JPH06347638A - トップコート組成物 - Google Patents
トップコート組成物Info
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- JPH06347638A JPH06347638A JP10778394A JP10778394A JPH06347638A JP H06347638 A JPH06347638 A JP H06347638A JP 10778394 A JP10778394 A JP 10778394A JP 10778394 A JP10778394 A JP 10778394A JP H06347638 A JPH06347638 A JP H06347638A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/201—Filters in the form of arrays
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133514—Colour filters
- G02F1/133519—Overcoatings
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 色フィルターエレメントを形成するための顔
料及び染料のキャリヤーとして有用であり、液晶ディス
プレイのようなフラットパネルディスプレイのトップコ
ートとして使用するために適切な新規コーティング組成
物を提供する。 【構成】 一般に架橋剤と反応性樹脂結合剤、即ち熱処
理又は他の活性化後に組成物の１種以上の他の成分と自
己縮合及び／又は架橋し得る樹脂を含有する組成物。
料及び染料のキャリヤーとして有用であり、液晶ディス
プレイのようなフラットパネルディスプレイのトップコ
ートとして使用するために適切な新規コーティング組成
物を提供する。 【構成】 一般に架橋剤と反応性樹脂結合剤、即ち熱処
理又は他の活性化後に組成物の１種以上の他の成分と自
己縮合及び／又は架橋し得る樹脂を含有する組成物。
Description
【０００１】
【産業上の利用の分野】本発明は液晶ディスプレイのよ
うなフラットパネルディスプレイのトップコートとして
使用するために特に適切なコーティング組成物、該組成
物を含有する製品及びその製造方法に係る。
うなフラットパネルディスプレイのトップコートとして
使用するために特に適切なコーティング組成物、該組成
物を含有する製品及びその製造方法に係る。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】液晶デ
ィスプレイデバイスは電子卓上計算機、時計、家庭用
品、オーディオ機器等のディジタルディスプレイとして
知られている。液晶ディスプレイはディスプレイ端末用
陰極線管技術を補うように開発が進められている。液晶
ディスプレイは同一スクリーン面積を有する陰極線管デ
バイスよりも占有体積が少なくてすむ。更に、液晶ディ
スプレイデバイスは通常、対応する陰極線管ディスプレ
イよりも必要電力が少ない。
ィスプレイデバイスは電子卓上計算機、時計、家庭用
品、オーディオ機器等のディジタルディスプレイとして
知られている。液晶ディスプレイはディスプレイ端末用
陰極線管技術を補うように開発が進められている。液晶
ディスプレイは同一スクリーン面積を有する陰極線管デ
バイスよりも占有体積が少なくてすむ。更に、液晶ディ
スプレイデバイスは通常、対応する陰極線管ディスプレ
イよりも必要電力が少ない。
【０００３】特に光電管ディスプレイ、搭載型電子ディ
スプレイ又はＴＶ画像ディスプレイを含む種々の装置を
使用する周辺端末のような用途においてこのようなモノ
クロディスプレイデバイスにカラー表示能を組み込むこ
とが必要になっている。色フィルターアレーエレメント
を使用してこれらのデバイスにカラーディスプレイを組
み込むべく種々の試みがなされている。
スプレイ又はＴＶ画像ディスプレイを含む種々の装置を
使用する周辺端末のような用途においてこのようなモノ
クロディスプレイデバイスにカラー表示能を組み込むこ
とが必要になっている。色フィルターアレーエレメント
を使用してこれらのデバイスにカラーディスプレイを組
み込むべく種々の試みがなされている。
【０００４】色フィルターは染色ゼラチン又は染色ポリ
イミド法のように染料を配合する方法を含む多数の異な
る方法を使用して製造されている。これらの方法は非常
に良好な色純度を有するが、熱安定性が限られており、
ＵＶ光及び化学物質に対する耐性が並でしかない。更
に、これらの方法は複雑であり、染色ゼラチン法では多
数の染色段階が必要であり、ポリイミド法では多数のフ
ォトレジスト塗布段階と、未硬化ポリイミドのエッチン
グが必要である。
イミド法のように染料を配合する方法を含む多数の異な
る方法を使用して製造されている。これらの方法は非常
に良好な色純度を有するが、熱安定性が限られており、
ＵＶ光及び化学物質に対する耐性が並でしかない。更
に、これらの方法は複雑であり、染色ゼラチン法では多
数の染色段階が必要であり、ポリイミド法では多数のフ
ォトレジスト塗布段階と、未硬化ポリイミドのエッチン
グが必要である。
【０００５】より新規なリソグラフ方法では光増感アク
リル樹脂に分散した顔料を配合する。これらの新規技術
を使用すると、多数の染色又はフォトレジストマスキン
グ段階は不要である。更に、熱、光及び化学物質に対す
る耐性は強化される。しかしながら、最終エレメントが
懸濁顔料から構成されるので、高品質の飽和染色エレメ
ントに比較して平均的な色品質しか達せられない。
リル樹脂に分散した顔料を配合する。これらの新規技術
を使用すると、多数の染色又はフォトレジストマスキン
グ段階は不要である。更に、熱、光及び化学物質に対す
る耐性は強化される。しかしながら、最終エレメントが
懸濁顔料から構成されるので、高品質の飽和染色エレメ
ントに比較して平均的な色品質しか達せられない。
【０００６】上記色フィルター製造方法では、下層の色
フィルターエレメントを例えば水分や化学物質から保護
するためにトップコートを塗布する。トップコートは平
坦化の機能も果たし、より良好なセル間隙均一性を提供
する。トップコートは伝統的にポリイミド又はアクリル
の単一オーバーコートである。これらの材料はかろうじ
て許容可能な光透過率を有するが、これらのコーティン
グは標準加工温度に加熱した際に、厚み損失即ち収縮が
約５０％に達し得る。このような厚み損失は基板の平坦
化を損うと共により多量の材料を使用しなければならな
いので望ましくない。更に、厚み損失は系の固有の不安
定性を表し、コーティングが経時的劣化に耐え得ないこ
とを意味する。
フィルターエレメントを例えば水分や化学物質から保護
するためにトップコートを塗布する。トップコートは平
坦化の機能も果たし、より良好なセル間隙均一性を提供
する。トップコートは伝統的にポリイミド又はアクリル
の単一オーバーコートである。これらの材料はかろうじ
て許容可能な光透過率を有するが、これらのコーティン
グは標準加工温度に加熱した際に、厚み損失即ち収縮が
約５０％に達し得る。このような厚み損失は基板の平坦
化を損うと共により多量の材料を使用しなければならな
いので望ましくない。更に、厚み損失は系の固有の不安
定性を表し、コーティングが経時的劣化に耐え得ないこ
とを意味する。
【０００７】更に、今日の工業的要請は、パネルの縁部
を透明に維持し得る光画像形成可能なトップコートを必
要としている。縁部が透明であるならば、これらの領域
にドライバーを配置することができ、こうして製造業者
は全体のモジュラー寸法を縮小することができる。
を透明に維持し得る光画像形成可能なトップコートを必
要としている。縁部が透明であるならば、これらの領域
にドライバーを配置することができ、こうして製造業者
は全体のモジュラー寸法を縮小することができる。
【０００８】従って、新規トップコート組成物を実現す
ることが望ましい。更に、フラットパネルディスプレイ
及び他の物品の製造に適した光画像形成可能な組成物を
含む新規トップコート及び色フィルター組成物を実現す
ることが望ましい。
ることが望ましい。更に、フラットパネルディスプレイ
及び他の物品の製造に適した光画像形成可能な組成物を
含む新規トップコート及び色フィルター組成物を実現す
ることが望ましい。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、液晶ディスプ
レイのようなフラットパネルディスプレイの色フィルタ
ーエレメントのトップコート及び染料及び／又は顔料キ
ャリヤーとして使用するために特に適した新規コーティ
ング組成物を提供する。本発明の多数の組成物の硬化コ
ーティング層は厚み損失が少なく、優れた光透過性を有
することが全く予想外に判明した。更に、本発明の硬化
組成物は優れた硬度と、加工中に使用される多数の化学
物質に対する優れた耐性を示すことが判明した。
レイのようなフラットパネルディスプレイの色フィルタ
ーエレメントのトップコート及び染料及び／又は顔料キ
ャリヤーとして使用するために特に適した新規コーティ
ング組成物を提供する。本発明の多数の組成物の硬化コ
ーティング層は厚み損失が少なく、優れた光透過性を有
することが全く予想外に判明した。更に、本発明の硬化
組成物は優れた硬度と、加工中に使用される多数の化学
物質に対する優れた耐性を示すことが判明した。
【００１０】本発明の組成物は一般に架橋剤と反応性樹
脂結合剤、即ち熱処理又は他の活性化後に組成物の１種
以上の他の成分と架橋し得る樹脂を含有する。本発明の
組成物は光画像形成不能又は光画像形成可能であり得、
後者の組成物は更に光活性成分、典型的には光酸又は光
塩基生成剤（ｐｈｏｔｏａｃｉｄ ｏｒ ｐｈｏｔｏｂ
ａｓｅ ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）を含有する。光画像形成
不能な組成物の場合、好適樹脂結合剤は架橋剤成分と架
橋し得る反応性部分を含む。具体的には、好適結合剤は
アクリルポリマー、アクリルポリマー以外のビニルポリ
マー、ポリエステル及びポリイミドのようなヒドロキシ
ル含有物質である。光画像形成可能な組成物の場合、更
に酸基（例えばカルボン酸基）置換を有する樹脂結合剤
が特に好適である。このような樹脂を使用すると、アル
カリ現像剤水溶液による現像を助長できる。このような
基を含むアクリル樹脂が特に好適である。
脂結合剤、即ち熱処理又は他の活性化後に組成物の１種
以上の他の成分と架橋し得る樹脂を含有する。本発明の
組成物は光画像形成不能又は光画像形成可能であり得、
後者の組成物は更に光活性成分、典型的には光酸又は光
塩基生成剤（ｐｈｏｔｏａｃｉｄ ｏｒ ｐｈｏｔｏｂ
ａｓｅ ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）を含有する。光画像形成
不能な組成物の場合、好適樹脂結合剤は架橋剤成分と架
橋し得る反応性部分を含む。具体的には、好適結合剤は
アクリルポリマー、アクリルポリマー以外のビニルポリ
マー、ポリエステル及びポリイミドのようなヒドロキシ
ル含有物質である。光画像形成可能な組成物の場合、更
に酸基（例えばカルボン酸基）置換を有する樹脂結合剤
が特に好適である。このような樹脂を使用すると、アル
カリ現像剤水溶液による現像を助長できる。このような
基を含むアクリル樹脂が特に好適である。
【００１１】本発明の組成物は典型的には硬化（即ち架
橋）コーティングとして使用される。組成物の硬化は樹
脂結合剤及び架橋剤成分の熱処理によってのみ誘起され
得る。あるいは、本発明の組成物の硬化は、典型的には
熱処理に加えて酸又は塩基により促進され得る。この態
様によると、本発明の組成物は更に組成物成分間の反応
を触媒又は他の方法で促進するために酸生成剤又は塩基
生成剤化合物を含有する。このような付加的な組成物成
分を使用することにより、一般に硬化反応を比較的低温
で進行させることができる。本明細書中で使用する酸生
成剤なる用語は、化合物の適当な処理後、例えば酸生成
剤を活性化放射（ａｃｔｉｖａｔｉｎｇｒａｄｉａｔｉ
ｏｎ）で露光後（光酸生成剤）又は熱処理後（熱酸生成
剤）に酸を生成する化合物を意味する。同様に塩基生成
剤なる用語は、化合物の適当な処理後、例えば塩基生成
剤を活性化放射で露光後（光塩基生成剤）又は熱処理後
（熱塩基生成剤）に塩基を生成する化合物を意味する。
このような活性化以前は、酸及び塩基生成剤化合物は典
型的には実質的に中性の物質である。本発明の組成物は
更に１種以上の染料又は顔料を含有し、カラー液晶ディ
スプレイの製造に使用することができる。
橋）コーティングとして使用される。組成物の硬化は樹
脂結合剤及び架橋剤成分の熱処理によってのみ誘起され
得る。あるいは、本発明の組成物の硬化は、典型的には
熱処理に加えて酸又は塩基により促進され得る。この態
様によると、本発明の組成物は更に組成物成分間の反応
を触媒又は他の方法で促進するために酸生成剤又は塩基
生成剤化合物を含有する。このような付加的な組成物成
分を使用することにより、一般に硬化反応を比較的低温
で進行させることができる。本明細書中で使用する酸生
成剤なる用語は、化合物の適当な処理後、例えば酸生成
剤を活性化放射（ａｃｔｉｖａｔｉｎｇｒａｄｉａｔｉ
ｏｎ）で露光後（光酸生成剤）又は熱処理後（熱酸生成
剤）に酸を生成する化合物を意味する。同様に塩基生成
剤なる用語は、化合物の適当な処理後、例えば塩基生成
剤を活性化放射で露光後（光塩基生成剤）又は熱処理後
（熱塩基生成剤）に塩基を生成する化合物を意味する。
このような活性化以前は、酸及び塩基生成剤化合物は典
型的には実質的に中性の物質である。本発明の組成物は
更に１種以上の染料又は顔料を含有し、カラー液晶ディ
スプレイの製造に使用することができる。
【００１２】本発明は本発明の組成物の使用方法も提供
し、このような方法は、液晶ディスプレイ及び他のフラ
ットパネルディスプレイの製造方法を含む。更に、本発
明の組成物の層で被覆した基板を含む新規製品も提供す
る。特に、本発明の組成物の硬化コーティング層をトッ
プコート層として含む液晶ディスプレイを提供する。本
発明の他の態様は本明細書中に開示する。
し、このような方法は、液晶ディスプレイ及び他のフラ
ットパネルディスプレイの製造方法を含む。更に、本発
明の組成物の層で被覆した基板を含む新規製品も提供す
る。特に、本発明の組成物の硬化コーティング層をトッ
プコート層として含む液晶ディスプレイを提供する。本
発明の他の態様は本明細書中に開示する。
【００１３】本発明の組成物は一般に架橋剤と反応性樹
脂結合剤、即ち熱処理又は他の活性化後に組成物の１種
以上の他の成分と架橋し得る樹脂を含有する。本発明の
成分は光画像形成不能又は光画像形成可能であり得る。
光画像形成可能な組成物は更に光活性成分、典型的には
光酸又は光塩基生成剤を含有する。光画像形成不能な組
成物の場合、好適樹脂結合剤は架橋剤成分と架橋し得る
反応性部分を含む。具体的には、好適結合剤はアクリル
ポリマー、アクリルポリマー以外のビニルポリマー、ポ
リエステル及びポリイミドのようなヒドロキシル含有物
質である。光画像形成可能な組成物の場合、酸基（例え
ばカルボン酸基）置換を有する樹脂結合剤が特に好適で
ある。このような樹脂を使用すると、アルカリ現像剤水
溶液による現像を助長できる。このような基を含むアク
リル酸が特に好適である。
脂結合剤、即ち熱処理又は他の活性化後に組成物の１種
以上の他の成分と架橋し得る樹脂を含有する。本発明の
成分は光画像形成不能又は光画像形成可能であり得る。
光画像形成可能な組成物は更に光活性成分、典型的には
光酸又は光塩基生成剤を含有する。光画像形成不能な組
成物の場合、好適樹脂結合剤は架橋剤成分と架橋し得る
反応性部分を含む。具体的には、好適結合剤はアクリル
ポリマー、アクリルポリマー以外のビニルポリマー、ポ
リエステル及びポリイミドのようなヒドロキシル含有物
質である。光画像形成可能な組成物の場合、酸基（例え
ばカルボン酸基）置換を有する樹脂結合剤が特に好適で
ある。このような樹脂を使用すると、アルカリ現像剤水
溶液による現像を助長できる。このような基を含むアク
リル酸が特に好適である。
【００１４】酸及びＯＨ基置換を有する適切な樹脂結合
剤としては、例えばアクリルポリマー、アクリルポリマ
ー以外のビニルポリマー、ポリエステル及びポリイミド
を挙げることができる。アクリルポリマーが一般には好
適である。これらの結合剤は、遊離酸基を含む１種以上
のモノマー又はオリゴマー、特に少なくとも１個の遊離
ＯＨ又はカルボン酸基を含む不飽和モノマーの重合によ
り製造すると適切である。
剤としては、例えばアクリルポリマー、アクリルポリマ
ー以外のビニルポリマー、ポリエステル及びポリイミド
を挙げることができる。アクリルポリマーが一般には好
適である。これらの結合剤は、遊離酸基を含む１種以上
のモノマー又はオリゴマー、特に少なくとも１個の遊離
ＯＨ又はカルボン酸基を含む不飽和モノマーの重合によ
り製造すると適切である。
【００１５】酸基置換を有する好適アクリル樹脂結合剤
は、少なくとも１種のモノマーが重合可能であり、生成
されるポリマーの酸側基を提供し得るという条件下で、
アクリル酸、メタクリル酸、そのエステル又はアミド、
及びこのようなモノマーの混合物の重合又は共重合によ
り製造することができる。より特定的には、適切なアク
リルポリマーである極性酸基を有する（メタ）アクリル
酸ポリマーは、アクリル酸又はメタクリル酸モノマー単
独から製造してもよいし、このようなモノマーと他のモ
ノマー、例えばアリール含有モノマー（例えばビニル側
基のような不飽和源と６又は１０個の芳香族炭素原子、
好ましくは６個の炭素原子を有するアリールモノマー）
や他のモノマー（例えばアルキル基が１〜約８個の炭素
原子を含む低級アルキルアクリル又はメタクリル酸エス
テル、例えばメチルメタクリレート、ブチルアクリレー
ト等）から製造してもよい。あるいは、極性基をもたな
いポリマーを修飾して極性基を含むようにすることも可
能である。例えば、グリシダールメタクリレートポリマ
ーを酸と反応させ、ポリマー鎖に酸基を結合することが
できる。
は、少なくとも１種のモノマーが重合可能であり、生成
されるポリマーの酸側基を提供し得るという条件下で、
アクリル酸、メタクリル酸、そのエステル又はアミド、
及びこのようなモノマーの混合物の重合又は共重合によ
り製造することができる。より特定的には、適切なアク
リルポリマーである極性酸基を有する（メタ）アクリル
酸ポリマーは、アクリル酸又はメタクリル酸モノマー単
独から製造してもよいし、このようなモノマーと他のモ
ノマー、例えばアリール含有モノマー（例えばビニル側
基のような不飽和源と６又は１０個の芳香族炭素原子、
好ましくは６個の炭素原子を有するアリールモノマー）
や他のモノマー（例えばアルキル基が１〜約８個の炭素
原子を含む低級アルキルアクリル又はメタクリル酸エス
テル、例えばメチルメタクリレート、ブチルアクリレー
ト等）から製造してもよい。あるいは、極性基をもたな
いポリマーを修飾して極性基を含むようにすることも可
能である。例えば、グリシダールメタクリレートポリマ
ーを酸と反応させ、ポリマー鎖に酸基を結合することが
できる。
【００１６】上記アクリル又はメタクリルポリマー以外
の酸基を含むビニルポリマーも使用可能である。これら
のポリマーは、モノマーの少なくとも１種が酸基を含む
という条件下で、ビニルモノマー（例えばスチレン及び
置換スチレン）、ハロゲン化ビニル（例えば塩化ビニ
ル）、ビニルエステル（例えば酢酸ビニルエステル）、
及びビニルエーテル（例えばメチルビニルエーテル）の
単独重合又は他のビニルモノマーとの重合により製造す
ることができる。樹脂結合剤成分として使用するために
特に好適な材料としては、ポリスチレンマレイン酸無水
物コポリマー、ポリスチレンマレイン酸エステルコポリ
マー及びメチルメタクリレートを末端基とする固体スチ
レンマレイン酸エステルオリゴマーを挙げることができ
る。
の酸基を含むビニルポリマーも使用可能である。これら
のポリマーは、モノマーの少なくとも１種が酸基を含む
という条件下で、ビニルモノマー（例えばスチレン及び
置換スチレン）、ハロゲン化ビニル（例えば塩化ビニ
ル）、ビニルエステル（例えば酢酸ビニルエステル）、
及びビニルエーテル（例えばメチルビニルエーテル）の
単独重合又は他のビニルモノマーとの重合により製造す
ることができる。樹脂結合剤成分として使用するために
特に好適な材料としては、ポリスチレンマレイン酸無水
物コポリマー、ポリスチレンマレイン酸エステルコポリ
マー及びメチルメタクリレートを末端基とする固体スチ
レンマレイン酸エステルオリゴマーを挙げることができ
る。
【００１７】酸基置換を有するエポキシポリマー、ポリ
エステル及びポリウレタンも本発明の感光性組成物にお
いて有用であるが、一般にはさほど好適ではない。この
ような材料の生成の詳細は当業者に公知である。例えば
米国特許第４，５９２，８１６号を参照されたい。
エステル及びポリウレタンも本発明の感光性組成物にお
いて有用であるが、一般にはさほど好適ではない。この
ような材料の生成の詳細は当業者に公知である。例えば
米国特許第４，５９２，８１６号を参照されたい。
【００１８】カルボン酸側基とアミン側基を含む樹脂結
合剤も本発明の組成物で使用するために適切である。こ
のような樹脂結合剤は参考資料として本明細書の一部と
するヨーロッパ特許公開第５３９，７１４号に記載され
ている。
合剤も本発明の組成物で使用するために適切である。こ
のような樹脂結合剤は参考資料として本明細書の一部と
するヨーロッパ特許公開第５３９，７１４号に記載され
ている。
【００１９】本発明の組成物中で使用するために適切な
別の樹脂結合剤は塩基側基、好ましくはアミン基を含
む。このような樹脂結合剤は例えば参考資料として本明
細書の一部とするヨーロッパ特許公開第４９０，１１８
号に記載されている。単一樹脂結合剤としてこの樹脂結
合剤を含有する組成物は更に、不飽和モノマー又はオリ
ゴマーのような不飽和源を含む架橋剤を含有すべきであ
る。
別の樹脂結合剤は塩基側基、好ましくはアミン基を含
む。このような樹脂結合剤は例えば参考資料として本明
細書の一部とするヨーロッパ特許公開第４９０，１１８
号に記載されている。単一樹脂結合剤としてこの樹脂結
合剤を含有する組成物は更に、不飽和モノマー又はオリ
ゴマーのような不飽和源を含む架橋剤を含有すべきであ
る。
【００２０】本発明の組成物の樹脂成分の濃度は比較的
広い範囲で使用され、一般に組成物の全固形分の約１０
〜６０重量％又はそれ以上である。本明細書中で使用す
る組成物の全固形分なる用語は、溶剤キャリヤー以外の
組成物の全成分を意味する。
広い範囲で使用され、一般に組成物の全固形分の約１０
〜６０重量％又はそれ以上である。本明細書中で使用す
る組成物の全固形分なる用語は、溶剤キャリヤー以外の
組成物の全成分を意味する。
【００２１】本発明の組成物の第２の成分は、組成物の
１種以上の成分と自己縮合及び／又は架橋することが可
能な１種以上の材料である。
１種以上の成分と自己縮合及び／又は架橋することが可
能な１種以上の材料である。
【００２２】好適架橋剤は、アミンをベースとする材料
（例えばメラミンモノマー、オリゴマー又はポリマー）
及び種々の樹脂（例えばメラミン−ホルムアルデヒド、
ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド、尿素−ホルムア
ルデヒド及びグリコルリル（ｇｌｙｃｏｌｕｒｉｌ）−
ホルムアルデヒド樹脂）、並びにその組み合わせであ
る。これらの樹脂を製造するには、アクリルアミド又は
メタクリルアミドコポリマーをアルコール含有溶液中で
ホルムアルデヒドと反応させてもよいし、あるいはＮ−
アルコキシメチルアクリルアミド又はメタクリルアミド
を他の適切なモノマーと共重合してもよい。アミンをベ
ースとする架橋剤の特に適切な例としては、Ｗａｙｎ
ｅ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙに所在のＡｍｅｒｉｃａｎ
Ｃｙａｎａｍｉｄ Ｃｏｍｐａｎｙにより製造されてい
るメラミン類（例えばＣｙｍｅｌ（登録商標）３００，
３０１，３０３，３５０，３７０，３８０，１１１６及
び１１３０）、ベンゾグアナミン樹脂（例えばＣｙｍｅ
ｌ（登録商標）１１２３及び１１２５）、グリコルリル
樹脂Ｃｙｍｅｌ（登録商標）１１７０，１１７１及び１
１７２、並びに尿素をベースとする樹脂Ｂｅｅｔｌｅ
（登録商標）６０，６５及び８０を挙げることができ
る。アミンをベースとする同様の多数の化合物が種々の
製造業者から市販されている。
（例えばメラミンモノマー、オリゴマー又はポリマー）
及び種々の樹脂（例えばメラミン−ホルムアルデヒド、
ベンゾグアナミン−ホルムアルデヒド、尿素−ホルムア
ルデヒド及びグリコルリル（ｇｌｙｃｏｌｕｒｉｌ）−
ホルムアルデヒド樹脂）、並びにその組み合わせであ
る。これらの樹脂を製造するには、アクリルアミド又は
メタクリルアミドコポリマーをアルコール含有溶液中で
ホルムアルデヒドと反応させてもよいし、あるいはＮ−
アルコキシメチルアクリルアミド又はメタクリルアミド
を他の適切なモノマーと共重合してもよい。アミンをベ
ースとする架橋剤の特に適切な例としては、Ｗａｙｎ
ｅ，Ｎｅｗ Ｊｅｒｓｅｙに所在のＡｍｅｒｉｃａｎ
Ｃｙａｎａｍｉｄ Ｃｏｍｐａｎｙにより製造されてい
るメラミン類（例えばＣｙｍｅｌ（登録商標）３００，
３０１，３０３，３５０，３７０，３８０，１１１６及
び１１３０）、ベンゾグアナミン樹脂（例えばＣｙｍｅ
ｌ（登録商標）１１２３及び１１２５）、グリコルリル
樹脂Ｃｙｍｅｌ（登録商標）１１７０，１１７１及び１
１７２、並びに尿素をベースとする樹脂Ｂｅｅｔｌｅ
（登録商標）６０，６５及び８０を挙げることができ
る。アミンをベースとする同様の多数の化合物が種々の
製造業者から市販されている。
【００２３】上記アミンをベースとする架橋剤のうちで
はメラミン類が好適である。メラミンホルムアルデヒド
樹脂、即ちメラミンとホルムアルデヒドの反応産物が特
に好適である。これらの樹脂は典型的にはトリアルキロ
ールメラミン及びヘキサアルキロールメラミンのような
エーテルである。アルキル基は１〜８個又はそれ以上の
炭素原子を有し得るが、好ましくはメチルである。反応
条件及びホルムアルデヒドの濃度に依存して、メチルエ
ーテルは相互に反応してより複雑な単位を形成し得る。
はメラミン類が好適である。メラミンホルムアルデヒド
樹脂、即ちメラミンとホルムアルデヒドの反応産物が特
に好適である。これらの樹脂は典型的にはトリアルキロ
ールメラミン及びヘキサアルキロールメラミンのような
エーテルである。アルキル基は１〜８個又はそれ以上の
炭素原子を有し得るが、好ましくはメチルである。反応
条件及びホルムアルデヒドの濃度に依存して、メチルエ
ーテルは相互に反応してより複雑な単位を形成し得る。
【００２４】本発明の組成物は硬化後の厚み損失即ち収
縮が少ないことが判明した。理論に拘束する意図はない
が、アミンをベースとする架橋剤の使用が少なくとも一
因であると考えられる。
縮が少ないことが判明した。理論に拘束する意図はない
が、アミンをベースとする架橋剤の使用が少なくとも一
因であると考えられる。
【００２５】本発明の光画像形成可能な組成物の場合、
上記アミンベース架橋剤以外に第２の架橋剤を使用する
と更に好適である。このような付加的架橋剤は、活性化
放射で露光後に架橋又は重合することが可能な不飽和源
を含む。より特定的には、好適架橋剤は不飽和又は重合
性モノマー又はオリゴマー、例えば同一分子に結合した
２個以上の不飽和基を有する多官能価不飽和モノマーで
ある。
上記アミンベース架橋剤以外に第２の架橋剤を使用する
と更に好適である。このような付加的架橋剤は、活性化
放射で露光後に架橋又は重合することが可能な不飽和源
を含む。より特定的には、好適架橋剤は不飽和又は重合
性モノマー又はオリゴマー、例えば同一分子に結合した
２個以上の不飽和基を有する多官能価不飽和モノマーで
ある。
【００２６】この群の特に好適な架橋剤は、各モノマー
分子に結合した３個以上のアクリレート又はメタクリレ
ート基を有する多官能価モノマーである。３官能価、４
官能価及び５官能価モノマーが更に好適である。多官能
価オリゴマーも有用である。約３５以上の臭素数を与え
るために十分な濃度の不飽和モノマー又はオリゴマーを
レジスト組成物に加えると好ましい。
分子に結合した３個以上のアクリレート又はメタクリレ
ート基を有する多官能価モノマーである。３官能価、４
官能価及び５官能価モノマーが更に好適である。多官能
価オリゴマーも有用である。約３５以上の臭素数を与え
るために十分な濃度の不飽和モノマー又はオリゴマーを
レジスト組成物に加えると好ましい。
【００２７】本発明の組成物の架橋剤の特に好適な例
は、アリルメタクリレート、１，４−ベンゼンジオール
ジメタクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレー
ト、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−
ブタンジオールジアクリレート、ブチレングリコールジ
メタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ビスフェノールＡのジ−（３−メタクリルオキシエチ
ル）エーテル、１，４−ブタンジオールのジ−（３−メ
タクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、
ジプロピレングリコールジメタクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジ
メタクリレート、メラミンアクリレート、１−フェニル
−１，２−エタンジオールジメタクリレート、１，３−
プロパンジオールジアクリレート、１，２−プロパンジ
オールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリプ
ロピレングリコールジアクリレート、及びトリス−（２
−メタクリルオキシエチル）イソシアネートのような多
官能価モノマーである。適切な多官能価モノマーのその
他の例は米国特許第４，５９２，８１６号に記載されて
いる。
は、アリルメタクリレート、１，４−ベンゼンジオール
ジメタクリレート、ビスフェノール−Ａジアクリレー
ト、１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，４−
ブタンジオールジアクリレート、ブチレングリコールジ
メタクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジメ
タクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、
ビスフェノールＡのジ−（３−メタクリルオキシエチ
ル）エーテル、１，４−ブタンジオールのジ−（３−メ
タクリルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、
ジプロピレングリコールジメタクリレート、エチレング
リコールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジ
メタクリレート、メラミンアクリレート、１−フェニル
−１，２−エタンジオールジメタクリレート、１，３−
プロパンジオールジアクリレート、１，２−プロパンジ
オールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジ
アクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリプ
ロピレングリコールジアクリレート、及びトリス−（２
−メタクリルオキシエチル）イソシアネートのような多
官能価モノマーである。適切な多官能価モノマーのその
他の例は米国特許第４，５９２，８１６号に記載されて
いる。
【００２８】１種以上の求電子性多重結合を含む化合物
が塩基又は塩基生成剤化合物を含む組成物に特に適切な
架橋剤である。求電子性多重結合の例としては、マレイ
ミド、α，β−不飽和ケトン、エステル、アミド、ニト
リル及び他のα，β−不飽和電子求引基を挙げることが
できる。典型的には、求電子性多重結合は１個以上の電
子求引置換基により活性化された炭素−炭素二重結合で
あるが、活性化アセチレンも求電子種として機能し得
る。２個以上の求電子性多重結合を含む架橋剤が好適で
ある。マロン酸エステル又はβ−ケトエステル、又は好
ましくはマレイミド基のような２個の電子求引置換基に
より安定化された炭素−炭素多重結合を含む活性基が特
に好適である。これらのマイケル（Ｍｉｃｈａｅｌ）受
容体は適切な求核剤との間で塩基により誘導される反応
を生じる。例えば、本発明の組成物において上記フェノ
ール樹脂結合剤及び／又は光活性化塩基は求電子性多重
結合を含むこれらの架橋剤を更に添加され得る。
が塩基又は塩基生成剤化合物を含む組成物に特に適切な
架橋剤である。求電子性多重結合の例としては、マレイ
ミド、α，β−不飽和ケトン、エステル、アミド、ニト
リル及び他のα，β−不飽和電子求引基を挙げることが
できる。典型的には、求電子性多重結合は１個以上の電
子求引置換基により活性化された炭素−炭素二重結合で
あるが、活性化アセチレンも求電子種として機能し得
る。２個以上の求電子性多重結合を含む架橋剤が好適で
ある。マロン酸エステル又はβ−ケトエステル、又は好
ましくはマレイミド基のような２個の電子求引置換基に
より安定化された炭素−炭素多重結合を含む活性基が特
に好適である。これらのマイケル（Ｍｉｃｈａｅｌ）受
容体は適切な求核剤との間で塩基により誘導される反応
を生じる。例えば、本発明の組成物において上記フェノ
ール樹脂結合剤及び／又は光活性化塩基は求電子性多重
結合を含むこれらの架橋剤を更に添加され得る。
【００２９】求電子性多重結合を含む特に適切な架橋剤
は、１種以上のマレイミド基を含む架橋剤であり、下式
（ＩＩＩ）：
は、１種以上のマレイミド基を含む架橋剤であり、下式
（ＩＩＩ）：
【００３０】
【化１】 ［式中、Ｒは置換もしくは非置換アリール、置換もしく
は非置換アルキル、又は式Ｒ1−Ａｒ−Ｒ2−Ａｒ’−Ｒ
3（式中、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は置換又は非置換アルキルか
ら構成される群から独立して選択され、Ａｒ及びＡｒ’
は置換又は非置換アリールから構成される群から各々独
立して選択される）の基から構成される群から選択され
る］のビスマレイミドが特に好適である。式（ＩＩＩ）
の化合物の前記置換アリール及びアルキル基は例えばハ
ロゲン、アルコキシ（例えばメトキシ、エトキシ等）、
アリール及びアルキルのような１個以上の官能基により
置換されると適切である。式（ＩＩＩ）の前記置換及び
非置換アルキル基は好ましくは１〜８、より好ましくは
１〜４個の炭素原子を有する。アリール基は好ましくは
フェニルである。式（ＩＩＩ）の特に好適な化合物は
１，１’−（メチレンジ−１，４−フェニレン）ビスマ
レイミドである。
は非置換アルキル、又は式Ｒ1−Ａｒ−Ｒ2−Ａｒ’−Ｒ
3（式中、Ｒ1，Ｒ2及びＲ3は置換又は非置換アルキルか
ら構成される群から独立して選択され、Ａｒ及びＡｒ’
は置換又は非置換アリールから構成される群から各々独
立して選択される）の基から構成される群から選択され
る］のビスマレイミドが特に好適である。式（ＩＩＩ）
の化合物の前記置換アリール及びアルキル基は例えばハ
ロゲン、アルコキシ（例えばメトキシ、エトキシ等）、
アリール及びアルキルのような１個以上の官能基により
置換されると適切である。式（ＩＩＩ）の前記置換及び
非置換アルキル基は好ましくは１〜８、より好ましくは
１〜４個の炭素原子を有する。アリール基は好ましくは
フェニルである。式（ＩＩＩ）の特に好適な化合物は
１，１’−（メチレンジ−１，４−フェニレン）ビスマ
レイミドである。
【００３１】式（ＩＩＩ）のビスマレイミドを含む多数
の適切なマレイミドが市販されている。例えば、適切な
マレイミドはＬｉｔｔｌｅ Ｓｉｌｖｅｒ， Ｎｅｗ
Ｊｅｒｓｅｙに所在のＫｅｎｎｅｄｙ ａｎｄ Ｋｌｉ
ｍ，Ｉｎｃ．から市販されている。他の適切なマレイミ
ドは、例えばマレイン酸無水物をＲ（ＮＨ2）2（式中、
Ｒは式（Ｉ）の定義と同義である）に対応する構造の化
合物と熱又は酸縮合することにより公知手順により容易
に合成することができる。この点については、参考資料
として本明細書の一部とするＩ．Ｖａｒｍａら， Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｎｅｗｓ， １２：２９４−３０６（１９
８７）を参照されたい。
の適切なマレイミドが市販されている。例えば、適切な
マレイミドはＬｉｔｔｌｅ Ｓｉｌｖｅｒ， Ｎｅｗ
Ｊｅｒｓｅｙに所在のＫｅｎｎｅｄｙ ａｎｄ Ｋｌｉ
ｍ，Ｉｎｃ．から市販されている。他の適切なマレイミ
ドは、例えばマレイン酸無水物をＲ（ＮＨ2）2（式中、
Ｒは式（Ｉ）の定義と同義である）に対応する構造の化
合物と熱又は酸縮合することにより公知手順により容易
に合成することができる。この点については、参考資料
として本明細書の一部とするＩ．Ｖａｒｍａら， Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｎｅｗｓ， １２：２９４−３０６（１９
８７）を参照されたい。
【００３２】求電子性多重結合を含むか又はエポキシ及
び求電子性多重結合の両方を含む樹脂も、本発明の組成
物中で架橋剤として使用するのに適切である。多数の適
切な樹脂が市販されており、例えばＲｈｏｎｅ−Ｐｏｕ
ｌｅｎｃにより商品名Ｋｅｒｉｍｉｄとして市販されて
いるビスマレイミド樹脂や、Ｋｅｎｎｅｄｙ ａｎｄＫ
ｌｉｍ， Ｉｎｃ．の市販品Ｔｈｅｒｍａｘ ＭＢ−８
０００を挙げることができる。Ｉ．Ｖａｒｍａらの上記
論文及び参考資料として本明細書の一部とする米国特許
第４，９８７，２６４号にも適切なマレイミド樹脂が記
載されている。
び求電子性多重結合の両方を含む樹脂も、本発明の組成
物中で架橋剤として使用するのに適切である。多数の適
切な樹脂が市販されており、例えばＲｈｏｎｅ−Ｐｏｕ
ｌｅｎｃにより商品名Ｋｅｒｉｍｉｄとして市販されて
いるビスマレイミド樹脂や、Ｋｅｎｎｅｄｙ ａｎｄＫ
ｌｉｍ， Ｉｎｃ．の市販品Ｔｈｅｒｍａｘ ＭＢ−８
０００を挙げることができる。Ｉ．Ｖａｒｍａらの上記
論文及び参考資料として本明細書の一部とする米国特許
第４，９８７，２６４号にも適切なマレイミド樹脂が記
載されている。
【００３３】組成物中の１種以上の架橋剤の濃度は比較
的広い範囲で使用される。当業者に自明の通り、適切な
濃度は架橋剤の反応性及び組成物の特定用途のような因
子により異なる。一般に、１種以上の架橋剤の適切な濃
度は組成物の全固形分の約２〜３０重量％、好ましくは
全固形分の約２〜２０重量％である。本発明の組成物は
このような不飽和材料及び他の架橋剤を含有し得るが、
本発明の好適態様においては、上記のような不飽和モノ
マー及び／又はオリゴマー架橋剤を実質的、本質的又は
完全に含有しない組成物を使用する。即ち、本発明のこ
のような好適態様において、架橋剤は上記アミンをベー
スとする架橋剤のみから少なくとも実質的又は本質的に
構成される。１種の架橋剤成分がメラミンホルムアルデ
ヒド樹脂のようなメラミン架橋剤のみから少なくとも実
質的又は本質的に構成されるような組成物がより好適で
ある。
的広い範囲で使用される。当業者に自明の通り、適切な
濃度は架橋剤の反応性及び組成物の特定用途のような因
子により異なる。一般に、１種以上の架橋剤の適切な濃
度は組成物の全固形分の約２〜３０重量％、好ましくは
全固形分の約２〜２０重量％である。本発明の組成物は
このような不飽和材料及び他の架橋剤を含有し得るが、
本発明の好適態様においては、上記のような不飽和モノ
マー及び／又はオリゴマー架橋剤を実質的、本質的又は
完全に含有しない組成物を使用する。即ち、本発明のこ
のような好適態様において、架橋剤は上記アミンをベー
スとする架橋剤のみから少なくとも実質的又は本質的に
構成される。１種の架橋剤成分がメラミンホルムアルデ
ヒド樹脂のようなメラミン架橋剤のみから少なくとも実
質的又は本質的に構成されるような組成物がより好適で
ある。
【００３４】所望により、本発明の組成物は更に放射感
受性成分を含有し得る。放射感受性成分は典型的には組
成物中の付加的材料であるが、本発明は放射感受性成分
が組成物の別の成分（例えば光活性側基を含む樹脂結合
剤又はポリマー鎖の１単位として光活性基を含む結合
剤）の一体的部分であるような組成物を含む。
受性成分を含有し得る。放射感受性成分は典型的には組
成物中の付加的材料であるが、本発明は放射感受性成分
が組成物の別の成分（例えば光活性側基を含む樹脂結合
剤又はポリマー鎖の１単位として光活性基を含む結合
剤）の一体的部分であるような組成物を含む。
【００３５】放射感受性成分は好ましくは、活性化放射
で露光後に酸を生成することが可能な化合物（即ち酸生
成剤）及び活性化放射で露光後に塩基を生成することが
可能な化合物（即ち塩基生成剤化合物）から構成される
群から選択される。
で露光後に酸を生成することが可能な化合物（即ち酸生
成剤）及び活性化放射で露光後に塩基を生成することが
可能な化合物（即ち塩基生成剤化合物）から構成される
群から選択される。
【００３６】一般に好適な光酸生成剤はオニウム塩、好
ましくは弱求電子性アニオンを有するオニウム塩であ
る。このようなアニオンは２〜７価金属又は非金属（例
えばＳｂ，Ｓｎ，Ｆｅ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔ
ｉ，Ｚｒ，Ｓｃ，Ｄ，Ｃｒ，Ｈｆ及びＣｕ並びにＢ，Ｐ
及びＡｓ）のハロゲン錯アニオンである。適切なオニウ
ム塩の例は周期表のＶａ及びｂ、Ｉａ及びｂ並びにＩ族
のジアリールジアゾニウム塩及びオニウム塩、例えばハ
ロニウム塩、特に芳香族ヨードニウム及びヨードキソニ
ウム塩、第４級アンモニウム、ホスホニウム及びアルソ
ニウム塩、芳香族スルホニウム塩及びスルホキソニウム
塩又はセレノニウム塩である。適切なオニウム塩の例
は、いずれも参考資料として本明細書の一部とする米国
特許第４，４４２，１９７号、４，６０３，１０１号及
び４，６２４，９１２号に開示されている。
ましくは弱求電子性アニオンを有するオニウム塩であ
る。このようなアニオンは２〜７価金属又は非金属（例
えばＳｂ，Ｓｎ，Ｆｅ，Ｂｉ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔ
ｉ，Ｚｒ，Ｓｃ，Ｄ，Ｃｒ，Ｈｆ及びＣｕ並びにＢ，Ｐ
及びＡｓ）のハロゲン錯アニオンである。適切なオニウ
ム塩の例は周期表のＶａ及びｂ、Ｉａ及びｂ並びにＩ族
のジアリールジアゾニウム塩及びオニウム塩、例えばハ
ロニウム塩、特に芳香族ヨードニウム及びヨードキソニ
ウム塩、第４級アンモニウム、ホスホニウム及びアルソ
ニウム塩、芳香族スルホニウム塩及びスルホキソニウム
塩又はセレノニウム塩である。適切なオニウム塩の例
は、いずれも参考資料として本明細書の一部とする米国
特許第４，４４２，１９７号、４，６０３，１０１号及
び４，６２４，９１２号に開示されている。
【００３７】酸生成化合物の別の適切な群はヨードニウ
ム塩である。このような塩の好適群は例えば参考資料と
して本明細書の一部とする米国特許第４，６８３，３１
７号に開示されているようなアリールヨードソトシレー
ト（ａｒｙｌｉｏｄｏｓｏｔｏｓｙｌａｔｅｓ）及びア
リールケトンから誘導される類である。
ム塩である。このような塩の好適群は例えば参考資料と
して本明細書の一部とする米国特許第４，６８３，３１
７号に開示されているようなアリールヨードソトシレー
ト（ａｒｙｌｉｏｄｏｓｏｔｏｓｙｌａｔｅｓ）及びア
リールケトンから誘導される類である。
【００３８】酸生成剤のうちでは少なくともいくつかの
非イオン性有機化合物が適切である。好適な非イオン性
有機酸生成剤としては、例えば１，１−ビス［ｐ−クロ
ロフェニル］−２，２，２−トリクロロエタン（ＤＤ
Ｔ）、１，１−ビス［ｐ−メトキシフェニル］−２，
２，２−トリクロロエタン（メトキシクロール（登録商
標））、１，２，５，６，９，１０−ヘキサブロモシク
ロドデカン、１，１０−ジブロモデカン、１，１−ビス
［ｐ−クロロフェニル］−２，２−ジクロロエタン、
４，４’−ジクロロ−２−（トリクロロメチル）ベンズ
ヒドロール、１，１−ビス（クロロフェニル）−２，
２，２−トリクロロエタノール（Ｋｅｌｔｈａｎｅ（登
録商標））、ヘキサクロロジメチルスルホン、２−クロ
ロ−６−（トリクロロメチル）ピリジン、Ｏ，Ｏ−ジエ
チル−Ｏ−（３，５，６−トリクロロ−２−ピリジル）
ホスホロチオエート（Ｄｕｒｓｂａｎ（登録商標））、
１，２，３，４，５，６−ヘキサクロロシクロヘキサ
ン、Ｎ−（１，１−ビス［ｐ−クロロフェニル］−２，
２，２−トリクロロエチル）アセタミド、トリス［２，
３−ジブロモプロピル］イソシアヌレート、２，２−ビ
ス［ｐ−クロロフェニル］−１，１−ジクロロエチレン
のようなハロゲン化非イオン性化合物とその異性体、類
似体、同族体及びその他の化合物を挙げることができ
る。以上の化合物のうちではトリス［２，３−ジブロモ
プロピル］イソシアヌレートが特に好適である。適切な
酸生成剤は参考資料として本明細書の一部とするヨーロ
ッパ特許公開第０２３２９７２号にも開示されている。
上記残留化合物なる用語は上記ハロゲン化有機化合物の
密接に関連する不純物又は他の修飾物であって、該化合
物の合成中に生成され、主要量の該化合物を含有する市
販製品中に少量存在し得る化合物を意味する。
非イオン性有機化合物が適切である。好適な非イオン性
有機酸生成剤としては、例えば１，１−ビス［ｐ−クロ
ロフェニル］−２，２，２−トリクロロエタン（ＤＤ
Ｔ）、１，１−ビス［ｐ−メトキシフェニル］−２，
２，２−トリクロロエタン（メトキシクロール（登録商
標））、１，２，５，６，９，１０−ヘキサブロモシク
ロドデカン、１，１０−ジブロモデカン、１，１−ビス
［ｐ−クロロフェニル］−２，２−ジクロロエタン、
４，４’−ジクロロ−２−（トリクロロメチル）ベンズ
ヒドロール、１，１−ビス（クロロフェニル）−２，
２，２−トリクロロエタノール（Ｋｅｌｔｈａｎｅ（登
録商標））、ヘキサクロロジメチルスルホン、２−クロ
ロ−６−（トリクロロメチル）ピリジン、Ｏ，Ｏ−ジエ
チル−Ｏ−（３，５，６−トリクロロ−２−ピリジル）
ホスホロチオエート（Ｄｕｒｓｂａｎ（登録商標））、
１，２，３，４，５，６−ヘキサクロロシクロヘキサ
ン、Ｎ−（１，１−ビス［ｐ−クロロフェニル］−２，
２，２−トリクロロエチル）アセタミド、トリス［２，
３−ジブロモプロピル］イソシアヌレート、２，２−ビ
ス［ｐ−クロロフェニル］−１，１−ジクロロエチレン
のようなハロゲン化非イオン性化合物とその異性体、類
似体、同族体及びその他の化合物を挙げることができ
る。以上の化合物のうちではトリス［２，３−ジブロモ
プロピル］イソシアヌレートが特に好適である。適切な
酸生成剤は参考資料として本明細書の一部とするヨーロ
ッパ特許公開第０２３２９７２号にも開示されている。
上記残留化合物なる用語は上記ハロゲン化有機化合物の
密接に関連する不純物又は他の修飾物であって、該化合
物の合成中に生成され、主要量の該化合物を含有する市
販製品中に少量存在し得る化合物を意味する。
【００３９】適切な光塩基生成剤化合物は活性化放射で
露光後に光分解（例えば光開裂）し、塩基を生成する。
塩基生成剤は光活性化後に塩基（例えばアミンのような
有機塩基）を生成する中性で非イオン性の化合物が適切
である。種々の塩基生成剤化合物が本発明の組成物中で
使用するために適切であると考えられる。適切な塩基生
成剤は有機化合物、例えばベンジルカルバメート及びベ
ンゾインカルバメートを含む光活性カルバメートを含
む。他の適切な有機塩基生成剤はＯ−カルバモイルヒド
ロキシルアミン、Ｏ−カルバモイルオキシム、芳香族ス
ルホンアミド、α−ラクトン、例えばＮ−（２−アリー
ルエチエニル）アミドのようなアミド、及びアミドであ
る。より具体的には、適切なＯ−カルバモイルヒドロキ
シルアミンは式ＲＲ1ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ2Ｒ3（式中、Ｒ
及びＲ1は独立してアルキル、アリール又はアシルであ
り、Ｒ2は水素又はアルキルであり、Ｒ3はアルキル又は
アリールである）の化合物を含む。適切なＯ−カルバモ
イルオキシムは式ＲＲ1Ｃ（＝Ｎ）ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ2Ｒ
3（式中、Ｒ及びＲ1は独立して水素、アルキル又はアリ
ールであり、Ｒ2はアルキル又はアリールであり、Ｒ3は
水素又はアルキルである）の化合物を含む。適切なスル
ホンアミドは式ＡｒＳ（＝Ｏ）2ＮＲＲ1（式中、Ａｒは
アリール基であり、Ｒは水素又はアルキルであり、Ｒ1
はアルキル又はアリールである）の化合物を含む。適切
なα−ラクタムは式（ＩＩ）：
露光後に光分解（例えば光開裂）し、塩基を生成する。
塩基生成剤は光活性化後に塩基（例えばアミンのような
有機塩基）を生成する中性で非イオン性の化合物が適切
である。種々の塩基生成剤化合物が本発明の組成物中で
使用するために適切であると考えられる。適切な塩基生
成剤は有機化合物、例えばベンジルカルバメート及びベ
ンゾインカルバメートを含む光活性カルバメートを含
む。他の適切な有機塩基生成剤はＯ−カルバモイルヒド
ロキシルアミン、Ｏ−カルバモイルオキシム、芳香族ス
ルホンアミド、α−ラクトン、例えばＮ−（２−アリー
ルエチエニル）アミドのようなアミド、及びアミドであ
る。より具体的には、適切なＯ−カルバモイルヒドロキ
シルアミンは式ＲＲ1ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ2Ｒ3（式中、Ｒ
及びＲ1は独立してアルキル、アリール又はアシルであ
り、Ｒ2は水素又はアルキルであり、Ｒ3はアルキル又は
アリールである）の化合物を含む。適切なＯ−カルバモ
イルオキシムは式ＲＲ1Ｃ（＝Ｎ）ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ2Ｒ
3（式中、Ｒ及びＲ1は独立して水素、アルキル又はアリ
ールであり、Ｒ2はアルキル又はアリールであり、Ｒ3は
水素又はアルキルである）の化合物を含む。適切なスル
ホンアミドは式ＡｒＳ（＝Ｏ）2ＮＲＲ1（式中、Ａｒは
アリール基であり、Ｒは水素又はアルキルであり、Ｒ1
はアルキル又はアリールである）の化合物を含む。適切
なα−ラクタムは式（ＩＩ）：
【００４０】
【化２】 （式中、Ｒはアルキル又はアリールであり、Ｒ1はアル
キル又はアリールである）の化合物を含む。適切なＮ−
（２−アリールエチエニル）アミドは構造ＲＣ（＝Ｏ）
Ｎ（Ｒ1）ＣＨ＝ＣＨＡｒ（式中、Ａｒはアリール基で
あり、Ｒはアルキル又はアリールであり、Ｒ1はアルキ
ルである）の化合物を含む。例えばホルムアニリド及び
他のアリール置換アミドのような他のアミドも適切であ
る。上記式中、アリールは典型的にはフェニルである。
上記式中、アリール基は直鎖構造でも枝分かれ構造でも
よく、あるいは環式構造でもよく、典型的には１〜１
５、より典型的には１〜６個の炭素原子を含む。アルキ
ル基は置換基をもたなくても１個以上の有効な位置に置
換基を有していても適切である。置換基は例えばハロ、
アリール又はアルキルであり得る。同様に、アリール基
も置換基をもたなくても１個以上の有効な位置に例えば
ハロ、アリール又はアルキル置換基を有していてもよ
い。
キル又はアリールである）の化合物を含む。適切なＮ−
（２−アリールエチエニル）アミドは構造ＲＣ（＝Ｏ）
Ｎ（Ｒ1）ＣＨ＝ＣＨＡｒ（式中、Ａｒはアリール基で
あり、Ｒはアルキル又はアリールであり、Ｒ1はアルキ
ルである）の化合物を含む。例えばホルムアニリド及び
他のアリール置換アミドのような他のアミドも適切であ
る。上記式中、アリールは典型的にはフェニルである。
上記式中、アリール基は直鎖構造でも枝分かれ構造でも
よく、あるいは環式構造でもよく、典型的には１〜１
５、より典型的には１〜６個の炭素原子を含む。アルキ
ル基は置換基をもたなくても１個以上の有効な位置に置
換基を有していても適切である。置換基は例えばハロ、
アリール又はアルキルであり得る。同様に、アリール基
も置換基をもたなくても１個以上の有効な位置に例えば
ハロ、アリール又はアルキル置換基を有していてもよ
い。
【００４１】特に好適な有機塩基生成剤としては２−ヒ
ドロキシ−２−フェニルアセトフェノンＮ−シクロヘキ
シルカルバメート［即ち（Ｃ6Ｈ5Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ（Ｃ6
Ｈ5）ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ6Ｈ11）］、ｏ−ニトロベンジ
ルＮ−シクロヘキシルカルバメート［即ちｏ−ＮＯ2Ｃ6
Ｈ5ＣＨ2ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ6Ｈ11］、Ｎ−シクロヘキ
シル−２−ナフタレンスルホンアミド［即ちＣ10Ｈ7Ｓ
Ｏ2ＮＨＣ6Ｈ11］、３，５−ジメトキシベンジルＮ−シ
クロヘキシルカルバメート［即ち（ＣＨ3Ｏ）2Ｃ6Ｈ5Ｃ
Ｈ2ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ6Ｈ11］、Ｎ−シクロヘキシルｐ
−トルエンスルホンアミド［即ちｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ5ＳＯ2
ＮＨＣ6Ｈ11］、及びジベンゾインイソホロンジカルバ
メートを挙げることができる。
ドロキシ−２−フェニルアセトフェノンＮ−シクロヘキ
シルカルバメート［即ち（Ｃ6Ｈ5Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ（Ｃ6
Ｈ5）ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ6Ｈ11）］、ｏ−ニトロベンジ
ルＮ−シクロヘキシルカルバメート［即ちｏ−ＮＯ2Ｃ6
Ｈ5ＣＨ2ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ6Ｈ11］、Ｎ−シクロヘキ
シル−２−ナフタレンスルホンアミド［即ちＣ10Ｈ7Ｓ
Ｏ2ＮＨＣ6Ｈ11］、３，５−ジメトキシベンジルＮ−シ
クロヘキシルカルバメート［即ち（ＣＨ3Ｏ）2Ｃ6Ｈ5Ｃ
Ｈ2ＯＣ（＝Ｏ）ＮＨＣ6Ｈ11］、Ｎ−シクロヘキシルｐ
−トルエンスルホンアミド［即ちｐ−ＣＨ3Ｃ6Ｈ5ＳＯ2
ＮＨＣ6Ｈ11］、及びジベンゾインイソホロンジカルバ
メートを挙げることができる。
【００４２】例えば参考資料として本明細書の一部とす
るＪ．Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｔｅｃｈ．， ６２（７８
６）：６３−６７（１９９０年７月）に記載されている
ようなコバルト（ＩＩＩ）錯体のように、活性化放射で
露光後に塩基を生成する金属配位錯体も適切である。文
献記載の光活性材料としては、式Ｃｏ（ＮＨ2Ｒ）5Ｘn+
（式中、Ｒは水素、メチル又はｎ−プロピルであり、Ｘ
はｎ＝２のときにはＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-又は他の単一陰
性基であり、Ｘはｎ＝３のときにはＲＮＨ2又はＨ2Ｏで
ある）の化合物及び所望の溶解性を与えるように選択さ
れた適切な対イオンである。適切な対イオンは例えばＣ
ｌ-、Ｂｒ-又はＣｌＯ4 -を含む。更に、活性化放射で露
光後に塩基を生成する他の金属配位錯体も本発明の組成
物中で使用するために適切な光塩基生成剤である。
るＪ．Ｃｏａｔｉｎｇｓ Ｔｅｃｈ．， ６２（７８
６）：６３−６７（１９９０年７月）に記載されている
ようなコバルト（ＩＩＩ）錯体のように、活性化放射で
露光後に塩基を生成する金属配位錯体も適切である。文
献記載の光活性材料としては、式Ｃｏ（ＮＨ2Ｒ）5Ｘn+
（式中、Ｒは水素、メチル又はｎ−プロピルであり、Ｘ
はｎ＝２のときにはＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-又は他の単一陰
性基であり、Ｘはｎ＝３のときにはＲＮＨ2又はＨ2Ｏで
ある）の化合物及び所望の溶解性を与えるように選択さ
れた適切な対イオンである。適切な対イオンは例えばＣ
ｌ-、Ｂｒ-又はＣｌＯ4 -を含む。更に、活性化放射で露
光後に塩基を生成する他の金属配位錯体も本発明の組成
物中で使用するために適切な光塩基生成剤である。
【００４３】光塩基生成剤化合物の製造は当業者に公知
である。例えば、適切なベンジルカルバメートは適切な
触媒の存在下でジイソシアネートをベンジルアルコール
と反応させることにより製造することができる。例えば
ジベンゾインイソホロンジカルバメートは適切な溶剤中
で典型的には加熱下にメチルリチウムのような適切な触
媒の存在下でベンゾインをイソホロンジイソシアネート
と反応させることにより製造する。適切な溶剤としては
エーテル及びテトラヒドロフランを挙げることができ
る。この塩基生成剤を光活性化することによりイソホロ
ンジアミンが生成される。この点については、光塩基生
成剤の製造の教示によりいずれも参考資料として本明細
書の一部とするＪ．Ｃａｍｅｒｏｎら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．， １１３（１１）：４３０３−４３１
３（１９９１）； Ｊ．Ｃａｍｅｒｏｎら， Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．， ６４：５５
（１９９１）及びＪ．Ｃａｍａｅｒｏｎら，Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．， ５５：５９１９−５９２２（１９９
０）を参照されたい。ｏ−ニトロベンジルＮ−シクロヘ
キシルカルバメートは加熱トルエン溶液中で反応完了ま
でシクロヘキシルイソシアネートと２−ニトロベンジル
アルコールを反応させることにより製造することができ
る。薄層クロマトグラフィーを使用して反応の進行を監
視することができる。適切な反応温度は１１０℃又はそ
の前後である。この点については、光塩基生成剤及びそ
の製造の教示により参考資料として本明細書の一部とす
る１９９１年２月５日付けヨーロッパ特許公開第０４２
５１４２Ａ２号を参照されたい。スルホンアミドの合成
は周知であり、一般に塩化スルホニルをアミンと反応さ
せる。例えばＮ−シクロヘキシルｐ−トルエンスルホン
アミドは、適切な溶剤中で加熱下に塩化ｐ−トルエンス
ルホニルとシクロヘキシルアミンを反応させることによ
り製造する。適切な溶剤としては例えばテトラヒドロフ
ラン及びトルエンを挙げることができる。光活性ポリマ
ーを製造し、光塩基生成剤成分として本発明の組成物中
で使用してもよい。例えば、光活性カルバメート側基を
含むポリマーを使用することができる。このようなポリ
マーは、塩化ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニルとｐ
−アミノスチレンの混合物に触媒量の４−ジメチルアミ
ノピリジン及びトリエチルアミンのテトラヒドロフラン
溶液を加えることにより製造することができる。反応の
完了後、反応生成物を標準手段、例えばフラッシュカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、ｐ−アミノスチレ
ンのｏ−ニトロベンジルオキシカルボニルカルバメート
を得る。他のポリマー、例えばポリ（ｐ−アミノスチレ
ン−コスチレン）及びポリ（ｐ−アミノスチレン−コメ
チルメタクリレート）のようなコポリマーも同様に塩化
ベンジルカルボニルと反応させる。
である。例えば、適切なベンジルカルバメートは適切な
触媒の存在下でジイソシアネートをベンジルアルコール
と反応させることにより製造することができる。例えば
ジベンゾインイソホロンジカルバメートは適切な溶剤中
で典型的には加熱下にメチルリチウムのような適切な触
媒の存在下でベンゾインをイソホロンジイソシアネート
と反応させることにより製造する。適切な溶剤としては
エーテル及びテトラヒドロフランを挙げることができ
る。この塩基生成剤を光活性化することによりイソホロ
ンジアミンが生成される。この点については、光塩基生
成剤の製造の教示によりいずれも参考資料として本明細
書の一部とするＪ．Ｃａｍｅｒｏｎら，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｓｏｃ．， １１３（１１）：４３０３−４３１
３（１９９１）； Ｊ．Ｃａｍｅｒｏｎら， Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍ．Ｍａｔｅｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．， ６４：５５
（１９９１）及びＪ．Ｃａｍａｅｒｏｎら，Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．， ５５：５９１９−５９２２（１９９
０）を参照されたい。ｏ−ニトロベンジルＮ−シクロヘ
キシルカルバメートは加熱トルエン溶液中で反応完了ま
でシクロヘキシルイソシアネートと２−ニトロベンジル
アルコールを反応させることにより製造することができ
る。薄層クロマトグラフィーを使用して反応の進行を監
視することができる。適切な反応温度は１１０℃又はそ
の前後である。この点については、光塩基生成剤及びそ
の製造の教示により参考資料として本明細書の一部とす
る１９９１年２月５日付けヨーロッパ特許公開第０４２
５１４２Ａ２号を参照されたい。スルホンアミドの合成
は周知であり、一般に塩化スルホニルをアミンと反応さ
せる。例えばＮ−シクロヘキシルｐ−トルエンスルホン
アミドは、適切な溶剤中で加熱下に塩化ｐ−トルエンス
ルホニルとシクロヘキシルアミンを反応させることによ
り製造する。適切な溶剤としては例えばテトラヒドロフ
ラン及びトルエンを挙げることができる。光活性ポリマ
ーを製造し、光塩基生成剤成分として本発明の組成物中
で使用してもよい。例えば、光活性カルバメート側基を
含むポリマーを使用することができる。このようなポリ
マーは、塩化ｏ−ニトロベンジルオキシカルボニルとｐ
−アミノスチレンの混合物に触媒量の４−ジメチルアミ
ノピリジン及びトリエチルアミンのテトラヒドロフラン
溶液を加えることにより製造することができる。反応の
完了後、反応生成物を標準手段、例えばフラッシュカラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、ｐ−アミノスチレ
ンのｏ−ニトロベンジルオキシカルボニルカルバメート
を得る。他のポリマー、例えばポリ（ｐ−アミノスチレ
ン−コスチレン）及びポリ（ｐ−アミノスチレン−コメ
チルメタクリレート）のようなコポリマーも同様に塩化
ベンジルカルボニルと反応させる。
【００４４】本発明の組成物中には、必要に応じて活性
化放射による露光と露光後ベーキングに引き続き組成物
のコーティング層を現像できるために十分な量の光酸又
は光塩基生成剤が存在すべきである。より具体的には、
組成物の全固形分の約１〜１５重量％、より典型的には
約１〜６重量％の濃度の光酸生成剤又は光塩基生成剤を
組成物中で使用するが、当然のことながら、光活性成分
の適切な濃度は使用される特定の物質により異なる。光
酸生成剤を含有する組成物では、光酸を生成するために
有効な量の活性化放射で組成物のコーティング層を露光
した後、コーティング層を少なくとも部分的に硬化させ
るために十分な温度で露光後ベーキングを行う。
化放射による露光と露光後ベーキングに引き続き組成物
のコーティング層を現像できるために十分な量の光酸又
は光塩基生成剤が存在すべきである。より具体的には、
組成物の全固形分の約１〜１５重量％、より典型的には
約１〜６重量％の濃度の光酸生成剤又は光塩基生成剤を
組成物中で使用するが、当然のことながら、光活性成分
の適切な濃度は使用される特定の物質により異なる。光
酸生成剤を含有する組成物では、光酸を生成するために
有効な量の活性化放射で組成物のコーティング層を露光
した後、コーティング層を少なくとも部分的に硬化させ
るために十分な温度で露光後ベーキングを行う。
【００４５】本発明の組成物は更に、樹脂結合剤と架橋
剤化合物の架橋反応を触媒し、こうして低温で反応を進
行させるために酸又は塩基生成剤化合物を含有し得る。
好ましくは酸生成剤化合物を使用する。適切な酸生成剤
化合物は光分解又は熱処理後に酸を遊離する化合物を含
む。好ましくは、熱酸生成剤、即ち熱処理後に酸を生成
する化合物を使用する。本発明の組成物中では種々の公
知熱酸生成剤化合物（例えば２，４，４，６−テトラブ
ロモシクロヘキサジエノン、ベンゾイントシレート、２
−ニトロベンジルトシレート及び有機スルホン酸のアル
キルエステル）を使用すると適切である。典型的には組
成物中の熱酸生成剤の濃度は組成物の乾燥成分の合計の
約１〜１５重量％、より好ましくは乾燥成分の約５重量
％である。
剤化合物の架橋反応を触媒し、こうして低温で反応を進
行させるために酸又は塩基生成剤化合物を含有し得る。
好ましくは酸生成剤化合物を使用する。適切な酸生成剤
化合物は光分解又は熱処理後に酸を遊離する化合物を含
む。好ましくは、熱酸生成剤、即ち熱処理後に酸を生成
する化合物を使用する。本発明の組成物中では種々の公
知熱酸生成剤化合物（例えば２，４，４，６−テトラブ
ロモシクロヘキサジエノン、ベンゾイントシレート、２
−ニトロベンジルトシレート及び有機スルホン酸のアル
キルエステル）を使用すると適切である。典型的には組
成物中の熱酸生成剤の濃度は組成物の乾燥成分の合計の
約１〜１５重量％、より好ましくは乾燥成分の約５重量
％である。
【００４６】本発明の組成物は例えば触媒を使用せずに
又は熱酸生成剤もしくは熱塩基生成剤のような非光活性
触媒を使用することにより光画像形成不能でもよいし、
あるいは有効量の適切な光酸生成剤を組成物に配合した
後、フォトマスクを通して組成物のコーティング層を露
光することにより組成物を光画像形成可能（従って現像
可能）にしてもよい。適切な光酸生成剤は本明細書中に
記載するような非イオン性ハロゲン化光酸生成剤を含
む。
又は熱酸生成剤もしくは熱塩基生成剤のような非光活性
触媒を使用することにより光画像形成不能でもよいし、
あるいは有効量の適切な光酸生成剤を組成物に配合した
後、フォトマスクを通して組成物のコーティング層を露
光することにより組成物を光画像形成可能（従って現像
可能）にしてもよい。適切な光酸生成剤は本明細書中に
記載するような非イオン性ハロゲン化光酸生成剤を含
む。
【００４７】所望により、本発明の組成物に染料又は顔
料を配合してもよい。このような染料又は顔料は任意の
色、例えば赤、緑及び青を含み得る。適切な青色染料は
Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙから市販されているＯｒａｓｏｌ
Ｂｌｕｅである。本発明の着色組成物はＬＣＤ色フィ
ルターアレー（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ ａｒｒａｙ
ｓ）の製造に使用することができる。
料を配合してもよい。このような染料又は顔料は任意の
色、例えば赤、緑及び青を含み得る。適切な青色染料は
Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙから市販されているＯｒａｓｏｌ
Ｂｌｕｅである。本発明の着色組成物はＬＣＤ色フィ
ルターアレー（ｃｏｌｏｒ ｆｉｌｔｅｒ ａｒｒａｙ
ｓ）の製造に使用することができる。
【００４８】充填剤及び染料は広い濃度範囲で使用する
ことができ、例えば組成物の固体成分の合計の５〜５０
重量％を使用する。一般には湿潤剤、発泡剤、均染剤等
のような他の任意添加剤も典型的には比較的低濃度で、
例えば組成物の全固形分の約３重量％未満で配合する。
ことができ、例えば組成物の固体成分の合計の５〜５０
重量％を使用する。一般には湿潤剤、発泡剤、均染剤等
のような他の任意添加剤も典型的には比較的低濃度で、
例えば組成物の全固形分の約３重量％未満で配合する。
【００４９】液体コーティング組成物を製造するために
は、組成物の成分を例えばグリコールエーテル（例えば
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル）、エステル（例えばメチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）の１
種以上のような適切な溶剤及び他の溶剤（例えば二塩基
性エステル、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラク
トン及びアルコール類、例えばｎ−プロパノール）に溶
解させる。
は、組成物の成分を例えばグリコールエーテル（例えば
エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル）、エステル（例えばメチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）の１
種以上のような適切な溶剤及び他の溶剤（例えば二塩基
性エステル、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラク
トン及びアルコール類、例えばｎ−プロパノール）に溶
解させる。
【００５０】乾燥成分を溶剤に溶解させ、液体コーティ
ング組成物を形成する。固体濃度は基板に塗布する方法
等の数種の因子に依存する。一般に、溶剤中の固体の濃
度はコーティング組成物の合計重量の約１０〜７０重量
％又はそれ以上であり得る。より具体的にはフローコー
ティング（ｃｕｒｔａｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）組成物の
場合、固形分は組成物の総重量の約４０〜５０重量％又
はそれ以上であり得る。本発明の組成物は当業者に公知
のように乾燥ラミネートフィルムを形成するためにも使
用され得る。例えば参考資料として本明細書の一部とす
るＷ．Ｄｅｆｏｒｅｓｔ， Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ
Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，
ｐｐ．１６３−２１２ （ＭｃＧｒａｗ Ｈｉｌｌ １
９７５）を参照されたい。
ング組成物を形成する。固体濃度は基板に塗布する方法
等の数種の因子に依存する。一般に、溶剤中の固体の濃
度はコーティング組成物の合計重量の約１０〜７０重量
％又はそれ以上であり得る。より具体的にはフローコー
ティング（ｃｕｒｔａｉｎ ｃｏａｔｉｎｇ）組成物の
場合、固形分は組成物の総重量の約４０〜５０重量％又
はそれ以上であり得る。本発明の組成物は当業者に公知
のように乾燥ラミネートフィルムを形成するためにも使
用され得る。例えば参考資料として本明細書の一部とす
るＷ．Ｄｅｆｏｒｅｓｔ， Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ
Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ａｎｄ Ｐｒｏｃｅｓｓｅｓ，
ｐｐ．１６３−２１２ （ＭｃＧｒａｗ Ｈｉｌｌ １
９７５）を参照されたい。
【００５１】以下、本発明のトップコート組成物の好適
使用方法を示す図１について説明する。段階Ａでは基板
１０にトップコート組成物を塗布し、トップコートコー
ティング層１２を生成する。トップコート組成物はスピ
ンコーティングを含む実質的に任意の標準手段により塗
布することができる。組成物は一般に基板上に乾燥層厚
０．５〜４μｍ、好ましくは乾燥層厚１〜２μｍに塗布
する。基板は適切には任意の基板であり、特に図２に関
して以下に詳述する液晶ディスプレイのようなフラット
パネルディスプレイである。液晶ディスプレイ用を含む
フラットパネルディスプレイ用の基板はガラス基板、イ
ンジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）被覆基板等を含む。
使用方法を示す図１について説明する。段階Ａでは基板
１０にトップコート組成物を塗布し、トップコートコー
ティング層１２を生成する。トップコート組成物はスピ
ンコーティングを含む実質的に任意の標準手段により塗
布することができる。組成物は一般に基板上に乾燥層厚
０．５〜４μｍ、好ましくは乾燥層厚１〜２μｍに塗布
する。基板は適切には任意の基板であり、特に図２に関
して以下に詳述する液晶ディスプレイのようなフラット
パネルディスプレイである。液晶ディスプレイ用を含む
フラットパネルディスプレイ用の基板はガラス基板、イ
ンジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）被覆基板等を含む。
【００５２】段階Ｂでは加熱によりトップコート組成物
から溶剤を蒸発させる。乾燥条件は組成物の成分により
異なる。画像形成不能な組成物を使用する場合には、対
流炉ベーキングを使用して１〜６０分間又は真空ホット
プレートベーキングを使用して３０秒〜５分間、約５０
〜３００℃で最終ベーキング硬化段階Ｃを実施する。硬
化段階を乾燥段階Ｂと組み合わせてもよい。
から溶剤を蒸発させる。乾燥条件は組成物の成分により
異なる。画像形成不能な組成物を使用する場合には、対
流炉ベーキングを使用して１〜６０分間又は真空ホット
プレートベーキングを使用して３０秒〜５分間、約５０
〜３００℃で最終ベーキング硬化段階Ｃを実施する。硬
化段階を乾燥段階Ｂと組み合わせてもよい。
【００５３】更に、組成物が光活性成分、例えば光酸又
は光塩基生成剤を含有する場合には、コーティング層を
有効量の活性化放射（例えば約１０〜３００ｍＪ／ｃｍ
2）で露光することによりコーティング層を少なくとも
部分的に硬化させる。図の段階Ｃ’〜Ｅ’は本発明のこ
のような態様を示し、即ち組成物は光酸成分を含有し、
活性化放射で画像形成される。最適には、露光後に約５
０〜１４０℃で露光後ベーキングを実施する。典型的な
露光はパターン化されるか、あるいはコーティング全体
を通して酸又は塩基を生成するようにフラッド型の露光
を実施し、その後の加工段階で低温で硬化できるように
してもよい。段階Ｃ’では、従来通りにマスクを通して
活性化放射でコーティング層１２を画像形成する。露光
は放射感受性系の光活性成分を有効に活性化し、コーテ
ィング１２中にパターン化画像１４を生成するために十
分である。上述及び図示の通り、この方法はフラットパ
ネルディスプレイ上に透明な縁部が所望される場合に使
用することができる。
は光塩基生成剤を含有する場合には、コーティング層を
有効量の活性化放射（例えば約１０〜３００ｍＪ／ｃｍ
2）で露光することによりコーティング層を少なくとも
部分的に硬化させる。図の段階Ｃ’〜Ｅ’は本発明のこ
のような態様を示し、即ち組成物は光酸成分を含有し、
活性化放射で画像形成される。最適には、露光後に約５
０〜１４０℃で露光後ベーキングを実施する。典型的な
露光はパターン化されるか、あるいはコーティング全体
を通して酸又は塩基を生成するようにフラッド型の露光
を実施し、その後の加工段階で低温で硬化できるように
してもよい。段階Ｃ’では、従来通りにマスクを通して
活性化放射でコーティング層１２を画像形成する。露光
は放射感受性系の光活性成分を有効に活性化し、コーテ
ィング１２中にパターン化画像１４を生成するために十
分である。上述及び図示の通り、この方法はフラットパ
ネルディスプレイ上に透明な縁部が所望される場合に使
用することができる。
【００５４】段階Ｄ’では露光したコーティング層１２
を好ましくは水酸化テトラメチルアンモニウムのような
水性塩基現像剤で現像する。他の有用な現像剤として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、重炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア
水等を挙げることができる。この段階では露光されなか
った非架橋領域、例えばフラットパネル基板に沿う縁部
領域を除去する。
を好ましくは水酸化テトラメチルアンモニウムのような
水性塩基現像剤で現像する。他の有用な現像剤として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウ
ム、重炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア
水等を挙げることができる。この段階では露光されなか
った非架橋領域、例えばフラットパネル基板に沿う縁部
領域を除去する。
【００５５】現像後、約５０〜３００℃で最終ベーキン
グ硬化段階Ｅ’を実施し、現像露光領域１４を更に硬化
させる。
グ硬化段階Ｅ’を実施し、現像露光領域１４を更に硬化
させる。
【００５６】好ましくは、これらの組成物はフラットパ
ネルディスプレイデバイス、特にカラー液晶ディスプレ
イで使用される。図２に示すように、カラーＬＣＤの色
フィルターアセンブリは好ましくはガラスの透明基板
２、黒色マトリックス層４、色フィルターアレー６（例
えば赤、緑及び青色領域）、トップコート層８及び透明
電極１０（例えばＩＴＯ）から構成される。
ネルディスプレイデバイス、特にカラー液晶ディスプレ
イで使用される。図２に示すように、カラーＬＣＤの色
フィルターアセンブリは好ましくはガラスの透明基板
２、黒色マトリックス層４、色フィルターアレー６（例
えば赤、緑及び青色領域）、トップコート層８及び透明
電極１０（例えばＩＴＯ）から構成される。
【００５７】上述のように、厚み損失が少なく且つ光透
過率が高いという特性はフラットパネルディスプレイト
ップコートを含む多くの用途に重要であるが、多くの市
販のポリイミド及びアクリルトップコートは十分な特性
を示していない。このような従来のトップコートとは対
照的に、本発明の組成物は光透過率に優れ且つ厚み損失
が少ない。具体的には本発明の硬化組成物を空気中で２
５０℃で６０分間ベーキングすると、組成物は４００〜
５５０ｎｍで透過率＞９９％を示し、厚みの損失は約１
２％であった。本発明の好適硬化組成物の厚み損失は＜
５０％であり、光透過率は＞９５％であった。更に、本
発明の組成物はＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＨＣｌ、Ｈ2ＳＯ4、
未希釈ＮＭＰ（１−メチル−２−ピロリジノン）及びＨ
2Ｏの水溶液に対して化学的に耐性であることが判明し
た。更に、本発明の組成物は標準ペンシル試験を使用し
た場合に６Ｈを越える優れた硬度を示すことが判明し
た。
過率が高いという特性はフラットパネルディスプレイト
ップコートを含む多くの用途に重要であるが、多くの市
販のポリイミド及びアクリルトップコートは十分な特性
を示していない。このような従来のトップコートとは対
照的に、本発明の組成物は光透過率に優れ且つ厚み損失
が少ない。具体的には本発明の硬化組成物を空気中で２
５０℃で６０分間ベーキングすると、組成物は４００〜
５５０ｎｍで透過率＞９９％を示し、厚みの損失は約１
２％であった。本発明の好適硬化組成物の厚み損失は＜
５０％であり、光透過率は＞９５％であった。更に、本
発明の組成物はＮａＯＨ、ＫＯＨ、ＨＣｌ、Ｈ2ＳＯ4、
未希釈ＮＭＰ（１−メチル−２−ピロリジノン）及びＨ
2Ｏの水溶液に対して化学的に耐性であることが判明し
た。更に、本発明の組成物は標準ペンシル試験を使用し
た場合に６Ｈを越える優れた硬度を示すことが判明し
た。
【００５８】
【実施例】以下、非限定的な実施例により本発明を説明
する。
する。
【００５９】全実施例中、以下の標記は以下の物質を表
す。即ちＭＡＡはメタクリル酸であり、ＨＥＭＡはヒド
ロキシエチルメチルアクリレートであり、ＭＡＡはメチ
ルメタクリレートであり、ＢＡはブチルアクリレートで
ある。
す。即ちＭＡＡはメタクリル酸であり、ＨＥＭＡはヒド
ロキシエチルメチルアクリレートであり、ＭＡＡはメチ
ルメタクリレートであり、ＢＡはブチルアクリレートで
ある。
【００６０】実施例１〜６ 下表に示す量の成分を配合することにより本発明の６種
の異なる組成物を調製した。樹脂結合剤の各々は重量部
として表した量の指定モノマー混合物の遊離ラジカル重
合により形成されるポリアクリレートであった。
の異なる組成物を調製した。樹脂結合剤の各々は重量部
として表した量の指定モノマー混合物の遊離ラジカル重
合により形成されるポリアクリレートであった。
【００６１】理論に拘束する意図はないが、ＭＡＡ及び
／又はＨＥＭＡがポリマー組成物中に存在する場合には
常に利点が得られると考えられる。
／又はＨＥＭＡがポリマー組成物中に存在する場合には
常に利点が得られると考えられる。
【００６２】
【表１】 上記組成物の各々のコーティング層をスピンコーティン
グによりガラス基板に塗布した。コーティング層の乾燥
膜厚は典型的には２．５〜３μｍであった。乾燥膜を空
気再循環炉で１４０℃で３０分間硬化した。次に、部材
を２５０℃で６０分間ベーキングした。初期塗布及び硬
化後にＮａｎｏｓｐｅｃ機器を使用して厚みを測定し
た。全膜でＭｅｔｒｉｃｏｎ ＰＣ−２０００プリズム
結合器を使用して（Ｎａｎｏｓｐｅｃ測定に必要な）屈
折率を決定した。部材を後で＞１４０℃でベーキングす
る場合には硬化段階は通常不要である。
グによりガラス基板に塗布した。コーティング層の乾燥
膜厚は典型的には２．５〜３μｍであった。乾燥膜を空
気再循環炉で１４０℃で３０分間硬化した。次に、部材
を２５０℃で６０分間ベーキングした。初期塗布及び硬
化後にＮａｎｏｓｐｅｃ機器を使用して厚みを測定し
た。全膜でＭｅｔｒｉｃｏｎ ＰＣ−２０００プリズム
結合器を使用して（Ｎａｎｏｓｐｅｃ測定に必要な）屈
折率を決定した。部材を後で＞１４０℃でベーキングす
る場合には硬化段階は通常不要である。
【００６３】光透過率 実施例１及び２の組成物を２５０及び２６０℃で３０分
間ベーキング後の光透過率の結果は４００及び５５０ｎ
ｍでほぼ１００％であった。実施例３は２８０℃で３０
分間ベーキング後に４００及び５５０ｎｍで約９６％の
光透過率を維持した。
間ベーキング後の光透過率の結果は４００及び５５０ｎ
ｍでほぼ１００％であった。実施例３は２８０℃で３０
分間ベーキング後に４００及び５５０ｎｍで約９６％の
光透過率を維持した。
【００６４】実施例７〜１１ メラミン類、ベンゾグアニジン、Ｃｙｍｅｌ １１７０
を含む種々のアミノ架橋剤が有用である。意外にもこれ
らの架橋剤は光透過率に最低限の悪影響しか及ぼさな
い。
を含む種々のアミノ架橋剤が有用である。意外にもこれ
らの架橋剤は光透過率に最低限の悪影響しか及ぼさな
い。
【００６５】これらの実施例中、ポリマー：架橋剤の重
量比は４：１であった。
量比は４：１であった。
【００６６】
【表２】 実施例１２ 本実施例では、光酸生成剤トリアリールスルホニウムヘ
キサフルオロアンチモネートを各組成物に固形分で５〜
９５％加えた。組成物はプロピレングリコールメチルエ
ーテル溶剤を現像剤として使用すると光画像形成可能で
ある。結果から明らかなように、露光画像は大気中で２
５０℃で６０分間ベーキング後に厚み損失が比較的少な
かった。
キサフルオロアンチモネートを各組成物に固形分で５〜
９５％加えた。組成物はプロピレングリコールメチルエ
ーテル溶剤を現像剤として使用すると光画像形成可能で
ある。結果から明らかなように、露光画像は大気中で２
５０℃で６０分間ベーキング後に厚み損失が比較的少な
かった。
【００６７】
【表３】 実施例１３ 青色染料（Ｏｒａｓｏｌ Ｂｌｕｅ ＧＮ）１ｇを下記
光画像形成可能な組成物１００ｇに溶解させた。
光画像形成可能な組成物１００ｇに溶解させた。
【００６８】
【表４】 組成物の光酸生成剤はトリアリールスルホニウムヘキサ
フルオロアンチモネートであった。組成物をガラス基板
に塗布した。２５０℃で後ベーキング後、厚み損失は約
２５％であった。青色染料はその色を維持し、視覚的に
劣化しなかった。透明な光画像形成可能な組成物は同等
の厚み損失を有する。
フルオロアンチモネートであった。組成物をガラス基板
に塗布した。２５０℃で後ベーキング後、厚み損失は約
２５％であった。青色染料はその色を維持し、視覚的に
劣化しなかった。透明な光画像形成可能な組成物は同等
の厚み損失を有する。
【００６９】実施例１４ 実施例１３の青色染色組成物を光画像形成した。その
後、透明色フィルタートップコート（実施例２の組成
物）をスピンコーティングにより塗布し、その後、硬化
させた。コーティングは下層の青色フィルター材料に接
着し、下層材料を侵食することも劣化させることもなか
った。２５０℃で６０分間ベーキング後、青色は悪化し
なかった。
後、透明色フィルタートップコート（実施例２の組成
物）をスピンコーティングにより塗布し、その後、硬化
させた。コーティングは下層の青色フィルター材料に接
着し、下層材料を侵食することも劣化させることもなか
った。２５０℃で６０分間ベーキング後、青色は悪化し
なかった。
【００７０】以上、単なる例示として本発明を説明した
が、特許請求の範囲に記載するような発明の範囲又は趣
旨から逸脱することなく変形が可能であるものと理解さ
れたい。
が、特許請求の範囲に記載するような発明の範囲又は趣
旨から逸脱することなく変形が可能であるものと理解さ
れたい。
【図１】本発明の方法の概略説明図である。
【図２】ＬＣＤ色フィルターアセンブリの構造を示す。
２ 基板 ４ 黒色マトリックス層 ６ 色フィルターアレー ８ トップコート層 １０ 透明電極 １２ コーティング層 １４ パターン化画像
Claims (30)
- 【請求項１】 黒色マトリックス層を積層した透明基
板、色フィルターアレー、トップコート層及び透明電極
からなる色フィルターアセンブリであって、トップコー
ト層が酸基及び／又はヒドロキシル基置換を有する樹脂
結合剤及び架橋剤を含有する組成物からなる色フィルタ
ーアセンブリ。 - 【請求項２】 樹脂結合剤がカルボン酸側基を含む請求
項１に記載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項３】 樹脂結合剤がアクリル樹脂である請求項
１に記載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項４】 架橋剤がアミン含有架橋剤からなる請求
項１に記載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項５】 架橋剤がメラミン又はベンゾグアニジン
である請求項４に記載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項６】 放射感受性成分を更に含有する請求項１
に記載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項７】 放射感受性成分が光酸生成剤化合物及び
光塩基生成剤化合物から構成される群から選択される化
合物からなる請求項６に記載の色フィルターアセンブ
リ。 - 【請求項８】 組成物が水溶液中で現像可能である請求
項１に記載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項９】 組成物が染料又は顔料を更に含有する請
求項１に記載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項１０】 透明基板がガラスである請求項１に記
載の色フィルターアセンブリ。 - 【請求項１１】 （ａ）酸及び／又はヒドロキシル基置
換を有する樹脂結合剤及び架橋剤を含有する組成物の層
を色フィルターアレーに塗布する段階と、（ｂ）組成物
の樹脂結合剤と架橋剤との架橋反応を誘起する段階とか
らなる色フィルターアレーの処理方法。 - 【請求項１２】 架橋反応を熱により誘起する請求項１
１に記載の方法。 - 【請求項１３】 組成物層が放射感受性成分を更に含有
する請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１４】 放射感受性成分が光酸生成剤化合物及
び光塩基生成剤化合物から構成される群から選択される
請求項１３に記載の方法。 - 【請求項１５】 積層色フィルター又はその一部を十分
な活性化放射で露光することにより架橋反応を誘起する
請求項１３に記載の方法。 - 【請求項１６】 露光した積層色フィルターを現像する
段階を更に含む請求項１５に記載の方法。 - 【請求項１７】 露光した積層色フィルターを水性アル
カリ現像剤により現像する請求項１６に記載の方法。 - 【請求項１８】 酸基及び／又はヒドロキシル基置換を
有する樹脂結合剤及びアミン含有架橋剤を含有する組成
物。 - 【請求項１９】 樹脂結合剤がカルボン酸側基を含むア
クリル樹脂結合剤からなる請求項１８に記載の組成物。 - 【請求項２０】 架橋剤がメラミン又はベンゾグアニジ
ンである請求項１８に記載の組成物。 - 【請求項２１】 放射感受性成分を更に含有する請求項
２０に記載の組成物。 - 【請求項２２】 放射感受性成分が光酸生成剤化合物及
び光塩基生成剤化合物から構成される群から選択される
化合物からなる請求項２１に記載の組成物。 - 【請求項２３】 組成物が水溶液中で現像可能である請
求項１８に記載の組成物。 - 【請求項２４】 組成物が染料又は顔料を更に含有する
請求項１８に記載の組成物。 - 【請求項２５】 前記組成物が光画像形成可能であり、
不飽和重合性モノマー又はオリゴマー及び放射感受性成
分を更に含有する請求項１８に記載の組成物。 - 【請求項２６】 アミン官能側基を含む樹脂結合剤、ア
ミン含有架橋剤、不飽和重合性モノマー又はオリゴマー
及び放射感受性成分を含有する光画像形成可能な組成
物。 - 【請求項２７】 樹脂結合剤がカルボン酸基を更に含む
請求項２６に記載の組成物。 - 【請求項２８】 アミン官能側基を含む樹脂結合剤、ア
ミン含有架橋剤、不飽和重合性モノマー又はオリゴマー
及び放射感受性成分を含有する組成物。 - 【請求項２９】 樹脂結合剤が更にカルボン酸側基を含
む請求項２８に記載の組成物。 - 【請求項３０】 染料又は顔料を更に含有する請求項２
６から２９のいずれか一項に記載の組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US050847 | 1979-06-21 | ||
| US08/050,847 US5563011A (en) | 1993-04-21 | 1993-04-21 | Color filter assembly |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06347638A true JPH06347638A (ja) | 1994-12-22 |
Family
ID=21967848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10778394A Pending JPH06347638A (ja) | 1993-04-21 | 1994-04-21 | トップコート組成物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5563011A (ja) |
| JP (1) | JPH06347638A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006083362A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Samsung Electronics Co Ltd | インク組成物及び前記インク組成物を含むカラーフィルター |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4046783B2 (ja) * | 1995-03-31 | 2008-02-13 | キヤノン株式会社 | カラーフィルタの製造方法 |
| AU8739598A (en) | 1997-08-14 | 1999-03-08 | Horsell Graphic Industries Limited | Method of making masks and electronic parts |
| GB9722861D0 (en) | 1997-10-29 | 1997-12-24 | Horsell Graphic Ind Ltd | Improvements in relation to the manufacture of lithographic printing forms |
| JP3727044B2 (ja) * | 1998-11-10 | 2005-12-14 | 東京応化工業株式会社 | ネガ型レジスト組成物 |
| US6506534B1 (en) | 1999-09-02 | 2003-01-14 | Fujitsu Limited | Negative resist composition, method for the formation of resist patterns and process for the production of electronic devices |
| US6511779B1 (en) | 2000-08-09 | 2003-01-28 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd | Method for fabricating high resolution color filter image array optoelectronic microelectronic fabrication |
| US6852464B2 (en) * | 2002-01-10 | 2005-02-08 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Method of manufacturing a thermally imageable element |
| TWI283335B (en) * | 2002-08-20 | 2007-07-01 | Kyowa Yuka Kk | A composition with photo-sensibility of visible light |
| DE10329262B3 (de) * | 2003-06-23 | 2004-12-16 | Infineon Technologies Ag | Verfahren zur Behandlung eines Substrates und ein Halbleiterbauelement |
| US7776504B2 (en) * | 2004-02-23 | 2010-08-17 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Dye-containing resist composition and color filter using same |
| KR101171177B1 (ko) * | 2004-09-15 | 2012-08-06 | 주식회사 동진쎄미켐 | 잉크 조성물 및 상기 잉크 조성물을 포함하는 컬러 필터 |
| KR101321417B1 (ko) * | 2009-12-28 | 2013-10-30 | 제일모직주식회사 | 컬러필터 보호막용 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 보호막 및 이를 포함하는 이미지 센서 |
| TWI652281B (zh) * | 2015-02-18 | 2019-03-01 | 日商住友電木股份有限公司 | 含有光產鹼劑的光可成像聚烯烴組成物 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0326112B1 (en) * | 1988-01-29 | 1994-09-14 | Toppan Printing Co., Ltd. | Electrode plate for display device and method for preparation thereof |
| JPH02120366A (ja) * | 1988-10-31 | 1990-05-08 | Hitachi Ltd | 放射線感応性組成物およびそれを用いたパターン形成法 |
| DE69123327T2 (de) * | 1990-06-06 | 1997-04-10 | Okuno Chem Ind Co | Farbfilterbeschichtungsmaterial für flüssigkristallanzeige, farbfiltermaterial, bildung einer beschichtung und herstellung eines farbfilters |
| US5079214A (en) * | 1990-10-11 | 1992-01-07 | Eastman Kodak Company | Patterned receiver for color filter array |
| EP0483693B1 (en) * | 1990-10-29 | 1998-12-30 | Toyo Gosei Kogyo Co., Ltd. | Photosensitive colored resin composition, colored image formation method of color filter, and formation method of black matrix |
| JP2706859B2 (ja) * | 1991-07-30 | 1998-01-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 光硬化性樹脂組成物、保護層の形成方法及びカラーフイルター |
| JPH0570735A (ja) * | 1991-09-10 | 1993-03-23 | Toppan Printing Co Ltd | コーテイング材及びそれを用いたカラー固体撮像素子の製造方法 |
| US5166125A (en) * | 1992-02-19 | 1992-11-24 | Eastman Kodak Company | Method of forming color filter array element with patternable overcoat layer |
-
1993
- 1993-04-21 US US08/050,847 patent/US5563011A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-04-21 JP JP10778394A patent/JPH06347638A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006083362A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Samsung Electronics Co Ltd | インク組成物及び前記インク組成物を含むカラーフィルター |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5563011A (en) | 1996-10-08 |
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|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040406 |