JPH06331317A - 寸法測定装置 - Google Patents

寸法測定装置

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JPH06331317A
JPH06331317A JP5148712A JP14871293A JPH06331317A JP H06331317 A JPH06331317 A JP H06331317A JP 5148712 A JP5148712 A JP 5148712A JP 14871293 A JP14871293 A JP 14871293A JP H06331317 A JPH06331317 A JP H06331317A
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JP5148712A
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Satoshi Yoneda
聡 米田
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Omron Tateisi Electronics Co
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 1次元受光センサを用いて物体の寸法を測定
する装置において、被測定物以外の塵や背景物等による
ノイズを除去すること。 【構成】 投光部3からの平行な光ビームをCCDセン
サ4で受光し、二値化部11で二値化してデータメモリ
12に保持する。そして被測定物5が移動する範囲をマ
スクメモリ17に保持する。データメモリ12の出力と
マスクメモリ17との論理積をアンド回路13でとり、
この出力によって被測定物5の寸法を測定するようにし
ている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はCCDイメージセンサを
用いて物体の寸法を測定する装置に関し、特にノイズの
除去に特徴を有する寸法測定装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来図9に示すように光源1とレンズ2
を有する投光部3から平行な光を1次元受光センサであ
るCCDセンサ4に向けて照射し、投光部3とCCDセ
ンサ4との間に被測定物5を配置してその影をCCDセ
ンサ4に投影することより物体の寸法を測定するように
した装置が知られている。このような装置においては、
クロック発生部6より一定のクロック信号をCCDセン
サ4に入力し、各画素毎の直列信号を増幅器7を介して
比較部8によって比較する。比較部8には閾値設定部9
より所定の閾値が設定されており、比較部8によって二
値信号に変換している。そしてこの二値信号をゲート信
号として影の長さをクロックパルスを用いて計数し寸法
を測定している。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかるにこのような従
来の画像処理装置においては、受光面に塵や汚れが付着
していたりCCDセンサ4の特定の画素に欠陥があった
場合には、測定誤差の要因となる。又このような場合に
は測定精度が低下し、不要なデータが存在するため、計
測時間が長くなるという欠点があった。又測定すべき物
体の周囲に他の物体が接近しており、被測定物と他の物
体とを物理的に分離できなかったり、背景に他の物体が
入ってきた場合にも被測定物の測定が不可能となるとい
う欠点があった。このような場合には不良品を良品、良
品を不良品と判断してしまう恐れがあるという欠点があ
った。
【0004】本発明はこのような従来の問題点に鑑みて
なされたものであって、被測定物の近傍に塵や汚れがあ
ったり、被測定物と無関係な物体があっても、これらの
影響がなく被測定物のデータだけを識別できるようにす
ることを技術的課題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本願の請求項1の発明
は、平行な光ビームを投光する投光部と、投光部の光ビ
ームに対向して配置された1次元受光センサを含む受光
部と、受光部に得られる出力を二値化する二値化手段
と、投受光部間に配置される被測定物の移動範囲をあら
かじめ設定したマスクメモリと、マスクメモリの出力と
受光部より得られる二値化信号との論理積をとる論理積
回路と、論理積回路の出力に基づいて被測定物の寸法を
測定する計測・判定手段と、を具備することを特徴とす
るものである。
【0006】本願の請求項2の発明は、平行な光ビーム
を投光する投光部と、投光部の光ビームに対向して配置
された1次元受光センサを含む受光部と、受光部に得ら
れる出力を二値化する二値化手段と、あらかじめ正常な
状態の被測定物を投受光部間に配置したときに得られる
二値化データの計数値の範囲を記憶する記憶手段と、二
値化手段より得られる二値化信号に基づいて1次元受光
センサが遮光された領域の大きさを計数するカウンタ
と、カウンタの計数値と記憶手段の記憶値とを比較し、
記憶値の範囲内であると判定されたときにカウンタの計
数出力を被測定物の寸法として判別する比較手段と、を
具備することを特徴とするものである。
【0007】本願の請求項3の発明は、平行な光ビーム
を投光する投光部と、投光部の光ビームに対向して配置
された1次元受光センサを含む受光部と、受光部に得ら
れる出力を二値化する二値化手段と、二値化手段より得
られる出力のうち1次元受光センサのアドレスの端部よ
り遮光状態が判定されたときにこれを入光状態とし、1
次元受光センサの中央の遮光部分の幅を被測定物の寸法
として算出する算出手段と、を具備することを特徴とす
るものである。
【0008】
【作用】このような特徴を有する本願の請求項1の発明
によれば、投受光部間に被測定物を配置して投光部より
平行な光ビームを受光部側に照射する。こうすれば受光
部の1次元受光センサに被測定物の影に対応した信号が
得られ、この出力を二値化手段によって二値信号に変換
する。そして被測定物の移動範囲をあらかじめマスクメ
モリに設定しておき、この範囲と一致する範囲のみを被
測定物の検知範囲とする。そして論理積回路を介して1
次元受光センサの遮光された幅から被測定物の寸法を測
定するようにしている。
【0009】又本願の請求項2の発明では、記憶手段に
あらかじめ被測定物の寸法の基準値の幅を入力してお
く。そして投受光部間に被測定物を配置して受光部によ
って受光し、入力化部より得られる二値化信号に基づい
て受光センサで遮光された領域の大きさをカウンタによ
り計数する。そしてカウンタの計数値がこの基準値の範
囲内に入る場合にのみそのカウンタの計数値を被測定物
の寸法として判定している。
【0010】更に本願の請求項3の発明では、2次元受
光センサの受光範囲の端部から二値化部の出力が0レベ
ルとなる場合には、背景物が検知領域にかかっているも
のとしてこれを除いて受光範囲の中央部分の遮光されて
いる幅から被測定物の寸法を測定するようにしている。
【0011】
【実施例】図1は本発明の一実施例による寸法測定装置
の構成を示すブロック図である。本図において前述した
従来例と同一部分は同一符号を付して詳細な説明を省略
する。本実施例においては従来例と同様に光源1とその
光を平行光とするレンズ2を含む投光部3を有してお
り、この平行な光が物体検知領域を介して1次元受光セ
ンサであるCCDセンサ4に照射される。CCDセンサ
4にはタイミング制御部6より一定周期のクロック信号
が与えられる。さて本実施例においてはCCDセンサ4
の出力は増幅器7を介して二値化部11に与えられる。
二値化部11は入力信号を所定の閾値で弁別して二値化
信号に変換するものである。ここでCCDセンサ4及び
増幅器7は投光部3からの平行な光ビームを受光する受
光部を構成している。
【0012】二値化部11の出力はデータメモリ12及
びアンド回路13の反転入力端とモニタ14に与えられ
る。モニタ14はCCDセンサ4の全ての画素を走査し
た後、二値化された出力レベルを表示するものである。
そしてこの表示に基づいて被測定物5の存在する領域を
設定部15により設定する。設定部15の出力はCPU
16に入力される。CPU16はこの設定したアドレス
の範囲をマスクメモリ17に書込むものである。マスク
メモリ17はこのマスク範囲を保持しており、タイミン
グ制御部6からのタイミング信号に基づいてマスク信号
を出力するものである。このマスク信号はアンド回路1
3及びモニタ14に与えられる。さてアンド回路13は
これらの入力の論理積信号を計測・判定部18に与えて
いる。計測・判定部18はこの論理積信号に基づいてタ
イミング制御部6の出力を計数し、被測定物5の寸法を
出力するものである。又計測・判定部18は被測定物5
の良品の寸法範囲を記憶しておき、この範囲と一致する
場合にのみ良品であることを示す信号を出力するものと
してもよく、又寸法のデータをD/A変換器を介してア
ナログ値として出力するようにしてもよい。
【0013】次に本実施例の動作について説明する。ま
ず投光部3より平行な光を被測定物5を介して受光部に
照射する。ここでCCDセンサ4の前面には不要な塵や
汚れ19a,19bが付着しているものとする。その場
合図2(a)に一点鎖線で示す測定ラインに対して図2
(b)に示すような出力がCCDセンサ4から得られ
る。この信号を二値化部11によって二値化信号に変換
すれば、図2(c)に示すものとなる。さてモニタ14
ではこのような二値データを確認しつつ被測定物5以外
のものをマスクするためのマスクデータを図2(d)に
示すように設定する。このマスクの幅は被測定物5の最
大移動量や被測定物5のばらつきを考慮して設定するも
のとする。これは設定部15よりCPU16に設定する
ことによって行い、CPU16は設定されたデータをマ
スクメモリ17に保持する。こうすればマスクした計測
領域の設定が終了する。
【0014】次に実際の計測時には被測定物5を所定の
領域に配置した状態でCCDセンサ4からの二値化信号
の読出しと同期してマスクメモリ17のマスクデータを
読出す。そしてアンド回路13によってその出力の論理
積をとる。こうすれば図2(c),(e)に示すように
塵や汚れの部分A,Cは除去され、被測定物5の部分B
のみが計測・判定部18に出力されることとなる。従っ
てこの出力とタイミング制御部6から与えられるタイミ
ング信号を計数することにより、被測定物5の寸法を塵
や汚れ等の影響なく測定することができる。
【0015】次に第2実施例について説明する。第1実
施例では被測定物のマスクデータを設定部15から設定
するようにしているが、これに代えて被測定物5の寸法
として考えられる期待値を設定部15より設定する。そ
して塵のない状態で良品の被測定物5を投受光部間に配
置し、CCDセンサ4からのデータを二値化部11によ
って二値化してデータメモリ12内に保持する。尚ここ
では入光状態を1、遮光状態を0とする。次いでCPU
16はデータメモリ12のデータを読出して、データメ
モリ12に保持されている期待値に最も近く連続して0
が続く領域をサーチする。例えば図2(c)において領
域Bが判別される。この後、領域Bのスタートアドレス
Sb,エンドアドレスEbに夫々余裕分を加えて図2
(d)に示すようにマスクデータをマスクメモリ17に
書込む。その後の処理については第1実施例と同様であ
るので詳細な説明を省略する。
【0016】図3は本発明の第3実施例による寸法測定
装置の全体構成を示すブロック図であり、前述した第1
実施例と同一部分は同一符号を付して詳細な説明を省略
する。本実施例においてもCCDセンサ4の出力は二値
化部11によって二値化され、カウンタ21に入力され
る。カウンタ21は二値化部11の反転出力をゲート信
号としてタイミング制御部6からのタイミング信号を計
数することにより被測定物5で遮光される領域を計数す
るものであり、計数出力は比較部22及びアンド回路2
3に与えられる。本実施例においても設定部24より被
測定物の寸法として認められる範囲を最大値及び最小値
として設定する。例えば図2の場合には正常な測定物の
寸法Bに対して最小値(B−α)から最大値(B+α)
までを設定する。この設定値はCPU25を介して記憶
手段である判定レジスタ26に書込んでおく。そして実
際の寸法測定時には二値化部11の出力に基づいて得ら
れるカウンタ21からの計数値と判定レジスタ26の最
大値・最小値とが比較部22によって比較される。比較
部22は計数値がこの範囲内にある場合に計数値をアン
ド回路23を介して判定・出力部27に出力するもので
ある。ここでアンド回路23は比較結果に基づいてカウ
ンタの並列出力をそのまま判定・出力部に出力するもの
であり、実際には複数のアンド回路が同時に動作する回
路とする。判定・出力部27は得られた計数値に基づい
て被測定物5が正しい寸法の物かどうかを判定し、判定
結果を出力するものである。こうすれば判定出力部内で
塵や汚れ等の影響がなく、判定の対象となる被測定物5
のみを判定し、その良否を判別することができる。この
ため判定・出力部の処理時間を短縮することができる。
【0017】次に本発明の第4実施例について説明す
る。図4は本発明の第4実施例による寸法測定装置の全
体構成を示すブロック図であり、前述した各実施例と同
一部分は同一符号を付して詳細な説明を省略する。本実
施例においてもCCDセンサ4の出力は増幅器7を介し
て二値化部11に入力され、二値化部11による1又は
0の二値化信号がエッジ検出部31に与えられる。エッ
ジ検出部31は二値化出力の変化時点であるエッジを検
出するものであり、検出信号はエッジアドレスメモリ3
2に与えられる。エッジアドレスメモリ32はこのエッ
ジのアドレスを保持するものである。又CPU33はC
CDセンサ4の有効範囲の端部のアドレスがこのエッジ
アドレスと一致しているかどうかを判別し、一致してい
る場合にはそれにつながっている0レベルの二値データ
を背景であるとして無視する。そしてこれらにつながっ
ていない0レベルの二値データの長さのみを隣接するエ
ンドエッジアドレスとスタートエッジアドレスの差とし
て算出して判定・出力部34に与えるものである。判定
・出力部34はこの長さのみが所定値と一致しているか
どうかを判別して出力するものである。本実施例におい
てエッジ検出部31,エッジアドレスメモリ32及びC
PU33は、二値化手段より得られる出力のうちCCD
センサのアドレスの端部より遮光状態が判定されたとき
にこれを入光状態とし、その中央の遮光部分の幅を被測
定物の寸法として算出する算出手段を構成している。
【0018】次に第4実施例の動作について説明する。
図5は被測定物5の周囲に背景物35a,35bが近接
し、投光部3の光軸範囲に入ってCCDセンサ4で受光
された状態を示している。この場合には図5(b)に示
すようにCCDセンサ4より背景物35a,35b及び
被測定物5に遮光された範囲がLレベルとなる出力が得
られる。従って二値化部11でこれを二値化することに
よって図5(c)に示す出力が得られる。このような信
号が得られた場合には二値化部11の出力がエッジ検出
部31に与えられているため、エッジ検出部31よりこ
のエッジ、即ちS1,E1,S2,E2,S3,E3
(Sはスタートアドレス、Eはエンドアドレスを示す)
が検出され、これらはエッジアドレスメモリ32に与え
られる。一方CCDセンサ4の有効範囲はCCDアドレ
ス上で図5(d)のように示される。従ってCCDセン
サ4の有効範囲であるアドレスS0,E0と実質的に一
致しているエッジアドレスS1及びE3を含む領域X及
びZの0レベルの範囲はCPU33によって除かれ、こ
れらを含まないS2〜E2のアドレス範囲の計数値Yの
みがCPU33から判定・出力部34に与えられること
となる。判定・出力部34はこの長さを被測定物の長さ
としてその良否を判別している。こうすれば背景物を除
いて被測定物5の長さのみを判別することができる。
【0019】次に本発明の第5実施例について説明す
る。図6は第5実施例の構成を示すブロック図であり、
前述した各実施例と同一部分は同一符号を付して詳細な
説明を省略する。本実施例においては二値化部11の出
力はデータメモリ41に与えられる。データメモリ41
は二値化されたデータを保持するメモリであって、デー
タメモリ41にはCPU42が接続されている。CPU
42はデータメモリ41のデータを処理し、CCDアド
レスの開始及び終了時点で二値化出力が0であれば図5
に示すように背景の一部であると判断し、これを無視す
るものである。そして本実施例によるCPU42は、例
えば図5に示すような背景物35a,35bが被測定物
に近接してCCDセンサ4の測定範囲内に入っている場
合にも、その中間のYの領域のみを寸法の値に変換し、
判定・出力部43に出力するものである。判定・出力部
43はこの長さの情報を所定値内に入っているかどうか
を判別し、被測定物5の良・不良を判別している。ここ
でデータメモリ41とCPU42は、CCDセンサ4の
アドレスの端部より遮光状態が判定されたときにこれを
入光状態として中央の遮光部分の幅のみを被測定物の寸
法として算出する算出手段を構成している。
【0020】次に本発明の第6実施例について説明す
る。図7は第6実施例の構成を示すブロック図であり、
前述した各実施例と同一部分は同一符号を付して詳細な
説明を省略する。本実施例においても二値化部11の出
力はデータメモリ41に与えられる。データメモリ41
は二値化されたデータを保持するメモリであって、デー
タメモリ41にはCPU51が接続されている。CPU
51は図8(a),(b)に示すようにデータメモリの
CCDアドレスの開始及び終了時点での二値化出力が0
であれば、背景の一部であると判断して1に書換えるも
のである。即ち図8ではデータメモリ41の領域D及び
Eを図示のように0から1に書換えている。こうして書
換え処理を終えた後データメモリ41のデータを再び読
出し、カウンタ52に出力する。カウンタ52はタイミ
ング制御部6からのタイミング信号に基づいてこのデー
タの0レベルの数を計数するものであり、計数値は判定
・出力部43に与えられる。こうすればCCDの検知領
域の少なくとも一方から背景が光ビームの一部を被って
いる場合にも、誤動作なく被測定物5の寸法を測定する
ことができる。本実施例においてデータメモリ41,C
PU51及びカウンタ52は、CCDセンサ4のアドレ
スの端部より遮光状態が判別されたときにこれを入光状
態としてCCDセンサの中央の遮光部分の幅を被測定物
の寸法として算出する算出手段を構成している。
【0021】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本願の請求項
1,2の発明では、CCDセンサの検知領域の一部に塵
等が付着して又は汚れによって感度が低下している状態
でも、これらの影響を除去し正確に被測定物の寸法を測
定することができる。又本願の請求項3の発明では、検
知領域の端部より他の物体が接近して検知範囲内に入っ
ている場合に、この影響を除去して中央部分の被測定物
の寸法を測定することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例による寸法測定装置の全体
構成を示すブロック図である。
【図2】(a)は本実施例のCCDの測定ラインを示す
図、(b)〜(e)は各部の波形を示す波形図である。
【図3】本発明の第3実施例による寸法測定装置の全体
構成を示すブロック図である。
【図4】本発明の第4実施例による寸法測定装置の全体
構成を示すブロック図である。
【図5】(a)は本実施例のCCDの測定ラインを示す
図、(b)〜(d)は各部の波形を示す波形図である。
【図6】本発明の第5実施例による寸法測定装置の全体
構成を示すブロック図である。
【図7】本発明の第6実施例による寸法測定装置の全体
構成を示すブロック図である。
【図8】本発明の第6実施例におけるデータメモリのデ
ータ書換え状態を示す説明図である。
【図9】従来の寸法測定装置の構成を示すブロック図で
ある。
【符号の説明】
1 光源 2 レンズ 3 投光部 4 CCDセンサ 5 被測定物 6 タイミング制御部 11 二値化部 12,41 データメモリ 13,23 アンド回路 14 モニタ 15,24 設定部 16,25,33,42,51 CPU 17 マスクメモリ 18 計測・判定部 21,52 カウンタ 22 比較部 26 判定レジスタ 27,34,43 判定・出力部 31 エッジ検出部 32 エッジアドレスメモリ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平行な光ビームを投光する投光部と、 前記投光部の光ビームに対向して配置された1次元受光
    センサを含む受光部と、 前記受光部に得られる出力を二値化する二値化手段と、 前記投受光部間に配置される被測定物の移動範囲をあら
    かじめ設定したマスクメモリと、 前記マスクメモリの出力と前記受光部より得られる二値
    化信号との論理積をとる論理積回路と、 前記論理積回路の出力に基づいて被測定物の寸法を測定
    する計測・判定手段と、を具備することを特徴とする寸
    法測定装置。
  2. 【請求項2】 平行な光ビームを投光する投光部と、 前記投光部の光ビームに対向して配置された1次元受光
    センサを含む受光部と、 前記受光部に得られる出力を二値化する二値化手段と、 あらかじめ正常な状態の被測定物を前記投受光部間に配
    置したときに得られる二値化データの計数値の範囲を記
    憶する記憶手段と、 前記二値化手段より得られる二値化信号に基づいて1次
    元受光センサが遮光された領域の大きさを計数するカウ
    ンタと、 前記カウンタの計数値と前記記憶手段の記憶値とを比較
    し、記憶値の範囲内であると判定されたときに前記カウ
    ンタの計数出力を被測定物の寸法として判別する比較手
    段と、を具備することを特徴とする寸法測定装置。
  3. 【請求項3】 平行な光ビームを投光する投光部と、 前記投光部の光ビームに対向して配置された1次元受光
    センサを含む受光部と、 前記受光部に得られる出力を二値化する二値化手段と、 前記二値化手段より得られる出力のうち前記1次元受光
    センサのアドレスの端部より遮光状態が判定されたとき
    にこれを入光状態とし、前記1次元受光センサの中央の
    遮光部分の幅を被測定物の寸法として算出する算出手段
    と、を具備することを特徴とする寸法測定装置。
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