
ンプはセンス動作開始時に第1のセンスアンプ駆動信号
によってビット線対上の微少な電位差を増幅する。この
カレントアンプ出力は、データバスへ転送される。次
に、第2のセンスアンプ駆動信号を駆動回路に与える
と、カレントアンプ出力の状態に応じて該駆動回路が動
作し、ビット線対の充放電を行って該ビット線対を電源
電位レベルまで増幅する。これにより、ビット線のセン
スアンプ動作の高速化と、データバスへのデータ転送の
高速化が図れる。従って、前記課題を解決できるのであ
る。
【0013】
【実施例】図1は、本発明の実施例を示すDRAMのセ
ンスアンプ回路付近の回路図であり、従来の図2中の要
素と共通の要素には共通の符号が付されている。このD
RAMでは、従来の図2の複数のセンスアンプ回路30
0 〜30n-1 と回路構成の異なる複数のセンスアンプ回
路1000 〜100n-1 が設けられており、その他の回
路構成は従来の図2と同一である。各センスアンプ回路
1000 〜100n-1 は、相補的な第1のセンスアンプ
駆動信号SA1a,SA1bと相補的な第2のセンスア
ンプ駆動信号SA2a,SA2bによって活性化される
回路であり、データ読出し時に各ビット線対BLa0
BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 に発生する微少電位
差を感知して増幅するPMOSクロスカップル構成のカ
レントアンプ1100 〜110n-1 と、該カレントアン
プ1100 〜110n-1 の相補的な出力端子Sa0 ,S
0 〜San- 1 ,Sbn-1 の出力状態に応じて各ビット
線対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1,BLbn-1 の充
放電を行う各1対の駆動回路1200 ,1300 〜12
n-1,130n-1 とで、それぞれ構成されている。
【0014】各カレントアンプ1100 〜110
n-1 は、1対のNMOS111,112と1対のPMO
S113,114とを、それぞれ有している。各NMO
S111は、ドレインが各出力端子Sa0 〜Sa
n-1 に、ソースが第1のセンスアンプ駆動信号SA1b
に、ゲートが各ビット線BLb0 〜BLbn-1 に、それ
ぞれ結線されている。各NMOS112は、ドレインが
各出力端子Sb0 〜Sbn-1 に、ソースが第1のセンス
アンプ駆動信号SA1bに、ゲートが各ビット線BLa
0 〜BLan-1 に、それぞれ結線されている。各1対の
PMOS113,114は、ゲート・ソースが交互に接
続され、その交点が各出力端子Sa0 〜San-1 とSb
0 〜Sbn-1 に、ソースが共に第1のセンスアンプ駆動
信号SA1aに、それぞれ結線されている。
【0015】各ビット線駆動回路1200 〜120n-1
は、NMOS121及びPMOS122をそれぞれ有し
ている。各NMOS121は、ソースが第2のセンスア
ンプ駆動信号SA2bに、ドレインが各ビット線BLb
0 〜BLbn-1 に、ゲートが各出力端子Sa0 〜Sa
n-1 に、それぞれ結線されている。各PMOS122
は、ドレインが各ビット線Sb0 〜Sbn-1 に、ソース
が第2のセンスアンプ駆動信号SA2aに、ゲートが各
出力端子Sa0 〜San-1 に、それぞれ接続されてい
る。
【0016】各駆動回路1300 〜130n-1 は、NM
OS131及びPMOS132をそれぞれ有している。
各NMOS131は、ドレインが各ビット線BLa0
BLan-1 に、ソースが第2のセンスアンプ駆動信号S
A2bに、ゲートが各出力端子Sb0 〜Sbn-1 に、そ
れぞれ接続されている。各PMOS132は、ドレイン
が各ビット線BLa0 〜BLan-1 に、ソースが第2の
センスアンプ駆動信号SA2aに、ゲートが各出力端子
Sb0 〜Sbn-1 に、それぞれ接続されている。
【0017】各カレントアンプ1100 〜110n-1
相補的な出力端子Sa0 ,Sb0 〜San-1 ,Sbn-1
には、図2と同一の各コラムスイッチ400 〜40n-1
がそれぞれ接続されている。各コラムスイッチ400
40n-1 は、1対のNMOS41,42でそれぞれ構成
され、データ読出し時に各カレントアンプ1100 〜1
10n-1 の出力データを相補的なデータバスDBa,D
Bbへ転送し、データ書込み時には該データバスDB
a,DBbのデータを該各カレントアンプ1100 〜1
10n-1 の出力端子Sa0 ,Sb0 〜San-1 ,Sb
n-1 へそれぞれ転送するための回路であり、各コラム線
CL0 〜CLn-1 が“H”レベルのときにデータの転送
が可能となる。
【0018】図4は、図1の回路のタイミングチャート
であり、この図を参照しつつ、図1の動作を説明する。
例えば、メモリセル200 に“1”の情報が書込まれて
いる場合の読出し動作を説明する。まず、イコライズ信
号EQN を“H”レベルにして各ビット線プリチャージ
回路100 〜10n-1 内のNMOS11〜13をオン状
態にし、各ビット線対BLa0 ,BLb0 〜BL
n-1 ,BLbn-1 をビット線電位VBLにプリチャージ
すると共に、各ビット線対BLa0 ,BLb0 〜BLa
n-1 ,BLbn-1 間の電位を等しくする。
【0019】各ビット線プリチャージ回路100 〜10
n-1 の動作後、イコライズ信号EQN を“L”レベルに
してその各ビット線プリチャージ回路100 〜10n-1
内のNMOS11〜13をオフ状態にし、ビット線電位
BLと各ビット線対BLa0,BLb0 〜BLan-1
BLbn-1 とを切り離すと共に、各ビット線対BL
0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 間を切り離
す。そして、ワード線WLを“H”レベルにし、各メモ
リセル200 〜20n-1 内の各トランスファゲート21
をオン状態にし、各セル容量CS に蓄積された電荷を各
ビット線BLb0 〜BLbn-1 へ読出す。これにより、
ビット線BLb0 の電位がビット線BLa0 の電位VBL
よりわずかに大きくなる。なお、各セル容量CS
“0”の情報が蓄積されているときには、ビット線BL
0 の電位がビット線BLa0 の電位VBLよりわずかに
小さくなる。従って、各ビット線BLb1〜BLbn-1
の電位は、各メモリセル201 〜20n-1 内のセル容量
S に蓄積された情報に応じて、プリチャージされたビ
ット線電位VBLよりわずかに電位差を持っている。
【0020】次に、相補的な第1のセンスアンプ駆動信
号SA1a,SA1bのうち、SA1aを“H”レベ
ル、SA1bを“L”レベルにすると、各カレントアン
プ1100 〜110n-1 が活性化して各ビット線対BL
0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 上のわずかな
電位差に感応し、それらの相補的な各出力端子Sa0
Sb0 〜San-1 ,Sbn-1 を電源電位レベルまで急速
に増幅する。そして、例えばコラム線CL0 を“H”レ
ベルにすると、コラムスイッチ400 内のNMOS4
1,42がオン状態となり、カレントアンプ1100
出力データが相補的なデータバスDBa,DBbへ転送
される。
【0021】その後、相補的な第2のセンスアンプ駆動
信号SA2a,SA2bのうち、SA2aを“H”レベ
ル、SA2bを“L”レベルにすると、各カレントアン
プ1100 〜110n-1 の出力端子Sa0 〜San-1
びSb0 〜Sbn-1 の状態に応じて各駆動回路12
0 ,1300 〜120n-1 ,130n-1 が動作し、各
ビット線対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLb
n-1 を電源電位レベルまで増幅する。この場合、例えば
出力端子Sa0 が“L”レベルでビット線BLb0
“H”レベルに、出力端子Sb0 が“H”レベルでビッ
ト線BLa0 が“L”レベルに増幅される。
【0022】以上のように本実施例では、ビット線対B
La0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 上のわずか
な電位差に感知しその出力を急速に増幅するカレントア
ンプ1100 〜110n-1 の出力と、データバスDB
a,DBbとの間で、データの入出力を行い、さらに駆
動回路1200 ,1300 〜120n-1 ,130n-1
よって電源電位近くまで増幅されたカレントアンプ出力
によってビット線対BLa0 ,BLb0 〜BLan-1
BLbn-1 の充放電を行うようにしている。そのため、
アクセス開始後からデータバスDBa,DBbへのデー
タ転送が可能となる時間が従来に比べて短縮できる。し
かも、センス開始後から、ビット線対BLa0 ,BLb
0 〜BLan-1 ,BLbn-1 の充放電が完了するまでの
時間が従来に比べて短くなる。従って、ビット線対BL
0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 の高速なセン
スアンプ動作と、データバスDBa,DBbへの高速な
データ転送が可能となる。
【0023】なお、本発明は上記実施例に限定されず、
種々の変形が可能である。その変形例としては、例えば
次のようなものがある。 (i) 図1では各カレントアンプ1100 〜110
n-1 をPMOSクロスカップルで構成したが、それをN
MOSクロスカップルで構成しても、上記実施例と同様
の作用、効果が得られる。 (ii) 図1に示すDRAMの全体構成を他の回路構成
に変更したり、あるいはセンスアンプ回路1000 〜1
00n-1 をスタティック・ランダム・アクセス・メモリ
(SRAM)等といった他の半導体集積回路に設けても
よい。
【0024】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、ビット線対上のわずかな電位差に感知し、その出
力を急速に増幅するカレントアンプの出力と、データバ
スとの間で、データの入出力を行い、さらに駆動回路に
よって電源電位近くまで増幅されたカレントアンプ出力
により、ビット線対の充放電を行うようにしている。そ
のため、センス開始後からデータバスへのデータ転送が
可能となる時間が従来よりも短くなり、さらにセンス開
始後から、ビット線の充放電が完了するまでの時間が従
来よりも短くなる。従って、大容量化及び低電源電位化
を図っても、ビット線のセンスアンプ動作の高速化と、
データバスへのデータ転送の高速化が期待できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示すDRAMのセンスアンプ
回路付近の回路図である。
【図2】従来のDRAMのセンスアンプ回路付近の回路
図である。
【図3】図2の動作を示すタイミングチャートである。
【図4】図1の動作を示すタイミングチャートである。
【符号の説明】
100 〜10n-1 ビット線プリチャージ回
路 200 〜20n-1 メモリセル 400 〜40n-1 コラムスイッチ 1000 〜100n-1 センスアンプ回路 1100 〜110n-1 カレントアンプ 1200 ,1300 〜120n-1 ,130n-1 駆動
回路 BLa0 ,BLb0 〜BLan-1 ,BLbn-1 ビッ
ト線対 CL0 〜CLn-1 コラム線 DBa,DBb データバス EQN イコライズ信号 SA1a,SA1b 第1のセンスアンプ駆動
信号 SA2a,SA2b 第2のセンスアンプ駆動
信号 Sa0 ,Sb0 〜San-1 ,Sbn-1 出力端子 VBL ビット線電位 WL ワード線

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ビット線対上の電位差を感知して電源電
    位近くまで増幅するセンスアンプ回路を備え、該センス
    アンプ回路の出力をデータバスへ転送する半導体集積回
    路において、 前記センスアンプ回路は、 少なくとも一対のMOSトランジスタが前記ビット線対
    にたすきがけ接続され、第1のセンスアンプ駆動信号に
    より該ビット線対上の電位差を感知増幅して出力端子か
    ら出力するカレントアンプと、 前記第1のセンスアンプ駆動信号よりもタイミングの遅
    れた第2のセンスアンプ駆動信号に基づき、前記カレン
    トアンプの出力状態に応じて前記ビット線対の充放電を
    行う駆動回路とを備え、 前記カレントアンプの出力端子と前記データバスとの間
    でデータの入出力を行う構成にしたことを特徴とする半
    導体集積回路。
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