JPH06345872A - ビニルエーテル官能基を含む放射線硬化性組成物及びそれらの製造方法 - Google Patents
ビニルエーテル官能基を含む放射線硬化性組成物及びそれらの製造方法Info
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- JPH06345872A JPH06345872A JP10365594A JP10365594A JPH06345872A JP H06345872 A JPH06345872 A JP H06345872A JP 10365594 A JP10365594 A JP 10365594A JP 10365594 A JP10365594 A JP 10365594A JP H06345872 A JPH06345872 A JP H06345872A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/20—Polysiloxanes containing silicon bound to unsaturated aliphatic groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 放射線硬化性シリコーンビニルエーテル類を
含む組成物から硬化皮膜を形成する方法を提供する。 【構成】 シラン又はシロキサン、ビニルエーテル化合
物及びヒドロシリル化触媒を混合し、反応させ、この反
応生成物（Ｉ）に光開裂性酸を加え、この混合物（II）
を固体の基体に塗って皮膜を形成し、次いでこの皮膜を
化学線放射又は化学線放射と熱とに曝す。
含む組成物から硬化皮膜を形成する方法を提供する。 【構成】 シラン又はシロキサン、ビニルエーテル化合
物及びヒドロシリル化触媒を混合し、反応させ、この反
応生成物（Ｉ）に光開裂性酸を加え、この混合物（II）
を固体の基体に塗って皮膜を形成し、次いでこの皮膜を
化学線放射又は化学線放射と熱とに曝す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ビニルエーテル官能性
シリコーン類を含む組成物、それらの調製及びそれらの
使用に関する。シリコーンビニルエーテル類は、光開裂
性（ｐｈｏｔｏｃｌｅａｖａｂｌｅ）酸の添加及び紫外
線又は電子ビーム放射により硬化しうる。
シリコーン類を含む組成物、それらの調製及びそれらの
使用に関する。シリコーンビニルエーテル類は、光開裂
性（ｐｈｏｔｏｃｌｅａｖａｂｌｅ）酸の添加及び紫外
線又は電子ビーム放射により硬化しうる。
【０００２】
【従来の技術】当技術分野において、アルキルエーテル
官能性有機ケイ素化合物は既に文献に記載されている。
例えば、米国特許Ｎo.４６１７２３８は、常に各ＳｉＨ
基に対して只１つのビニルエーテル基がシロキサン分子
に添加される事を記載している。
官能性有機ケイ素化合物は既に文献に記載されている。
例えば、米国特許Ｎo.４６１７２３８は、常に各ＳｉＨ
基に対して只１つのビニルエーテル基がシロキサン分子
に添加される事を記載している。
【０００３】他のアルキルオキシ官能性有機ケイ素化合
物が、米国特許Ｎo.４７０７５０３、５０５７５４９、
５０３９１７６及びヨーロッパ特許Ｎo.０４６２３８９
に記載されている。
物が、米国特許Ｎo.４７０７５０３、５０５７５４９、
５０３９１７６及びヨーロッパ特許Ｎo.０４６２３８９
に記載されている。
【０００４】上記文献の方法は、同一分子内のビニルエ
ーテル基及び他のアルケニル基の間の競争を当てにして
おり、ＳｉＨのビニルエーテルへの定量的転化をもたら
さない。
ーテル基及び他のアルケニル基の間の競争を当てにして
おり、ＳｉＨのビニルエーテルへの定量的転化をもたら
さない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的
は、好ましい放射線官能性基であるビニルエーテルへの
ヒドリドシラン又はシロキサン類の定量的転化を生ずる
方法を提供することである。
は、好ましい放射線官能性基であるビニルエーテルへの
ヒドリドシラン又はシロキサン類の定量的転化を生ずる
方法を提供することである。
【０００６】本発明の他の目的は、紙の剥離用途に適し
たＵＶ（紫外線）又はＥＢ（電子ビーム）硬化性オルガ
ノポリシロキサン類を調製するための新規な方法を提供
することである。
たＵＶ（紫外線）又はＥＢ（電子ビーム）硬化性オルガ
ノポリシロキサン類を調製するための新規な方法を提供
することである。
【０００７】本発明の更に他の目的は、光開裂性酸の添
加及びＵＶ又はＥＢ放射によって硬化しうるシリコーン
ビニルエーテルコポリマー又はオリゴマーを製造するこ
とである。
加及びＵＶ又はＥＢ放射によって硬化しうるシリコーン
ビニルエーテルコポリマー又はオリゴマーを製造するこ
とである。
【０００８】本発明の更に他の目的は、特に高い硬化速
度で種々の硬化触媒によって触媒されうるＵＶ−硬化性
シリコーン組成物を提供することである。
度で種々の硬化触媒によって触媒されうるＵＶ−硬化性
シリコーン組成物を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段及び発明の効果】本発明
は、ビニルエーテル官能性シロキサンの製造方法を提供
する。本発明は、（Ｉ）シラン又はシロキサン、ビニル
エーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合するこ
と、を含む。他の態様において、本発明は（Ｉ）の反応
生成物に光開裂性酸を加え、この混合物（II）を固体の
基体に塗って皮膜を形成し、次いでこの皮膜を化学線放
射又は化学線放射と熱とに曝す。本発明は更に、ビニル
エーテル官能性シロキサン化合物及びこのポリシロキサ
ン化合物を光開裂性酸と組み合わせた硬化性組成物に関
する。
は、ビニルエーテル官能性シロキサンの製造方法を提供
する。本発明は、（Ｉ）シラン又はシロキサン、ビニル
エーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合するこ
と、を含む。他の態様において、本発明は（Ｉ）の反応
生成物に光開裂性酸を加え、この混合物（II）を固体の
基体に塗って皮膜を形成し、次いでこの皮膜を化学線放
射又は化学線放射と熱とに曝す。本発明は更に、ビニル
エーテル官能性シロキサン化合物及びこのポリシロキサ
ン化合物を光開裂性酸と組み合わせた硬化性組成物に関
する。
【００１０】即ち、本発明は、次の（Ａ）〜（Ｃ）を混
合すること（Ｉ）を含むビニルエーテル官能性シロキサ
ンの製造方法に関する：（Ａ）（ｉ）シラン類及び（i
i）シロキサン類から選ばれるケイ素化合物；（Ｂ）
（ａ）Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （ｂ）（Ｈ2 Ｃ
＝ＣＨＯＲ）x ＣＲ1 4-x及び（ｃ）これらの混合物から
選ばれるビニルエーテル化合物；並びに（Ｃ）ヒドロシ
リル化触媒。但し、ここにＲは炭素原子数１〜２０の２
価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ1 は炭素
原子数１〜２０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭化水
素基又は水素原子であり、ｘは３又は４の値を取り、前
記シラン又はシロキサンはそれぞれ分子内にケイ素に結
合した少なくとも１つの水素基を持ち、ここにビニルオ
キシ含有分子対ケイ素に結合した水素原子のモル比は
１．０より大きい。
合すること（Ｉ）を含むビニルエーテル官能性シロキサ
ンの製造方法に関する：（Ａ）（ｉ）シラン類及び（i
i）シロキサン類から選ばれるケイ素化合物；（Ｂ）
（ａ）Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （ｂ）（Ｈ2 Ｃ
＝ＣＨＯＲ）x ＣＲ1 4-x及び（ｃ）これらの混合物から
選ばれるビニルエーテル化合物；並びに（Ｃ）ヒドロシ
リル化触媒。但し、ここにＲは炭素原子数１〜２０の２
価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ1 は炭素
原子数１〜２０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭化水
素基又は水素原子であり、ｘは３又は４の値を取り、前
記シラン又はシロキサンはそれぞれ分子内にケイ素に結
合した少なくとも１つの水素基を持ち、ここにビニルオ
キシ含有分子対ケイ素に結合した水素原子のモル比は
１．０より大きい。
【００１１】本発明の方法は、シラン又はシロキサン、
ビニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合す
ること、を含む。前記シランは、好ましくは式（Ｒ
2 Ｏ）xＳｉＲ3 4-x（ここに、Ｒ2 は炭素原子数１〜８
の一価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ3 は
水素原子又はＲ2 であり、ｘは１〜３の値を取る）で示
される。前記シラン又はシロキサンは、分子中に少なく
とも１つのケイ素に結合した水素原子を含むことも必要
である。
ビニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒を混合す
ること、を含む。前記シランは、好ましくは式（Ｒ
2 Ｏ）xＳｉＲ3 4-x（ここに、Ｒ2 は炭素原子数１〜８
の一価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ3 は
水素原子又はＲ2 であり、ｘは１〜３の値を取る）で示
される。前記シラン又はシロキサンは、分子中に少なく
とも１つのケイ素に結合した水素原子を含むことも必要
である。
【００１２】一価の炭化水素基Ｒ2 は、アルキル基、例
えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル及び
オクチル；脂環式基、例えばシクロヘキシル；アルアル
キル基、例えばベンジル及びフェニルエチル；並びにオ
レフィン性炭化水素基、例えばビニル、アリル、メタリ
ル、ブテニル、ヘキセニル、オクテニル、シクロヘキセ
ニル及びスチリルを含む。アルケニル基は、好ましくは
末端不飽和である。非常に好ましい１価の炭化水素基は
メチル、フェニル、ビニル及び５−ヘキセニルである。
脂肪族不飽和を有しない１価のハロ炭化水素基は、脂肪
族不飽和を有さず、少なくとも１つの水素原子をハロゲ
ン、例えばフッ素、塩素又は臭素で置き換えた上記のい
ずれかの１価の炭化水素基を含む。好ましい１価のハロ
炭化水素基は、式Ｃn Ｆ2n+1ＣＨ2 ＣＨ2 −（ここに、
前記下付き添字ｎは１〜８の値を取る）で示され、例え
ばＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 −及びＣ4 Ｆ9 ＣＨ2 ＣＨ2 −で
ある。複数のＲ3 基は同一であるか又は異なる。Ｒ
3 は、上に述べたように水素原子又はＲ2 である。
えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル及び
オクチル；脂環式基、例えばシクロヘキシル；アルアル
キル基、例えばベンジル及びフェニルエチル；並びにオ
レフィン性炭化水素基、例えばビニル、アリル、メタリ
ル、ブテニル、ヘキセニル、オクテニル、シクロヘキセ
ニル及びスチリルを含む。アルケニル基は、好ましくは
末端不飽和である。非常に好ましい１価の炭化水素基は
メチル、フェニル、ビニル及び５−ヘキセニルである。
脂肪族不飽和を有しない１価のハロ炭化水素基は、脂肪
族不飽和を有さず、少なくとも１つの水素原子をハロゲ
ン、例えばフッ素、塩素又は臭素で置き換えた上記のい
ずれかの１価の炭化水素基を含む。好ましい１価のハロ
炭化水素基は、式Ｃn Ｆ2n+1ＣＨ2 ＣＨ2 −（ここに、
前記下付き添字ｎは１〜８の値を取る）で示され、例え
ばＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 −及びＣ4 Ｆ9 ＣＨ2 ＣＨ2 −で
ある。複数のＲ3 基は同一であるか又は異なる。Ｒ
3 は、上に述べたように水素原子又はＲ2 である。
【００１３】本発明において用いられるシランの量は、
用いられるビニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触
媒の量に依存して変化する。２〜２５重量％のシランが
使用されるのが好ましく、３〜１５重量％のシランが用
いられるのが好ましい。前記重量％は、組成物の全重量
を基準にしている。
用いられるビニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触
媒の量に依存して変化する。２〜２５重量％のシランが
使用されるのが好ましく、３〜１５重量％のシランが用
いられるのが好ましい。前記重量％は、組成物の全重量
を基準にしている。
【００１４】本発明のシロキサンは、好ましくは、脂肪
族不飽和が無く、２価の基で結合された２個又はそれ以
上のケイ素原子、ケイ素原子１個当たり平均１〜２個の
ケイ素に結合された１価の基、及び１分子当たり平均少
なくとも１個の、好ましくは２個、３個又はそれ以上の
ケイ素に結合した水素原子を含む有機水素ケイ素化合物
である。好ましくは、このシロキサンは、平均３又はそ
れ以上の、例えば５、１０、２０、４０又はそれ以上の
ケイ素に結合した水素原子を含む。
族不飽和が無く、２価の基で結合された２個又はそれ以
上のケイ素原子、ケイ素原子１個当たり平均１〜２個の
ケイ素に結合された１価の基、及び１分子当たり平均少
なくとも１個の、好ましくは２個、３個又はそれ以上の
ケイ素に結合した水素原子を含む有機水素ケイ素化合物
である。好ましくは、このシロキサンは、平均３又はそ
れ以上の、例えば５、１０、２０、４０又はそれ以上の
ケイ素に結合した水素原子を含む。
【００１５】本発明のシロキサンは、好ましくは平均単
位式Ｒ3 a Ｈb ＳｉＯ(4-a-b)/2 （ここに、Ｒ3 は脂肪
族不飽和の無い１価の基を表し、下付き文字ｂは０より
大きく１以下、例えば０．００１、０．０１、０．１及
び１．０の値を取り、下付き文字ａとｂの合計は１〜
３、例えば１．２、１．９及び２．５の値を取りうる。
上記平均単位式示されるオルガノ水素ポリシロキサン類
におけるシロキサン単位は、式Ｒ3 3ＳｉＯ1/2 、Ｒ3 2Ｈ
ＳｉＯ1/2 、Ｒ3 2ＳｉＯ2/2 、Ｒ3 ＨＳｉＯ2/2、Ｒ3
ＳｉＯ3/2 、ＨＳｉＯ3/2 及びＳｉＯ4/2 で示される。
前記シロキサン単位は直鎖状、分岐状、環状及びこれら
の組み合わせのようないずれかの分子配列で結合され
て、本発明に有用なオルガノ水素ポリシロキサン類を与
えることができる。
位式Ｒ3 a Ｈb ＳｉＯ(4-a-b)/2 （ここに、Ｒ3 は脂肪
族不飽和の無い１価の基を表し、下付き文字ｂは０より
大きく１以下、例えば０．００１、０．０１、０．１及
び１．０の値を取り、下付き文字ａとｂの合計は１〜
３、例えば１．２、１．９及び２．５の値を取りうる。
上記平均単位式示されるオルガノ水素ポリシロキサン類
におけるシロキサン単位は、式Ｒ3 3ＳｉＯ1/2 、Ｒ3 2Ｈ
ＳｉＯ1/2 、Ｒ3 2ＳｉＯ2/2 、Ｒ3 ＨＳｉＯ2/2、Ｒ3
ＳｉＯ3/2 、ＨＳｉＯ3/2 及びＳｉＯ4/2 で示される。
前記シロキサン単位は直鎖状、分岐状、環状及びこれら
の組み合わせのようないずれかの分子配列で結合され
て、本発明に有用なオルガノ水素ポリシロキサン類を与
えることができる。
【００１６】好ましいオルガノ水素ポリシロキサンは、
式ＸＲ2 ＳｉＯ（ＸＲＳｉＯ）c ＳｉＲ2 Ｘ（ここに、
各Ｒは脂肪族不飽和が無く、炭素原子数１〜２０の一価
の炭化水素基又はハロ炭化水素基を表す）で示される実
質的に直鎖状のオルガノ水素ポリシロキサンである。１
価の炭化水素基はアルキル基、例えばメチル、エチル、
プロピル、ブチル、ヘキシル及びオクチル；脂環式基、
例えばシクロヘキシル；アリール基、例えばフェニル、
トリル及びキシリル；アルアルキル基、例えばベンジル
及びフェニルエチル；並びにオレフィン系炭化水素基、
例えばビニル、アリル、メタリル、ブテニル及びヘキセ
ニル、オクテニル、シクロヘキセニル及びスチリルを含
む。アルケニル基は、好ましくは末端不飽和である。ア
ルケニルシロキサン類を調製するのに用いうるα，ω−
ジエン類が容易に入手できるので、高級アルケニル基の
内で５−ヘキセニル、７−オクテニル及び９−デセニル
から選ばれるものが好ましい。本発明のケイ素含有成分
用の非常に好ましい１価の炭化水素基は、メチル、フェ
ニル、ビニル及び５−ヘキセニルである。脂肪族不飽和
の無い１価のハロ炭化水素基は、脂肪族不飽和が無くそ
の水素原子少なくとも１つがハロゲン、例えばフッ素、
塩素又は臭素で置き換えられたいずれかの１価の炭化水
素基を含む。好ましい１価のハロ炭化水素基はＣn Ｆ
2n+1ＣＨ2 ＣＨ 2 −（ここに、下付き文字ｎは１〜１０
の値を取る）で示され、例えばＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 −及
びＣ4 Ｆ9 ＣＨ2 ＣＨ2 −がある。幾つかのＲ基は同じ
であってもよく、異なってもよい。加えて、各Ｘは水素
原子又はＲ基を表す。勿論、少なくとも２つのＸ基は水
素原子でなければならない。下付き文字ｃの値は重要で
はない。しかし、それは、好ましくはオルガノ水素ポリ
シロキサンが２５℃で１００ミリパスカル−秒迄の粘度
を持つようなものである。ｃの正確な値は、Ｒ基の数と
これが何物であるかに依存して前記限界内に入る粘度値
を与える必要がある。しかしながら、Ｒとしてメチル基
のみを含むオルガノ水素ポリシロキサン類のためには、
ｃは０〜１００の値を取るであろう。
式ＸＲ2 ＳｉＯ（ＸＲＳｉＯ）c ＳｉＲ2 Ｘ（ここに、
各Ｒは脂肪族不飽和が無く、炭素原子数１〜２０の一価
の炭化水素基又はハロ炭化水素基を表す）で示される実
質的に直鎖状のオルガノ水素ポリシロキサンである。１
価の炭化水素基はアルキル基、例えばメチル、エチル、
プロピル、ブチル、ヘキシル及びオクチル；脂環式基、
例えばシクロヘキシル；アリール基、例えばフェニル、
トリル及びキシリル；アルアルキル基、例えばベンジル
及びフェニルエチル；並びにオレフィン系炭化水素基、
例えばビニル、アリル、メタリル、ブテニル及びヘキセ
ニル、オクテニル、シクロヘキセニル及びスチリルを含
む。アルケニル基は、好ましくは末端不飽和である。ア
ルケニルシロキサン類を調製するのに用いうるα，ω−
ジエン類が容易に入手できるので、高級アルケニル基の
内で５−ヘキセニル、７−オクテニル及び９−デセニル
から選ばれるものが好ましい。本発明のケイ素含有成分
用の非常に好ましい１価の炭化水素基は、メチル、フェ
ニル、ビニル及び５−ヘキセニルである。脂肪族不飽和
の無い１価のハロ炭化水素基は、脂肪族不飽和が無くそ
の水素原子少なくとも１つがハロゲン、例えばフッ素、
塩素又は臭素で置き換えられたいずれかの１価の炭化水
素基を含む。好ましい１価のハロ炭化水素基はＣn Ｆ
2n+1ＣＨ2 ＣＨ 2 −（ここに、下付き文字ｎは１〜１０
の値を取る）で示され、例えばＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 −及
びＣ4 Ｆ9 ＣＨ2 ＣＨ2 −がある。幾つかのＲ基は同じ
であってもよく、異なってもよい。加えて、各Ｘは水素
原子又はＲ基を表す。勿論、少なくとも２つのＸ基は水
素原子でなければならない。下付き文字ｃの値は重要で
はない。しかし、それは、好ましくはオルガノ水素ポリ
シロキサンが２５℃で１００ミリパスカル−秒迄の粘度
を持つようなものである。ｃの正確な値は、Ｒ基の数と
これが何物であるかに依存して前記限界内に入る粘度値
を与える必要がある。しかしながら、Ｒとしてメチル基
のみを含むオルガノ水素ポリシロキサン類のためには、
ｃは０〜１００の値を取るであろう。
【００１７】好ましい１価の炭化水素基に関して、前記
シロキサンとして適当なオルガノポリシロキサン類の例
を挙げれば、ＨＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）c ＳｉＭ
ｅ2Ｈ、（ＨＭｅ2 ＳｉＯ）4 Ｓｉ、シクロ（ＭｅＨＳ
ｉＯ）c 、（ＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 ）ＭｅＨＳｉＯ｛Ｍｅ
（ＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 ）ＳｉＯ｝c ＳｉＨＭｅ（ＣＨ 2
ＣＨ2 ＣＦ3 ）、Ｍｅ3 ＳｉＯ（ＭｅＨＳｉＯ）c Ｓｉ
Ｍｅ3 、ＨＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）0.5c（ＭｅＨ
ＳｉＯ）0.5cＳｉＭｅ2 Ｈ、ＨＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 Ｓ
ｉＯ）0.5c（ＭｅＰｈＳｉＯ）0.1c（ＭｅＨＳｉＯ）
0.4cＳｉＭｅ2 Ｈ、Ｍｅ3 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）0.3c
（ＭｅＨＳｉＯ）0.7cＳｉＭｅ3 及びＭｅＳｉ（ＯＳｉ
Ｍｅ2 Ｈ）3 がある。
シロキサンとして適当なオルガノポリシロキサン類の例
を挙げれば、ＨＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）c ＳｉＭ
ｅ2Ｈ、（ＨＭｅ2 ＳｉＯ）4 Ｓｉ、シクロ（ＭｅＨＳ
ｉＯ）c 、（ＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 ）ＭｅＨＳｉＯ｛Ｍｅ
（ＣＦ3 ＣＨ2 ＣＨ2 ）ＳｉＯ｝c ＳｉＨＭｅ（ＣＨ 2
ＣＨ2 ＣＦ3 ）、Ｍｅ3 ＳｉＯ（ＭｅＨＳｉＯ）c Ｓｉ
Ｍｅ3 、ＨＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）0.5c（ＭｅＨ
ＳｉＯ）0.5cＳｉＭｅ2 Ｈ、ＨＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 Ｓ
ｉＯ）0.5c（ＭｅＰｈＳｉＯ）0.1c（ＭｅＨＳｉＯ）
0.4cＳｉＭｅ2 Ｈ、Ｍｅ3 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）0.3c
（ＭｅＨＳｉＯ）0.7cＳｉＭｅ3 及びＭｅＳｉ（ＯＳｉ
Ｍｅ2 Ｈ）3 がある。
【００１８】非常に好ましい直鎖状オルガノ水素ポリシ
ロキサン類は式ＹＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）p （Ｍ
ｅＹＳｉＯ）q ＳｉＭｅ2 Ｙで示される。ここに、Ｙは
水素原子又はメチル基を表す。１分子中平均少なくとも
２つのＹ基は水素原子でなければならない。下付き文字
ｐプラスｑはｃに等しい値を取る。米国特許Ｎo.４１５
４７１４は非常に好ましいオルガノ水素ポリシロキサン
類を記載している。
ロキサン類は式ＹＭｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）p （Ｍ
ｅＹＳｉＯ）q ＳｉＭｅ2 Ｙで示される。ここに、Ｙは
水素原子又はメチル基を表す。１分子中平均少なくとも
２つのＹ基は水素原子でなければならない。下付き文字
ｐプラスｑはｃに等しい値を取る。米国特許Ｎo.４１５
４７１４は非常に好ましいオルガノ水素ポリシロキサン
類を記載している。
【００１９】本発明において用いられるシロキサンの量
は、用いられるビニルエーテル化合物及びヒドロシリル
化触媒の量に依存して変わる。それは、組成物全重量を
基準にして３〜７５ｗｔ％を用いるのが好ましく、５〜
５０ｗｔ％を用いるのが非常に好ましい。
は、用いられるビニルエーテル化合物及びヒドロシリル
化触媒の量に依存して変わる。それは、組成物全重量を
基準にして３〜７５ｗｔ％を用いるのが好ましく、５〜
５０ｗｔ％を用いるのが非常に好ましい。
【００２０】本発明で用いられるビニルエーテル化合物
は、（ａ）Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （ｂ）（Ｈ
2 Ｃ＝ＣＨＯＲ）x ＣＲ1 4-x及び（ｃ）これらの混合物
から選ばれる式で示されるビニルエーテルのグループで
ある。但し、ここにＲは炭素原子数１〜２０の２価の炭
化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ1 は炭素原子数
１〜２０の２価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又
は水素原子であり、ｘは３又は４の値を取る。Ｒとして
適当な２価の炭化水素基の例としては、アルキレン基、
例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、２−メチル
トリメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、３−
エチル−ヘキサメチレン、オクタメチレン、−ＣＨ
2 （ＣＨ3 ）ＣＨ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ3 ）ＣＨ2 −及び−（ＣＨ2 ）18−；シクロアル
キレン基、例えばシクロヘキシレン；アリーレン基、例
えばフェニレン並びに２価の炭化水素基の組み合わせ、
例えばベンジレン、即ち−Ｃ6 Ｈ4 ＣＨ2 −が挙げられ
る。
は、（ａ）Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （ｂ）（Ｈ
2 Ｃ＝ＣＨＯＲ）x ＣＲ1 4-x及び（ｃ）これらの混合物
から選ばれる式で示されるビニルエーテルのグループで
ある。但し、ここにＲは炭素原子数１〜２０の２価の炭
化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ1 は炭素原子数
１〜２０の２価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又
は水素原子であり、ｘは３又は４の値を取る。Ｒとして
適当な２価の炭化水素基の例としては、アルキレン基、
例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、２−メチル
トリメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、３−
エチル−ヘキサメチレン、オクタメチレン、−ＣＨ
2 （ＣＨ3 ）ＣＨ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ3 ）ＣＨ2 −及び−（ＣＨ2 ）18−；シクロアル
キレン基、例えばシクロヘキシレン；アリーレン基、例
えばフェニレン並びに２価の炭化水素基の組み合わせ、
例えばベンジレン、即ち−Ｃ6 Ｈ4 ＣＨ2 −が挙げられ
る。
【００２１】適当な２価のハロ炭化水素基は、１又はそ
れ以上の水素原子がハロゲン、例えばフッ素、塩素又は
臭素で置き代わったいずれかの２価の炭化水素基を含
む。好ましくは２価のハロ炭化水素基は式−ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｃn Ｆ2nＣＨ2 ＣＨ2 −（ここにｎは１〜１０の値を
取る）、例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −で示される。好ましくは式（ａ）中のＲは炭素原子
数６〜８のアルキレン基であり、式（ａ）中のＲはヘキ
シレン及びシクロヘキシルジメチレンから選ばれるのが
非常に好ましい。最も好ましくは、式（ｂ）中のＲはメ
チレンである。式（ｂ）中の１価の炭化水素基Ｒ1 は、
好ましい例を含めて本発明のシロキサンについて上述し
た炭化水素基又はハロ炭化水素基を含む。本発明におい
てＲ1 はメチルであることが非常に好ましい。また、本
発明にとってビニロキシ含有分子対ケイ素に結合した水
素原子のモル比は１．０より大きいことが必要であり、
このモル比は３〜１０であることが非常に好ましい。
れ以上の水素原子がハロゲン、例えばフッ素、塩素又は
臭素で置き代わったいずれかの２価の炭化水素基を含
む。好ましくは２価のハロ炭化水素基は式−ＣＨ2 ＣＨ
2 Ｃn Ｆ2nＣＨ2 ＣＨ2 −（ここにｎは１〜１０の値を
取る）、例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ2 ＣＨ2 ＣＨ
2 −で示される。好ましくは式（ａ）中のＲは炭素原子
数６〜８のアルキレン基であり、式（ａ）中のＲはヘキ
シレン及びシクロヘキシルジメチレンから選ばれるのが
非常に好ましい。最も好ましくは、式（ｂ）中のＲはメ
チレンである。式（ｂ）中の１価の炭化水素基Ｒ1 は、
好ましい例を含めて本発明のシロキサンについて上述し
た炭化水素基又はハロ炭化水素基を含む。本発明におい
てＲ1 はメチルであることが非常に好ましい。また、本
発明にとってビニロキシ含有分子対ケイ素に結合した水
素原子のモル比は１．０より大きいことが必要であり、
このモル比は３〜１０であることが非常に好ましい。
【００２２】本発明において用いられるビニルエーテル
化合物の量は、用いられるシラン又はシロキサン及びヒ
ドロシリル化触媒の量に依存して変化する。組成物全重
量を基準にして、２５〜９８ｗｔ％のビニルエーテルが
用いられるのが好ましく、５０〜９５ｗｔ％が用いられ
るのが非常に好ましい。
化合物の量は、用いられるシラン又はシロキサン及びヒ
ドロシリル化触媒の量に依存して変化する。組成物全重
量を基準にして、２５〜９８ｗｔ％のビニルエーテルが
用いられるのが好ましく、５０〜９５ｗｔ％が用いられ
るのが非常に好ましい。
【００２３】前記ヒドロシリル化触媒は、シラン又はシ
ロキサンのケイ素に結合した水素原子とビニルエーテル
化合物の反応を促進する白金族金属含有触媒のいずれで
もよい。ここに白金族金属とは、鉄、コバルト、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、
イリジュウム、白金の意味である。ステップ（Ｉ）の混
合物中にこの触媒を添加すれば、混合物又は反応生成物
を生ずる。
ロキサンのケイ素に結合した水素原子とビニルエーテル
化合物の反応を促進する白金族金属含有触媒のいずれで
もよい。ここに白金族金属とは、鉄、コバルト、ニッケ
ル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、
イリジュウム、白金の意味である。ステップ（Ｉ）の混
合物中にこの触媒を添加すれば、混合物又は反応生成物
を生ずる。
【００２４】前記触媒は、好ましくは白金含有触媒であ
り、これは、それらが最も広く用いられ入手可能である
からである。それらは、また、改善された可使時間及び
／又は硬化時間に関して本発明にとって比較的好ましい
効果を与える。白金含有触媒は、任意に担体、例えばシ
リカゲル又は粉末炭上に堆積させた白金金属、又は白金
族金属の化合物もしくは錯体でありうる。本発明におけ
る好ましい白金含有触媒化合物は、米国特許Ｎo.２８２
３２１８に開示されているように、一般的に入手可能な
６水和物の形又は無水の形をした塩化白金酸の形をして
いる。特に有用な形の塩化白金酸は、米国特許Ｎo.３４
１９５９３に開示されているように、それを脂肪族不飽
和を有する有機ケイ素化合物と反応させて得られる組成
物である。それが有機ケイ素系に容易に分散する性質を
持っているからである。本発明に有用な他の触媒として
は、米国特許Ｎo.３１５９６０１；３１５９６０２；３
２２０９７２；３２９６２９１；３５１６９４６；３８
１４７３０及び３９２８６２９に開示されたものがあ
る。シラン又はシロキサンをビニルエーテル化合物のケ
イ素に結合した水素原子とビニルエーテル化合物の間の
室温での反応を促進するに充分な量がある限り、本発明
に使用される触媒の量は狭く限定されない。触媒の正確
な量は、用いられる触媒いかんに依存し、容易に予言す
ることはできない。しかしながら、白金含有触媒につい
ては、その量は全組成物１００万重量部当たり、１重量
部という低い量でありうる。好ましくは、この量は、同
じ基準で少なくとも１０重量部である。
り、これは、それらが最も広く用いられ入手可能である
からである。それらは、また、改善された可使時間及び
／又は硬化時間に関して本発明にとって比較的好ましい
効果を与える。白金含有触媒は、任意に担体、例えばシ
リカゲル又は粉末炭上に堆積させた白金金属、又は白金
族金属の化合物もしくは錯体でありうる。本発明におけ
る好ましい白金含有触媒化合物は、米国特許Ｎo.２８２
３２１８に開示されているように、一般的に入手可能な
６水和物の形又は無水の形をした塩化白金酸の形をして
いる。特に有用な形の塩化白金酸は、米国特許Ｎo.３４
１９５９３に開示されているように、それを脂肪族不飽
和を有する有機ケイ素化合物と反応させて得られる組成
物である。それが有機ケイ素系に容易に分散する性質を
持っているからである。本発明に有用な他の触媒として
は、米国特許Ｎo.３１５９６０１；３１５９６０２；３
２２０９７２；３２９６２９１；３５１６９４６；３８
１４７３０及び３９２８６２９に開示されたものがあ
る。シラン又はシロキサンをビニルエーテル化合物のケ
イ素に結合した水素原子とビニルエーテル化合物の間の
室温での反応を促進するに充分な量がある限り、本発明
に使用される触媒の量は狭く限定されない。触媒の正確
な量は、用いられる触媒いかんに依存し、容易に予言す
ることはできない。しかしながら、白金含有触媒につい
ては、その量は全組成物１００万重量部当たり、１重量
部という低い量でありうる。好ましくは、この量は、同
じ基準で少なくとも１０重量部である。
【００２５】本発明の方法は、ステップ（Ｉ）の間又は
後にこの混合物を加熱することを含み得る。ここで、加
熱とは赤外線照射、加熱空気及びマイクロウェーブ放射
を意味する。本発明にとって、ステップ（Ｉ）で得られ
た混合物を室温以上１５０℃以下で加熱するのが好まし
く、この混合物を５０〜７０℃に加熱するのが非常に好
ましい。
後にこの混合物を加熱することを含み得る。ここで、加
熱とは赤外線照射、加熱空気及びマイクロウェーブ放射
を意味する。本発明にとって、ステップ（Ｉ）で得られ
た混合物を室温以上１５０℃以下で加熱するのが好まし
く、この混合物を５０〜７０℃に加熱するのが非常に好
ましい。
【００２６】本発明方法は、更にステップ（Ｉ）の後過
剰の有機ビニルエーテルをストリッピングにより除くこ
とを含みうる。揮発性成分をストリッピングする方法
は、当技術分野で周知であり、ここでこれ以上説明する
必要はない。揮発性成分を除くためのどんな方法も用い
ることができ、例えば分子蒸留機、ロートエバポレータ
ー（ｒｏｔｏｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）及びワイプフィ
ルムエバポレーター（ｗｉｐｅ ｆｉｌｍ ｅｖａｐｏ
ｒａｔｏｒｓ）を用いる方法がある。好ましい方法はワ
イプフィルムエバポレーターを用いる方法である。
剰の有機ビニルエーテルをストリッピングにより除くこ
とを含みうる。揮発性成分をストリッピングする方法
は、当技術分野で周知であり、ここでこれ以上説明する
必要はない。揮発性成分を除くためのどんな方法も用い
ることができ、例えば分子蒸留機、ロートエバポレータ
ー（ｒｏｔｏｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）及びワイプフィ
ルムエバポレーター（ｗｉｐｅ ｆｉｌｍ ｅｖａｐｏ
ｒａｔｏｒｓ）を用いる方法がある。好ましい方法はワ
イプフィルムエバポレーターを用いる方法である。
【００２７】他の具体例において、本発明は硬化性被覆
組成物を作る方法を提供する。この方法は、（Ｉ）次の
（Ａ）〜（Ｃ）を混合して：（Ａ）（ｉ）シラン類及び
（ii）シロキサン類から選ばれるケイ素化合物；（Ｂ）
（ａ）Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （ｂ）（Ｈ2 Ｃ
＝ＣＨＯＲ）x ＣＲ1 4-x及び（ｃ）これらの混合物から
選ばれるビニルエーテル化合物；並びに（Ｃ）ヒドロシ
リル化触媒（但し、ここにＲは炭素原子数１〜２０の２
価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ 1 は炭素
原子数１〜２０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭化水
素基又は水素原子であり、ｘは３又は４の値を取り、前
記シラン又はシロキサンはそれぞれ分子内にケイ素に結
合した少なくとも１つの水素基を持ち、ここにビニルオ
キシ含有分子対ケイ素に結合した水素原子のモル比は
１．０より大きい）、反応生成物を生成し；（II）
（Ｉ）の反応生成物に光開裂性酸を加え；（III)（II）
で得られた混合物を固体の基体に被覆して皮膜を形成
し；そして（IV）前記皮膜を、これを硬化させるに充分
な量の（ｉ）化学線及び（ii）化学線と熱の組み合わせ
から選ばれたエネルギー源に曝すことを含む。
組成物を作る方法を提供する。この方法は、（Ｉ）次の
（Ａ）〜（Ｃ）を混合して：（Ａ）（ｉ）シラン類及び
（ii）シロキサン類から選ばれるケイ素化合物；（Ｂ）
（ａ）Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （ｂ）（Ｈ2 Ｃ
＝ＣＨＯＲ）x ＣＲ1 4-x及び（ｃ）これらの混合物から
選ばれるビニルエーテル化合物；並びに（Ｃ）ヒドロシ
リル化触媒（但し、ここにＲは炭素原子数１〜２０の２
価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ 1 は炭素
原子数１〜２０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭化水
素基又は水素原子であり、ｘは３又は４の値を取り、前
記シラン又はシロキサンはそれぞれ分子内にケイ素に結
合した少なくとも１つの水素基を持ち、ここにビニルオ
キシ含有分子対ケイ素に結合した水素原子のモル比は
１．０より大きい）、反応生成物を生成し；（II）
（Ｉ）の反応生成物に光開裂性酸を加え；（III)（II）
で得られた混合物を固体の基体に被覆して皮膜を形成
し；そして（IV）前記皮膜を、これを硬化させるに充分
な量の（ｉ）化学線及び（ii）化学線と熱の組み合わせ
から選ばれたエネルギー源に曝すことを含む。
【００２８】ステップ（Ｉ）のシラン、シロキサン、ビ
ニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒は、本発明
のビニルエーテル官能性シロキサン類を作ることについ
て、それらの量及び好ましい例を含めて上に述べてい
る。
ニルエーテル化合物及びヒドロシリル化触媒は、本発明
のビニルエーテル官能性シロキサン類を作ることについ
て、それらの量及び好ましい例を含めて上に述べてい
る。
【００２９】ステップ（II）は、ステップ（Ｉ）の反応
生成物に光開裂性酸を加えることを含む。本発明の方法
に適した酸は、オニウム塩類及びある種のニトロベンジ
ルスルフォネートエステル類を含む。式Ｒ2 Ｉ+ ＭＸn
- 、Ｒ3 Ｓ+ ＭＸn - 、Ｒ3 Ｓｅ+ ＭＸn - 、Ｒ4 Ｐ+
ＭＸn - 及びＲ4 Ｎ+ ＭＸn - （ここに、各Ｒは、同一
の又は異なった炭素原子数１〜３０の有機基であり、炭
素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のア
ルキル基、ニトロ基、塩素基、臭素基、シアノ基、カル
ボキシル基、メルカプト基並びにピリジル、チオニル及
びピラニルを含む複素環式基から選ばれた１〜４個の１
価の炭化水素基で置換されている、炭素原子数６〜２０
の芳香族炭素環式基を含む）で示されるオニウム塩が好
ましい。上記式中の符号Ｍは、金属又は非金属であり、
遷移金属、例えばＳｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ及びＣ
ｓ；希土類金属、例えばランタナイド、Ｃｄ、Ｐｒ及び
Ｎｄ；並びに非金属、例えばＢ、Ｐ及びＡｓを含む。Ｍ
Ｘn - は、非塩基性、非求核性陰イオン、例えばＢＦ4
-、ＰＦ6 - 、ＡｓＦ6 - 、ＳｂＦ6 - 、ＳｂＣ
ｌ6 - 、ＨＳＯ4 - 、ＣｌＯ4 -、ＦｅＣｌ4 = 、Ｓｎ
Ｃｌ6 - 及びＢｉＣｌ5 = である。
生成物に光開裂性酸を加えることを含む。本発明の方法
に適した酸は、オニウム塩類及びある種のニトロベンジ
ルスルフォネートエステル類を含む。式Ｒ2 Ｉ+ ＭＸn
- 、Ｒ3 Ｓ+ ＭＸn - 、Ｒ3 Ｓｅ+ ＭＸn - 、Ｒ4 Ｐ+
ＭＸn - 及びＲ4 Ｎ+ ＭＸn - （ここに、各Ｒは、同一
の又は異なった炭素原子数１〜３０の有機基であり、炭
素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数１〜８のア
ルキル基、ニトロ基、塩素基、臭素基、シアノ基、カル
ボキシル基、メルカプト基並びにピリジル、チオニル及
びピラニルを含む複素環式基から選ばれた１〜４個の１
価の炭化水素基で置換されている、炭素原子数６〜２０
の芳香族炭素環式基を含む）で示されるオニウム塩が好
ましい。上記式中の符号Ｍは、金属又は非金属であり、
遷移金属、例えばＳｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ及びＣ
ｓ；希土類金属、例えばランタナイド、Ｃｄ、Ｐｒ及び
Ｎｄ；並びに非金属、例えばＢ、Ｐ及びＡｓを含む。Ｍ
Ｘn - は、非塩基性、非求核性陰イオン、例えばＢＦ4
-、ＰＦ6 - 、ＡｓＦ6 - 、ＳｂＦ6 - 、ＳｂＣ
ｌ6 - 、ＨＳＯ4 - 、ＣｌＯ4 -、ＦｅＣｌ4 = 、Ｓｎ
Ｃｌ6 - 及びＢｉＣｌ5 = である。
【００３０】ビスジアリールヨードニウム塩、例えばビ
ス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロヒ
酸塩、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフ
ルオロアンチモン酸塩及びジアルキルフェニルヨードニ
ウムヘキサフルオロアンチモン酸塩が好ましい。
ス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロヒ
酸塩、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフ
ルオロアンチモン酸塩及びジアルキルフェニルヨードニ
ウムヘキサフルオロアンチモン酸塩が好ましい。
【００３１】本発明において、光開裂性酸として有用な
ニトロベンジルスルフォネートエステルは次式で示され
る。
ニトロベンジルスルフォネートエステルは次式で示され
る。
【００３２】
【化３】
【００３３】ここに、Ｚはアルキル基、アリール基、ア
ルキルアリール基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン
置換アリール基、ハロゲン置換アルキルアリール基、ニ
トロ置換アリール基、ニトロ置換アルキルアリール基、
ニトロ及びハロゲンの置換基を有するアリール基、ニト
ロ及びハロゲンの置換基を有するアルキルアリール基、
並びに式Ｃ6 Ｈ4 ＳＯ3 ＣＨＲ’Ｃ6 Ｈ4-m Ｑm ( ＮＯ
2)で示される基から選ばれ；Ｒ’は水素原子、メチル基
及びニトロ置換アリール基であり；各Ｑは、独立に炭化
水素基、ヒドロカルボノキシ基、ＮＯ2 、ハロゲン原子
及び有機ケイ素基から選ばれ、ｍは０、１又は２の値を
取り、但しＱは酸基ではない。これらのニトロベンジル
スルフォネート光開裂性酸は英国特許出願Ｎo.９１２４
４２２．８（１９９１年１１月１４日出願）に記載され
ている。本発明にとって好ましいニトロベンジル誘導体
は、ｍが１の値を取り、ＱはＮＯ2 基であって−ＣＨ
Ｒ’ＯＳ（Ｏ）2 Ｚ基に関してオルソ位にあり、Ｚはニ
トロフェニル基（ここにニトロ基はスルフォン酸基に関
してパラ位にある）又はフェニルメチル基又はトリフル
オロプロピルメチルフェニル基を表す。
ルキルアリール基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン
置換アリール基、ハロゲン置換アルキルアリール基、ニ
トロ置換アリール基、ニトロ置換アルキルアリール基、
ニトロ及びハロゲンの置換基を有するアリール基、ニト
ロ及びハロゲンの置換基を有するアルキルアリール基、
並びに式Ｃ6 Ｈ4 ＳＯ3 ＣＨＲ’Ｃ6 Ｈ4-m Ｑm ( ＮＯ
2)で示される基から選ばれ；Ｒ’は水素原子、メチル基
及びニトロ置換アリール基であり；各Ｑは、独立に炭化
水素基、ヒドロカルボノキシ基、ＮＯ2 、ハロゲン原子
及び有機ケイ素基から選ばれ、ｍは０、１又は２の値を
取り、但しＱは酸基ではない。これらのニトロベンジル
スルフォネート光開裂性酸は英国特許出願Ｎo.９１２４
４２２．８（１９９１年１１月１４日出願）に記載され
ている。本発明にとって好ましいニトロベンジル誘導体
は、ｍが１の値を取り、ＱはＮＯ2 基であって−ＣＨ
Ｒ’ＯＳ（Ｏ）2 Ｚ基に関してオルソ位にあり、Ｚはニ
トロフェニル基（ここにニトロ基はスルフォン酸基に関
してパラ位にある）又はフェニルメチル基又はトリフル
オロプロピルメチルフェニル基を表す。
【００３４】この光開裂性酸は、本発明の方法において
硬化を生ずるどんな割合ででも存在しうる。好ましく
は、光開裂性酸の存在量は、組成物全重量を基準にして
０．１〜１０ｗｔ％であり、組成物全重量を基準にして
１〜５ｗｔ％が好ましい。
硬化を生ずるどんな割合ででも存在しうる。好ましく
は、光開裂性酸の存在量は、組成物全重量を基準にして
０．１〜１０ｗｔ％であり、組成物全重量を基準にして
１〜５ｗｔ％が好ましい。
【００３５】本発明のステップ（III)はステップ（II）
で得られた混合物を固体の基体に塗り、皮膜を形成する
ことを含む。好ましい態様においては、前記固体の基体
は可撓性のシート材料、例えば紙、ポリオレフィンフィ
ルム及びポリオレフィンで被覆された紙又はフォイルで
ある。本発明方法により被覆しうる他の固体の基体は、
他のセルロース材料、例えば木材、厚紙及び綿；金属材
料、例えばアルミニウム、銅、鋼及び銀；ケイ素質材
料、例えばガラス及び石材；並びに合成ポリマー材料、
例えばポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステル及び
ポリアクリレートを含む。この固体の基体は、実質的に
シート様、例えば感圧接着剤用の剥がしうる剥離ライナ
ー、布はくもしくはフォイルであり得るし、実質的に３
次元の形をしていてもよい。
で得られた混合物を固体の基体に塗り、皮膜を形成する
ことを含む。好ましい態様においては、前記固体の基体
は可撓性のシート材料、例えば紙、ポリオレフィンフィ
ルム及びポリオレフィンで被覆された紙又はフォイルで
ある。本発明方法により被覆しうる他の固体の基体は、
他のセルロース材料、例えば木材、厚紙及び綿；金属材
料、例えばアルミニウム、銅、鋼及び銀；ケイ素質材
料、例えばガラス及び石材；並びに合成ポリマー材料、
例えばポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステル及び
ポリアクリレートを含む。この固体の基体は、実質的に
シート様、例えば感圧接着剤用の剥がしうる剥離ライナ
ー、布はくもしくはフォイルであり得るし、実質的に３
次元の形をしていてもよい。
【００３６】ステップ（IV）は、前記皮膜を、これを硬
化させるに充分な量の（ｉ）化学線及び（ii）化学線と
熱の組み合わせから選ばれたエネルギー源に曝すことを
含む。化学線とは、紫外線、電子ビーム、並びにα−、
β−、γ−及びＸ−線の意味である。熱とは、赤外線、
熱空気及びマイクロウェーブの意味である。勿論、化学
線はしばしば熱を伴い、この２つの組み合わせは本発明
の範囲及び精神の内に入る。
化させるに充分な量の（ｉ）化学線及び（ii）化学線と
熱の組み合わせから選ばれたエネルギー源に曝すことを
含む。化学線とは、紫外線、電子ビーム、並びにα−、
β−、γ−及びＸ−線の意味である。熱とは、赤外線、
熱空気及びマイクロウェーブの意味である。勿論、化学
線はしばしば熱を伴い、この２つの組み合わせは本発明
の範囲及び精神の内に入る。
【００３７】ここに、用語「硬化」は、この組成物を液
体から固体へと導く化学変化を一般に表す。接着剤剥離
皮膜として用いられる被覆組成物にとっては、用語「硬
化」はより詳細な意味を持っており、皮膜の汚れ、移行
及び摩擦落ちが無いことを包含する。硬化は公知のいず
れの方法ででも行いうる。この方法は、被覆された基体
を望みの照射源、例えばＵＶランプの下を所定の速度で
通過させ、所定の時間、必要なエネルギー源への暴露に
より、完全に被覆された基体を照射線に曝す。
体から固体へと導く化学変化を一般に表す。接着剤剥離
皮膜として用いられる被覆組成物にとっては、用語「硬
化」はより詳細な意味を持っており、皮膜の汚れ、移行
及び摩擦落ちが無いことを包含する。硬化は公知のいず
れの方法ででも行いうる。この方法は、被覆された基体
を望みの照射源、例えばＵＶランプの下を所定の速度で
通過させ、所定の時間、必要なエネルギー源への暴露に
より、完全に被覆された基体を照射線に曝す。
【００３８】本発明は、更に、前記混合物をステップ
（Ｉ）の間又は後に加熱することを含みうる。ステップ
（Ｉ）から得られる混合物を室温以上１５０℃以下で加
熱するのが好ましく、この混合物を５０〜７０℃に加熱
するのが非常に好ましい。
（Ｉ）の間又は後に加熱することを含みうる。ステップ
（Ｉ）から得られる混合物を室温以上１５０℃以下で加
熱するのが好ましく、この混合物を５０〜７０℃に加熱
するのが非常に好ましい。
【００３９】本発明方法は、更に、ステップ（Ｉ）の後
又はステップ（II）の後、過剰の有機ビニルエーテルを
ストリッピングにより除くことを包含する。揮発性成分
のストリッピングは、当技術分野で公知であり、これ以
上説明する必要は無い。揮発性成分を除くためのどんな
方法も用いることができ、例えば分子蒸留機、ロートエ
バポレーター（ｒｏｔｏｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）及び
ワイプフィルムエバポレーター（ｗｉｐｅ ｆｉｌｍ
ｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）を用いる方法がある。好まし
い方法はワイプフィルムエバポレーターを用いる方法で
ある。
又はステップ（II）の後、過剰の有機ビニルエーテルを
ストリッピングにより除くことを包含する。揮発性成分
のストリッピングは、当技術分野で公知であり、これ以
上説明する必要は無い。揮発性成分を除くためのどんな
方法も用いることができ、例えば分子蒸留機、ロートエ
バポレーター（ｒｏｔｏｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）及び
ワイプフィルムエバポレーター（ｗｉｐｅ ｆｉｌｍ
ｅｖａｐｏｒａｔｏｒｓ）を用いる方法がある。好まし
い方法はワイプフィルムエバポレーターを用いる方法で
ある。
【００４０】本発明の他の好ましい態様においては、可
撓性シート材料、例えば紙、金属フォイル又はテープ状
シート材料、を液体硬化性組成物の薄膜で、好ましくは
連続的方法で被覆し、次いでこうして被覆された材料を
加熱し及び／又は照射して皮膜を急速に硬化して、その
少なくとも片面に接着剤剥離性皮膜を有するシート状材
料を与える。続いてこの接着剤皮膜を、好ましくはイン
ラインで感圧接着剤と接触させ、剥離性の接着剤／皮膜
境界を持った物品を形成する。そのような物品の例とし
ては、剥離性バッキングを持った接着性ラベル、ロール
状に巻いた接着性テープ及び剥ぎ取り可能な容器中に包
装した接着剤がある。この感圧接着剤は、非シリコーン
系のもの、例えば周知のアクリル系又はゴム系のもので
ありえ、また、シリコーン系の、例えば過酸化物−又は
白金−硬化性ポリジオルガノシロキサン系の接着剤であ
り得る。
撓性シート材料、例えば紙、金属フォイル又はテープ状
シート材料、を液体硬化性組成物の薄膜で、好ましくは
連続的方法で被覆し、次いでこうして被覆された材料を
加熱し及び／又は照射して皮膜を急速に硬化して、その
少なくとも片面に接着剤剥離性皮膜を有するシート状材
料を与える。続いてこの接着剤皮膜を、好ましくはイン
ラインで感圧接着剤と接触させ、剥離性の接着剤／皮膜
境界を持った物品を形成する。そのような物品の例とし
ては、剥離性バッキングを持った接着性ラベル、ロール
状に巻いた接着性テープ及び剥ぎ取り可能な容器中に包
装した接着剤がある。この感圧接着剤は、非シリコーン
系のもの、例えば周知のアクリル系又はゴム系のもので
ありえ、また、シリコーン系の、例えば過酸化物−又は
白金−硬化性ポリジオルガノシロキサン系の接着剤であ
り得る。
【００４１】本発明は、更に次の式で示されるビニルエ
ーテル官能性オルガノポリシロキサン化合物に関する：
ーテル官能性オルガノポリシロキサン化合物に関する：
【００４２】
【化４】
【００４３】ここに、Ｒ4 は一価の炭素原子数１〜２０
の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ5 はＲ4 又
は少なくとも１つのビニルエーテル基を持った一価の炭
化水素基又はハロ炭化水素基であり、ａは０〜１０００
の値を取り、ｂは０〜２００の値を取り、但し分子中に
少なくとも１つのビニルエーテル基が存在する。１価の
炭化水素基Ｒ4 は、好ましい例を含んで、上述の１価の
炭化水素基又はハロ炭化水素基を表す。Ｒ4 はメチルで
あることが非常に好ましい。また、Ｒ5 は、式（ａ）−
ＣＨ2 ＣＨ2 （ＯＲ6)c ＯＣＨ＝ＣＨ2 又は（ｂ）（Ｈ
2 Ｃ＝ＣＨＯＲ 6)z ＣＲ7 3-z（ＯＲ6)c ＣＨ2 ＣＨ
2 （ここに、Ｒ6 は炭素原子数１〜２０の２価の炭化水
素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ7 は炭素原子数１〜
２０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水
素原子であり、ｃは１〜３の値を取り、ｚは１又は２の
値を取る）で示されるビニルエーテル基であることが好
ましい。Ｒ6 のうち２価の炭化水素基の例としては、ア
ルキレン基、例えばメチレン、エチレン、トリメチレ
ン、２−メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン、３−エチル−ヘキサメチレン、オクタメチレ
ン、−ＣＨ2 （ＣＨ3 ）ＣＨ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−
ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 −及び−（ＣＨ2 ）18−；
シクロアルキレン基、例えばシクロヘキシレン；アリー
レン基、例えばフェニレン並びに２価の炭化水素基の組
み合わせ、例えばベンジレン、即ち−Ｃ6 Ｈ 4 ＣＨ2 −
が挙げられる。
の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ5 はＲ4 又
は少なくとも１つのビニルエーテル基を持った一価の炭
化水素基又はハロ炭化水素基であり、ａは０〜１０００
の値を取り、ｂは０〜２００の値を取り、但し分子中に
少なくとも１つのビニルエーテル基が存在する。１価の
炭化水素基Ｒ4 は、好ましい例を含んで、上述の１価の
炭化水素基又はハロ炭化水素基を表す。Ｒ4 はメチルで
あることが非常に好ましい。また、Ｒ5 は、式（ａ）−
ＣＨ2 ＣＨ2 （ＯＲ6)c ＯＣＨ＝ＣＨ2 又は（ｂ）（Ｈ
2 Ｃ＝ＣＨＯＲ 6)z ＣＲ7 3-z（ＯＲ6)c ＣＨ2 ＣＨ
2 （ここに、Ｒ6 は炭素原子数１〜２０の２価の炭化水
素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ7 は炭素原子数１〜
２０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水
素原子であり、ｃは１〜３の値を取り、ｚは１又は２の
値を取る）で示されるビニルエーテル基であることが好
ましい。Ｒ6 のうち２価の炭化水素基の例としては、ア
ルキレン基、例えばメチレン、エチレン、トリメチレ
ン、２−メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘキサ
メチレン、３−エチル−ヘキサメチレン、オクタメチレ
ン、−ＣＨ2 （ＣＨ3 ）ＣＨ−、−（ＣＨ2 ）4 −、−
ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3 ）ＣＨ2 −及び−（ＣＨ2 ）18−；
シクロアルキレン基、例えばシクロヘキシレン；アリー
レン基、例えばフェニレン並びに２価の炭化水素基の組
み合わせ、例えばベンジレン、即ち−Ｃ6 Ｈ 4 ＣＨ2 −
が挙げられる。
【００４４】Ｒ6 としての２価のハロ炭化水素基の例
は、１又はそれ以上の水素原子がハロゲン、例えばフッ
素、塩素又は臭素で置き代わったいずれかの２価の炭化
水素基を含む。好ましくは２価のハロ炭化水素基は式−
ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃn Ｆ2nＣＨ2 ＣＨ2 −（ここにｎは１〜
１０の値を取る）、例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ2
ＣＨ2 ＣＨ2 −で示される。好ましくは式（ａ）中のＲ
6 は炭素原子数６〜８のアルキレン基であり、式（ａ）
中のＲ6 はヘキシレン及びシクロヘキシルジメチレンか
ら選ばれるのが非常に好ましい。好ましくは、式（ｂ）
中のＲ6 はメチレンである。式（ｂ）中の１価の炭化水
素基Ｒ7 は、好ましい例を含めて上述した炭化水素基又
はハロ炭化水素基を含む。本発明においてＲ7 はメチル
であることが非常に好ましい。
は、１又はそれ以上の水素原子がハロゲン、例えばフッ
素、塩素又は臭素で置き代わったいずれかの２価の炭化
水素基を含む。好ましくは２価のハロ炭化水素基は式−
ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃn Ｆ2nＣＨ2 ＣＨ2 −（ここにｎは１〜
１０の値を取る）、例えば−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＦ2 ＣＦ2
ＣＨ2 ＣＨ2 −で示される。好ましくは式（ａ）中のＲ
6 は炭素原子数６〜８のアルキレン基であり、式（ａ）
中のＲ6 はヘキシレン及びシクロヘキシルジメチレンか
ら選ばれるのが非常に好ましい。好ましくは、式（ｂ）
中のＲ6 はメチレンである。式（ｂ）中の１価の炭化水
素基Ｒ7 は、好ましい例を含めて上述した炭化水素基又
はハロ炭化水素基を含む。本発明においてＲ7 はメチル
であることが非常に好ましい。
【００４５】本発明にとって、ａは１５〜９０の値を取
り、ｂは０．５〜２０の値を取るのが好ましい。ａが７
０〜９０の値を取り、ｂが５〜１５の値を取るのが特に
好ましい。
り、ｂは０．５〜２０の値を取るのが好ましい。ａが７
０〜９０の値を取り、ｂが５〜１５の値を取るのが特に
好ましい。
【００４６】本発明は更に、（Ａ）ビニルエーテル官能
性ポリシロキサン化合物及び（Ｂ）光開裂性酸を含む硬
化性被覆組成物に関する。このビニルエーテル官能性ポ
リシロキサン化合物は、その好ましい態様を含めて上に
述べた。この発明の硬化性被覆組成物において、この組
成物の全重量を基準として、９５〜９９．５ｗｔ％のビ
ニルエーテル官能性ポリシロキサンが使用されることが
好ましく、９７〜９９ｗｔ％が使用されることが非常に
好ましい。
性ポリシロキサン化合物及び（Ｂ）光開裂性酸を含む硬
化性被覆組成物に関する。このビニルエーテル官能性ポ
リシロキサン化合物は、その好ましい態様を含めて上に
述べた。この発明の硬化性被覆組成物において、この組
成物の全重量を基準として、９５〜９９．５ｗｔ％のビ
ニルエーテル官能性ポリシロキサンが使用されることが
好ましく、９７〜９９ｗｔ％が使用されることが非常に
好ましい。
【００４７】本発明の硬化性被覆組成物は、更に（Ｃ）
反応性希釈剤を含みうる。前記反応性希釈剤が式（ＣＨ
2 ＝ＣＨＯＲ8)d ＣＲ9 4-d（ここに、Ｒ8 は炭素原子数
１〜２０の２価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であ
り、Ｒ9 は炭素原子数１〜２０の１価の炭化水素基もし
くはハロ炭化水素基又は水素原子であり、ｄは１〜３の
値を取る）で示される有機ビニルエーテル化合物である
ことが、本発明にとって好ましい。前記２価の炭化水素
基又はハロ炭化水素基は、好ましい態様を含めて、前記
ビニルエーテル官能性ポリシロキサンについて述べたの
と同じである。前記１価の炭化水素基は、その好ましい
態様を含めて上に述べたのと同じである。
反応性希釈剤を含みうる。前記反応性希釈剤が式（ＣＨ
2 ＝ＣＨＯＲ8)d ＣＲ9 4-d（ここに、Ｒ8 は炭素原子数
１〜２０の２価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であ
り、Ｒ9 は炭素原子数１〜２０の１価の炭化水素基もし
くはハロ炭化水素基又は水素原子であり、ｄは１〜３の
値を取る）で示される有機ビニルエーテル化合物である
ことが、本発明にとって好ましい。前記２価の炭化水素
基又はハロ炭化水素基は、好ましい態様を含めて、前記
ビニルエーテル官能性ポリシロキサンについて述べたの
と同じである。前記１価の炭化水素基は、その好ましい
態様を含めて上に述べたのと同じである。
【００４８】この発明の組成物にとって、有効量の反応
性希釈剤が必要であり、この量はこの組成物の全重量を
基準にして０．１〜１０ｗｔ％である。この組成物の全
重量を基準にして１〜５ｗｔ％の希釈剤を使用すること
が非常に好ましい。
性希釈剤が必要であり、この量はこの組成物の全重量を
基準にして０．１〜１０ｗｔ％である。この組成物の全
重量を基準にして１〜５ｗｔ％の希釈剤を使用すること
が非常に好ましい。
【００４９】本発明の方法と組成物は、感圧接着剤以外
の接着材料にも適用できる。その例としては食品、アス
ファルト及びガムポリマー類がある。感圧接着剤用の、
保護皮膜及び装飾皮膜としての剥離皮膜として有用であ
る。
の接着材料にも適用できる。その例としては食品、アス
ファルト及びガムポリマー類がある。感圧接着剤用の、
保護皮膜及び装飾皮膜としての剥離皮膜として有用であ
る。
【００５０】本発明方法で調製される組成物及び本発明
の硬化性被覆組成物は、どんな任意成分も、例えば光増
感剤、高剥離性添加剤、補強充填材、増量充填材、脂肪
族不飽和のない炭化水素類及びハロ炭化水素類、着色
剤、染料、防腐剤、芳香剤、安定剤、接着性改質剤並び
に接着剤剥離改質剤も、含みうる。好ましくは、任意成
分が占めるのは全組成物の２５ｗｔ％未満であるべきで
ある。
の硬化性被覆組成物は、どんな任意成分も、例えば光増
感剤、高剥離性添加剤、補強充填材、増量充填材、脂肪
族不飽和のない炭化水素類及びハロ炭化水素類、着色
剤、染料、防腐剤、芳香剤、安定剤、接着性改質剤並び
に接着剤剥離改質剤も、含みうる。好ましくは、任意成
分が占めるのは全組成物の２５ｗｔ％未満であるべきで
ある。
【００５１】本発明方法は、へら、ドラムローラー、機
械的攪拌機、三本ロール練り機、シグマブレードミキサ
ー、ブレッドドウミキサー（ｂｒｅａｄ ｄｏｕｇｈ
ｍｉｘｅｒ）及び二本ロール機のようないずれかの適当
な混合手段を用いて、上述の諸材料及び必要に応じてい
ずれかの任意成分を、上述の順序で混合することにより
完了することができる。
械的攪拌機、三本ロール練り機、シグマブレードミキサ
ー、ブレッドドウミキサー（ｂｒｅａｄ ｄｏｕｇｈ
ｍｉｘｅｒ）及び二本ロール機のようないずれかの適当
な混合手段を用いて、上述の諸材料及び必要に応じてい
ずれかの任意成分を、上述の順序で混合することにより
完了することができる。
【００５２】
【実施例】以下の例は本発明を更に説明するために記載
されるものであるが、本発明は特許請求の範囲に適切に
記載されている。特に断らない限り、全ての量（部及び
パーセンテージ）は重量基準である。
されるものであるが、本発明は特許請求の範囲に適切に
記載されている。特に断らない限り、全ての量（部及び
パーセンテージ）は重量基準である。
【００５３】（例１）攪拌機、凝縮器、温度計及び加熱
マントルを備えた三つ口フラスコに、３３．３７ｇの次
式で示されるビニルエーテル化合物を入れた：
マントルを備えた三つ口フラスコに、３３．３７ｇの次
式で示されるビニルエーテル化合物を入れた：
【００５４】
【化５】
【００５５】次に、０．２５６ｇの白金触媒（塩化白金
酸及びジビニルテトラメチルジシランから形成される
０．６７％の白金を含む可溶性白金錯体）を、２０ppm
で、三つ口フラスコに加え、この混合物を６０℃に加熱
した。次いで、５０ｇの式Ｈ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭ
ｅ2)95（ＯＳｉＨＭｅ）3 ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示され
るシロキサンコポリマーを、添加ロートを経由してゆっ
くりと前記混合物に加え、次いで得られた混合物を温度
７４℃に発熱させた。シロキサンコポリマーの添加が完
了した後、全てのＳｉＨ物質が消費されるまで、この混
合物を６０℃に加熱し続けた。次いで、過剰のビニルエ
ーテルの殆どを、１５０℃、０．４〜０．５ｋＰａ（３
〜４mmHg）で、ロートエバポレーター上に移した。麦わ
ら色の生成物が得られた。この反応で得られたコポリマ
ーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)95（ＯＳｉＭｅＲ）3
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは次式で示される。
酸及びジビニルテトラメチルジシランから形成される
０．６７％の白金を含む可溶性白金錯体）を、２０ppm
で、三つ口フラスコに加え、この混合物を６０℃に加熱
した。次いで、５０ｇの式Ｈ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭ
ｅ2)95（ＯＳｉＨＭｅ）3 ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示され
るシロキサンコポリマーを、添加ロートを経由してゆっ
くりと前記混合物に加え、次いで得られた混合物を温度
７４℃に発熱させた。シロキサンコポリマーの添加が完
了した後、全てのＳｉＨ物質が消費されるまで、この混
合物を６０℃に加熱し続けた。次いで、過剰のビニルエ
ーテルの殆どを、１５０℃、０．４〜０．５ｋＰａ（３
〜４mmHg）で、ロートエバポレーター上に移した。麦わ
ら色の生成物が得られた。この反応で得られたコポリマ
ーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)95（ＯＳｉＭｅＲ）3
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは次式で示される。
【００５６】
【化６】
【００５７】次いで、０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ
+ ＳｂＦ6 - を、得られたポリマー１０ｇに加え、充分
に混合し、この材料の厚さ１〜２μm の薄いフィルム
を、Ｍｙｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次
いでこのフィルムをＦｕｓｉｏｎＵＶプロセッサー上で
単一の１１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に
暴露し、１５２．４ｍ／分（５００フィート／分）より
大きな速度で硬化させた。このサンプルを０．０５ＭＪ
／ｋｇ（０．５Ｍラド）でＥＢ照射して硬化させた。
+ ＳｂＦ6 - を、得られたポリマー１０ｇに加え、充分
に混合し、この材料の厚さ１〜２μm の薄いフィルム
を、Ｍｙｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次
いでこのフィルムをＦｕｓｉｏｎＵＶプロセッサー上で
単一の１１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に
暴露し、１５２．４ｍ／分（５００フィート／分）より
大きな速度で硬化させた。このサンプルを０．０５ＭＪ
／ｋｇ（０．５Ｍラド）でＥＢ照射して硬化させた。
【００５８】（例２）例１と同様にして組成物を調製し
た。但し、例１のビニルエーテル化合物を用いる代わり
に、１３７．５３ｇの式Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ
ＣＨ2 ＣＨ2ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示される
ビニルエーテル化合物を三つ口フラスコに加え、１００
ｇの例１のシロキサンコポリマーを用い、０．４２ｇの
白金触媒（塩化白金酸及びジビニルテトラメチルジシラ
ンから形成される０．６７％の白金を含む可溶性白金錯
体）を、１１ppm で、触媒として用いた。再び、過剰の
ビニルエーテルの殆どを、１５０℃、０．４〜０．５ｋ
Ｐａ（３〜４mmHg）で、ロートエバポレーター上に移し
た。再び、麦わら色の生成物が得られた。この反応で得
られたコポリマーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)95（ＯＳｉＭｅＲ）3
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは式−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2
ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示される。次い
で、０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、
得られたコポリマー１０ｇに加え、この混合物を充分に
攪拌し、次いで、得られた混合物を、この材料の厚さ１
〜２μm の薄いフィルムの形で、Ｍｙｌｅｒ（商標）タ
イプＡフィルム上に塗り、次いでこのフィルムをＦｕｓ
ｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一の１１．８ワット／
mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露し、１５２．４ｍ／
分（５００フィート／分）より大きな速度で硬化させ
た。このサンプルを０．０２５ＭＪ／ｋｇ（２．５Ｍラ
ド）でＥＢ照射して硬化させた。
た。但し、例１のビニルエーテル化合物を用いる代わり
に、１３７．５３ｇの式Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ
ＣＨ2 ＣＨ2ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示される
ビニルエーテル化合物を三つ口フラスコに加え、１００
ｇの例１のシロキサンコポリマーを用い、０．４２ｇの
白金触媒（塩化白金酸及びジビニルテトラメチルジシラ
ンから形成される０．６７％の白金を含む可溶性白金錯
体）を、１１ppm で、触媒として用いた。再び、過剰の
ビニルエーテルの殆どを、１５０℃、０．４〜０．５ｋ
Ｐａ（３〜４mmHg）で、ロートエバポレーター上に移し
た。再び、麦わら色の生成物が得られた。この反応で得
られたコポリマーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)95（ＯＳｉＭｅＲ）3
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは式−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2
ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示される。次い
で、０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、
得られたコポリマー１０ｇに加え、この混合物を充分に
攪拌し、次いで、得られた混合物を、この材料の厚さ１
〜２μm の薄いフィルムの形で、Ｍｙｌｅｒ（商標）タ
イプＡフィルム上に塗り、次いでこのフィルムをＦｕｓ
ｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一の１１．８ワット／
mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露し、１５２．４ｍ／
分（５００フィート／分）より大きな速度で硬化させ
た。このサンプルを０．０２５ＭＪ／ｋｇ（２．５Ｍラ
ド）でＥＢ照射して硬化させた。
【００５９】（例３）式Ｈ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ
2)93（ＯＳｉＨＭｅ）5 ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示される
シロキサンコポリマー５ｇ及び例１で用いたビニルエー
テル化合物４．６０５ｇを、反応に用いた他は例１と同
様にして再び本発明の組成物を調製した。この例では、
過剰のビニルエーテルは除かなかった。麦わら色の生成
物が再び得られた。この反応で得られたコポリマーは次
式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)93（ＯＳｉＭｅＲ）5
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは次式で示される。
2)93（ＯＳｉＨＭｅ）5 ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示される
シロキサンコポリマー５ｇ及び例１で用いたビニルエー
テル化合物４．６０５ｇを、反応に用いた他は例１と同
様にして再び本発明の組成物を調製した。この例では、
過剰のビニルエーテルは除かなかった。麦わら色の生成
物が再び得られた。この反応で得られたコポリマーは次
式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)93（ＯＳｉＭｅＲ）5
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは次式で示される。
【００６０】
【化７】
【００６１】次いで、０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ
+ ＳｂＦ6 - を、得られたコポリマー１０ｇに加え、こ
の混合物を充分に攪拌し、次いで、得られた混合物を、
この材料の厚さ１〜２μm の薄いフィルムの形で、Ｍｙ
ｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次いでこの
フィルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一の
１１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露
し、５６ｍＪ／cm2 で硬化させた。このサンプルを０．
０２５ＭＪ／ｋｇ（２．５Ｍラド）でＥＢ照射して硬化
させた。
+ ＳｂＦ6 - を、得られたコポリマー１０ｇに加え、こ
の混合物を充分に攪拌し、次いで、得られた混合物を、
この材料の厚さ１〜２μm の薄いフィルムの形で、Ｍｙ
ｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次いでこの
フィルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一の
１１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露
し、５６ｍＪ／cm2 で硬化させた。このサンプルを０．
０２５ＭＪ／ｋｇ（２．５Ｍラド）でＥＢ照射して硬化
させた。
【００６２】（例４）式Ｈ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ
2)88（ＯＳｉＭｅＨ）10ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示される
シロキサンコポリマー７５ｇ、式Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＣＨ2
ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示さ
れるビニルエーテル化合物１０５．４ｇ及び０．２８ｇ
の白金触媒（塩化白金酸及びジビニルテトラメチルジシ
ランから形成される０．６７％の白金を含む可溶性白金
錯体）を、反応に用いた他は再び例１と同様にして本発
明の組成物を調製した。この例では、この混合物を温度
６９℃に発熱させた。シロキサンコポリマーの添加が完
了した後、全てのＳｉＨ物質が消費されるまで、この混
合物を６５℃に加熱し続けた。この例では、過剰のビニ
ルエーテルは除かなかった。この反応で得られたコポリ
マーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)88（ＯＳｉＭｅＲ）10
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは式−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示される。次いで、
０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、得ら
れたコポリマー１０ｇに加え、この混合物を充分に攪拌
し、次いで、得られた混合物を、この材料の厚さ２μm
の薄いフィルムの形で、Ｍｙｌｅｒ（商標）タイプＡフ
ィルム上に塗り、次いでこのフィルムをＦｕｓｉｏｎ
ＵＶプロセッサー上で単一の１１．８ワット／mm（３０
０Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露し、３５ｍＪ／cm2 で硬化さ
せた。このサンプルを０．０１ＭＪ／ｋｇ（１．０Ｍラ
ド）でＥＢ照射して硬化させた。
2)88（ＯＳｉＭｅＨ）10ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示される
シロキサンコポリマー７５ｇ、式Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＣＨ2
ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示さ
れるビニルエーテル化合物１０５．４ｇ及び０．２８ｇ
の白金触媒（塩化白金酸及びジビニルテトラメチルジシ
ランから形成される０．６７％の白金を含む可溶性白金
錯体）を、反応に用いた他は再び例１と同様にして本発
明の組成物を調製した。この例では、この混合物を温度
６９℃に発熱させた。シロキサンコポリマーの添加が完
了した後、全てのＳｉＨ物質が消費されるまで、この混
合物を６５℃に加熱し続けた。この例では、過剰のビニ
ルエーテルは除かなかった。この反応で得られたコポリ
マーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)88（ＯＳｉＭｅＲ）10
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは式−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝ＣＨ2 で示される。次いで、
０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、得ら
れたコポリマー１０ｇに加え、この混合物を充分に攪拌
し、次いで、得られた混合物を、この材料の厚さ２μm
の薄いフィルムの形で、Ｍｙｌｅｒ（商標）タイプＡフ
ィルム上に塗り、次いでこのフィルムをＦｕｓｉｏｎ
ＵＶプロセッサー上で単一の１１．８ワット／mm（３０
０Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露し、３５ｍＪ／cm2 で硬化さ
せた。このサンプルを０．０１ＭＪ／ｋｇ（１．０Ｍラ
ド）でＥＢ照射して硬化させた。
【００６３】（例５）式Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ
ＣＨ＝ＣＨ2 で示されるビニルエーテル化合物７０．８
６ｇ及び０．２８ｇの白金触媒（塩化白金酸及びジビニ
ルテトラメチルジシランから形成される０．６７％の白
金を含む可溶性白金錯体）を、反応に用いた他は再び例
４と同様にして本発明の組成物を調製した。この例で
は、この混合物を温度６９℃に発熱させた。ＳｉＨ官能
性ポリマーの添加が完了した後、全てのＳｉＨ物質が消
費されるまで、この混合物を６５℃に加熱し続けた。過
剰のビニルエーテルを除いた。この反応で得られたコポ
リマーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)88（ＯＳｉＭｅＲ）10
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは式−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝
ＣＨ2 で示される。次いで、０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐ
ｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、得られたコポリマー１０ｇに加
え、この混合物を充分に攪拌し、次いで、得られた混合
物を、この材料の厚さ２μm の薄いフィルムの形で、Ｍ
ｙｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次いでこ
のフィルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一
の１１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露
し、２２０ｍＪ／cm2 で硬化させた。このサンプルを
０．０３ＭＪ／ｋｇ（３．０Ｍラド）でＥＢ照射して硬
化させた。
ＣＨ＝ＣＨ2 で示されるビニルエーテル化合物７０．８
６ｇ及び０．２８ｇの白金触媒（塩化白金酸及びジビニ
ルテトラメチルジシランから形成される０．６７％の白
金を含む可溶性白金錯体）を、反応に用いた他は再び例
４と同様にして本発明の組成物を調製した。この例で
は、この混合物を温度６９℃に発熱させた。ＳｉＨ官能
性ポリマーの添加が完了した後、全てのＳｉＨ物質が消
費されるまで、この混合物を６５℃に加熱し続けた。過
剰のビニルエーテルを除いた。この反応で得られたコポ
リマーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)88（ＯＳｉＭｅＲ）10
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは式−ＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ2 ＣＨ2 ＯＣＨ＝
ＣＨ2 で示される。次いで、０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐ
ｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、得られたコポリマー１０ｇに加
え、この混合物を充分に攪拌し、次いで、得られた混合
物を、この材料の厚さ２μm の薄いフィルムの形で、Ｍ
ｙｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次いでこ
のフィルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一
の１１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露
し、２２０ｍＪ／cm2 で硬化させた。このサンプルを
０．０３ＭＪ／ｋｇ（３．０Ｍラド）でＥＢ照射して硬
化させた。
【００６４】（例６）式Ｈ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ
2)93（ＯＳｉＨＭｅ）5 ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示される
シロキサンコポリマー５ｇ、次式で示されるビニルエー
テル化合物１０１．２ｇ：
2)93（ＯＳｉＨＭｅ）5 ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｈで示される
シロキサンコポリマー５ｇ、次式で示されるビニルエー
テル化合物１０１．２ｇ：
【００６５】
【化８】
【００６６】及び０．４６４ｇの白金触媒（塩化白金酸
及びジビニルテトラメチルジシランから形成される０．
６７％の白金を含む可溶性白金錯体）を、反応に用いた
他は再び例１と同様にして本発明の組成物を調製した。
この例では、この混合物を温度６９℃に発熱させた。Ｓ
ｉＨ官能性ポリマーの添加が完了した後、全てのＳｉＨ
物質が消費されるまで、この混合物を６５℃に加熱し続
けた。この例では、過剰のビニルエーテルは除かなかっ
た。この反応で得られたコポリマーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)93（ＯＳｉＭｅＲ）5
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは次式で示される。
及びジビニルテトラメチルジシランから形成される０．
６７％の白金を含む可溶性白金錯体）を、反応に用いた
他は再び例１と同様にして本発明の組成物を調製した。
この例では、この混合物を温度６９℃に発熱させた。Ｓ
ｉＨ官能性ポリマーの添加が完了した後、全てのＳｉＨ
物質が消費されるまで、この混合物を６５℃に加熱し続
けた。この例では、過剰のビニルエーテルは除かなかっ
た。この反応で得られたコポリマーは次式で示された： Ｒ（Ｍｅ）2 Ｓｉ（ＯＳｉＭｅ2)93（ＯＳｉＭｅＲ）5
ＯＳｉ（Ｍｅ）2 Ｒ ここに、Ｒは次式で示される。
【００６７】
【化９】
【００６８】次いで、０．０１ｇの（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ
+ ＳｂＦ6 - を、得られたコポリマー１０ｇに加え、こ
の混合物を充分に攪拌し、次いで、得られた混合物を、
この材料の厚さ２μm の薄いフィルムの形で、Ｍｙｌｅ
ｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次いでこのフィ
ルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一の１
１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露し、
５０ｍＪ／cm2 で硬化させた。このサンプルを０．０１
５ＭＪ／ｋｇ（１．５Ｍラド）でＥＢ照射して硬化させ
た。次いで、５ｗｔ％の次式で示される有機ビニルエー
テル化合物
+ ＳｂＦ6 - を、得られたコポリマー１０ｇに加え、こ
の混合物を充分に攪拌し、次いで、得られた混合物を、
この材料の厚さ２μm の薄いフィルムの形で、Ｍｙｌｅ
ｒ（商標）タイプＡフィルム上に塗り、次いでこのフィ
ルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプロセッサー上で単一の１
１．８ワット／mm（３００Ｗ／インチ）Ｈ球に暴露し、
５０ｍＪ／cm2 で硬化させた。このサンプルを０．０１
５ＭＪ／ｋｇ（１．５Ｍラド）でＥＢ照射して硬化させ
た。次いで、５ｗｔ％の次式で示される有機ビニルエー
テル化合物
【００６９】
【化１０】
【００７０】をこのコポリマーに加えた。次いで、２．
０ｗｔ％の（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、得られ
た混合物１０ｇに加え、この混合物を充分に攪拌し、次
いで、得られた混合物を、この材料の厚さ２μm の薄い
フィルムの形で、Ｍｙｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム
上に塗り、次いでこのフィルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプ
ロセッサー上で単一の１１．８ワット／mm（３００Ｗ／
インチ）Ｈ球に暴露し、３０ｍＪ／cm2 未満で硬化させ
た。このサンプルを０．０１ＭＪ／ｋｇ（１．０Ｍラ
ド）でＥＢ照射して硬化させた。
０ｗｔ％の（Ｃ12Ｈ25Ｐｈ)2Ｉ+ ＳｂＦ6 - を、得られ
た混合物１０ｇに加え、この混合物を充分に攪拌し、次
いで、得られた混合物を、この材料の厚さ２μm の薄い
フィルムの形で、Ｍｙｌｅｒ（商標）タイプＡフィルム
上に塗り、次いでこのフィルムをＦｕｓｉｏｎ ＵＶプ
ロセッサー上で単一の１１．８ワット／mm（３００Ｗ／
インチ）Ｈ球に暴露し、３０ｍＪ／cm2 未満で硬化させ
た。このサンプルを０．０１ＭＪ／ｋｇ（１．０Ｍラ
ド）でＥＢ照射して硬化させた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 スーザン ビクトリア パーツ アメリカ合衆国，ミシガン，エセックスビ ル，オールド オーチャード ３ 409 (72)発明者 ティモシー ジョン ディル アメリカ合衆国，ミシガン，サギノー，コ ックビル ロード 6235
Claims (21)
- 【請求項１】 次の（Ａ）〜（Ｃ）を混合することを含
むビニルエーテル官能性シロキサンの製造方法： （Ａ）（ｉ）シラン類及び（ii）シロキサン類から選ば
れるケイ素化合物； （Ｂ）（ａ）Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲＯＣＨ＝ＣＨ2 （ｂ）
（Ｈ2 Ｃ＝ＣＨＯＲ）xＣＲ1 4-x及び（ｃ）これらの混
合物から選ばれるビニルエーテル化合物；並びに （Ｃ）ヒドロシリル化触媒。 但し、ここにＲは炭素原子数１〜２０の２価の炭化水素
基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ1 は炭素原子数１〜２
０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭化水素基又は水素
であり、ｘは３又は４の値を取り、前記シラン又はシロ
キサンはそれぞれ分子内にケイ素に結合した少なくとも
１つの水素基を持ち、ここにＣ2 Ｈ＝ＣＨＯ−含有分子
対ケイ素に結合した水素原子のモル比は１．０より大き
い。 - 【請求項２】 更に、前記混合物を加熱することを含む
請求項１の方法。 - 【請求項３】 更に、過剰の有機ビニルエーテルをスト
リッピングにより除くことを含む請求項１又は２の方
法。 - 【請求項４】 （ａ）中のＲが炭素原子数６〜８のアル
キレン基であり、（ｂ）中のＲがメチレンであり、Ｒ1
がメチルである請求項１、２又は３の方法。 - 【請求項５】 （ａ）中のＲがヘキシレン及びシクロヘ
キシルジメチレンから選ばれる請求項４の方法。 - 【請求項６】 前記シランが式（Ｒ2 Ｏ）y ＳｉＲ3 4-y
（ここに、Ｒ2 は炭素原子数１〜８の一価の炭化水素基
又はハロ炭化水素基であり、Ｒ3 は水素原子又はＲ2 で
あり、ｙは１〜３の値を取る）で示される請求項１〜５
のいずれかの方法。 - 【請求項７】 Ｒ2 がメチル、フェニル、ビニル及び５
−ヘキセニルから選ばれる請求項６の方法。 - 【請求項８】 前記シロキサンがオルガノ水素ポリシロ
キサンである請求項１〜７のいずれかの方法。 - 【請求項９】 前記オルガノ水素ポリシロキサンが式Ｙ
Ｍｅ2 ＳｉＯ（Ｍｅ 2 ＳｉＯ）p （ＭｅＹＳｉＯ）q Ｓ
ｉＭｅ2 Ｙ（ここに、Ｙは水素原子又はメチル基を表
し、Ｍｅはメチル基を表し、ｐ及びｑはそれぞれゼロ又
は１又はそれ以上の値を取り、ｐとｑの合計は２５℃で
１〜１００ミリパスカル−秒の粘度を与えるに充分な値
を取り、１分子当たり平均少なくとも２つのＹ基は水素
原子である）で示される、請求項８の方法。 - 【請求項１０】 前記ヒドロシリル化触媒が白金含有触
媒である請求項１〜９のいずれかの方法。 - 【請求項１１】 前記白金含有触媒が塩化白金酸のビニ
ルシロキサン錯体である請求項１０の方法。 - 【請求項１２】 次の（Ｉ）〜（IV）を含む硬化性皮膜
の製造方法： （Ｉ）請求項１のビニルエーテル官能性シロキサンを調
製し； （II）光開裂性酸を加え； （III)（II）で得られた混合物を固体の基体に被覆して
皮膜を形成し；そして （IV）前記皮膜を、これを硬化させるに充分な量の
（ｉ）化学線及び（ii）化学線と熱の組み合わせから選
ばれたエネルギー源に曝す。 - 【請求項１３】 前記光開裂性酸が、Ｒ2 Ｉ+ Ｍ
Ｘn - 、Ｒ3 Ｓ+ ＭＸn -、Ｒ3 Ｓｅ+ ＭＸn - 、Ｒ4
Ｐ+ ＭＸn - 及びＲ4 Ｎ+ ＭＸn - （ここに、各Ｒは、
独立に炭素原子数１〜３０の有機基であり、ＭＸn - は
非塩基性、非求核性陰イオンである）から選ばれるオニ
ウム塩である請求項１２の方法。 - 【請求項１４】 前記非塩基性、非求核性陰イオンがＢ
Ｆ4 - 、ＰＦ6 - 、ＡｓＦ6 - 、ＳｂＦ6 - 、ＳｂＣｌ
6 - 、ＨＳＯ4 - 、ＣｌＯ4 - 、ＦｅＣｌ4 - 、ＳｎＣ
ｌ6 - 及びＢｉＣｌ5 - から選ばれる請求項１３の方
法。 - 【請求項１５】 前記オニウム塩がビス（ドデシルフェ
ニル）ヨードニウムヘキサフルオロヒ酸塩、ビス（ドデ
シルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモン
酸塩及びジアルキルフェニルヨードニウムヘキサフルオ
ロアンチモン酸塩から選ばれる請求項１３の方法。 - 【請求項１６】 前記光開裂性酸が、次式で示されるニ
トロベンジルスルフォネートエステルである請求項１２
〜１５のいずれかの方法： 【化１】 ここに、Ｚはアルキル基、アリール基、アルキルアリー
ル基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アリール
基、ハロゲン置換アルキルアリール基、ニトロ置換アリ
ール基、ニトロ置換アルキルアリール基、ニトロ及びハ
ロゲンの置換基を有するアリール基、ニトロ及びハロゲ
ンの置換基を有するアルキルアリール基、並びに式Ｃ6
Ｈ4 ＳＯ3 ＣＨＲ’Ｃ6 Ｈ4-m Ｑm ( ＮＯ2)で示される
基から選ばれ；Ｒ’は水素原子、メチル基及びニトロ置
換アリール基であり；各Ｑは、独立に炭化水素基、ヒド
ロカルボノキシ基、ＮＯ2 、ハロゲン原子及び有機ケイ
素基から選ばれ、ｍは０、１又は２の値を取り、但しＱ
は酸基ではない。 - 【請求項１７】 更に、前記硬化され、被覆された皮膜
に感圧接着性組成物を剥離性を持って付着させることを
含む請求項１２の方法。 - 【請求項１８】 次の一般式を持つ化合物： 【化２】 ここに、Ｒ4 は１価の炭素原子数１〜２０の炭化水素基
又はハロ炭化水素基であり、Ｒ5 はＲ4 又は（ａ）−Ｃ
Ｈ2 ＣＨ2 （ＯＲ6)c ＯＣＨ＝ＣＨ2 及び（ｂ）（Ｈ2
Ｃ＝ＣＨＯＲ6)z ＣＲ7 4-z（ＯＲ6)c ＣＨ2 ＣＨ2 から
選ばれる式を有する基である（ここに、Ｒ6 は炭素原子
数１〜２０の２価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であ
り、Ｒ7 は炭素原子数１〜２０の１価の炭化水素基もし
くはハロ炭化水素基又は水素原子であり、ｃは１〜３の
値を取り、ｚは１又は２の値を取り、ａは０〜１０００
の値を取り、ｂは０〜２００の値を取り、但し（ａ）−
ＣＨ 2 ＣＨ2 （ＯＲ6)c ＯＣＨ＝ＣＨ2 及び（ｂ）（Ｈ
2 Ｃ＝ＣＨＯＲ6)z ＣＲ7 4-z（ＯＲ6)c ＣＨ2 ＣＨ2 か
ら選ばれる式を有する少なくとも１つの基が化合物中に
存在する。 - 【請求項１９】 請求項１８の化合物及び（Ｂ）光開裂
酸を含む被覆組成物。 - 【請求項２０】 前記組成物が更に（Ｃ）反応性希釈剤
を含む請求項１９の組成物。 - 【請求項２１】 前記反応性希釈剤が式（ＣＨ2 ＝ＣＨ
ＯＲ8)d ＣＲ9 4-d（ここに、Ｒ8 は炭素原子数１〜２０
の２価の炭化水素基又はハロ炭化水素基であり、Ｒ9 は
炭素原子数１〜２０の１価の炭化水素基もしくはハロ炭
化水素基又は水素原子であり、ｄは１〜３の値を取る）
で示される有機ビニルエーテル化合物である請求項２０
の組成物。
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|---|---|---|---|
| US6361693A | 1993-05-18 | 1993-05-18 | |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06345872A true JPH06345872A (ja) | 1994-12-20 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP (1) | JPH06345872A (ja) |
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Cited By (2)
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|---|---|---|---|---|
| JP2006336023A (ja) * | 1994-12-09 | 2006-12-14 | Dow Corning Corp | エーロゾル抑制剤組成物と硬化性シリコーンコーティング組成物の製造方法 |
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- 1994-05-18 JP JP10365594A patent/JPH06345872A/ja not_active Withdrawn
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