JPH0631717Y2 - 荷電粒子ビ−ム描画装置用整形絞り - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は荷電粒子ビーム描画装置用整形絞りに関する。

［従来技術］ 電子ビーム描画装置等の可変面積描画では、例えば第６
図（ａ）〜（ｃ）に示すように光学系に矩形又は正方形
の通過孔を有する第１の整形絞りＡ及び第２の整形絞り
Ｂを配置し、第１の整形絞りＡの像を第２の整形絞りＢ
の上に投影して、この２つの整形絞りの間に配置される
偏向器を適切に制御することにより種々の整形ビームを
形成して試料上に照射することによりパターン描画を行
っている。

ところで、前記の如き整形絞りの孔は、その大きさが微
細なため、通常の機械的な加工手段によって穿孔するこ
とができず、耐熱性金属板にフォトエッチング処理を施
して作成するのが一般的である。このフォトエッチング
処理における加工精度を高めるには、穿孔すべき寸法に
対し、穿孔されるべき金属板の厚さを薄くしなければな
らない。しかし、金属板が薄くなると、その機械的強度
が小さいだけでなく、電子ビームの射突による熱的変形
或いは焼損等の問題がある。又、この様なフォトエッチ
ング処理によって穿孔された孔は輪郭が不鮮明である。

そこで、例えば、モリブデンの薄板４枚夫々の一辺をナ
イフエッジ状に仕上げ、該ナイフエッジ部分で矩形又は
正方形の孔を形成する様に、該モリブデン板を組み合
せ、順次スポット溶接している。しかし、このような手
作業による整形絞りの製作では辺の仕上げ度、辺の真直
度、辺の直角度を高めることは厄介なことであり、歩留
りも悪い。このような欠点を解決するものとして、２本
の細線（例えば金線）を細線取付け台の上に井桁状に組
み合せ、両端から張力を加えながら張り固定して整形絞
りとしているものもある（特開昭５９−２１０２０，特
開昭５９−１４１２２４）。

［考案が解決しようとする問題点］ ところで、上述した従来装置では、電子ビーム等の商社
によって例えば矩形を構成する細線にコンタミネーショ
ンが生じた場合には、細線取付け台にスポット溶接等に
よって固定された細線を取り外して新しい細線に交換す
るか、又は、細線取付け台ごと交換しなれけばならず、
新しい細線と交換する場合には直角度、平行度を再度調
整する必要があり作業が繁雑になり、細線取付け台ごと
交換する場合は不経済となる欠点があつた。

本考案は以上の欠点を解決して、電子ビーム等の照射に
よって矩形を構成する細線にコンタミネーションが生じ
た場合でも、細線が配設されたホルダーを９０°ずつ回
転させることにより、細線を頻繁に交換することなくビ
ーム描画できる荷電粒子ビーム描画装置用整形絞りを提
供することを目的としている。

［問題点を解決するための手段］ 本目的を達成するための本考案は、矩形孔を有する整形
絞りを通過した荷電粒子ビームを試料面上に結像させて
パターンを描画する装置において、荷電粒子ビーム通過
孔を有する基台及びホルダと、該基台とホルダとの間に
配設される矩形孔を有する荷電粒子ビーム遮蔽板と、該
ホルダの荷電粒子ビーム通過孔を十字状に交差するよう
に該ホルダに張架された線状の荷電粒子ビーム遮蔽部材
とを備え、前記荷電粒子ビーム遮蔽部材を前記荷電粒子
ビーム遮蔽板の矩形孔の直交する２辺の交点を中心に直
交させると共に、前記荷電粒子ビーム遮蔽板と相対的に
ホルダを９０°ずつ回転できるように構成したことを特
徴としている。

［実施例］ 以下本考案の実施例を添附図面に基づき詳述する。

第１図は本考案の一実施例の平面図、第２図はその縦断
面図である。第１図及び第２図において、１は基台、１
ａは基台１の中心に穿たれた荷電粒子ビーム通過孔、２
は荷電粒子ビーム遮蔽板としての薄膜絞り、２ａは薄膜
絞り２に形成された矩形孔である。３は基台１に固定さ
れるホルダで、該ホルダ３の中心には、第３図に示すよ
うに荷電粒子ビーム通過孔３ａが穿たれ、該荷電粒子ビ
ーム通過孔３ａと前記荷電粒子ビーム通過孔１ａとは偏
心している。又、該荷電粒子ビーム通過孔３ａの中心を
横切って十字状の溝３ｂ，３ｃが刻設されている。４
ａ，４ｂは荷電粒子ビーム通過孔３ａの中心部で十字状
に交差するようにそれぞれの溝に嵌込まれた細線で、該
細線４ａ，４ｂはビス５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄによって
張架されている。この細線４ａ，４ｂの交点Ｐと薄膜絞
り２の矩形孔２ａの直交する２辺２ａ_１，２ａ_２の交点
Ｐ′とは第４図に示すように一致するように配設され
る。従って、前記矩形孔２ａの直交する２辺２ａ_１，２
ａ_２の内側には、細線４ａ，４ｂによって、直角な辺が
形成される。６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄはホルダ９０°ず
つ回転して基台に固定するための基台及びホルダに穿た
れた位置決め穴で、該位置決め孔には図示しない位置決
めピンが適当な嵌め合いで嵌入される。７ａ，７ｂ，７
ｃ，７ｄは基台とホルダを固定するための固定ビスであ
る。

このように構成された装置おいて、基台１とホルダ３を
第５図（ａ）に示す位置関係、つまり第１図に示すよう
に固定して電子ビームを照射を行なう。この電子ビーム
の照射により、細線４ａ，４ｂにコンタミネーションが
生じた場合は、固定ビス７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄを外し
てホルダ３を９０°回転させ、位置決めピンで位置決め
を行って固定する。この状態が第５図（ｂ）に示されて
いる。第５図（ｂ）に示すように、ホルダ３を９０°回
転させて固定すると、細線４ａ，４ｂのコンタミネーシ
ョンが生じていない部分によって直角な２辺が形成され
る。同様に、ホルダ３を、９０°ずつ回転させることに
より、第５図（ｃ），５図（ｄ）に示すように、回転の
度に細線４ａ，４ｂのコンタミネーションが生じていな
い部分によって直角な辺が形成されるため、このように
形成された整形絞りを、光学系に複数配置して、これら
の整形絞りの間に配置される偏向器を適切に制御するこ
とにより第６図に示すような種々の整形ビームを形成す
ることができる。

従って、このよに様に構成された装置では、ホルダを順
次９０°ずつ回転させて使用することにより、コンタミ
ネーションが生じていない細線部分を複数回使用するこ
とができ、従来の様に１回で交換する場合に比較して、
細線の交換を極端に減少させることができる。又、新し
い細線と交換する場合でも、細線４ａ，４ｂは調整ビス
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄによって張架されているため交
換が至極容易で、平行度等の再調整作業の繁雑さも減少
しホルダごと交換する必要もない。

尚、上記実施例は例示であり変形が可能である。上記実
施例では基台とホルダを固定ビスにより固定するように
構成したが、基台を鏡体に固定してホルダを９０°ずつ
大気側より回転させる構造としても良い。

［考案の効果］ 以上詳述したように本考案によれば、荷電粒子ビーム遮
蔽部材である２本の細線を該矩形孔の２辺の交点を中心
に直交させると共に、該基台またはホルダを９０°ずつ
回転できるように構成したためコンタミネーションが生
じていない細線部分を複数回使用することができるた
め、細線の交換を極端に減少させることができる。又、
新しい細線と交換する場合も、細線の交換が従来に比較
して至極容易で、平行度等の再調整作業の繁雑さも減少
し、ホルダごと交換する必要もないため経済的である。

【図面の簡単な説明】 第１図は本考案の一実施例の平面図、第２図はその縦断
面図、第３図はホルダの平面図、第４図は荷電粒子ビー
ム遮蔽板と荷電粒子ビーム遮蔽部材の位置関係を説明す
るための図、第５図（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ）は
ホルダを９０°ずつ回転させた場合の荷電粒子ビーム遮
蔽板と荷電粒子ビーム遮蔽部材の位置関係を説明するた
めの図、第６図は複数の整形絞りによって可変面積描画
を行なう場合を示す図である。 １：基台、２：薄膜絞り、３：ホルダ、４ａ，４ｂ：細
線、５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ：調整ビス、６ａ，６ｂ，
６ｃ，６ｄ：位置決め穴、７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ：固
定ビス。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】矩形孔を有する整形絞りを通過した荷電粒
   子ビームを試料面上に結像させてパターンを描画する装
   置において、荷電粒子ビーム通加孔を有する基台及びホ
   ルダと、該基台とホルダとの間に配設される矩形孔を有
   する荷電粒子ビーム遮蔽板と、該ホルダの荷電粒子ビー
   ム通加孔を十字状に交差するように前記ホルダに張架さ
   れた線状の荷電粒子ビーム遮蔽部材とを備え、前記荷電
   粒子ビーム遮蔽部材を前記荷電粒子ビーム遮蔽板の矩形
   孔の直交する２辺の交点を中心に直交させると共に、前
   記荷電粒子ビーム遮蔽板とホルダを相対的に９０°ずつ
   回転できるように構成したことを特徴とする荷電粒子ビ
   ーム描画装置用整形絞り。