JPH06349804A - 洗浄槽 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウェハ等のワークを洗浄する洗浄槽におい
て、洗浄液が個々のワークの間をよく流れ洗浄作用を高
めることを可能とする。 【構成】 槽本体１の底部及びワーク２の並べられる配
列方向に沿う両側壁部を二重構造とすると共に、この二
重構造部の内側壁面（５，６ａ，６ｂ）には多数の液流
通孔７，８ａ，８ｂをあけ、その二重構造部分に外部か
ら圧力液を供給して上記配列されたワーク２に向けて液
を押し出すようにしたものである。これにより、ワーク
２の部分を下から上に向かう流れが強制的に形成され、
洗浄液３が個々のワーク２の間をよく流れて洗浄作用を
高めることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体製品の製
造工程においてウェハ等のワークを洗浄する洗浄装置の
洗浄槽に関し、特に洗浄液が個々のワークの間をよく流
れ洗浄作用を高めることができる洗浄槽に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の洗浄槽は、図６（ａ）,
（ｂ）に示すように、上面部が開口された容器状の槽本
体１を有し、この槽本体１の内部に洗浄対象のワーク
２，２，…を所定ピッチで並べると共に洗浄液３を充満
させ、さらに槽本体１の内部に供給管４を介して外部か
ら液を供給し、下から上に向かう流れを形成して上記ワ
ーク２，２，…を洗浄するようになっていた。この場
合、上記供給管４には多数の孔があけられており、該供
給管４を介して供給された圧力液がそれぞれの孔から流
出するようになっていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来の洗浄槽においては、その底部側に配管された供給管
４から周囲に広がるようにして下から上に向かう圧力液
の流れを形成するだけであると共に、内部に並べられた
ワーク２，２，…間のピッチが例えば6.25mm程度と狭い
ので、上記ワーク２，２間で粘性抵抗を受ける領域には
液の流れが形成されにくいことがあった。すなわち、洗
浄対象のワーク２，２，…の間にはあまり洗浄液３の流
れが生じず、図６（ａ）に示すように、ワーク２，２，
…の並んでいない両側部のように抵抗の少ない領域にま
わり込んで渦を作りながら洗浄液３が流れるという傾向
があった。従って、上記洗浄液３はワーク２，２，…の
両面を洗浄するのにはあまり寄与せず、上記ワーク２，
２，…の洗浄が十分に行われないことがあった。このこ
とから、製品としての半導体等に不良品が生じることが
あり、歩留りが低下することがあった。

【０００４】そこで、本発明は、このような問題点に対
処し、洗浄液が個々のワークの間をよく流れ洗浄作用を
高めることができる洗浄槽を提供することを目的とす
る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明による洗浄槽の第一は、上面部が開口された
容器状の槽本体を有し、この槽本体の内部に洗浄対象の
ワークを所定ピッチで並べると共に洗浄液を充満させ、
さらに槽本体の内部に外部から液を供給して下から上に
向かう流れを形成して上記ワークを洗浄する洗浄槽にお
いて、上記槽本体の底部及びワークの並べられる配列方
向に沿う両側壁部を二重構造とすると共に、この二重構
造部の内側壁面には多数の液流通孔をあけ、その二重構
造部分に外部から圧力液を供給して上記配列されたワー
クに向けて液を押し出すようにしたものである。

【０００６】また、上記槽本体の底部及び両側壁部の二
重構造部分に外部から圧力液を供給する配管系に制御弁
を設け、上記供給する圧力液の流量又は圧力を調節可能
としてもよい。

【０００７】さらに、第二は、上面部が開口された容器
状の槽本体を有し、この槽本体の内部に洗浄対象のワー
クを所定ピッチで並べると共に洗浄液を充満させ、さら
に槽本体の内部に外部から液を供給して下から上に向か
う流れを形成して上記ワークを洗浄する洗浄槽におい
て、上記槽本体の上部に一側方から他側方に向けて流れ
る液又はエアの吹出し手段を設け、槽本体内の洗浄液上
面部に負圧領域を形成するようにしたものである。

【０００８】

【作用】このように構成された洗浄槽は、槽本体の内部
における全体的な洗浄液の流れとしてはワークの部分を
下から上に向かう流れが強制的に形成され、洗浄液が個
々のワークの間をよく流れて洗浄作用を高めることがで
きる。

【０００９】

【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に基づいて
詳細に説明する。図１は本発明による洗浄槽の第一の実
施例を示す正面から見た中央横断面図であり、図２は上
記の洗浄槽を示す平面図であり、図３はその右側面から
見た中央縦断面図である。この洗浄槽は、例えば半導体
製品の製造工程においてウェハ等のワークを洗浄する洗
浄装置に用いられるもので、図１において、槽本体１は
上面部が開口された矩形状の容器状に形成されており、
その内部に洗浄液３を充満させるようになっている。上
記槽本体１の内部には、図２及び図３に示すように、洗
浄対象としてのワーク２，２，…が所定ピッチで複数枚
並べられるようになっている。これは図示省略したが、
適宜の支持具で上記ワーク２，２，…を洗浄液３の中に
つけて支持するようになっている。そして、上記槽本体
１の下部には、図３に示すように、外部からの圧力液を
内部に供給する供給管４が接続されている。

【００１０】ここで、本発明においては、上記槽本体１
の底部及びワーク２の並べられる配列方向に沿う両側壁
部を二重構造とすると共に、この二重構造部の内側壁面
には多数の液流通孔をあけ、その二重構造部分に外部か
ら圧力液を供給して上記配列されたワーク２，２，…に
向けて液を押し出すようにされている。すなわち、図１
において、槽本体１の底板よりやや上方には底部板５が
設けられると共に、この底部板５には多数の液流通孔
７，７，…があけられている。また、図２に示すよう
に、槽本体１においてワーク２，２，…が並べられる配
列方向と平行な両側板よりやや内側には側部板６ａ，６
ｂが設けられると共に、図１に示すように、上記側部板
６ａ，６ｂにはそれぞれ多数の液流通孔８ａ，８ｂがあ
けられている。そして、図３に示すように、槽本体１の
底板と底部板５との間の二重構造部分には、供給管４が
外部から接続されており、図１に示す底部板５及び側部
板６ａ，６ｂで形成された二重構造部分に対して外部か
ら圧力液を供給するようになっている。

【００１１】このように構成された洗浄槽によりワーク
２（例えばウェハ）を洗浄処理するには、まず、槽本体
１の内部に洗浄対象のワーク２，２，…を図２に示すよ
うに所定ピッチで並べると共に、図１に示すように洗浄
液３を充満させる。次に、図３に示す供給管４を介し
て、上記槽本体１の内部の二重構造部分に外部から圧力
液を供給する。すると、この圧力液が図１に示す槽本体
１の底板及び両側板と、底部板５及び両側部板６ａ，６
ｂとで囲まれた全領域に広がり、該底部板５及び両側部
板６ａ，６ｂにあけられた液流通孔７，８ａ，８ｂを通
って内方に位置するワーク２，２，…に向けて押し出さ
れる。このとき、図１に示すように、上記ワーク２，
２，…の上部を除く三方から該ワーク２，２，…に向け
て洗浄液３が押し出されることとなり、全体的な洗浄液
３の流れとしてはワーク２，２，…の部分を下から上に
向けて流れるようになる。従って、図６に示す従来のよ
うにワーク２，２，…の両側部の抵抗の少ない領域にま
わり込んで流れるということなく、図３に示すように、
洗浄液３が個々のワーク２，２，…の間に入り込んでそ
れらの間をよく流れるようになる。このことから、洗浄
液３によるワーク２，２，…の洗浄作用を高めることが
できる。

【００１２】図４は本発明の第二の実施例を示す正面か
ら見た中央横断面図である。この実施例は、上記槽本体
１の底部及び両側壁部の二重構造部分に外部から圧力液
を供給する配管系に制御弁を設け、上記供給する圧力液
の流量又は圧力を調節可能としたものである。すなわ
ち、槽本体１の底板に接続された第一の供給管４ａの途
中に第一の制御弁９ａを設け、一方の側板に接続された
第二の供給管４ｂの途中には第二の制御弁９ｂを設け、
さらに他方の側板に接続された第三の供給管４ｃの途中
には第三の制御弁９ｃを設けたものである。そして、上
記第一の制御弁９ａを開閉操作することにより底板と底
部板５とで囲まれた領域の流量又は圧力を調節し、第二
の制御弁９ｂを開閉操作することにより一方の側板と側
部板６ａとで囲まれた領域の流量又は圧力を調節し、さ
らに第三の制御弁９ｃを開閉操作することにより他方の
側板と側部板６ｂとで囲まれた領域の流量又は圧力を調
節するようになっている。この場合は、上記底部及び両
側壁部の二重構造部分に供給する圧力液の流量又は圧力
をそれぞれ調節することにより、図４に示すワーク２，
２，…の部分を流れる洗浄液３の流れ方を任意に制御す
ることができる。

【００１３】図５は本発明の第三の実施例を示す正面か
ら見た中央横断面図である。この実施例は、槽本体１の
上部に一側方から他側方に向けて流れる液又はエアの吹
出し手段を設け、上記槽本体１内の洗浄液３の上面部に
負圧領域を形成するようにしたものである。すなわち、
槽本体１の一方の側板の上部に供給管１０をその吹出し
口を水平方向に向けて接続すると共に、この供給管１０
の途中に制御弁１１を設け、この供給管１０及び制御弁
１１を液又はエアの吹出し手段としたものである。そし
て、上記供給管１０の吹出し口から水平方向に矢印Ａの
ように液又はエアを吹き出すことにより、槽本体１内の
洗浄液３の上面部には流速の速い領域が形成されて、こ
の部分に負圧領域が形成される。従って、上記槽本体１
の底部から供給される液の流れは、上記負圧領域に引か
れて矢印Ｂのように斜め上方に向かう流れとなり、図３
に示すと同様に洗浄液３が個々のワーク２，２，…の間
に入り込んでそれらの間をよく流れるようになる。な
お、図５においては、底部側に底部板５を設けて二重構
造とした例を示したが、この底部板５は必ずしも設けな
くてもよい。

【００１４】

【発明の効果】本発明は以上のように構成されたので、
槽本体の内部における全体的な洗浄液の流れとしては、
ワークの部分を下から上に向かう流れが強制的に形成さ
れ、洗浄液が個々のワークの間をよく流れて洗浄作用を
高めることができる。従って、洗浄対象としてのワーク
の洗浄を十分に行うことができ、製品としての半導体等
に不良品が生ずるのを防止して歩留りを向上することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による洗浄槽の第一の実施例を示す正面
から見た中央横断面図である。

【図２】上記の洗浄槽を示す平面図である。

【図３】図２の右側面から見た中央縦断面図である。

【図４】本発明の第二の実施例を示す正面から見た中央
横断面図である。

【図５】本発明の第三の実施例を示す正面から見た中央
横断面図である。

【図６】従来の洗浄槽を示す説明図であり、（ａ）図は
正面から見た中央横断面図、(ｂ）図は右側面から見た
中央縦断面図である。

【符号の説明】 １…槽本体 ２…ワーク ３…洗浄液 ４，４ａ，４ｂ，４ｃ…供給管 ５…底部板 ６ａ，６ｂ…側部板 ７，８ａ，８ｂ…液流通孔 ９ａ，９ｂ，９ｃ…制御弁 １０…供給管 １１…制御弁

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上面部が開口された容器状の槽本体を有
   し、この槽本体の内部に洗浄対象のワークを所定ピッチ
   で並べると共に洗浄液を充満させ、さらに槽本体の内部
   に外部から液を供給して下から上に向かう流れを形成し
   て上記ワークを洗浄する洗浄槽において、上記槽本体の
   底部及びワークの並べられる配列方向に沿う両側壁部を
   二重構造とすると共に、この二重構造部の内側壁面には
   多数の液流通孔をあけ、その二重構造部分に外部から圧
   力液を供給して上記配列されたワークに向けて液を押し
   出すようにしたことを特徴とする洗浄槽。
2. 【請求項２】 上記槽本体の底部及び両側壁部の二重構
   造部分に外部から圧力液を供給する配管系に制御弁を設
   け、上記供給する圧力液の流量又は圧力を調節可能とし
   たことを特徴とする請求項１記載の洗浄槽。
3. 【請求項３】 上面部が開口された容器状の槽本体を有
   し、この槽本体の内部に洗浄対象のワークを所定ピッチ
   で並べると共に洗浄液を充満させ、さらに槽本体の内部
   に外部から液を供給して下から上に向かう流れを形成し
   て上記ワークを洗浄する洗浄槽において、上記槽本体の
   上部に一側方から他側方に向けて流れる液又はエアの吹
   出し手段を設け、槽本体内の洗浄液上面部に負圧領域を
   形成するようにしたことを特徴とする洗浄槽。