JPH06314881A - Manufacture of bumped circuit board - Google Patents

Manufacture of bumped circuit board

Info

Publication number
JPH06314881A
JPH06314881A JP12804793A JP12804793A JPH06314881A JP H06314881 A JPH06314881 A JP H06314881A JP 12804793 A JP12804793 A JP 12804793A JP 12804793 A JP12804793 A JP 12804793A JP H06314881 A JPH06314881 A JP H06314881A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
green sheet
bumps
circuit board
conductor
hole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12804793A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masashi Fukaya
昌志 深谷
Hideaki Araki
英明 荒木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel and Sumikin Electronics Devices Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal Ceramics Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Ceramics Inc filed Critical Sumitomo Metal Ceramics Inc
Priority to JP12804793A priority Critical patent/JPH06314881A/en
Publication of JPH06314881A publication Critical patent/JPH06314881A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0306Inorganic insulating substrates, e.g. ceramic, glass
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/40Forming printed elements for providing electric connections to or between printed circuits
    • H05K3/4007Surface contacts, e.g. bumps
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a manufacturing method of a bumped circuit board which is capable of preventing irregularities about the shape and thickness of bumps, and what is more, excelling in soldering properties. CONSTITUTION:A ceramic board formation green sheet 21 is formed on a resin film 1, thereby obtaining a filmed green sheet 26. Then, a hole 10 is bored where the hole 10 is filled up with a conductor. Then, the filmed green sheet 26 is arranged so that its green sheet side 21 may face the other ceramic board formation green sheets 22, 23 and 24 where they are laminated and heat and contact-bonded. Then, a resin film 1 is removed from this laminated body 28 and backed. This construction makes it possible to provide a bumped circuit board.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は,電子部品等と接続する
ためのバンプを有する,バンプ付き回路基板の製造方法
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board with bumps, which has bumps for connecting to electronic parts and the like.

【0002】[0002]

【従来技術】従来,回路基板に集積回路を実装するに
は,ワイヤボンディング方式やQFP表面実装方式が主
流であった。しかし,近年の小型化,高密度化の要求に
より,フリップチップ実装方式が注目されている。フリ
ップチップ実装に対応するためには,回路基板に高精度
の電極(バンプ)を形成する必要がある。
2. Description of the Related Art Conventionally, a wire bonding method or a QFP surface mounting method has been mainly used for mounting an integrated circuit on a circuit board. However, due to recent demands for miniaturization and high density, the flip-chip mounting method has attracted attention. In order to support flip chip mounting, it is necessary to form highly accurate electrodes (bumps) on the circuit board.

【0003】他方,回路基板を更に他の基板(マザーボ
ード)に実装するには,従来,DIP方式やPGA方式
を採っていた。しかし,これも小型・高密度・軽量化の
要求により,表面実装可能なバンプ方式への移行が切望
されている。ここでも回路基板に高精度なバンプを形成
する必要がある。高精度なバンプとは,径・厚み・ピッ
チのばらつきの小さいバンプという意味である。
On the other hand, in order to mount the circuit board on another board (motherboard), conventionally, the DIP method or the PGA method has been adopted. However, due to the demand for smaller size, higher density, and lighter weight, there is a strong demand for a shift to the bump method that enables surface mounting. Here again, it is necessary to form highly accurate bumps on the circuit board. High-precision bumps mean bumps with small variations in diameter, thickness, and pitch.

【0004】該バンプ方式とは,図11,図12に示す
ごとく,回路基板9の表面に凸形状のバンプ57を形成
し,該バンプ57と電子部品7のパッド77(図11)
或いはバンプ57とマザーボード6のパッド67(図1
2)とを,半田4により接続固定する。これにより,回
路基板9と電子部品7,或いは回路基板9とマザーボー
ド6の電気的導通を図る。
The bump method is, as shown in FIGS. 11 and 12, that a bump 57 having a convex shape is formed on the surface of the circuit board 9, and the bump 57 and the pad 77 of the electronic component 7 (FIG. 11).
Alternatively, the bumps 57 and the pads 67 on the motherboard 6 (see FIG.
2) and are connected and fixed with solder 4. As a result, electrical connection between the circuit board 9 and the electronic component 7, or between the circuit board 9 and the motherboard 6 is achieved.

【0005】上記バンプ方式による回路基板9として
は,例えば図13(d)に示すごとく,セラミックス基
板93,92,91と,該セラミックス基板91,92
に穿設されたスルーホール90と,該スルーホール90
の上に形成されたバンプ57とを有するものがある。ス
ルーホール90の内部には,導体5が充填されている。
セラミックス基板92,93には,配線パターン59が
形成されている。
As the circuit board 9 based on the bump method, for example, as shown in FIG. 13D, ceramic substrates 93, 92, 91 and the ceramic substrates 91, 92 are shown.
Through hole 90 formed in the
Some of which have bumps 57 formed on top of them. The conductor 5 is filled in the through hole 90.
A wiring pattern 59 is formed on the ceramic substrates 92, 93.

【0006】次に,上記バンプ付き回路基板の製造方法
について説明する。まず,図13(a)に示すごとく,
セラミックス基板91,92,93形成用のグリーンシ
ート910,920,930を準備し,該グリーンシー
ト910,920には貫通孔915,925を穿設す
る。次に,該貫通孔内に導体5を充填する。次いで,グ
リーンシート920,930の上に配線パターン59を
形成する。
Next, a method of manufacturing the circuit board with bumps will be described. First, as shown in FIG.
Green sheets 910, 920, 930 for forming the ceramic substrates 91, 92, 93 are prepared, and through holes 915, 925 are formed in the green sheets 910, 920. Next, the conductor 5 is filled in the through hole. Next, the wiring pattern 59 is formed on the green sheets 920 and 930.

【0007】次に,図13(b)に示すごとく,上記グ
リーンシート930,920,910を下から順に積層
し,これらの位置合わせを行い,熱圧着して,積層板を
得る。次に,図13(c)に示すごとく,グリーンシー
ト910の上に,導体5によりバンプ57を形成する。
次に,上記積層板を焼結温度で加熱する。これにより,
グリーンシート930,920,910が焼結してセラ
ミックス基板93,92,91となり,図13(d)に
示すようなバンプ付き回路基板9が得られる。
Next, as shown in FIG. 13B, the green sheets 930, 920, and 910 are laminated in order from the bottom, and the positions of these green sheets are aligned and thermocompression bonded to obtain a laminated plate. Next, as shown in FIG. 13C, the bumps 57 are formed by the conductor 5 on the green sheet 910.
Next, the laminated plate is heated at the sintering temperature. By this,
The green sheets 930, 920, 910 are sintered to form the ceramic substrates 93, 92, 91, and the circuit board 9 with bumps as shown in FIG. 13D is obtained.

【0008】上記バンプの形成方法としては,グリーン
シート910の上に導体5を印刷する印刷方法がある。
また,凹部を設けたシリコーン樹脂に導体5を充填した
ものをグリーンシート910の上に載置し,その後の積
層板を加熱するときに,上記導体5をグリーンシート9
10側に転写する転写方法がある。
As a method of forming the bumps, there is a printing method of printing the conductor 5 on the green sheet 910.
Further, when the conductor 5 is filled in the silicone resin having the recessed portion is placed on the green sheet 910, and the conductor 5 is heated when the laminated plate is heated thereafter.
There is a transfer method for transferring to the 10 side.

【0009】[0009]

【解決しようとする課題】しかしながら,バンプを形成
するに当たっては,上記いずれの形成方法においても,
以下に述べる種々の問題を伴う。即ち,上記印刷方法で
は,印刷厚みのばらつきが生じるために,図14の下部
に示すごとく,バンプの厚みが不揃いになり,薄いバン
プ571と,厚いバンプ572,573とが形成され
る。
[Problems to be Solved] However, in forming bumps, in any of the above forming methods,
There are various problems described below. That is, in the above-mentioned printing method, since the printing thickness varies, the bump thickness becomes uneven as shown in the lower part of FIG. 14, and thin bumps 571 and thick bumps 572 and 573 are formed.

【0010】そのため,上記バンプ571,572,5
73を有する回路基板9を,マザーボード6のパッド6
71,672,673の上に実装しようとする場合,薄
いバンプ571とパッド671との間に,隙間8が発生
してしまうため,両者を接続することができない。ま
た,電子部品7を実装する場合(図11)にも上記と同
様の問題がある。
Therefore, the bumps 571, 572, 5
The circuit board 9 having 73 and the pads 6 of the mother board 6
When attempting to mount on 71, 672, 673, the gap 8 is generated between the thin bump 571 and the pad 671, so that they cannot be connected. Further, when the electronic component 7 is mounted (FIG. 11), there are the same problems as described above.

【0011】したがって,バンプの厚みを揃える必要が
ある。その方法としては,厚いバンプを平面研削機によ
り研磨して薄いバンプの厚みに揃えることが考えられ
る。しかし,この研磨作業を行うことは,製造工程を増
すことになり,時間,労力共に無駄である。本発明はか
かる従来の問題点に鑑み,バンプの形状,及び厚みのバ
ラツキを防止することができる,バンプ付き回路基板の
製造方法を提供しようとするものである。
Therefore, it is necessary to make the bumps uniform in thickness. As a method for this, it is conceivable to polish the thick bumps with a surface grinder to make the thickness of the thin bumps uniform. However, carrying out this polishing work increases the number of manufacturing steps, and thus wastes both time and labor. In view of such conventional problems, the present invention aims to provide a method for manufacturing a circuit board with bumps, which can prevent variations in the shape and thickness of the bumps.

【0012】[0012]

【課題の解決手段】本発明は,セラミックス基板と,該
セラミックス基板の表面に突設されたバンプとを有する
バンプ付き回路基板を製造する方法において,セラミッ
クス基板形成用のグリーンシートを樹脂フィルムの上に
形成してフィルム付きグリーンシートを得る準備工程
と,上記フィルム付きグリーンシートにホールを穿設
し,該ホールにバンプ形成用の導体を充填する導体充填
工程と,上記フィルム付きグリーンシートを,そのグリ
ーンシート側を他のセラミックス基板形成用のグリーン
シートと対面させて,その上に積層し,熱圧着すること
により積層体を得る積層工程と,上記積層体から上記樹
脂フィルムを除去してバンプ付き積層体とする剥離工程
と,上記バンプ付き積層体を焼成することにより上記バ
ンプ付き回路基板を得る焼成工程とよりなることを特徴
とするバンプ付き回路基板の製造方法にある。
The present invention relates to a method for manufacturing a circuit board with bumps having a ceramic substrate and bumps protruding from the surface of the ceramic substrate, wherein a green sheet for forming the ceramic substrate is placed on a resin film. Forming a green sheet with a film, a conductor filling step of forming a hole in the green sheet with a film, and filling the hole with a conductor for forming a bump, and the green sheet with a film. Laminating step in which the green sheet side faces another green sheet for forming a ceramics substrate, is laminated on it, and is thermocompression bonded to obtain a laminated body, and the resin film is removed from the laminated body to form a bump. A circuit board with bumps is obtained by performing a peeling step for forming a laminate and baking the above-mentioned bumped laminate. It is more a firing step in the production method of the bumps circuit board according to claim.

【0013】本発明において最も注目すべきことは,フ
ィルム付きグリーンシートのホール内にバンプ形成用の
導体を充填し,該フィルム付きグリーンシートを,その
グリーンシート側を他のセラミックス基板形成用のグリ
ーンシートに対面させて積層し,熱圧着し,次いで樹脂
フィルムだけを除去した後,焼成することである。
What is most noticeable in the present invention is that a hole for a film-formed green sheet is filled with a bump-forming conductor, and the film-formed green sheet is attached to the green sheet side for forming another ceramic substrate. Laminating the sheets so that they face each other, thermocompression bonding, then removing only the resin film, and then firing.

【0014】上記樹脂フィルムは,グリーンシートと接
着しないものである。上記樹脂フィルムは,ポリエステ
ル,ポリフェニレンサルファイド,ポリエーテルイミ
ド,ポリエーテルサルホン,ポリエーテルケトン,ポリ
イミド,メチルペンテンコポリマー等の樹脂フィルムを
用いることが好ましい。樹脂フィルムは,厚み50〜2
00μmが好ましい。厚み50μm未満ではグリーンシ
ートの厚さのばらつきが大きくなるおそれがある。一
方,200μmを越える場合にはホールの穿設が困難に
なる。
The resin film does not adhere to the green sheet. The resin film is preferably a resin film of polyester, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyethersulfone, polyetherketone, polyimide, methylpentene copolymer, or the like. The resin film has a thickness of 50 to 2
00 μm is preferable. If the thickness is less than 50 μm, the variation in the thickness of the green sheet may increase. On the other hand, if it exceeds 200 μm, it becomes difficult to form holes.

【0015】フィルム付きグリーンシートのホール内に
導体を充填する際には,樹脂フィルム側を下にして平板
の上に載置し,グリーンシート側から上記ホール内に導
体を充填することが好ましい。これにより,充填した導
体が樹脂フィルムのホール上端からはみ出すことがな
い。そのため,その後の剥離工程において,グリーンシ
ートから樹脂フィルムだけを容易に剥離することができ
る。
When the conductor is filled in the hole of the green sheet with a film, it is preferable to place the resin film side down on a flat plate and fill the conductor in the hole from the green sheet side. As a result, the filled conductor does not protrude from the upper end of the hole of the resin film. Therefore, in the subsequent peeling process, only the resin film can be easily peeled from the green sheet.

【0016】また,例え充填した導体がホールの上方か
ら突出しても,その突出した導体に邪魔されることな
く,容易に樹脂フィルムを除去することができる。ま
た,フィルム付きグリーンシートに用いられるグリーン
シートは,導体を完全に充填させるために,厚み100
〜400μmであることが好ましい。また,上記ホール
の大きさは特に規定しないが,0.1〜0.8mmの直
径であることが好ましい。上記導体は,熱圧着の際に樹
脂フィルムと接着しないものである。導体としては,タ
ングステン,銀,銀パラジウム,銅等とバインダーとを
混合してペースト状にしたものを用いる。
Further, even if the filled conductor projects from above the hole, the resin film can be easily removed without being disturbed by the projecting conductor. In addition, the green sheet used for the film-attached green sheet has a thickness of 100 to completely fill the conductor.
It is preferably ˜400 μm. Although the size of the hole is not particularly limited, it is preferable that the hole has a diameter of 0.1 to 0.8 mm. The conductor does not adhere to the resin film during thermocompression bonding. As the conductor, a material prepared by mixing tungsten, silver, silver palladium, copper, etc. with a binder to form a paste is used.

【0017】準備工程及び積層工程において用いるセラ
ミックス基板形成用のグリーンシートは,いずれもセラ
ミックス基板を形成するためのものであり,1又は複数
枚を積層して用いることができる。また,上記グリーン
シートの表面に導体を用いて配線パターンを形成し,配
線パターンを形成することができる。また,必要に応じ
て,グリーンシートに貫通孔を設け,該貫通孔に貫通孔
用導体を充填することにより,各セラミックス基板の配
線パターンの導通を図ることができる。貫通孔用導体
は,バンプ形成用の導体と同材料でもよいし異種材料で
もよい。
The green sheets for forming the ceramic substrate used in the preparation step and the laminating step are for forming the ceramic substrate, and one or a plurality of sheets can be laminated and used. Further, a wiring pattern can be formed by forming a wiring pattern on the surface of the green sheet using a conductor. If necessary, a through hole is provided in the green sheet and the through hole is filled with a through hole conductor, so that the wiring pattern of each ceramic substrate can be electrically connected. The through hole conductor may be the same material as the bump forming conductor or may be a different material.

【0018】[0018]

【作用及び効果】本発明においては,ホール内に導体を
充填したフィルム付きグリーンシートを,その樹脂フィ
ルム側を他のセラミックス基板形成用のグリーンシート
と対面させて積層し,熱圧着した後,樹脂フィルムだけ
を除去している。これにより,フィルム付きグリーンシ
ートのホール内の導体は,樹脂フィルムのホールからは
ずれて,グリーンシートのホール内に残る。そして,該
導体は,グリーンシートの表面に凸形状のバンプを形成
する。
In the present invention, the green sheet with a film, in which the conductor is filled in the hole, is laminated with the resin film side facing the other green sheet for forming the ceramic substrate, and thermocompression-bonded. Only the film is removed. As a result, the conductor in the hole of the green sheet with film is displaced from the hole of the resin film and remains in the hole of the green sheet. Then, the conductor forms a convex bump on the surface of the green sheet.

【0019】また,樹脂フィルムのホール内に導体を充
填してバンプを形成している。そのため,バンプの高
さ,形状を均一にすることができる。また,バンプは,
グリーンシートのホールの真上の確実な位置に形成され
る。また,上記ホールの形状を選択することにより,バ
ンプの形状を自由に設定することができる。
Further, a conductor is filled in the hole of the resin film to form a bump. Therefore, the height and shape of the bump can be made uniform. Also, the bump is
It is formed at a certain position right above the hole of the green sheet. In addition, the shape of the bump can be freely set by selecting the shape of the hole.

【0020】また,樹脂フィルムは準備工程及び積層工
程の際に,グリーンシートと接着しない。そのため,フ
ィルム付きグリーンシートから樹脂フィルムを除去する
作業が容易である。従って,本発明によれば,バンプの
形状,及び厚みのバラツキを防止することができ,半田
付け接続性に優れた,バンプ付き回路基板の製造方法を
提供することができる。
The resin film does not adhere to the green sheet during the preparation process and the laminating process. Therefore, the work of removing the resin film from the green sheet with film is easy. Therefore, according to the present invention, it is possible to provide a method for manufacturing a circuit board with bumps, which can prevent variations in the shape and thickness of the bumps and has excellent soldering connectivity.

【0021】[0021]

【実施例】【Example】

実施例1 本発明にかかる実施例について,図1〜図10を用いて
説明する。本例により製造されたバンプ付き回路基板
は,図10に示すごとく,セラミックス基板31のホー
ル10の上に,凸形状のバンプ51を形成している。上
記バンプ付き回路基板3は,セラミックス基板31,3
2,33,34を積層した多層板であり,その内部及び
外部には配線パターン52,53が形成されている。セ
ラミックス基板32,33,34にはホール20が穿設
されている。
Example 1 An example according to the present invention will be described with reference to FIGS. In the circuit board with bumps manufactured according to this example, as shown in FIG. 10, convex bumps 51 are formed on the holes 10 of the ceramic substrate 31. The circuit board 3 with bumps is a ceramic substrate 31, 3
It is a multi-layer board in which 2, 33, and 34 are laminated, and wiring patterns 52 and 53 are formed inside and outside thereof. Holes 20 are formed in the ceramic substrates 32, 33, 34.

【0022】上記バンプ51は,タングステンペースト
よりなる導体5を用いて形成されている。また,上記ホ
ール10,20の内部にも,バンプ51と同材料の貫通
孔用導体50が充填されている。バンプ51及び配線パ
ターン53は,Niメッキ61及びAuメッキ62によ
り被覆されている。上記セラミックス基板31〜34
は,アルミナよりなるグリーンシート21〜24を焼結
したものである。
The bumps 51 are formed by using the conductor 5 made of tungsten paste. The holes 10 and 20 are also filled with the through hole conductor 50 made of the same material as the bump 51. The bumps 51 and the wiring patterns 53 are covered with Ni plating 61 and Au plating 62. The ceramic substrates 31 to 34
Is obtained by sintering green sheets 21 to 24 made of alumina.

【0023】次に,上記バンプ付き回路基板の製造方法
について説明する。まず,準備工程において,図1に示
すごとく,厚み100μmのポリエステルフィルムから
なる樹脂フィルム1の上に,セラミックス基板形成用の
グリーンシート21を作成して,フィルム付きグリーン
シート26を得る。該グリーンシート21は,アルミナ
に溶剤,バインダー,可塑剤等を混練して泥しょうを作
成しておき,このアルミナ泥しょうをドクターブレード
法により厚み200μmに成形する。次いで,上記フィ
ルム付きグリーンシートを所望の形状に切断する。
Next, a method of manufacturing the circuit board with bumps will be described. First, in a preparatory step, as shown in FIG. 1, a green sheet 21 for forming a ceramics substrate is formed on a resin film 1 made of a polyester film having a thickness of 100 μm to obtain a green sheet 26 with a film. The green sheet 21 is prepared by kneading alumina with a solvent, a binder, a plasticizer and the like to prepare a slurry, and molding the alumina slurry to a thickness of 200 μm by a doctor blade method. Then, the green sheet with a film is cut into a desired shape.

【0024】次に,導体充填工程において,図2に示す
ごとく,NCパンチングマシンを用いて,上記フィルム
付きグリーンシート26に,直径0.5mmのホール1
0を穿設する。次いで,図3に示すごとく,上記フィル
ム付きグリーンシート26を,樹脂フィルム1側を下に
して平板8の上に載置する。
Next, in the conductor filling step, as shown in FIG. 2, a hole 1 having a diameter of 0.5 mm was formed on the film-attached green sheet 26 using an NC punching machine.
Drill 0. Next, as shown in FIG. 3, the green sheet 26 with the film is placed on the flat plate 8 with the resin film 1 side facing down.

【0025】次いで,スクリーン印刷方法により,ホー
ル10の中に,グリーンシート21側から導体5を充填
する。このとき,図3に示すごとく,充填された導体5
は,ホール10の上端と同じ高さでもよい。また,図4
に示すごとく,ホール10の上端から多少突出していて
もよい。突出した導体5は,後の工程においてバンプ付
き積層体の内部に隠れ,焼成によりセラミックス基板と
接着するため,何の支障もないからである。
Then, the conductor 5 is filled into the hole 10 from the green sheet 21 side by the screen printing method. At this time, as shown in FIG.
May be at the same height as the upper end of the hole 10. In addition, FIG.
As shown in, the hole 10 may be slightly projected from the upper end. This is because the protruding conductor 5 is hidden inside the laminated body with bumps in a later step and adheres to the ceramic substrate by firing, so that there is no problem.

【0026】次に,積層工程において,図5に示すごと
く,上記フィルム付きグリーンシート26を上下逆転さ
せる。その一方で,図6に示すごとく,他のセラミック
ス基板形成用のグリーンシート22,23,24を準備
する。次いで,各グリーンシート22,23,24にホ
ール20を穿設し,該ホール20内にスクリーン印刷方
法により貫通孔用導体50を充填する。また,上記グリ
ーンシート23,24の表面に配線パターン52を形成
する。
Next, in the laminating step, as shown in FIG. 5, the green sheet with film 26 is turned upside down. On the other hand, as shown in FIG. 6, other green sheets 22, 23, 24 for forming a ceramic substrate are prepared. Next, a hole 20 is formed in each green sheet 22, 23, 24, and the through hole conductor 50 is filled in the hole 20 by a screen printing method. Further, the wiring pattern 52 is formed on the surfaces of the green sheets 23 and 24.

【0027】次いで,上記グリーンシート24,23,
22を下から順に積層し,多層板27とする。次いで,
図7に示すごとく,上記フィルム付きグリーンシート2
6を,グリーンシート21側を上記多層板27のグリー
ンシート22と対面させて,その上に積層し,熱圧着し
て,積層体28を得る。
Next, the green sheets 24, 23,
22 is laminated in order from the bottom to form a multilayer plate 27. Then,
As shown in FIG. 7, the green sheet with film 2
6, the green sheet 21 side is made to face the green sheet 22 of the multilayer board 27, laminated on it, and thermocompression bonded to obtain a laminated body 28.

【0028】次いで,剥離工程において,図8に示すご
とく,上記積層体28のグリーンシート21から樹脂フ
ィルム1を剥離する。これにより,樹脂フィルム1のホ
ール10から導体5が抜き取られて,図9に示すごと
く,グリーンシート21の表面にバンプ51を形成した
バンプ付き積層体29が得られる。
Next, in a peeling step, as shown in FIG. 8, the resin film 1 is peeled from the green sheet 21 of the laminate 28. As a result, the conductor 5 is extracted from the hole 10 of the resin film 1, and as shown in FIG. 9, the bumped laminated body 29 in which the bumps 51 are formed on the surface of the green sheet 21 is obtained.

【0029】次いで,焼成工程において,上記バンプ付
き積層体29を1550℃で焼成する。これにより,グ
リーンシート21〜24が焼結して,図10に示したセ
ラミックス基板31〜34の多層板となる。次に,該多
層板の外部に配線パターン53を形成し,その後,バン
プ51及び配線パターン53の表面にNiメッキ61,
Auメッキ62を施す。このようにして,バンプ付き回
路基板3を得る。
Next, in the firing step, the laminated body with bumps 29 is fired at 1550 ° C. As a result, the green sheets 21 to 24 are sintered to form the multilayer board of the ceramic substrates 31 to 34 shown in FIG. Next, a wiring pattern 53 is formed on the outside of the multilayer board, and then Ni plating 61,
Au plating 62 is applied. In this way, the circuit board 3 with bumps is obtained.

【0030】実施例2 本例の製造方法においては,まず,準備工程において,
厚み125μmのポリエステルフィルムからなる樹脂フ
ィルムの上に,セラミックス基板形成用のグリーンシー
トを作成して,フィルム付きグリーンシートを得た。上
記グリーンシートは,CaO−Al2 3 −SiO2
2 3 系ガラス60wt%とアルミナ40wt%とよ
りなる。次に,導体充填工程において,上記フィルム付
きグリーンシートにホールを穿設し,該ホール内に上記
Ag・Pdペーストよりなる導体を充填した。
Example 2 In the manufacturing method of this example, first, in the preparation step,
A green sheet for forming a ceramics substrate was formed on a resin film made of a polyester film having a thickness of 125 μm to obtain a green sheet with a film. The above green sheets, CaO-Al 2 O 3 -SiO 2 -
It is composed of 60 wt% of B 2 O 3 based glass and 40 wt% of alumina. Next, in the conductor filling step, holes were formed in the green sheet with the film, and the conductors made of the Ag / Pd paste were filled in the holes.

【0031】次いで,実施例1と同様に積層工程及び剥
離工程を行ない,その後焼成工程において,バンプ付き
積層体を900℃で焼成した。これにより,バンプ付き
回路基板を得た。尚,バンプ付き回路基板の表面にはN
iメッキ及びAuメッキを形成しなかった。その他は,
実施例1と同様である。
Then, a laminating step and a peeling step were performed in the same manner as in Example 1, and then, in a firing step, the bumped laminate was fired at 900 ° C. As a result, a circuit board with bumps was obtained. The surface of the circuit board with bumps is N
No i-plating or Au-plating was formed. Others,
This is the same as in the first embodiment.

【0032】実施例3 上記バンプ付き回路基板(実施例1,2)について,バ
ンプの厚み,及びバンプを被実装体のパッドに半田を介
して接続したときの接続信頼性について評価した。尚,
比較のために,実施例1及び実施例2のバンプの形成に
当たって,導体をグリーンシートの上に印刷する方法に
より形成したものを,それぞれ比較例C1及び比較例C
2とした。また,実施例2のバンプの形成に当たって,
転写方法を用いたものを比較例C3とした。該転写方法
としては,凹部を設けたシリコーン樹脂に導体を充填し
たものをグリーンシートの上に載置し,その後の積層板
を加熱するときに,上記導体をグリーンシート側に転写
する方法をいう。
Example 3 With respect to the circuit boards with bumps (Examples 1 and 2), the thickness of the bumps and the connection reliability when the bumps were connected to the pads of the mounted body via solder were evaluated. still,
For comparison, in forming the bumps of Examples 1 and 2, those formed by a method of printing a conductor on a green sheet were used as Comparative Example C1 and Comparative Example C, respectively.
It was set to 2. In forming the bumps of Example 2,
What used the transfer method was made into the comparative example C3. The transfer method is a method in which a conductor filled with a silicone resin having recesses is placed on a green sheet, and the conductor is transferred to the green sheet side when the laminated plate is heated thereafter. .

【0033】上記評価結果を表1に示す。同表におい
て,バンプ高さのバラツキは,バンプの高さの最大・最
小値の差の絶対値を意味する。半田付け不良は,バンプ
とパッドとの半田接続不良を意味する。表1より知られ
るごとく,実施例1,2は,バンプ高さバラツキが12
μm以下であった。また,半田付け不良は発生しなかっ
た。尚,比較例C1〜C3は,実施例1,2に比して著
しくバラツキが大きく,半田付け不良も発生した。
The evaluation results are shown in Table 1. In the table, the variation in bump height means the absolute value of the difference between the maximum and minimum values of bump height. Bad soldering means poor solder connection between bumps and pads. As is known from Table 1, in Examples 1 and 2, the bump height variation was 12
It was less than μm. Also, no soldering failure occurred. It should be noted that Comparative Examples C1 to C3 were significantly different from those of Examples 1 and 2 and defective soldering occurred.

【0034】[0034]

【表1】 [Table 1]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】実施例1における,フィルム付きグリーンシー
トの断面図。
FIG. 1 is a sectional view of a green sheet with a film in Example 1.

【図2】実施例1における,ホールを穿設したフィルム
付きグリーンシートの断面図。
FIG. 2 is a cross-sectional view of a green sheet with a film having holes formed therein in Example 1.

【図3】実施例1における,ホール内に導体を充填する
方法を示す説明図。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing a method of filling a conductor in a hole according to the first embodiment.

【図4】実施例1における導体がホール上端から突出し
た状態を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a state in which the conductor in Example 1 projects from the upper end of the hole.

【図5】実施例1における,導体がホール内に充填され
たフィルム付きグリーンシートの断面図。
FIG. 5 is a cross-sectional view of the film-attached green sheet in which the conductor is filled in the holes according to the first embodiment.

【図6】実施例1における,他のグリーンシートの断面
図。
FIG. 6 is a cross-sectional view of another green sheet according to the first embodiment.

【図7】実施例1における,積層体の断面図。FIG. 7 is a cross-sectional view of a laminated body in Example 1.

【図8】実施例1における,積層体から樹脂フィルムを
除去している状態を示す説明図。
FIG. 8 is an explanatory view showing a state where the resin film is removed from the laminate in Example 1.

【図9】実施例1における,バンプ付き積層体の断面
図。
FIG. 9 is a sectional view of the laminated body with bumps in the first embodiment.

【図10】実施例1のバンプ付き回路基板の断面図。FIG. 10 is a sectional view of the circuit board with bumps according to the first embodiment.

【図11】バンプ付き回路基板に電子部品が実装された
状態を示す説明図。
FIG. 11 is an explanatory diagram showing a state where electronic components are mounted on a circuit board with bumps.

【図12】バンプ付き回路基板がマザーボードに実装さ
れた状態を示す説明図。
FIG. 12 is an explanatory diagram showing a state in which a circuit board with bumps is mounted on a motherboard.

【図13】従来例の製造方法を示す製造工程説明図。FIG. 13 is a manufacturing process explanatory view showing a manufacturing method of a conventional example.

【図14】従来例にかかる,印刷方法によりバンプを形
成したバンプ付き回路基板が,マザーボードに実装され
た不良状態を示す説明図。
FIG. 14 is an explanatory view showing a defective state in which a circuit board with bumps on which bumps are formed by a printing method according to a conventional example is mounted on a motherboard.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1...樹脂フィルム, 10,20...ホール, 21,22,23,24...グリーンシート, 26...フィルム付きグリーンシート, 28...積層体, 29...バンプ付き積層体, 3...バンプ付き回路基板, 31,32,33,34...セラミックス基板, 5...導体, 50...貫通孔用導体, 51...バンプ, 52,53...配線パターン, 1. . . Resin film, 10, 20. . . Hall, 21, 22, 23, 24. . . Green sheet, 26. . . Green sheet with film, 28. . . Laminate, 29. . . Laminated body with bumps, 3. . . Circuit board with bumps, 31, 32, 33, 34. . . Ceramics substrate, 5. . . Conductor, 50. . . Through-hole conductor, 51. . . Bump, 52, 53. . . Wiring pattern,

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 セラミックス基板と,該セラミックス基
板の表面に突設されたバンプとを有するバンプ付き回路
基板を製造する方法において,セラミックス基板形成用
のグリーンシートを樹脂フィルムの上に形成してフィル
ム付きグリーンシートを得る準備工程と,上記フィルム
付きグリーンシートにホールを穿設し,該ホールにバン
プ形成用の導体を充填する導体充填工程と,上記フィル
ム付きグリーンシートを,そのグリーンシート側を他の
セラミックス基板形成用のグリーンシートと対面させ
て,その上に積層し,熱圧着することにより積層体を得
る積層工程と,上記積層体から上記樹脂フィルムを除去
してバンプ付き積層体とする剥離工程と,上記バンプ付
き積層体を焼成することにより上記バンプ付き回路基板
を得る焼成工程とよりなることを特徴とするバンプ付き
回路基板の製造方法。
1. A method for manufacturing a circuit board with bumps, comprising a ceramic substrate and bumps protruding from the surface of the ceramic substrate, wherein a green sheet for forming the ceramic substrate is formed on a resin film. A step of preparing a green sheet with a film, a step of filling a hole in the green sheet with a film, and filling the hole with a conductor for forming a bump, the green sheet with a film, and the other side of the green sheet with the film. Laminating step of facing the green sheet for forming a ceramics substrate, laminating on it, and thermocompressing to obtain a laminated body, and removing the resin film from the laminated body to obtain a bumped laminated body. And a firing step for obtaining the circuit board with bumps by firing the laminated body with bumps. A method of manufacturing a circuit board with bumps, comprising:
【請求項2】 請求項1において,上記樹脂フィルム
は,ポリエステル,ポリフェニレンサルファイド,ポリ
エーテルイミド,ポリエーテルサルホン,ポリエーテル
ケトン,ポリイミド,メチルペンテンコポリマーを用い
ることを特徴とするバンプ付き回路基板の製造方法。
2. The bumped circuit board according to claim 1, wherein the resin film is made of polyester, polyphenylene sulfide, polyetherimide, polyethersulfone, polyetherketone, polyimide or methylpentene copolymer. Production method.
JP12804793A 1993-04-30 1993-04-30 Manufacture of bumped circuit board Pending JPH06314881A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12804793A JPH06314881A (en) 1993-04-30 1993-04-30 Manufacture of bumped circuit board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12804793A JPH06314881A (en) 1993-04-30 1993-04-30 Manufacture of bumped circuit board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06314881A true JPH06314881A (en) 1994-11-08

Family

ID=14975196

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12804793A Pending JPH06314881A (en) 1993-04-30 1993-04-30 Manufacture of bumped circuit board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06314881A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022138744A1 (en) * 2020-12-25 2022-06-30 株式会社村田製作所 Electronic component, electronic component manufacturing method, and circuit module

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2022138744A1 (en) * 2020-12-25 2022-06-30 株式会社村田製作所 Electronic component, electronic component manufacturing method, and circuit module

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3173410B2 (en) Package substrate and method of manufacturing the same
US7488897B2 (en) Hybrid multilayer substrate and method for manufacturing the same
US7820916B2 (en) Composite ceramic substrate
JP2681327B2 (en) Method for manufacturing bumped circuit board
JP4337129B2 (en) Manufacturing method of ceramic substrate
JP2680443B2 (en) Ceramic wiring board and method of manufacturing the same
JP3199637B2 (en) Method for manufacturing multilayer wiring board
JP4868196B2 (en) Manufacturing method of ceramic multilayer substrate
JPH06314881A (en) Manufacture of bumped circuit board
JPH09293968A (en) Method of manufacturing multilayer wiring substrate
JP4786914B2 (en) Composite wiring board structure
TWI524442B (en) Method for manufacturing wiring board having solder bumps, mask for solder ball mounting
JPH1041626A (en) Ceramic multilayered board for flip chip and its manufacture
JP4613410B2 (en) Manufacturing method of ceramic circuit board
JP2005268672A (en) Substrate
KR100956212B1 (en) Manufacturing method of multi-layer substrate
JP4329253B2 (en) Manufacturing method of ceramic multilayer substrate for flip chip
JP3994795B2 (en) Multilayer ceramic electronic component and manufacturing method thereof
JPH10242324A (en) Electrode-built-in ceramic substrate and manufacture thereof
JPH10173083A (en) Wiring board for mounting electronic component and its manufacturing method
JPH11233674A (en) Manufacture of ceramics substrate
JP2007149718A (en) Wiring board incorporating via array capacitor and its manufacturing process
JP2006237230A (en) Compound wiring board structure and its production process
JP2004095753A (en) Method for manufacturing multi-layer ceramic substrate
JP3015504B2 (en) Semiconductor device