JPH06318587A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
- Publication number
- JPH06318587A JPH06318587A JP13124693A JP13124693A JPH06318587A JP H06318587 A JPH06318587 A JP H06318587A JP 13124693 A JP13124693 A JP 13124693A JP 13124693 A JP13124693 A JP 13124693A JP H06318587 A JPH06318587 A JP H06318587A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- cassette
- boat
- substrates
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 いわゆる前処理洗浄工程から酸化膜を形成す
る酸化工程までの間に基板の表面がパーティクル等で汚
染されないようにし、全体として迅速処理を図り、基板
処理装置の設置面積を小さくする。 【構成】 クリーンルーム作業域に臨む前方から保全用
作業域に臨む後方に向かって、カセット搬入搬出部１
と、基板移載部２と、洗浄処理部３と、基板乾燥部４
と、基板移替部５と、基板収納ボート５０に収容した基
板Ｗを熱処理する熱処理部６を一連に配置する。カセッ
トをカセット移載ロボット１０でカセット搬入搬出部１
から基板移載部２へ移載し、基板Ｗを基板搬送ロボット
１５で順次搬送して洗浄・乾燥・移し替えをする。基板
搬送ロボット１５から受け取った基板Ｗを基板移替部５
で基板収納ボート５０に移し替え、ボート搬送ロボット
８０で熱処理部６へ搬送し、熱処理をする。
る酸化工程までの間に基板の表面がパーティクル等で汚
染されないようにし、全体として迅速処理を図り、基板
処理装置の設置面積を小さくする。 【構成】 クリーンルーム作業域に臨む前方から保全用
作業域に臨む後方に向かって、カセット搬入搬出部１
と、基板移載部２と、洗浄処理部３と、基板乾燥部４
と、基板移替部５と、基板収納ボート５０に収容した基
板Ｗを熱処理する熱処理部６を一連に配置する。カセッ
トをカセット移載ロボット１０でカセット搬入搬出部１
から基板移載部２へ移載し、基板Ｗを基板搬送ロボット
１５で順次搬送して洗浄・乾燥・移し替えをする。基板
搬送ロボット１５から受け取った基板Ｗを基板移替部５
で基板収納ボート５０に移し替え、ボート搬送ロボット
８０で熱処理部６へ搬送し、熱処理をする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体基板（以下単に
基板と称する）のゲート酸化膜等を形成する前段のいわ
ゆる前処理洗浄工程と、当該酸化膜を形成する酸化工程
・ＣＶＤ工程等の熱処理を一連のものとして行うように
した基板処理装置に関する。
基板と称する）のゲート酸化膜等を形成する前段のいわ
ゆる前処理洗浄工程と、当該酸化膜を形成する酸化工程
・ＣＶＤ工程等の熱処理を一連のものとして行うように
した基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、基板製造用クリーンルームは、
図４に示すように、中央通路の左右にリソグラフィー工
程、洗浄工程、検査工程、ＣＶＤ工程、酸化工程、メタ
ライズ工程などの各ラインが配置され、各工程毎に基板
を収容したカセットの搬送路が分岐状にレイアウトされ
ている。そして、中央通路とカセット搬送路はクリーン
ルーム作業域１３０(図４の白地部分)として、その他は
保全用作業域１３１（図４の斜線部分）として形成され
ている。なお、保全用作業域１３１は、クリーンルーム
作業域１３０よりもクリーン度は劣る。
図４に示すように、中央通路の左右にリソグラフィー工
程、洗浄工程、検査工程、ＣＶＤ工程、酸化工程、メタ
ライズ工程などの各ラインが配置され、各工程毎に基板
を収容したカセットの搬送路が分岐状にレイアウトされ
ている。そして、中央通路とカセット搬送路はクリーン
ルーム作業域１３０(図４の白地部分)として、その他は
保全用作業域１３１（図４の斜線部分）として形成され
ている。なお、保全用作業域１３１は、クリーンルーム
作業域１３０よりもクリーン度は劣る。
【０００３】従来では、上記前処理洗浄工程は図４の洗
浄工程において、また、ゲート酸化膜等の形成は酸化工
程におい行われていた。このため上記前処理洗浄（いわ
ゆるＲＣＡ洗浄）をした後、酸化工程で酸化膜の形成が
行われるまでには、下記のように相当の時間を要する。
即ち、図５で示すように、ある洗浄処理装置１００によ
り前処理洗浄を終えた基板はカセットＣに収容され、そ
のカセットＣはカセット搬送路Ｒ1を介して洗浄工程の
カセット停留部Ａへ戻される。そして各工程間では中央
通路Ｒ0を介して酸化工程のカセット停留部Ａにカセッ
トＣが搬入され、酸化工程ではカセット搬送路Ｒ2を介
してカセット停留部Ａから熱処理炉を有する熱処理装置
２００へカセットＣが搬入される。このため、洗浄処理
装置１００により前処理洗浄を終えてから熱処理装置２
００で酸化膜の形成が行われるまでの間に相当の時間を
要する。
浄工程において、また、ゲート酸化膜等の形成は酸化工
程におい行われていた。このため上記前処理洗浄（いわ
ゆるＲＣＡ洗浄）をした後、酸化工程で酸化膜の形成が
行われるまでには、下記のように相当の時間を要する。
即ち、図５で示すように、ある洗浄処理装置１００によ
り前処理洗浄を終えた基板はカセットＣに収容され、そ
のカセットＣはカセット搬送路Ｒ1を介して洗浄工程の
カセット停留部Ａへ戻される。そして各工程間では中央
通路Ｒ0を介して酸化工程のカセット停留部Ａにカセッ
トＣが搬入され、酸化工程ではカセット搬送路Ｒ2を介
してカセット停留部Ａから熱処理炉を有する熱処理装置
２００へカセットＣが搬入される。このため、洗浄処理
装置１００により前処理洗浄を終えてから熱処理装置２
００で酸化膜の形成が行われるまでの間に相当の時間を
要する。
【０００４】上記洗浄処理装置１００は、前記クリーン
ルーム作業域（カセット搬送路Ｒ1）に臨む前方から保
全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容したカセ
ットＣの搬入搬出部１０１と、上記カセットＣから基板
を取り出し又はカセットＣ内へ基板を装填する基板移載
部１０２と、複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部
１０３と、複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部１
０４とを順に配置するとともに、上記カセットの搬入搬
出部１０１と基板移載部１０２との間でカセットＣを移
載するカセット移載ロボット（図示せず）と、上記基板
移載部１０２から基板乾燥部１０４にわたり複数の基板
を一括保持して搬送する基板搬送ロボット（図示せず）
とを設けて成り、アルカリ洗浄・水洗、フッ化水素洗浄
・酸洗浄、水洗・最終リンスなどの各種の洗浄処理をす
るように構成されている。
ルーム作業域（カセット搬送路Ｒ1）に臨む前方から保
全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容したカセ
ットＣの搬入搬出部１０１と、上記カセットＣから基板
を取り出し又はカセットＣ内へ基板を装填する基板移載
部１０２と、複数の基板を一括して洗浄する洗浄処理部
１０３と、複数の基板を一括して乾燥する基板乾燥部１
０４とを順に配置するとともに、上記カセットの搬入搬
出部１０１と基板移載部１０２との間でカセットＣを移
載するカセット移載ロボット（図示せず）と、上記基板
移載部１０２から基板乾燥部１０４にわたり複数の基板
を一括保持して搬送する基板搬送ロボット（図示せず）
とを設けて成り、アルカリ洗浄・水洗、フッ化水素洗浄
・酸洗浄、水洗・最終リンスなどの各種の洗浄処理をす
るように構成されている。
【０００５】また、上記熱処理装置２００は、前記クリ
ーンルーム作業域（カセット搬送路Ｒ２）に臨む前方か
ら保全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容した
カセットＣの搬入搬出部２０１と、上記カセットＣから
基板を取り出し又はカセットＣ内へ基板を装填する基板
移載部２０２と、上記カセットＣから取り出した基板を
基板収納ボートへ一括して移し替える基板移替部２０３
と、基板収納ボートに収容した基板を熱処理する熱処理
部２０４とを順に配置するとともに、上記カセットの搬
入搬出部２０１と基板移載部２０２との間でカセットＣ
を移載するカセット移載ロボット（図示せず）と、上記
基板移載部２０２でカセットＣから取り出した複数の基
板を一括保持して基板移替部２０３へ搬送する基板搬送
ロボット（図示せず）と、基板移替部２０３と熱処理部
２０４との間で基板収納ボートを搬送するボート搬送ロ
ボット（図示せず）とを設け、複数の基板を基板移替部
２０３で基板収納ボートに移し替え、この基板収納ボー
トを熱処理炉内に装填して基板にのゲート酸化膜等を形
成するように構成されている。
ーンルーム作業域（カセット搬送路Ｒ２）に臨む前方か
ら保全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容した
カセットＣの搬入搬出部２０１と、上記カセットＣから
基板を取り出し又はカセットＣ内へ基板を装填する基板
移載部２０２と、上記カセットＣから取り出した基板を
基板収納ボートへ一括して移し替える基板移替部２０３
と、基板収納ボートに収容した基板を熱処理する熱処理
部２０４とを順に配置するとともに、上記カセットの搬
入搬出部２０１と基板移載部２０２との間でカセットＣ
を移載するカセット移載ロボット（図示せず）と、上記
基板移載部２０２でカセットＣから取り出した複数の基
板を一括保持して基板移替部２０３へ搬送する基板搬送
ロボット（図示せず）と、基板移替部２０３と熱処理部
２０４との間で基板収納ボートを搬送するボート搬送ロ
ボット（図示せず）とを設け、複数の基板を基板移替部
２０３で基板収納ボートに移し替え、この基板収納ボー
トを熱処理炉内に装填して基板にのゲート酸化膜等を形
成するように構成されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のように前処理洗
浄をした後、酸化工程で酸化膜の形成が行われるまでの
間に高純度のゲート酸化膜を被着形成すべき基板の表面
は、クリーンルーム作業域内のガス（水分）やパーティ
クルの汚染を受ける。特にゲート酸化膜の薄膜化が要求
される今日では、上記汚染は無視できなくなりつつあ
り、この汚染を極力少なくするには、前処理洗浄終了か
ら熱処理炉による酸化膜形成までの時間を短縮すること
が必要となる。
浄をした後、酸化工程で酸化膜の形成が行われるまでの
間に高純度のゲート酸化膜を被着形成すべき基板の表面
は、クリーンルーム作業域内のガス（水分）やパーティ
クルの汚染を受ける。特にゲート酸化膜の薄膜化が要求
される今日では、上記汚染は無視できなくなりつつあ
り、この汚染を極力少なくするには、前処理洗浄終了か
ら熱処理炉による酸化膜形成までの時間を短縮すること
が必要となる。
【０００７】しかし、現状の各工程間距離を短縮した
り、カセット搬送手段のスピードアップを実現するには
限界がある。また、従来の基板製造用クリーンルームの
配置変更を回避するのが望ましい。本発明は、このよう
な事情に鑑みてなされたもので、 従来の基板製造用クリーンルームの枠内で、基板の
ゲート酸化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄工
程と、当該酸化膜を形成する酸化工程・ＣＶＤ工程等の
熱処理を連続的に行ない、基板の表面がクリーンルーム
作業域内のガスやパーティクルで汚染されないようにす
ること、 カセットＣの搬入搬出部１０１・２０１・基板移載
部１０２・２０２の重複配置をなくして、全体として迅
速処理を図り、基板処理装置の設置面積を小さくするこ
と、を技術的課題とする。
り、カセット搬送手段のスピードアップを実現するには
限界がある。また、従来の基板製造用クリーンルームの
配置変更を回避するのが望ましい。本発明は、このよう
な事情に鑑みてなされたもので、 従来の基板製造用クリーンルームの枠内で、基板の
ゲート酸化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄工
程と、当該酸化膜を形成する酸化工程・ＣＶＤ工程等の
熱処理を連続的に行ない、基板の表面がクリーンルーム
作業域内のガスやパーティクルで汚染されないようにす
ること、 カセットＣの搬入搬出部１０１・２０１・基板移載
部１０２・２０２の重複配置をなくして、全体として迅
速処理を図り、基板処理装置の設置面積を小さくするこ
と、を技術的課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明が採用した基板処理装置は、以下のように構成
される。即ち、クリーンルーム作業域に臨む前方から保
全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容したカセ
ットの搬入搬出部と、上記カセットから基板を取り出し
又はカセット内へ基板を装填する基板移載部と、複数の
基板を一括して洗浄する洗浄処理部と、複数の基板を一
括して乾燥する基板乾燥部と、乾燥した基板を基板収納
ボートへ一括して移し替える基板移替部と、基板収納ボ
ートに収容した基板を熱処理する熱処理部を一連に配置
するとともに、上記カセットの搬入搬出部と基板移載部
との間でカセットを移載するカセット移載ロボットと、
上記基板移載部から基板移替部にわたり複数の基板を一
括保持して搬送する基板搬送ロボットと、基板移替部と
熱処理部との間で基板収納ボートを搬送するボート搬送
ロボットとを設け、基板搬送ロボットから受け取った基
板を基板移替部で基板収納ボートに移し替え、この基板
収納ボートをボート搬送ロボットで搬送するように構成
したことを特徴とする。
に本発明が採用した基板処理装置は、以下のように構成
される。即ち、クリーンルーム作業域に臨む前方から保
全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容したカセ
ットの搬入搬出部と、上記カセットから基板を取り出し
又はカセット内へ基板を装填する基板移載部と、複数の
基板を一括して洗浄する洗浄処理部と、複数の基板を一
括して乾燥する基板乾燥部と、乾燥した基板を基板収納
ボートへ一括して移し替える基板移替部と、基板収納ボ
ートに収容した基板を熱処理する熱処理部を一連に配置
するとともに、上記カセットの搬入搬出部と基板移載部
との間でカセットを移載するカセット移載ロボットと、
上記基板移載部から基板移替部にわたり複数の基板を一
括保持して搬送する基板搬送ロボットと、基板移替部と
熱処理部との間で基板収納ボートを搬送するボート搬送
ロボットとを設け、基板搬送ロボットから受け取った基
板を基板移替部で基板収納ボートに移し替え、この基板
収納ボートをボート搬送ロボットで搬送するように構成
したことを特徴とする。
【０００９】
【作 用】本発明では、上記のようにカセットの搬入搬
出部・基板移載部・洗浄処理部・基板乾燥部・基板移替
部・熱処理部は一連に配置されており、基板のゲート酸
化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄と、当該酸
化膜等を形成する熱処理とが一連の表面処理として行わ
れる。これにより、前処理洗浄を終えた基板が、熱処理
炉により酸化膜の形成が行われるまでの間に、クリーン
ルーム作業域内のガスやパーティクルで汚染されること
はなくなる。また、上記のように一連に配置することに
より、従来例のようなカセットの搬入搬出部・基板移載
部を重複配置する必要はなくなる。
出部・基板移載部・洗浄処理部・基板乾燥部・基板移替
部・熱処理部は一連に配置されており、基板のゲート酸
化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄と、当該酸
化膜等を形成する熱処理とが一連の表面処理として行わ
れる。これにより、前処理洗浄を終えた基板が、熱処理
炉により酸化膜の形成が行われるまでの間に、クリーン
ルーム作業域内のガスやパーティクルで汚染されること
はなくなる。また、上記のように一連に配置することに
より、従来例のようなカセットの搬入搬出部・基板移載
部を重複配置する必要はなくなる。
【００１０】
【実施例】以下本発明の実施例を図面に基づいてさらに
詳しく説明する。図１は本発明の第１の実施例に係る基
板処理装置の斜視図、図２はその基板処理装置の概要を
示す側面図である。この基板処理装置は、前記クリーン
ルーム作業域１３０に臨む前方から保全用作業域１３１
に臨む後方に向かって、カセットの搬入搬出部１・基板
移載部２及びカセット洗浄部９・洗浄処理部３・基板乾
燥部４・基板移替部５・熱処理部６を一連に配置し、カ
セット搬入搬出部１と基板移載部２との間でカセットＣ
を移載するカセット移載ロボット１０と、上記基板移載
部２から基板移替部５にわたり複数の基板を一括保持し
て搬送する基板搬送ロボット１５と、基板移替部５と熱
処理部６との間で基板収納ボートＢを搬送するボート搬
送ロボット８０とを具備して成る。
詳しく説明する。図１は本発明の第１の実施例に係る基
板処理装置の斜視図、図２はその基板処理装置の概要を
示す側面図である。この基板処理装置は、前記クリーン
ルーム作業域１３０に臨む前方から保全用作業域１３１
に臨む後方に向かって、カセットの搬入搬出部１・基板
移載部２及びカセット洗浄部９・洗浄処理部３・基板乾
燥部４・基板移替部５・熱処理部６を一連に配置し、カ
セット搬入搬出部１と基板移載部２との間でカセットＣ
を移載するカセット移載ロボット１０と、上記基板移載
部２から基板移替部５にわたり複数の基板を一括保持し
て搬送する基板搬送ロボット１５と、基板移替部５と熱
処理部６との間で基板収納ボートＢを搬送するボート搬
送ロボット８０とを具備して成る。
【００１１】上記カセットの搬入搬出部１は、前記カセ
ット停留部Ａから搬入されてきたカセットＣを一時載置
するためのローダ部１ａと、熱処理終了後の基板Ｗを収
容したカセットＣを搬出するためのアンローダ部１ｃ
と、ローダ部１ａとアンローダ部１ｃとの間のバッファ
部１ｂとから成る。上記ローダ部１ａとアンローダ部１
ｃの下側には、図２で示すように、基板Ｗのオリエンテ
ーションフラットを整合する整合ローラ１０５が設けら
れており、各カセットＣ内の基板Ｗのオリエンテーショ
ンフラットを揃えるように構成されている。
ット停留部Ａから搬入されてきたカセットＣを一時載置
するためのローダ部１ａと、熱処理終了後の基板Ｗを収
容したカセットＣを搬出するためのアンローダ部１ｃ
と、ローダ部１ａとアンローダ部１ｃとの間のバッファ
部１ｂとから成る。上記ローダ部１ａとアンローダ部１
ｃの下側には、図２で示すように、基板Ｗのオリエンテ
ーションフラットを整合する整合ローラ１０５が設けら
れており、各カセットＣ内の基板Ｗのオリエンテーショ
ンフラットを揃えるように構成されている。
【００１２】上記カセット移載ロボット１０は、図１及
び図２で示すように、昇降及び回転自在で、矢印Ａ方向
へ移動可能に構成され、上記ローダ部１ａのカセットＣ
を基板移載部２のターンテーブル２１上へ、また、洗浄済
み基板を収容したカセットＣをターンテーブル２１から
アンローダ部１ｃへ移載するように構成されている。ま
た基板搬送ロボツト１５は、矢印Ｂ方向へ移動可能に設
けられ、後述する基板移載部２のリフター２３から受け
取った複数の基板Ｗを一対の基板挟持アーム１６で保持
し、洗浄処理部３・基板乾燥部４・基板移替部５へ順次
搬送するように構成されている。
び図２で示すように、昇降及び回転自在で、矢印Ａ方向
へ移動可能に構成され、上記ローダ部１ａのカセットＣ
を基板移載部２のターンテーブル２１上へ、また、洗浄済
み基板を収容したカセットＣをターンテーブル２１から
アンローダ部１ｃへ移載するように構成されている。ま
た基板搬送ロボツト１５は、矢印Ｂ方向へ移動可能に設
けられ、後述する基板移載部２のリフター２３から受け
取った複数の基板Ｗを一対の基板挟持アーム１６で保持
し、洗浄処理部３・基板乾燥部４・基板移替部５へ順次
搬送するように構成されている。
【００１３】上記基板移載部２は、２個のターンテーブ
ル２１と、各ターンテーブル２１を水平回転させる駆動
モータ２２と、各ターンテーブル２１の開口とカセット
Ｃの挿通口を挿通するように昇降可能に設けられたリフ
ター２３とを具備して成り、各ターンテーブル２１上に
載置されたカセットＣの方向を９０゜回転させて後続の
処理のために基板Ｗの方向を変えるとともに、各カセッ
トＣ内の複数（２５枚＋２５枚）の基板Ｗを起立整列状
態のまま、リフター２３で一括保持して持ち上げ、それ
らの基板Ｗを上記基板搬送ロボツト１５との間で一括し
て受け渡すように構成されている。上記基板移載部２の
側方には、カセットＣの洗浄部９が配置されている。基
板Ｗを基板搬送ロボツト１５に受け渡したカセットＣ
は、移載ロボット１０により、ターンテーブル２１より
カセットＣの洗浄部９に搬送され、その洗浄がなされた
後、再度ターンテーブル２１に移載される。
ル２１と、各ターンテーブル２１を水平回転させる駆動
モータ２２と、各ターンテーブル２１の開口とカセット
Ｃの挿通口を挿通するように昇降可能に設けられたリフ
ター２３とを具備して成り、各ターンテーブル２１上に
載置されたカセットＣの方向を９０゜回転させて後続の
処理のために基板Ｗの方向を変えるとともに、各カセッ
トＣ内の複数（２５枚＋２５枚）の基板Ｗを起立整列状
態のまま、リフター２３で一括保持して持ち上げ、それ
らの基板Ｗを上記基板搬送ロボツト１５との間で一括し
て受け渡すように構成されている。上記基板移載部２の
側方には、カセットＣの洗浄部９が配置されている。基
板Ｗを基板搬送ロボツト１５に受け渡したカセットＣ
は、移載ロボット１０により、ターンテーブル２１より
カセットＣの洗浄部９に搬送され、その洗浄がなされた
後、再度ターンテーブル２１に移載される。
【００１４】上記洗浄処理部３は、単一の槽内で順次薬
液や純水を切り換えて基板の処理を行う、いわゆるワン
バス方式の３個のオーバーフロー型の洗浄処理槽３１
と、前記基板搬送ロボツト１５から基板Ｗを起立整列状
態のまま受け取って各洗浄処理槽３１内に浸漬する昇降
可能な基板保持具３２と、各洗浄処理槽３１の下側に配
置されたオーバーフロー液回収部３３と、その下側の薬
液容器等のユーティリティ部３４とから成り、各洗浄処
理槽３１はアルカリ洗浄、純水洗浄、フッ化水素洗浄、
酸洗浄、純水洗浄、最終リンスなどの一連の洗浄処理を
それぞれ各処理槽において並行して行うことができるよ
うに構成されている。なお、各洗浄処理槽３１は、例え
ば石英ガラスやフッ素樹脂製で、その下部に薬液供給管
を連結して成り、槽内に洗浄液の均一な上昇流を形成し
て基板Ｗの表面処理をするとともに、複数種の洗浄処理
毎に洗浄液を迅速に置換し得るオーバーフロー槽として
構成されている。
液や純水を切り換えて基板の処理を行う、いわゆるワン
バス方式の３個のオーバーフロー型の洗浄処理槽３１
と、前記基板搬送ロボツト１５から基板Ｗを起立整列状
態のまま受け取って各洗浄処理槽３１内に浸漬する昇降
可能な基板保持具３２と、各洗浄処理槽３１の下側に配
置されたオーバーフロー液回収部３３と、その下側の薬
液容器等のユーティリティ部３４とから成り、各洗浄処
理槽３１はアルカリ洗浄、純水洗浄、フッ化水素洗浄、
酸洗浄、純水洗浄、最終リンスなどの一連の洗浄処理を
それぞれ各処理槽において並行して行うことができるよ
うに構成されている。なお、各洗浄処理槽３１は、例え
ば石英ガラスやフッ素樹脂製で、その下部に薬液供給管
を連結して成り、槽内に洗浄液の均一な上昇流を形成し
て基板Ｗの表面処理をするとともに、複数種の洗浄処理
毎に洗浄液を迅速に置換し得るオーバーフロー槽として
構成されている。
【００１５】上記基板乾燥部４は、遠心式乾燥機４１を
備えて成り、例えば本出願人の提案に係る特開平１−２
５５２２７号公報に開示したように、基板の主平面の中
心近傍を回転中心として基板を回転させ、その回転遠心
力で液切り乾燥するように構成されている。なお、この
遠心式乾燥機４１に代えて溶剤を用いて乾燥を促進する
ものや、減圧方式により乾燥を促進するものを採用する
こともできる。上記基板移替部５は、複数（５０枚）の
基板を収容し得る基板収容ボート５０を載置するボート
載置台５１と、そのボート５０を両端で圧接保持する一
対のボート保持具５２と、基板収容ボート５０及びボー
ト載置台５１の挿通口を挿通するように昇降可能に設け
られたリフター５３とを具備して成り、前記基板搬送ロ
ボツト１５が保持している５０枚の基板Ｗをリフター５
３を介して基板収容ボート５０内に移し替えるように構
成されている。
備えて成り、例えば本出願人の提案に係る特開平１−２
５５２２７号公報に開示したように、基板の主平面の中
心近傍を回転中心として基板を回転させ、その回転遠心
力で液切り乾燥するように構成されている。なお、この
遠心式乾燥機４１に代えて溶剤を用いて乾燥を促進する
ものや、減圧方式により乾燥を促進するものを採用する
こともできる。上記基板移替部５は、複数（５０枚）の
基板を収容し得る基板収容ボート５０を載置するボート
載置台５１と、そのボート５０を両端で圧接保持する一
対のボート保持具５２と、基板収容ボート５０及びボー
ト載置台５１の挿通口を挿通するように昇降可能に設け
られたリフター５３とを具備して成り、前記基板搬送ロ
ボツト１５が保持している５０枚の基板Ｗをリフター５
３を介して基板収容ボート５０内に移し替えるように構
成されている。
【００１６】上記基板移替部５と熱処理部６との間に
は、昇降式のボート搬送ロボット８０Ａが配備されてい
る。このボート搬送ロボット８０Ａは、昇降自在の昇降
アーム８１と、この昇降アーム８１の先端部下面に水平
回動自在に設けられたスカラー方式の多関節アーム８２
と、この多関節アーム８２の先端部下面に設けられたボ
ートチャック８３とから成り、上記基板移替部５の基板
収容ボート５０をボートチャック８３で保持して、熱処
理部６の各ボート装填用ローダ６２に引き渡すように構
成されている。
は、昇降式のボート搬送ロボット８０Ａが配備されてい
る。このボート搬送ロボット８０Ａは、昇降自在の昇降
アーム８１と、この昇降アーム８１の先端部下面に水平
回動自在に設けられたスカラー方式の多関節アーム８２
と、この多関節アーム８２の先端部下面に設けられたボ
ートチャック８３とから成り、上記基板移替部５の基板
収容ボート５０をボートチャック８３で保持して、熱処
理部６の各ボート装填用ローダ６２に引き渡すように構
成されている。
【００１７】上記熱処理部６は、三段に積み重ねた各横
型熱処理炉６１Ａと、各熱処理炉６１Ａに基板収容ボー
ト５０を装填する上記ボート装填用ローダ６２Ａとを具
備して成り、各横型熱処理炉６１Ａは、酸化工程・ＣＶ
Ｄ工程等の熱処理を一連に行うようにしたもので、少な
くとも前記酸化膜を形成する酸化炉を有している。 上記ボート装填用ローダ６２Ａは、熱処理炉６１Ａへ向
けて進退自在に設けられた水平アーム６３と、この水平
アーム６３の先端部にクッション（図示せず）を介して
設けられた炉口キャップ６４と、炉口キャップ６４から
熱処理炉６１へ向かって水平に伸びるボート受け具６５
とを具備して成り、上記ボートチャック８３から受け取
った基板収容ボート５０を熱処理炉６１Ａ内に装填して
その炉口を閉止するように構成されている。基板Ｗは基
板収容ボート５０に収容されたまま熱処理される。
型熱処理炉６１Ａと、各熱処理炉６１Ａに基板収容ボー
ト５０を装填する上記ボート装填用ローダ６２Ａとを具
備して成り、各横型熱処理炉６１Ａは、酸化工程・ＣＶ
Ｄ工程等の熱処理を一連に行うようにしたもので、少な
くとも前記酸化膜を形成する酸化炉を有している。 上記ボート装填用ローダ６２Ａは、熱処理炉６１Ａへ向
けて進退自在に設けられた水平アーム６３と、この水平
アーム６３の先端部にクッション（図示せず）を介して
設けられた炉口キャップ６４と、炉口キャップ６４から
熱処理炉６１へ向かって水平に伸びるボート受け具６５
とを具備して成り、上記ボートチャック８３から受け取
った基板収容ボート５０を熱処理炉６１Ａ内に装填して
その炉口を閉止するように構成されている。基板Ｗは基
板収容ボート５０に収容されたまま熱処理される。
【００１８】上記のようにして熱処理を終えた基板Ｗ
は、基板収容ボート５０に収容されたまま、ボート装填
用ローダ６２Ａからボート搬送ロボット８０Ａに引き渡
され、引き続き基板移替部５へ搬送される。この基板移
替部５では、リフター５３を介して基板収容ボート５０
内の基板Ｗを前記基板搬送ロボツト１５へ引き渡す。基
板搬送ロボツト１５は基板Ｗを保持して基板移載部２へ
移動し、複数枚の基板Ｗを起立整列状態のままリフター
２３を介して前記各カセットＣ内に収容する。なお、基
板Ｗの処理の間に各カセットＣはカセット洗浄部９で洗
浄されるので、処理を終えた基板Ｗがカセット内で汚染
されるおそれはない。
は、基板収容ボート５０に収容されたまま、ボート装填
用ローダ６２Ａからボート搬送ロボット８０Ａに引き渡
され、引き続き基板移替部５へ搬送される。この基板移
替部５では、リフター５３を介して基板収容ボート５０
内の基板Ｗを前記基板搬送ロボツト１５へ引き渡す。基
板搬送ロボツト１５は基板Ｗを保持して基板移載部２へ
移動し、複数枚の基板Ｗを起立整列状態のままリフター
２３を介して前記各カセットＣ内に収容する。なお、基
板Ｗの処理の間に各カセットＣはカセット洗浄部９で洗
浄されるので、処理を終えた基板Ｗがカセット内で汚染
されるおそれはない。
【００１９】図３は本発明に係る基板処理装置の第２の
実施例を示す斜視図である。この実施例装置は、縦型の
熱処理炉６１Ｂを複数並設するとともに、これに対応し
て基板移替部５から受け取った基板収容ボート５０を縦
向きに持ち替えて引き渡すためのボート持ち替え機７０
と、このボート持ち替え機７０から受け取った基板収容
ボート５０を縦向きで搬送して引き渡すボート搬送ロボ
ット８０Ｂと、縦型のボート装填用ローダ６２Ｂを備え
る点が第１の実施例装置と異なり、その他の点は第１の
実施例と同様に構成されている。なお、本発明は上記実
施例に限るものではなく、洗浄処理部３や基板移替部５
の構造についても、適宜変更を加えて実施し得ることは
多言を要しない。
実施例を示す斜視図である。この実施例装置は、縦型の
熱処理炉６１Ｂを複数並設するとともに、これに対応し
て基板移替部５から受け取った基板収容ボート５０を縦
向きに持ち替えて引き渡すためのボート持ち替え機７０
と、このボート持ち替え機７０から受け取った基板収容
ボート５０を縦向きで搬送して引き渡すボート搬送ロボ
ット８０Ｂと、縦型のボート装填用ローダ６２Ｂを備え
る点が第１の実施例装置と異なり、その他の点は第１の
実施例と同様に構成されている。なお、本発明は上記実
施例に限るものではなく、洗浄処理部３や基板移替部５
の構造についても、適宜変更を加えて実施し得ることは
多言を要しない。
【００２０】
【発明の効果】本発明は上記のように構成され、基板の
ゲート酸化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄
と、当該酸化膜等を形成する熱処理とを一連の基板処理
として行うことができるので、以下の効果を奏する。 前処理洗浄を終えた基板の表面が、熱処理炉による
酸化膜形成までの間に、クリーンルーム作業域内のガス
やパーティクルで汚染されることはなくなる。 また、上記のように各処理部を１ラインに配置する
ことにより、従来例のようなカセットの搬入搬出部・基
板移載部を重複配置する必要はなくなり、全体として処
理の迅速化と設置面積を小さくすることができる。
ゲート酸化膜等を形成する前段のいわゆる前処理洗浄
と、当該酸化膜等を形成する熱処理とを一連の基板処理
として行うことができるので、以下の効果を奏する。 前処理洗浄を終えた基板の表面が、熱処理炉による
酸化膜形成までの間に、クリーンルーム作業域内のガス
やパーティクルで汚染されることはなくなる。 また、上記のように各処理部を１ラインに配置する
ことにより、従来例のようなカセットの搬入搬出部・基
板移載部を重複配置する必要はなくなり、全体として処
理の迅速化と設置面積を小さくすることができる。
【図１】本発明の第１の実施例に係る基板処理装置の斜
視図である。
視図である。
【図２】本発明の第１の実施例に係る基板処理装置の概
要を示す側面図である。
要を示す側面図である。
【図３】本発明の第２の実施例に係る基板処理装置の斜
視図である。
視図である。
【図４】基板製造用クリーンルームのレイアウト図であ
る。
る。
【図５】基板製造用クリーンルームの要部のレイアウト
図である。
図である。
Ｗ…基板、 Ｃ…カセット、１…
カセットの搬入搬出部、 ２…基板移載部、３…洗
浄処理部、 ４…基板乾燥部、５…基板
移替部、 ６…熱処理部、１０…カセッ
ト移載ロボット、 １５…基板搬送ロボット、５０…
基板収納ボート、 ８０…ボート搬送ロボッ
ト、１３０…クリーンルーム作業域、 １３１…保全用
作業域。
カセットの搬入搬出部、 ２…基板移載部、３…洗
浄処理部、 ４…基板乾燥部、５…基板
移替部、 ６…熱処理部、１０…カセッ
ト移載ロボット、 １５…基板搬送ロボット、５０…
基板収納ボート、 ８０…ボート搬送ロボッ
ト、１３０…クリーンルーム作業域、 １３１…保全用
作業域。
Claims (1)
- 【請求項１】 クリーンルーム作業域に臨む前方から保
全用作業域に臨む後方に向かって、基板を収容したカセ
ットの搬入搬出部と、上記カセットから基板を取り出し
又はカセット内へ基板を装填する基板移載部と、複数の
基板を一括して洗浄する洗浄処理部と、複数の基板を一
括して乾燥する基板乾燥部と、乾燥した基板を基板収納
ボートへ一括して移し替える基板移替部と、基板収納ボ
ートに収容した基板を熱処理する熱処理部を一連に配置
するとともに、 上記カセットの搬入搬出部と基板移載部との間でカセッ
トを移載するカセット移載ロボットと、上記基板移載部
から基板移替部にわたり複数の基板を一括保持して搬送
する基板搬送ロボットと、基板移替部と熱処理部との間
で基板収納ボートを搬送するボート搬送ロボットとを設
け、 基板搬送ロボットから受け取った基板を基板移替部で基
板収納ボートに移し替え、この基板収納ボートをボート
搬送ロボットで搬送するように構成したことを特徴とす
る基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13124693A JP3102824B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13124693A JP3102824B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06318587A true JPH06318587A (ja) | 1994-11-15 |
| JP3102824B2 JP3102824B2 (ja) | 2000-10-23 |
Family
ID=15053425
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13124693A Expired - Fee Related JP3102824B2 (ja) | 1993-05-07 | 1993-05-07 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3102824B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100954467B1 (ko) * | 2007-12-15 | 2010-04-22 | 주식회사 동부하이텍 | 웨이퍼카세트 보관장치 및 그 방법 |
-
1993
- 1993-05-07 JP JP13124693A patent/JP3102824B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100954467B1 (ko) * | 2007-12-15 | 2010-04-22 | 주식회사 동부하이텍 | 웨이퍼카세트 보관장치 및 그 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3102824B2 (ja) | 2000-10-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4180787B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| KR100473929B1 (ko) | 피처리기판 반송장치 및 반송방법 | |
| JP3510463B2 (ja) | 基板の整列装置及び整列方法 | |
| JP2000068355A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP4401285B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP4342745B2 (ja) | 基板処理方法および半導体装置の製造方法 | |
| CN111383954A (zh) | 衬底处理装置及衬底搬送方法 | |
| JP2002064075A (ja) | 液処理装置および液処理方法 | |
| KR20200083233A (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 | |
| JPH11163082A (ja) | 基板搬送装置および基板搬送方法 | |
| JP3102824B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP4709912B2 (ja) | 基板処理方法および半導体装置の製造方法 | |
| JP3522912B2 (ja) | 洗浄処理装置およびその制御方法 | |
| JP3559099B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2010283402A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR100625310B1 (ko) | 기판 세정 시스템 | |
| JP3346823B2 (ja) | 基板ウェット処理装置 | |
| JPH11330190A (ja) | 基板の搬送方法及び処理システム | |
| JP3035436B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR20040008331A (ko) | 이송 로봇 및 이를 이용한 기판 정렬 시스템 | |
| KR20080023587A (ko) | 기판 세정 장치 | |
| JP3730803B2 (ja) | 基板姿勢変換装置および方法 | |
| JPH05144795A (ja) | 洗浄方法 | |
| JP2000114228A (ja) | 基板処理装置および基板処理システム | |
| JP2004274069A (ja) | 基板処理装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 8 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080825 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |