JP2006237230A - Compound wiring board structure and its production process - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compound wiring board structure which can enhance yield by lowering failure rate. <P>SOLUTION: The compound wiring board structure 11 comprises a first substrate 51, a second substrate 31, and a function module 91. A semiconductor circuit element 21 is connected to an element mounting portion 56 set on the first major surface 52 side of the first substrate 51. The function module 91 is bonded to the first major surface 52 side of the first substrate 51, and the second substrate 31 is bonded to the second major surface 53 side of the first substrate 51. The conductor portion 57 of the first substrate 51, the conductor portion 35 of the second substrate 31, and the conductor portion 96 of the function module 91 are interconnected electrically. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、複合配線基板構造体及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a composite wiring board structure and a manufacturing method thereof.

近年、パーソナルコンピュータ、デジタル家電などの電気製品分野や、自動車分野などにおいては、製品の小型化、高機能化、高付加価値化が益々進んでいる。それに伴い、この種の製品における重要な電気的部品であるマザーボードの小型化や高密度化が望まれており、マザーボード上に実装される各種部品の小型化も同様に望まれている。このような部品としては、ICチップ等の電子部品を実装するための基板を挙げることができる(例えば、特許文献1参照)。ここで、特許文献1は、機械的強度が高いリジッド基板に接着剤を介してフレキシブル基板を貼り付けた、いわゆるリジッド・フレキ基板となっている。このリジッド・フレキ基板のフレキシブル基板側にはICチップが実装されている。
特開2004−187202号公報(図4など)
In recent years, in the field of electrical products such as personal computers and digital home appliances, and in the field of automobiles, the miniaturization, high functionality, and high added value of products have been increasing. Accordingly, miniaturization and high density of the motherboard, which is an important electrical component in this type of product, are desired, and miniaturization of various components mounted on the motherboard is also desired. An example of such a component is a substrate for mounting an electronic component such as an IC chip (see, for example, Patent Document 1). Here, Patent Document 1 is a so-called rigid / flexible substrate in which a flexible substrate is attached to a rigid substrate having high mechanical strength via an adhesive. An IC chip is mounted on the flexible substrate side of the rigid flexible substrate.
Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-187202 (FIG. 4 etc.)

ところで、上記特許文献1のリジッド・フレキ基板を製造する場合には、リジッド基板にフレキシブル基板を積層した後の工程で、その積層体に対してビア孔を積層方向に貫通形成し、形成されたビア孔内に銅めっきや導電性金属ペーストの充填を施すことにより導体部を形成していた。この場合、リジッド基板にフレキシブル基板を積層した後でないと、配線不良を発見するための電気検査を行うことができないため、リジッド基板及びフレキシブル基板の少なくとも一方が不良品であったとしても、それを事前に除去することができない。その結果、完成したリジッド・フレキ基板が不良品となる確率が高く、歩留まりの低下につながってしまう。   By the way, when manufacturing the rigid / flexible substrate of the above-mentioned Patent Document 1, via holes are formed through the stacked body in the stacking direction in a step after the flexible substrate is stacked on the rigid substrate. The conductor portion was formed by filling the via hole with copper plating or conductive metal paste. In this case, since it is not possible to perform an electrical inspection for finding a wiring failure unless the flexible substrate is laminated on the rigid substrate, even if at least one of the rigid substrate and the flexible substrate is a defective product, It cannot be removed in advance. As a result, there is a high probability that the completed rigid / flexible substrate will be a defective product, leading to a decrease in yield.

本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、不良品となる確率が低くなり、歩留まりの向上につながる複合配線基板構造体及びその製造方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a composite wiring board structure and a method for manufacturing the same that reduce the probability of being a defective product and lead to an improvement in yield.

そして、上記課題を解決するための手段(手段1)としては、第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側に半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定された第1基板と、前記第1基板の前記第2主面側に接合された第2基板と、前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に接合された機能モジュールとを備え、前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュールの導体部が互いに電気的に接続されていることを特徴とする複合配線基板構造体がある。   And as a means (means 1) for solving the above-mentioned problem, an element mounting portion having a first main surface and a second main surface, to which a semiconductor circuit element can be connected, is set on the first main surface side. The first substrate, the second substrate bonded to the second main surface side of the first substrate, and bonded to at least one of the first main surface and the second main surface of the first substrate A composite wiring board structure comprising: a conductor portion of the first substrate; a conductor portion of the second substrate; and a conductor portion of the functional module that are electrically connected to each other. is there.

従って、この複合配線基板構造体の場合、第1基板の導体部、第2基板の導体部及び機能モジュールの導体部が互いに電気的に接続されている。このため、例えば、互いに別々の機能を有する第1基板、第2基板及び機能モジュールをあらかじめ作製しておいてから、第2基板及び機能モジュールを第1基板に接合させることにより、複合配線基板構造体に複数の機能を持たせることができる。   Therefore, in the case of this composite wiring board structure, the conductor portion of the first substrate, the conductor portion of the second substrate, and the conductor portion of the functional module are electrically connected to each other. For this reason, for example, a first substrate, a second substrate, and a functional module having different functions are prepared in advance, and then the second substrate and the functional module are joined to the first substrate, whereby a composite wiring board structure is obtained. The body can have multiple functions.

また、本発明の複合配線基板構造体には、第1基板及び第2基板に加えて機能モジュールを有するため、2種類の基板からなる特許文献1に記載の従来技術に比べて、多機能化を図ることができる。ゆえに、1つのシステム化された複合配線基板構造体(いわゆるシステム・イン・パッケージ:SIP)を実現しやすくなり、付加価値も高くなる。   In addition, since the composite wiring board structure of the present invention has a functional module in addition to the first board and the second board, it is more multifunctional than the prior art described in Patent Document 1 consisting of two kinds of boards. Can be achieved. Therefore, it becomes easy to realize one systemized composite wiring board structure (so-called system in package: SIP), and the added value is also increased.

さらに、第1基板に第2基板が接合され、第1基板に機能モジュールが接合されるため、第1基板に第2基板を接合させる前や、第1基板に機能モジュールを接合させる前に、第1基板、第2基板及び機能モジュールの電気検査を個別に行うことができる。このため、接合前に不良品を発見してそれを事前に除去することができるため、電気検査に合格した第1基板、第2基板及び機能モジュールのみを接合して複合配線基板構造体を構成することができる。従って、複合配線基板構造体が不良品となる確率が低くなり、歩留まりの向上につながる。   Furthermore, since the second substrate is bonded to the first substrate and the functional module is bonded to the first substrate, before the second substrate is bonded to the first substrate or before the functional module is bonded to the first substrate, Electrical inspection of the first substrate, the second substrate, and the functional module can be performed individually. For this reason, since a defective product can be found and removed in advance before joining, only the first board, the second board and the functional module that have passed the electrical inspection are joined to form a composite wiring board structure. can do. Therefore, the probability that the composite wiring board structure becomes a defective product is reduced, leading to an improvement in yield.

手段1にかかる複合配線基板構造体に実装されるべき半導体回路素子とは、半導体集積回路素子の他、半導体製造プロセスで製造されたMEMS(Micro Electro Mechanical Systems)素子等が挙げられる。半導体集積回路素子の例としては、熱膨張係数が2.6ppm/℃程度のシリコンからなる半導体集積回路チップ(ICチップ)などを挙げることができる。また、MEMS素子とは、半導体IC製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術により製造される微細回路素子をいい、通常シリコンを主体とするものである。さらに、MEMSとは、IC製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術により製造されるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ及び制御回路を集積化した微細システムの総称である。なお、前記半導体回路素子の大きさ及び形状は特に限定されない。   The semiconductor circuit element to be mounted on the composite wiring board structure according to the means 1 includes a semiconductor integrated circuit element, a MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) element manufactured by a semiconductor manufacturing process, and the like. Examples of the semiconductor integrated circuit element include a semiconductor integrated circuit chip (IC chip) made of silicon having a thermal expansion coefficient of about 2.6 ppm / ° C. The MEMS element refers to a fine circuit element manufactured by a micromachining technique based on a semiconductor IC manufacturing process, and is usually composed mainly of silicon. Furthermore, MEMS is a general term for a micro system in which micro-sized sensors, actuators, and control circuits manufactured by a micromachining technology based on an IC manufacturing process are integrated. The size and shape of the semiconductor circuit element are not particularly limited.

前記第1基板は、前記第2基板及び前記機能モジュールの少なくとも一方と同じ機能を有していてもよいし、前記第2基板及び前記機能モジュールとは異なる機能を有していてもよい。第1基板の主たる機能は、半導体回路素子を支持する機能である。なお、第1基板の他の機能としては、半導体回路素子と第2基板とを接続する機能、半導体回路素子と機能モジュールとを接続する機能、第2基板と機能モジュールとを接続する機能などが挙げられる。   The first substrate may have the same function as at least one of the second substrate and the functional module, or may have a function different from that of the second substrate and the functional module. The main function of the first substrate is to support the semiconductor circuit element. Other functions of the first substrate include a function of connecting the semiconductor circuit element and the second substrate, a function of connecting the semiconductor circuit element and the function module, and a function of connecting the second substrate and the function module. Can be mentioned.

なお、第1基板においては、第1主面側に、半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定されている。前記素子搭載部は、前記第2基板の反対側となる領域に設定されていることが好ましい。このようにすれば、例えば第1基板が低剛性であったとしても、第1基板の第2主面側に接合される第2基板が高剛性であれば接続信頼性を維持しやすくなる。また、第2基板と半導体回路素子(即ち素子搭載部)とを繋ぐ配線長が短縮されるため、第2基板−半導体回路素子間での信号の高速化を図ることができる。さらに、第2基板がキャパシタを有する場合、キャパシタ−半導体回路素子間の低インダクタンス化による電源の安定化を図ることができる。なお、このような素子搭載部は、第1基板上に1つのみ設定されていてもよいが、複数設定されていてもよい。   In the first substrate, an element mounting portion to which a semiconductor circuit element can be connected is set on the first main surface side. It is preferable that the element mounting portion is set in a region on the opposite side of the second substrate. In this way, even if the first substrate has low rigidity, for example, if the second substrate bonded to the second main surface side of the first substrate is highly rigid, connection reliability can be easily maintained. In addition, since the wiring length connecting the second substrate and the semiconductor circuit element (that is, the element mounting portion) is shortened, it is possible to increase the speed of the signal between the second substrate and the semiconductor circuit element. Furthermore, when the second substrate has a capacitor, the power supply can be stabilized by reducing the inductance between the capacitor and the semiconductor circuit element. Note that only one such element mounting portion may be set on the first substrate, but a plurality of such element mounting portions may be set.

また、第1基板の形成材料としては、セラミック、金属、半導体などの無機材料や、樹脂などの有機材料を挙げることができ、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮してそれらの中から適宜選択することができる。セラミック材料の好適例としては、例えばアルミナ、ガラスセラミック、結晶化ガラス等の低温焼成材料、窒化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素などがある。金属材料の好適例としては、銅、銅合金、鉄ニッケル合金などがある。半導体材料の好適例としては、例えばシリコンなどがある。そして、樹脂材料の好適例としては、PI樹脂(ポリイミド樹脂)、EP樹脂(エポキシ樹脂)、BT樹脂(ビスマレイミド−トリアジン樹脂)、PPE樹脂(ポリフェニレンエーテル樹脂)などがある。そのほか、これらの樹脂とガラス繊維(ガラス織布やガラス不織布)やポリアミド繊維等の有機繊維との複合材料を使用してもよい。あるいは、連続多孔質PTFE等の三次元網目状フッ素系樹脂基材にエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を含浸させた樹脂−樹脂複合材料等を使用してもよい。特に、低コスト化などの観点からすれば、第1基板の形成材料として樹脂材料などの有機材料を選択することが好ましい。このような配線基板であれば、微細な配線層を比較的簡単にかつ正確に形成することができ、端子数の非常に多い半導体回路素子を接続可能な素子搭載部を容易に形成することができる。即ち、このような配線基板は半導体回路素子実装用の基板として適している。   In addition, examples of the material for forming the first substrate include inorganic materials such as ceramics, metals, and semiconductors, and organic materials such as resins. In consideration of cost, workability, insulation, mechanical strength, and the like. It can select suitably from them. Preferable examples of the ceramic material include low-temperature fired materials such as alumina, glass ceramic, and crystallized glass, aluminum nitride, silicon carbide, and silicon nitride. Suitable examples of the metal material include copper, a copper alloy, and an iron nickel alloy. A preferred example of the semiconductor material is silicon. Preferred examples of the resin material include PI resin (polyimide resin), EP resin (epoxy resin), BT resin (bismaleimide-triazine resin), PPE resin (polyphenylene ether resin), and the like. In addition, composite materials of these resins and glass fibers (glass woven fabric or glass nonwoven fabric) or organic fibers such as polyamide fibers may be used. Alternatively, a resin-resin composite material obtained by impregnating a thermosetting resin such as an epoxy resin with a three-dimensional network fluorine-based resin base material such as continuous porous PTFE may be used. In particular, from the viewpoint of cost reduction or the like, it is preferable to select an organic material such as a resin material as a material for forming the first substrate. With such a wiring board, a fine wiring layer can be formed relatively easily and accurately, and an element mounting portion capable of connecting a semiconductor circuit element having a very large number of terminals can be easily formed. it can. That is, such a wiring board is suitable as a board for mounting a semiconductor circuit element.

また、第1基板の形成材料は樹脂材料などの有機材料であることが好ましいが、特には、前記第1基板はフレキシブル配線基板であることが好ましい。このようにすれば、比較的薄く形成できるため、複合配線基板構造体を厚み方向(Z方向)に小型化することができる。さらに、第2基板がセラミック基板である場合には、それよりも大きく形成しやすいため、セラミック基板から張り出させてその張り出し部分にさらに別の構造物を実装することもできる。加えて、第1基板の所定部分を屈曲させた状態で使用することもできるため、第1基板を屈曲させることで複合配線基板構造体の小型化を図ることができる。ゆえに、複合配線基板構造体が収容される空間が狭い場合であっても、第1基板を屈曲させることで上手く収容できる可能性が高くなる。   In addition, the material for forming the first substrate is preferably an organic material such as a resin material. In particular, the first substrate is preferably a flexible wiring substrate. In this way, since it can be formed relatively thin, the composite wiring board structure can be downsized in the thickness direction (Z direction). Further, when the second substrate is a ceramic substrate, it can be formed larger than that, so that another structure can be mounted on the projecting portion by projecting from the ceramic substrate. In addition, since it can be used in a state where a predetermined portion of the first substrate is bent, the composite wiring board structure can be downsized by bending the first substrate. Therefore, even when the space in which the composite wiring board structure is accommodated is narrow, there is a high possibility that it can be accommodated well by bending the first substrate.

さらに、前記第1基板は、前記素子搭載部を中心としてその周囲にファンアウトする複数の導体パターンと、前記複数の導体パターンに電気的に接続する複数のビア導体とを、導体部として有する多層フレキシブル配線基板であることが好ましい。このようにすれば、複数の導体パターンが素子搭載部を中心としてその周囲にファンアウトするため、半導体回路素子と第2基板(または機能モジュール)とを、第1基板を介して確実に電気的に接続させることができる。また、第1基板が多層フレキシブル配線基板であるため、今後予想される半導体回路素子のファイン化に十分に対応することができる。また、フレキシブル配線基板で多層ではない(1層しかない)場合に比べて、さらに多くの回路を内部に構成すること等が可能となり、付加価値を高めることができるからである。   Furthermore, the first substrate has a plurality of conductor patterns fanning out around the element mounting portion as a center and a plurality of via conductors electrically connected to the plurality of conductor patterns as a conductor portion. A flexible wiring board is preferable. In this way, since the plurality of conductor patterns fan out around the element mounting portion as a center, the semiconductor circuit element and the second substrate (or functional module) are reliably electrically connected via the first substrate. Can be connected to. In addition, since the first substrate is a multilayer flexible wiring substrate, it can sufficiently cope with finer semiconductor circuit elements expected in the future. In addition, as compared with the case where the flexible wiring board is not multi-layered (only one layer is provided), it is possible to configure more circuits inside, and the added value can be increased.

前記第2基板は、前記第1基板及び前記機能モジュールの少なくとも一方と同じ機能を有していてもよいし、前記第1基板及び前記機能モジュールとは異なる機能を有していてもよい。また、前記第2基板は、前記第1基板や半導体回路素子の機能を電気的に補助する「機能」を有していてもよい。第2基板が、半導体回路素子の機能を電気的に補助する機能を有している具体例としては、前記第2基板が、前記半導体回路素子の動作性向上に関与する受動部品としての「機能」を有していることなどが挙げられ、例えば半導体回路素子に供給すべき電源を安定化させるための受動部品としての「機能」を有していることなどが挙げられる。その具体例を挙げると、第2基板自体がかかる受動部品の機能(例えばキャパシタ機能)を有したものとして成立していることなどが挙げられる。   The second substrate may have the same function as at least one of the first substrate and the functional module, or may have a function different from that of the first substrate and the functional module. The second substrate may have a “function” that electrically assists the functions of the first substrate and the semiconductor circuit element. As a specific example in which the second substrate has a function of electrically assisting the function of the semiconductor circuit element, the second substrate is a “function as a passive component involved in improving the operability of the semiconductor circuit element. For example, having a “function” as a passive component for stabilizing a power supply to be supplied to the semiconductor circuit element. Specific examples thereof include that the second substrate itself is established as having such a passive component function (for example, a capacitor function).

また、前記第2基板には、前記半導体回路素子の動作性向上に関与する受動部品を接続可能な受動部品搭載部が設定されていることが好ましく、例えば半導体回路素子に供給すべき電源を安定化させるための受動部品を有することが好ましい。この種の受動部品の具体例としては、ダイオード、抵抗、インダクタ、キャパシタ、コイルなどを挙げることができる。ここに列挙した受動部品を接続可能な受動部品搭載部は、第2基板の表面に設定されていてもよく、内部に設定されていてもよい。   The second substrate is preferably provided with a passive component mounting portion capable of connecting passive components involved in improving the operability of the semiconductor circuit element. For example, a power supply to be supplied to the semiconductor circuit element is stabilized. It is preferable to have a passive component to make it. Specific examples of this type of passive component include a diode, a resistor, an inductor, a capacitor, and a coil. The passive component mounting part to which the passive components listed here can be connected may be set on the surface of the second substrate or may be set inside.

第2基板の形成材料については特に限定されず、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮して適宜選択することができる。なお、前記第1基板が低剛性の前記フレキシブル配線基板である場合、第2基板は、高剛性のリジッド基板であることが好ましい。このようにすれば、半導体回路素子が第1基板によって支持されるだけでなく第2基板によっても支持されるため、半導体回路素子が素子搭載部に対して安定的に接続される。よって、半導体回路素子の接続信頼性を維持しやすくなる。前記リジッド基板としては、例えば、セラミック基板、樹脂基板、金属基板、Si基板などが挙げられる。特に、前記リジッド基板は、無機材料を主体とするセラミック基板であることが好ましい。セラミックは剛性に優れるため、複合配線基板構造体の機械的強度を高くすることができるからである。また、セラミックは放熱性に優れるため、複合配線基板構造体に発熱部品を実装した場合であっても、その熱を効率よく放散することができるからである。しかも、セラミック材料は一般的に金属や樹脂に比べて熱膨張係数が低いため、リジッド基板の材料として好適だからである。前記セラミック基板の具体例としては、例えば、アルミナ基板、窒化アルミニウム基板、ベリリア基板、ガラスセラミック基板、結晶化ガラス等の低温焼成材料からなる基板などがあるが、これらに限ることはない。また、リジッド基板は、配線層などが設けられたセラミック配線基板であることが好ましい。このようにすれば、配線層を有しない単なる基板である場合に比べて、内部に回路を構成すること等が可能となり、付加価値を高めることができるからである。   The material for forming the second substrate is not particularly limited, and can be appropriately selected in consideration of cost, workability, insulation, mechanical strength, and the like. When the first substrate is the low-rigidity flexible wiring substrate, the second substrate is preferably a high-rigidity rigid substrate. In this way, the semiconductor circuit element is supported not only by the first substrate but also by the second substrate, so that the semiconductor circuit element is stably connected to the element mounting portion. Therefore, it becomes easy to maintain the connection reliability of the semiconductor circuit element. Examples of the rigid substrate include a ceramic substrate, a resin substrate, a metal substrate, and a Si substrate. In particular, the rigid substrate is preferably a ceramic substrate mainly composed of an inorganic material. This is because ceramic is excellent in rigidity, so that the mechanical strength of the composite wiring board structure can be increased. Moreover, since ceramic is excellent in heat dissipation, even when a heat generating component is mounted on the composite wiring board structure, the heat can be efficiently dissipated. Moreover, since ceramic materials generally have a lower coefficient of thermal expansion than metals and resins, they are suitable as materials for rigid substrates. Specific examples of the ceramic substrate include, but are not limited to, an alumina substrate, an aluminum nitride substrate, a beryllia substrate, a glass ceramic substrate, and a substrate made of a low-temperature fired material such as crystallized glass. The rigid substrate is preferably a ceramic wiring substrate provided with a wiring layer or the like. By doing so, it is possible to configure a circuit in the inside as compared with a simple substrate having no wiring layer, and the added value can be increased.

前記第2基板は、前記第1基板と接合される接合面と、前記接合面の反対側に位置する非接合面とを有するとともに、前記非接合面上には、マザーボードが有する複数の端子に対して接続可能な複数の外部接続端子が設けられていることが好ましい。マザーボードの形成材料については特に限定されず、コスト性、加工性、絶縁性、機械的強度などを考慮して適宜選択することができる。前記マザーボードとしては、例えば、樹脂製のもの、セラミック製のもの、金属製のものなどが挙げられる。特に、前記マザーボードは、コスト性の観点から樹脂製であることが好ましい。   The second substrate has a bonding surface bonded to the first substrate and a non-bonding surface positioned on the opposite side of the bonding surface, and a plurality of terminals included in the motherboard are provided on the non-bonding surface. It is preferable that a plurality of external connection terminals that can be connected are provided. The material for forming the mother board is not particularly limited, and can be appropriately selected in consideration of cost, workability, insulation, mechanical strength, and the like. Examples of the mother board include a resin one, a ceramic one, and a metal one. In particular, the mother board is preferably made of resin from the viewpoint of cost.

前記機能モジュールは、前記第1基板及び前記第2基板の少なくとも一方と同じ機能を有していてもよいし、前記第1基板及び前記第2基板とは異なる機能を有していてもよい。また、前記機能モジュールは、複数種類の電子部品を含んで構成された回路を有するモジュール配線基板であってもよく、MEMS等の機能部材を含むことも可能である。このようにすれば、配線層を有しない単なる基板である場合に比べて、内部に回路を構成すること等が可能となり、付加価値を高めることができる。機能モジュールの具体例としては、無線通信機能を有するRFモジュールや、電源電圧を制御する機能などを有する電源モジュールなどを挙げることができる。機能モジュールを構成する電子部品の具体例としては、チップトランジスタ、チップダイオード、チップ抵抗、チップキャパシタ、チップコイル、MEMS素子などがある。これらの電子部品は基本的に能動部品であっても受動部品であってもよく、モジュールが実現すべき機能の内容に応じて適宜選択される。   The functional module may have the same function as at least one of the first substrate and the second substrate, or may have a function different from that of the first substrate and the second substrate. The functional module may be a module wiring board having a circuit configured to include a plurality of types of electronic components, and may include a functional member such as a MEMS. In this way, compared to a simple substrate having no wiring layer, it is possible to configure a circuit therein and increase the added value. Specific examples of the functional module include an RF module having a wireless communication function, a power supply module having a function of controlling a power supply voltage, and the like. Specific examples of the electronic components constituting the functional module include a chip transistor, a chip diode, a chip resistor, a chip capacitor, a chip coil, and a MEMS element. These electronic components may basically be active components or passive components, and are appropriately selected according to the contents of functions to be realized by the module.

なお、前記第2基板及び機能モジュールは、第1基板における屈曲部分(屈曲予定箇所)を避けるようにして接合されていることがよい。このように構成すれば、たとえ第1基板を屈曲させて使用するような場合であっても、第2基板の接合箇所や機能モジュールの接合箇所に大きな変形が生じるような事態を回避でき、これらの箇所の接続信頼性の低下を防止することができる。   The second substrate and the functional module are preferably joined so as to avoid a bent portion (a planned bending portion) in the first substrate. If comprised in this way, even if it is a case where the 1st board | substrate is bent and used, the situation where a big deformation | transformation will arise in the joining location of a 2nd board | substrate and the joining location of a functional module can be avoided. It is possible to prevent a decrease in connection reliability at this point.

また、前記第2基板は、前記第1基板の前記第2主面側に第1接着層を介して接合され、前記第1接着層内の導体部を介して、前記第1基板の導体部と前記第2基板の導体部とが電気的に接続されていることが好ましい。その理由は、第1接着層内に導体部があると、それを介して第1基板の導体部と第2基板の導体部とを確実に接続しやすくなるからである。同様に、前記機能モジュールは、前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に、第2接着層を介して接合され、前記第2接着層内の導体部を介して、前記第1基板の導体部と前記機能モジュールの導体部とが電気的に接続されていることが好ましい。その理由は、第2接着層内に導体部があると、それを介して第1基板の導体部と機能モジュールの導体部とを確実に接続しやすくなるからである。   Further, the second substrate is bonded to the second main surface side of the first substrate via a first adhesive layer, and the conductor portion of the first substrate is interposed via the conductor portion in the first adhesive layer. It is preferable that the conductor part of the said 2nd board | substrate is electrically connected. The reason is that if there is a conductor portion in the first adhesive layer, it becomes easy to reliably connect the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate through the conductor portion. Similarly, the functional module is bonded to at least one side of the first main surface and the second main surface of the first substrate via a second adhesive layer, and the conductor in the second adhesive layer It is preferable that the conductor part of the first substrate and the conductor part of the functional module are electrically connected via the part. The reason is that if there is a conductor portion in the second adhesive layer, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the functional module can be reliably connected via the conductor portion.

好適な第1接着層及び第2接着層としては、例えば絶縁性接着樹脂材料を用いて構成された接着シートを挙げることができる。また、接着シートにおける絶縁性接着材料としては、例えば液晶ポリマー、熱可塑性ポリイミド、ポリエーテルエーテルケトンなどが好適である。このような耐熱性の材料を使用すれば、高温での接続信頼性などに優れた複合配線基板構造体を実現しやすくなるからである。なお、導体部は接着シートの表裏を導通させるものであることがよい。その理由は、接着シート内に導体部があると、それを介して第1基板の導体部及び第2基板の導体部(または、第1基板の導体部及び機能モジュールの導体部)をより確実に接続しやすくなるからである。具体的には、前記接着シートは、シート第1主面と、シート第2主面と、前記シート第1主面側及び前記シート第2主面側を連通させるビア孔内に設けられた導体柱とを有していることが好ましい。   Suitable examples of the first adhesive layer and the second adhesive layer include an adhesive sheet formed using an insulating adhesive resin material. Moreover, as the insulating adhesive material in the adhesive sheet, for example, liquid crystal polymer, thermoplastic polyimide, polyetheretherketone, and the like are suitable. By using such a heat resistant material, it becomes easy to realize a composite wiring board structure excellent in connection reliability at a high temperature. In addition, it is preferable that a conductor part is what conducts the front and back of an adhesive sheet. The reason is that if there is a conductor portion in the adhesive sheet, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate (or the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the functional module) are more reliably passed through the conductor portion. Because it becomes easy to connect to. Specifically, the adhesive sheet includes a sheet first main surface, a sheet second main surface, and a conductor provided in a via hole that communicates the sheet first main surface side and the sheet second main surface side. It is preferable to have a pillar.

なお、前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部、前記機能モジュールの導体部、前記第1接着層の導体部及び前記第2接着層の導体部は、例えば導電性金属により形成される。前記導電性金属としては特に限定されないが、例えば銅、金、銀、白金、パラジウム、ニッケル、スズ、鉛、チタン、タングステン、モリブデン、タンタル、ニオブなどから選択される1種または2種以上の金属を挙げることができる。2種以上の金属からなる導電性金属としては、例えば、スズ及び鉛の合金であるはんだ等を挙げることができる。2種以上の金属からなる導電性金属として、鉛フリーのはんだ(例えば、Sn−Ag系はんだ、Sn−Ag−Cu系はんだ、Sn−Ag−Bi系はんだ、Sn−Ag−Bi−Cu系はんだ、Sn−Zn系はんだ、Sn−Zn−Bi系はんだ等)を用いても勿論よい。   The conductor part of the first substrate, the conductor part of the second substrate, the conductor part of the functional module, the conductor part of the first adhesive layer, and the conductor part of the second adhesive layer are formed of a conductive metal, for example. Is done. Although it does not specifically limit as said conductive metal, For example, 1 type, or 2 or more types of metals selected from copper, gold | metal | money, silver, platinum, palladium, nickel, tin, lead, titanium, tungsten, molybdenum, tantalum, niobium etc. Can be mentioned. Examples of the conductive metal composed of two or more metals include solder that is an alloy of tin and lead. Lead-free solder (for example, Sn-Ag solder, Sn-Ag-Cu solder, Sn-Ag-Bi solder, Sn-Ag-Bi-Cu solder) as a conductive metal composed of two or more metals Of course, Sn—Zn solder, Sn—Zn—Bi solder, etc.) may be used.

また、上記課題を解決するための他の手段(手段2)としては、第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側に半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定された第1基板と、前記第1基板の前記第2主面側に接合された第2基板とを備え、前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に機能モジュール搭載部が設定され、前記第1基板の導体部及び前記第2基板の導体部が互いに電気的に接続されていることを特徴とする複合配線基板構造体がある。   Further, as another means (means 2) for solving the above problems, there is an element mounting portion having a first main surface and a second main surface, and a semiconductor circuit element can be connected to the first main surface side. A first substrate set and a second substrate bonded to the second main surface side of the first substrate, and at least one of the first main surface and the second main surface of the first substrate There is a composite wiring board structure in which a functional module mounting portion is set on one side, and the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are electrically connected to each other.

従って、この複合配線基板構造体の場合、第1基板の導体部及び第2基板の導体部が互いに電気的に接続されている。このため、例えば、互いに別々の機能を有する第1基板及び第2基板をあらかじめ作製しておいてから、第2基板を第1基板に接合させることにより、複合配線基板構造体に複数の機能を持たせることができる。   Therefore, in the case of this composite wiring board structure, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are electrically connected to each other. For this reason, for example, a first substrate and a second substrate having different functions are prepared in advance, and then the second substrate is bonded to the first substrate, so that the composite wiring board structure has a plurality of functions. You can have it.

さらに、第1基板に第2基板が接合されるため、第1基板に第2基板を接合させる前に、第1基板及び第2基板の電気検査を個別に行うことができる。このため、接合前に不良品を発見してそれを事前に除去することができるため、電気検査に合格した第1基板及び第2基板のみを接合して複合配線基板構造体を構成することができる。従って、複合配線基板構造体が不良品となる確率が低くなり、歩留まりの向上につながる。   Furthermore, since the second substrate is bonded to the first substrate, the electric inspection of the first substrate and the second substrate can be individually performed before the second substrate is bonded to the first substrate. For this reason, since a defective product can be found and removed in advance before bonding, it is possible to form a composite wiring board structure by bonding only the first substrate and the second substrate that have passed the electrical inspection. it can. Therefore, the probability that the composite wiring board structure becomes a defective product is reduced, leading to an improvement in yield.

また、手段2にかかる複合配線基板構造体は、前記機能モジュール搭載部に、機能モジュールの一部となる機能モジュール基板本体が接合されていることが好ましい。このようにすれば、複合配線基板構造体が第1基板及び第2基板に加えて機能モジュール基板本体を有するため、2種類の基板からなる場合に比べて、多機能化を図ることができる。   Further, in the composite wiring board structure according to the means 2, it is preferable that a functional module substrate main body that becomes a part of the functional module is bonded to the functional module mounting portion. In this way, since the composite wiring board structure has the functional module board main body in addition to the first board and the second board, it is possible to increase the number of functions as compared with the case where it is composed of two kinds of boards.

手段1に記載の複合配線基板構造体を比較的簡単にかつ確実に製造するための好ましい方法(手段3)としては、前記第1基板、前記第2基板及び前記機能モジュールを個別に作製する個別作製工程と、前記第1基板と前記第2基板とを接合し、前記第1基板と前記機能モジュールとを接合するとともに、その際に前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュールの導体部を互いに電気的に接続する接合工程とを含むことを特徴とする複合配線基板構造体の製造方法がある。   As a preferable method (means 3) for relatively easily and reliably manufacturing the composite wiring board structure described in means 1, the first substrate, the second substrate, and the functional module are individually manufactured. The manufacturing process, the first substrate and the second substrate are joined, the first substrate and the functional module are joined, and at that time, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate And a bonding step for electrically connecting the conductor portions of the functional module to each other.

従って、この複合配線基板構造体の製造方法によれば、第1基板と第2基板とを接合させ、第1基板と機能モジュールとを接合させる前に、第1基板、第2基板及び機能モジュールの電気検査を個別に行うことができる。このため、接合前に不良品を発見してそれを事前に除去することができるため、電気検査に合格した第1基板、第2基板及び機能モジュールのみを接合して複合配線基板構造体を構成することができる。従って、複合配線基板構造体が不良品となる確率が低くなり、歩留まりの向上につながる。   Therefore, according to this method of manufacturing a composite wiring board structure, the first substrate, the second substrate, and the functional module are joined before the first substrate and the second substrate are joined and before the first substrate and the functional module are joined. The electrical inspection can be performed individually. For this reason, since a defective product can be found and removed in advance before joining, only the first board, the second board and the functional module that have passed the electrical inspection are joined to form a composite wiring board structure. can do. Therefore, the probability that the composite wiring board structure becomes a defective product is reduced, leading to an improvement in yield.

以下、手段3に記載の複合配線基板構造体の製造方法について説明する。   Hereinafter, a method for manufacturing the composite wiring board structure described in the means 3 will be described.

まず、個別作製工程を実施して、第1基板、第2基板及び機能モジュールを個別に作製する。   First, an individual manufacturing process is performed to individually manufacture the first substrate, the second substrate, and the functional module.

個別作製工程における第2基板の作製は、従来周知の手法に従って行われる。例えば、第2基板がセラミック基板であるような場合には、リジッド基板用基材であるセラミックグリーンシートを用意し、そのセラミックグリーンシートの所定位置に、両面を貫通するビア孔を形成する。さらに、各ビア孔内に、金属を含む導電性ペーストを充填して導体部を形成するとともに、必要に応じてシート表面にも導電性ペーストを印刷する。そして、所定温度で焼成することにより、セラミック及び金属を焼結させて所定のセラミック基板とする。なお、セラミック多層基板の場合には、例えば導電性ペーストの充填・印刷を行ったセラミックグリーンシートを複数枚積層して圧着した後、焼成を行うようにする。   The production of the second substrate in the individual production process is performed according to a conventionally known technique. For example, when the second substrate is a ceramic substrate, a ceramic green sheet as a rigid substrate is prepared, and via holes penetrating both surfaces are formed at predetermined positions of the ceramic green sheet. Furthermore, each via hole is filled with a conductive paste containing metal to form a conductor portion, and if necessary, the conductive paste is also printed on the sheet surface. Then, by firing at a predetermined temperature, the ceramic and the metal are sintered to obtain a predetermined ceramic substrate. In the case of a ceramic multilayer substrate, for example, a plurality of ceramic green sheets filled and printed with a conductive paste are stacked and pressure-bonded, and then fired.

個別作製工程における第1基板の作製も機能モジュールの作製も、基本的には従来周知の手法に従って行われる。具体的にいうと、例えば、片面または両面に銅箔を有する銅張積層板を基材とし、その両面を貫通するビア孔を形成する。さらに、各ビア孔内に導電性金属ペーストの充填または銅めっき等の手法により導体部を形成した後、表面の銅箔をエッチングして配線層などをパターニングする。   The first substrate and the functional module in the individual manufacturing process are basically performed according to a conventionally known method. Specifically, for example, a copper-clad laminate having a copper foil on one side or both sides is used as a base material, and via holes penetrating both sides are formed. Further, after a conductor portion is formed in each via hole by a method such as filling with a conductive metal paste or copper plating, the copper foil on the surface is etched to pattern a wiring layer or the like.

前記接合工程の実施前に、前記第1基板、前記第2基板及び前記機能モジュールの電気検査を個別に行う個別検査工程をさらに含むことが好ましい。このようにすれば、接合前に不良品を発見してそれを事前に除去することができる。   Preferably, the method further includes an individual inspection step of individually performing an electrical inspection of the first substrate, the second substrate, and the functional module before the bonding step. In this way, a defective product can be found before joining and removed in advance.

次に、接合工程を実施する。この場合、第1基板上に第2基板を接合した後に、第1基板上に機能モジュールを接合してもよいし、第1基板上に機能モジュールを接合した後に第1基板上に第2基板を接合してもよいが、第1基板上に第2基板及び機能モジュールを同時に接合してもよい。同時に接合すれば工数が少なくなり、生産効率の向上及び製造コストの低減が達成しやすくなる。   Next, a joining process is performed. In this case, after the second substrate is bonded onto the first substrate, the functional module may be bonded onto the first substrate, or after the functional module is bonded onto the first substrate, the second substrate is bonded onto the first substrate. However, the second substrate and the functional module may be simultaneously bonded on the first substrate. If the bonding is performed at the same time, man-hours are reduced, and it becomes easier to improve production efficiency and reduce manufacturing costs.

前記接合工程の実施前には、あらかじめ所定の位置決め工程を実施することが好ましい。即ち、前記第1基板の導体部と前記第2基板の導体部とを対応させて配置するとともに、前記第1基板の導体部と前記機能モジュールの導体部とを対応させて配置する。   It is preferable to perform a predetermined positioning step in advance before the bonding step. That is, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are arranged in correspondence with each other, and the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the functional module are arranged in correspondence with each other.

接合工程では、第1基板と第2基板との界面に必要に応じて第1接着層を配置して積層する。第1接着層を配置した場合、前記第1基板の導体部と前記第2基板の導体部とが前記第1接着層の導体部を介して配置される。そして、この状態で例えば加熱を行いながら積層方向に押圧力を加える。その結果、第1基板と第2基板とが接合される。なお、第1接着層を配置しない場合、前記接合工程において、積層方向に押圧力を加えることにより、前記第1基板の導体部と前記第2基板の導体部とを圧接させることが好ましい。このようにすれば、第1基板の導体部及び第2基板の導体部間での確実な導通を図ることができる。また、第1基板と機能モジュールとの界面に必要に応じて第2接着層を配置して積層する。第2接着層を配置した場合、前記第1基板の導体部と前記機能モジュールの導体部とが前記第2接着層の導体部を介して配置される。そして、この状態で例えば加熱を行いながら積層方向に押圧力を加える。その結果、第1基板と機能モジュールとが接合される。なお、第2接着層を配置しない場合、前記接合工程において、積層方向に押圧力を加えることにより、前記第1基板の導体部と前記機能モジュールの導体部とを圧接させることが好ましい。このようにすれば、第1基板の導体部及び機能モジュールの導体部間での確実な導通を図ることができる。また、このときの加熱温度は、第1基板、第2基板及び機能モジュールの材料の種類、使用する第1接着層及び第2接着層の種類、第1接着層及び第2接着層の硬化度などに応じて適宜設定される。   In the bonding step, a first adhesive layer is disposed and laminated as necessary at the interface between the first substrate and the second substrate. When the first adhesive layer is disposed, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are disposed via the conductor portion of the first adhesive layer. In this state, for example, a pressing force is applied in the stacking direction while heating. As a result, the first substrate and the second substrate are bonded. In the case where the first adhesive layer is not disposed, it is preferable that the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are brought into pressure contact with each other by applying a pressing force in the stacking direction in the joining step. If it does in this way, reliable conduction | electrical_connection between the conductor part of a 1st board | substrate and the conductor part of a 2nd board | substrate can be aimed at. In addition, a second adhesive layer is disposed and laminated as necessary at the interface between the first substrate and the functional module. When the second adhesive layer is disposed, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the functional module are disposed via the conductor portion of the second adhesive layer. In this state, for example, a pressing force is applied in the stacking direction while heating. As a result, the first substrate and the functional module are joined. In addition, when not arrange | positioning a 2nd contact bonding layer, it is preferable to press-contact the conductor part of the said 1st board | substrate and the conductor part of the said functional module by applying pressing force in the lamination direction in the said joining process. If it does in this way, reliable conduction | electrical_connection between the conductor part of a 1st board | substrate and the conductor part of a functional module can be aimed at. In addition, the heating temperature at this time depends on the types of materials of the first substrate, the second substrate, and the functional module, the types of the first adhesive layer and the second adhesive layer to be used, and the curing degrees of the first adhesive layer and the second adhesive layer. It is set appropriately according to the above.

また、手段1に記載の複合配線基板構造体を比較的簡単にかつ確実に製造するための他の好ましい方法(手段4)としては、前記第1基板、前記第2基板、及び、前記機能モジュールの一部となる機能モジュール基板本体を個別に作製する個別作製工程と、前記第1基板と前記第2基板とを接合し、前記第1基板と前記機能モジュール基板本体とを接合するとともに、その際に前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュール基板本体の導体部を互いに電気的に接続する接合工程とを含むことを特徴とする複合配線基板構造体の製造方法がある。   In addition, as another preferable method (means 4) for relatively easily and surely manufacturing the composite wiring board structure described in means 1, the first substrate, the second substrate, and the functional module may be used. An individual production step of individually producing a functional module substrate main body that is a part of the first and second substrates, bonding the first substrate and the functional module substrate main body, And a bonding step of electrically connecting the conductor portion of the first substrate, the conductor portion of the second substrate, and the conductor portion of the functional module substrate body to each other. There is a way.

従って、この複合配線基板構造体の製造方法によれば、第1基板と第2基板とを接合させ、第1基板と機能モジュール基板本体とを接合させる前に、第1基板、第2基板及び機能モジュール基板本体の電気検査を個別に行うことができる。このため、接合前に不良品を発見してそれを事前に除去することができるため、電気検査に合格した第1基板、第2基板及び機能モジュール基板本体のみを接合して複合配線基板構造体を構成することができる。従って、複合配線基板構造体が不良品となる確率が低くなり、歩留まりの向上につながる。   Therefore, according to the method for manufacturing the composite wiring board structure, the first board, the second board, and the second board are joined before the first board and the functional module board body are joined. The electrical inspection of the functional module substrate body can be performed individually. For this reason, since a defective product can be found and removed in advance before bonding, the composite wiring board structure is formed by bonding only the first board, the second board, and the functional module board body that have passed the electrical inspection. Can be configured. Therefore, the probability that the composite wiring board structure becomes a defective product is reduced, leading to an improvement in yield.

また、手段4にかかる複合配線基板構造体の製造方法は、前記機能モジュール基板本体に前記電子部品を接合する電子部品接合工程をさらに含んでいてもよい。なお、電子部品接合工程は、前記接合工程の実施前に実施してもよいが、前記接合工程の実施後に実施することが好ましい。このようにすれば、第1基板と機能モジュール基板本体とを接合させる際に加えられる押圧力が、電子部品に加わることがない。ゆえに、電子部品のクラックの発生を確実に防止することができる。   Moreover, the method for manufacturing a composite wiring board structure according to the means 4 may further include an electronic component bonding step of bonding the electronic component to the functional module substrate body. In addition, although an electronic component joining process may be implemented before implementation of the said joining process, it is preferable to implement after implementation of the said joining process. If it does in this way, the pressing force applied when joining a 1st board | substrate and a functional module board | substrate body will not be added to an electronic component. Therefore, the occurrence of cracks in the electronic component can be reliably prevented.

以下、本発明を具体化した一実施形態を図1〜図8に基づき詳細に説明する。図1は、フレキシブル配線基板(第1基板)51、セラミック配線基板(第2基板、セラミック基板)31及びモジュール配線基板91などからなる本実施形態の複合配線基板構造体11を示す概略断面図である。図2は、フレキシブル配線基板51及びセラミック配線基板31からなる構造体の構成を示す分解断面図である。図3は、フレキシブル配線基板51及び基板本体95(機能モジュール基板本体)からなる構造体の構成を示す分解断面図である。図4〜図6は、接着シート61,71を作製するときの状態を示す概略断面図である。図7は、フレキシブル配線基板51及びセラミック配線基板31を互いに接合するときの様子を示す概略断面図である。図8は、フレキシブル配線基板51及び基板本体95を互いに接合するときの様子を示す概略断面図である。   Hereinafter, an embodiment embodying the present invention will be described in detail with reference to FIGS. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a composite wiring board structure 11 according to the present embodiment including a flexible wiring board (first board) 51, a ceramic wiring board (second board, ceramic board) 31, a module wiring board 91, and the like. is there. FIG. 2 is an exploded cross-sectional view illustrating a configuration of a structure including the flexible wiring board 51 and the ceramic wiring board 31. FIG. 3 is an exploded cross-sectional view showing a configuration of a structure including the flexible wiring board 51 and the board body 95 (functional module board body). 4 to 6 are schematic cross-sectional views showing a state when the adhesive sheets 61 and 71 are produced. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing a state when the flexible wiring board 51 and the ceramic wiring board 31 are joined to each other. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing a state when the flexible wiring board 51 and the board body 95 are joined to each other.

図1に示されるように、本実施形態の複合配線基板構造体11は、マザーボード81上に実装可能になっており、フレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91からなるBGA(ボールグリッドアレイ)である。なお、複合配線基板構造体11の形態は、BGAのみに限定されず、例えばLGA(ランドグリッドアレイ)やPGA(ピングリッドアレイ)等であってもよい。なお、本実施形態におけるマザーボード81はエポキシ樹脂とガラス繊維とからなる、いわゆるガラスエポキシ基板であって、その平面方向における熱膨張係数は約16ppm/℃である。ここで「熱膨張係数」とは、一般的に室温〜ガラス転移温度(Tg)の間のTMA(熱機械分析装置)にて測定した値のことをいう。「TMA」とは、熱機械的分析をいい、例えばJPCA−BU01に規定されるものをいう。   As shown in FIG. 1, the composite wiring board structure 11 of the present embodiment can be mounted on a mother board 81, and is a BGA (ball ball) composed of a flexible wiring board 51, a ceramic wiring board 31, and a module wiring board 91. Grid array). The form of the composite wiring board structure 11 is not limited to BGA alone, and may be, for example, LGA (land grid array), PGA (pin grid array), or the like. The motherboard 81 in the present embodiment is a so-called glass epoxy substrate made of epoxy resin and glass fiber, and has a thermal expansion coefficient of about 16 ppm / ° C. in the plane direction. Here, “thermal expansion coefficient” generally refers to a value measured by TMA (thermomechanical analyzer) between room temperature and glass transition temperature (Tg). “TMA” refers to thermomechanical analysis, such as that defined in JPCA-BU01.

図1,図2に示されるセラミック配線基板31は、上面32(接合面)と、同上面32の反対側に位置する下面33(非接合面)とを有している。セラミック配線基板31は、複数のセラミック層30と複数の配線層(図示略)とを交互に積層した構造を有している。また、セラミック配線基板31には、上面32及び下面33を貫通する複数のビア孔34が格子状に形成されている。そして、かかるビア孔34内には、タングステンを主材料とするビア導体35(導体部)が設けられている。各ビア導体35の上端面にはタングステンからなる上側端子電極36が設けられている。一方、各ビア導体35の下端面には、マザーボード81の複数の端子82との電気的な接続を図るための複数の基板側はんだバンプ49(外部接続端子)が格子状に突設されている。基板側はんだバンプ49は、90Pb/10Snという組成の錫鉛はんだからなっている。なお、本実施形態において、セラミック配線基板31はアルミナ(無機材料)を焼結させたアルミナ焼結体により形成された基板である。セラミック配線基板31の平面方向における熱膨張係数は約7.6ppm/℃、ヤング率は約310GPaである。よって、本実施形態のセラミック配線基板31は、極めて高い剛性を有している。   The ceramic wiring substrate 31 shown in FIGS. 1 and 2 has an upper surface 32 (joint surface) and a lower surface 33 (non-joint surface) located on the opposite side of the upper surface 32. The ceramic wiring board 31 has a structure in which a plurality of ceramic layers 30 and a plurality of wiring layers (not shown) are alternately stacked. In addition, a plurality of via holes 34 penetrating the upper surface 32 and the lower surface 33 are formed in the ceramic wiring substrate 31 in a lattice shape. In the via hole 34, a via conductor 35 (conductor portion) mainly made of tungsten is provided. An upper terminal electrode 36 made of tungsten is provided on the upper end surface of each via conductor 35. On the other hand, a plurality of board-side solder bumps 49 (external connection terminals) for electrical connection with the plurality of terminals 82 of the mother board 81 are provided in a grid pattern on the lower end surface of each via conductor 35. . The board-side solder bumps 49 are made of tin-lead solder having a composition of 90Pb / 10Sn. In the present embodiment, the ceramic wiring substrate 31 is a substrate formed of an alumina sintered body obtained by sintering alumina (inorganic material). The thermal expansion coefficient in the plane direction of the ceramic wiring substrate 31 is about 7.6 ppm / ° C., and the Young's modulus is about 310 GPa. Therefore, the ceramic wiring board 31 of this embodiment has extremely high rigidity.

また、本実施形態のセラミック配線基板31には、下面33にて開口する略矩形状の凹部130(受動部品搭載部)が形成されている。この凹部130内の奥側には、板状をなすキャパシタ131(受動部品)が配置されている。このキャパシタ131は、接着剤133により凹部130内に固定されている。キャパシタ131のビア導体134は、セラミック配線基板31における電源用のビア導体135と電気的に接続されている。このキャパシタ131は、ノイズを除去してICチップ21に供給すべき電源を安定化させる機能を有している。また、凹部130の開口部付近には、板状をなすメモリIC132が接着剤133により固定されている。メモリIC132の図示しない接続端子は、セラミック配線基板31におけるビア導体と電気的に接続されている。このようにすれば、メモリIC132と、複合配線基板構造体11の上面に搭載されたICチップ21とを繋ぐ配線長が短縮されるため、高速でデータの伝送を行うのに好適となる。   The ceramic wiring substrate 31 of the present embodiment is formed with a substantially rectangular recess 130 (passive component mounting portion) that opens at the lower surface 33. A plate-like capacitor 131 (passive component) is disposed on the back side in the recess 130. The capacitor 131 is fixed in the recess 130 with an adhesive 133. The via conductor 134 of the capacitor 131 is electrically connected to the power supply via conductor 135 in the ceramic wiring substrate 31. The capacitor 131 has a function of stabilizing the power to be supplied to the IC chip 21 by removing noise. A plate-shaped memory IC 132 is fixed by an adhesive 133 near the opening of the recess 130. A connection terminal (not shown) of the memory IC 132 is electrically connected to a via conductor in the ceramic wiring substrate 31. In this way, the wiring length connecting the memory IC 132 and the IC chip 21 mounted on the upper surface of the composite wiring board structure 11 is shortened, which is suitable for high-speed data transmission.

図1,図2に示されるように、前記フレキシブル配線基板51は、厚さ20μm程度の耐熱性ポリイミド(有機材料)を主体として形成された樹脂製基板からなる多層フレキシブル配線基板である。本実施形態において、かかる樹脂製基板の平面方向における熱膨張係数は約17ppm/℃、ヤング率は約6.5GPaである。   As shown in FIGS. 1 and 2, the flexible wiring substrate 51 is a multilayer flexible wiring substrate made of a resin substrate formed mainly of heat-resistant polyimide (organic material) having a thickness of about 20 μm. In this embodiment, the thermal expansion coefficient in the plane direction of the resin substrate is about 17 ppm / ° C., and the Young's modulus is about 6.5 GPa.

また、フレキシブル配線基板51は、上面52(第1主面)及び下面53(第2主面)を有している。フレキシブル配線基板51には、上面52及び下面53を貫通する複数のビア導体57(導体部)が設けられている。各ビア導体57の上端面には上面側配線層54が電気的に接続され、各ビア導体57の下端面には下面側配線層55が電気的に接続されている。なお、便宜上図示していないが、フレキシブル配線基板51の上面52側及び下面53側はカバーレイによって覆われている。また、フレキシブル配線基板51は、接着シート61(第1接着層)を介してセラミック配線基板31の上面32側に接合されている。   The flexible wiring board 51 has an upper surface 52 (first main surface) and a lower surface 53 (second main surface). The flexible wiring substrate 51 is provided with a plurality of via conductors 57 (conductor portions) that penetrate the upper surface 52 and the lower surface 53. The upper surface side wiring layer 54 is electrically connected to the upper end surface of each via conductor 57, and the lower surface side wiring layer 55 is electrically connected to the lower end surface of each via conductor 57. Although not shown for convenience, the upper surface 52 side and the lower surface 53 side of the flexible wiring substrate 51 are covered with a coverlay. The flexible wiring board 51 is bonded to the upper surface 32 side of the ceramic wiring board 31 via an adhesive sheet 61 (first adhesive layer).

接着シート61は、耐熱性の熱可塑性樹脂(本実施形態ではPEEK:ポリエーテルエーテルケトン)を絶縁基材として形成されている。接着シート61を構成するシート本体63は、上面64(シート第1主面)及び下面65(シート第2主面)を有している。また、接着シート61には、上面64及び下面65を連通する複数のビア孔66(図5参照)が格子状に形成されている。そして、かかるビア孔66内には、表面に銀をコートした銅粉を含む導電ペーストの充填により形成された導体柱62(導体部)が設けられている。図1に示されるように、各導体柱62の上端面はフレキシブル配線基板51の下面側配線層55に電気的に接続され、各導体柱62の下端面はセラミック配線基板31の前記上側端子電極36に電気的に接続されている。これにより、各ビア導体57は、セラミック配線基板31の前記ビア導体35に対して電気的に接続される。   The adhesive sheet 61 is formed using a heat-resistant thermoplastic resin (PEEK: polyetheretherketone in this embodiment) as an insulating base material. The sheet main body 63 constituting the adhesive sheet 61 has an upper surface 64 (sheet first main surface) and a lower surface 65 (sheet second main surface). The adhesive sheet 61 has a plurality of via holes 66 (see FIG. 5) communicating with the upper surface 64 and the lower surface 65 in a lattice shape. And in this via hole 66, the conductor pillar 62 (conductor part) formed by the filling of the electrically conductive paste containing the copper powder which coat | covered silver on the surface is provided. As shown in FIG. 1, the upper end surface of each conductor column 62 is electrically connected to the lower surface side wiring layer 55 of the flexible wiring substrate 51, and the lower end surface of each conductor column 62 is the upper terminal electrode of the ceramic wiring substrate 31. 36 is electrically connected. As a result, each via conductor 57 is electrically connected to the via conductor 35 of the ceramic wiring substrate 31.

また、フレキシブル配線基板51の上面52側における所定領域(具体的にはセラミック配線基板31の反対側となる領域)には、上面側配線層54の一部である複数のフリップチップ接続パッドが配置された素子搭載部56が設定されている。このような素子搭載部56には、MPUとしての機能を有するICチップ21(半導体回路素子)がフリップチップ実装されている。本実施形態のICチップ21は、縦12.0mm×横10.0mm×厚さ0.7mmの矩形平板状であって、熱膨張係数が2.6ppm/℃程度のシリコンからなる。かかるICチップ21の下面側表層には、図示しない回路素子が形成されている。また、ICチップ21の下面側には、複数のバンプ状の面接続端子22が格子状に設けられている。各面接続端子22は、フレキシブル配線基板51の前記上面側配線層54(即ちフリップチップ接続パッド)に電気的に接続されている。これにより、各面接続端子22は、前記接着シート61を介してセラミック配線基板31側の上側端子電極36に接続される。なお、フレキシブル配線基板51においては、素子搭載部56を中心としてその周囲にファンアウトする複数の微細な上面側配線層54(導体パターン)がパターン形成されている。また、前記素子搭載部56には、メモリなどの電子部品がさらに実装されていてもよい。   Further, a plurality of flip chip connection pads which are a part of the upper surface side wiring layer 54 are arranged in a predetermined region on the upper surface 52 side of the flexible wiring substrate 51 (specifically, a region opposite to the ceramic wiring substrate 31). The element mounting portion 56 is set. An IC chip 21 (semiconductor circuit element) having a function as an MPU is flip-chip mounted on such an element mounting portion 56. The IC chip 21 of the present embodiment is a rectangular flat plate having a length of 12.0 mm, a width of 10.0 mm, and a thickness of 0.7 mm, and is made of silicon having a thermal expansion coefficient of about 2.6 ppm / ° C. Circuit elements (not shown) are formed on the lower surface layer of the IC chip 21. A plurality of bump-shaped surface connection terminals 22 are provided in a lattice pattern on the lower surface side of the IC chip 21. Each surface connection terminal 22 is electrically connected to the upper surface side wiring layer 54 (that is, flip chip connection pad) of the flexible wiring substrate 51. Accordingly, each surface connection terminal 22 is connected to the upper terminal electrode 36 on the ceramic wiring substrate 31 side via the adhesive sheet 61. In the flexible wiring board 51, a plurality of fine upper surface side wiring layers 54 (conductor patterns) fanned out around the element mounting portion 56 are formed in a pattern. In addition, an electronic component such as a memory may be further mounted on the element mounting portion 56.

図1,図3に示されるように、フレキシブル配線基板51は、セラミック配線基板31の平面方向に張り出した部分(張出部58)を有している。この張出部58の上面52側における所定領域には、上面側配線層54の一部が配置された機能モジュール搭載部59が設定されており、この機能モジュール搭載部59にはモジュール配線基板91が接合されている。本実施形態において、モジュール配線基板91は、電源電圧を制御する機能を有する電源モジュール(機能モジュール)として成立している。この電源モジュールは、複数種類の電子部品92を含んで構成された回路からなっている。詳述すると、モジュール配線基板91は、同モジュール配線基板91の一部となる基板本体95を有し、同基板本体95は上面93及び下面94を有している。本実施形態においてこの基板本体95は、エポキシ樹脂からなる樹脂製基板である。基板本体95には、モジュール配線基板91の厚さ方向に延びる複数のビア孔(貫通孔)が格子状に形成されており、それらビア孔内に銅めっきからなる導体柱96(導体部)が設けられている。上面93において各々の導体柱96の上端面がある位置には、上面側パッド97が配置されている。各上面側パッド97は、電子部品92側に設けられたバンプ状の面接続端子98に対して接続されている。なお、電子部品92は、チップトランジスタやチップ抵抗などの部品である。一方、下面94において各々の導体柱96の下端面がある位置には、下面側パッド99が配置されている。   As shown in FIGS. 1 and 3, the flexible wiring board 51 has a portion (a protruding portion 58) that protrudes in the planar direction of the ceramic wiring substrate 31. A functional module mounting portion 59 in which a part of the upper surface side wiring layer 54 is arranged is set in a predetermined region on the upper surface 52 side of the overhang portion 58, and a module wiring board 91 is set in the functional module mounting portion 59. Are joined. In the present embodiment, the module wiring board 91 is established as a power supply module (functional module) having a function of controlling the power supply voltage. This power supply module is composed of a circuit including a plurality of types of electronic components 92. More specifically, the module wiring board 91 has a board body 95 that becomes a part of the module wiring board 91, and the board body 95 has an upper surface 93 and a lower surface 94. In the present embodiment, the substrate body 95 is a resin substrate made of an epoxy resin. A plurality of via holes (through holes) extending in the thickness direction of the module wiring substrate 91 are formed in the substrate body 95 in a lattice shape, and conductor columns 96 (conductor portions) made of copper plating are formed in the via holes. Is provided. An upper surface side pad 97 is disposed at a position where the upper end surface of each conductor pillar 96 exists on the upper surface 93. Each upper surface side pad 97 is connected to a bump-shaped surface connection terminal 98 provided on the electronic component 92 side. The electronic component 92 is a component such as a chip transistor or a chip resistor. On the other hand, a lower surface side pad 99 is disposed at a position where the lower end surface of each conductor pillar 96 is present on the lower surface 94.

また、モジュール配線基板91は、接着シート71(第2接着層)を介して前記フレキシブル配線基板51の上面52側に接合されている。接着シート71は、前記接着シート61と同じ材料にて形成されている。接着シート71を構成するシート本体73は、上面74(シート第1主面)及び下面75(シート第2主面)を有している。また、接着シート71には、上面74及び下面75を連通する複数のビア孔76(図5参照)が格子状に形成されている。そして、かかるビア孔76内には、前記導体柱62と同じ材料からなる導体柱72(導体部)が設けられている。図1に示されるように、各導体柱72の下端面はフレキシブル配線基板51の前記上面側配線層54に電気的に接続されている。   The module wiring board 91 is bonded to the upper surface 52 side of the flexible wiring board 51 through an adhesive sheet 71 (second adhesive layer). The adhesive sheet 71 is formed of the same material as the adhesive sheet 61. The sheet main body 73 constituting the adhesive sheet 71 has an upper surface 74 (sheet first main surface) and a lower surface 75 (sheet second main surface). The adhesive sheet 71 has a plurality of via holes 76 (see FIG. 5) communicating with the upper surface 74 and the lower surface 75 in a lattice shape. A conductor column 72 (conductor portion) made of the same material as that of the conductor column 62 is provided in the via hole 76. As shown in FIG. 1, the lower end surface of each conductor column 72 is electrically connected to the upper surface side wiring layer 54 of the flexible wiring substrate 51.

その結果、上面側パッド97〜導体柱96〜下面側パッド99〜導体柱72という経路(またはこれと逆の経路)を経て電流が流れるようになっている。従って、このような構造の複合配線基板構造体11では、モジュール配線基板91の導体柱96を介して、フレキシブル配線基板51側と電子部品92側とが電気的に接続される。ゆえに、モジュール配線基板91を介して、フレキシブル配線基板51−電子部品92間で信号の入出力が行われるようになっている。   As a result, current flows through a path (or a path opposite to this) of the upper surface side pad 97 to the conductor column 96 to the lower surface side pad 99 to the conductor column 72. Therefore, in the composite wiring board structure 11 having such a structure, the flexible wiring board 51 side and the electronic component 92 side are electrically connected via the conductor pillar 96 of the module wiring board 91. Therefore, signal input / output is performed between the flexible wiring board 51 and the electronic component 92 via the module wiring board 91.

従って、このような構造の複合配線基板構造体11では、フレキシブル配線基板51のビア導体57は、下面側配線層55、接着シート61の導体柱62及び上側端子電極36を介して、セラミック配線基板31のビア導体35に電気的に接続されている。そして、素子搭載部56にICチップ21を実装した場合には、ICチップ21の面接続端子22が、上面側配線層54(フリップチップ接続パッド)を介して、フレキシブル配線基板51のビア導体57に電気的に接続される。ゆえに、セラミック配線基板31−ICチップ21間で信号の入出力が行われるとともに、ICチップ21をMPUとして動作させるための電源が供給されるようになっている。   Therefore, in the composite wiring board structure 11 having such a structure, the via conductor 57 of the flexible wiring board 51 is connected to the ceramic wiring board via the lower surface side wiring layer 55, the conductor pillar 62 of the adhesive sheet 61 and the upper terminal electrode 36. 31 via conductors 35 are electrically connected. When the IC chip 21 is mounted on the element mounting portion 56, the surface connection terminal 22 of the IC chip 21 is connected to the via conductor 57 of the flexible wiring board 51 via the upper surface side wiring layer 54 (flip chip connection pad). Is electrically connected. Therefore, input / output of signals is performed between the ceramic wiring substrate 31 and the IC chip 21 and power for operating the IC chip 21 as an MPU is supplied.

次に、上記の複合配線基板構造体11を製造する手順について説明する。   Next, a procedure for manufacturing the composite wiring board structure 11 will be described.

まず、個別作製工程を実施して、フレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91(基板本体95)を個別に作製する。個別作製工程におけるフレキシブル配線基板51の作製は、従来周知の手法によって行われる。即ち、銅張積層板に対してメカニカルドリル、YAGレーザーまたは炭酸ガスレーザーを用いて孔あけ加工を行い、銅張積層板を貫通するビア孔(図示略)を所定位置にあらかじめ形成しておく。そして、従来公知の手法に従って無電解銅めっき及び電解銅めっきを行うことでビア孔内にビア導体57を形成する。さらに、銅張積層板の両面のエッチングを行って上面側配線層54及び下面側配線層55を形成する。その結果、フレキシブル配線基板51を得る。   First, an individual manufacturing process is performed to individually manufacture the flexible wiring board 51, the ceramic wiring board 31, and the module wiring board 91 (board body 95). Fabrication of the flexible wiring board 51 in the individual fabrication process is performed by a conventionally known method. That is, a drilling process is performed on the copper-clad laminate using a mechanical drill, a YAG laser, or a carbon dioxide gas laser, and via holes (not shown) penetrating the copper-clad laminate are formed in advance at predetermined positions. And the via conductor 57 is formed in a via hole by performing electroless copper plating and electrolytic copper plating according to a conventionally known method. Further, the upper surface side wiring layer 54 and the lower surface side wiring layer 55 are formed by etching both surfaces of the copper clad laminate. As a result, the flexible wiring board 51 is obtained.

また、個別作製工程におけるセラミック配線基板31の作製も、基本的には従来周知の手法によって行われる。例えば、周知のセラミックグリーンシート形成技術によって、アルミナグリーンシートを複数枚作製する。そして、各グリーンシートの所定位置に、表裏両面を貫通するビア孔をパンチング等により形成する。また、各グリーンシートの所定位置に、後に凹部130となる貫通孔をパンチングなどにより形成する。即ち、貫通孔の形成は、焼結後のセラミック層30に対して行われるのではなく、焼結前の柔らかいグリーンシートに対して行われるため、凹部130の形成が容易になる。さらに、各グリーンシートのビア孔内にタングステンペーストを充填して、後にビア導体35となるペースト充填層を形成しておく。そして、これらのグリーンシートを積層、圧着した後、還元雰囲気中にて所定温度で焼成(同時焼成)を行って、アルミナとタングステンペーストとを焼結させる。その結果、ビア導体35及び凹部130を有する複数のセラミック層30の積層体が作製される。次に、凹部130内の奥側にキャパシタ131を実装した後、凹部130の開口部付近にメモリIC132を実装する。さらに、凹部130とキャパシタ131との隙間に接着剤133を充填してキャパシタ131を固定し、凹部130とメモリIC132との隙間に接着剤133を充填してメモリIC132を固定する。なお、メモリIC132を、複合配線基板構造体11の完成後に取り付けてもよい。その結果、図2に示すセラミック配線基板31が完成する。   In addition, the ceramic wiring substrate 31 in the individual manufacturing process is basically manufactured by a conventionally known method. For example, a plurality of alumina green sheets are produced by a known ceramic green sheet forming technique. And the via hole which penetrates both front and back surfaces is formed by punching etc. in the predetermined position of each green sheet. Further, a through-hole that will later become a recess 130 is formed at a predetermined position of each green sheet by punching or the like. That is, the formation of the through hole is not performed on the sintered ceramic layer 30 but on the soft green sheet before sintering, so that the recess 130 can be easily formed. Furthermore, a tungsten paste is filled into the via hole of each green sheet to form a paste filling layer that will later become the via conductor 35. Then, after laminating and pressure-bonding these green sheets, firing (simultaneous firing) is performed at a predetermined temperature in a reducing atmosphere to sinter alumina and tungsten paste. As a result, a laminate of a plurality of ceramic layers 30 having via conductors 35 and recesses 130 is produced. Next, after mounting the capacitor 131 on the back side in the recess 130, the memory IC 132 is mounted in the vicinity of the opening of the recess 130. Further, the capacitor 133 is fixed by filling the gap 133 between the recess 130 and the capacitor 131, and the memory 133 is filled by filling the gap 133 between the recess 130 and the memory IC 132. The memory IC 132 may be attached after the composite wiring board structure 11 is completed. As a result, the ceramic wiring board 31 shown in FIG. 2 is completed.

さらに、個別作製工程におけるモジュール配線基板91(基板本体95)の作製も、基本的には従来周知の手法によって行われる。即ち、銅張積層板に対してメカニカルドリルを用いて孔あけ加工を行い、銅張積層板を貫通するビア孔(図示略)を所定位置にあらかじめ形成しておく。なお、銅張積層板に対してYAGレーザーまたは炭酸ガスレーザーを用いてレーザー孔あけ加工を行うことで、ビア孔を形成してもよい。そして、従来公知の手法に従って無電解銅めっき及び電解銅めっきを行い、ビア孔内に導体柱96を形成する。さらに、銅張積層板の両面の銅箔のエッチングを行って上面側パッド97及び下面側パッド99を例えばサブトラクティブ法によって形成する。具体的には、無電解銅めっきの後、この無電解銅めっき層を共通電極として電解銅めっきを施す。さらにドライフィルムをラミネートし、同ドライフィルムに対して露光及び現像を行うことにより、ドライフィルムを所定パターンに形成する。この状態で、不要な電解銅めっき層、無電解銅めっき層及び銅箔をエッチングで除去する。その後、ドライフィルムを剥離することにより、基板本体95を得る。なお、上面側パッド97及び下面側パッド99を、セミアディティブ法によって形成してもよい。具体的には、無電解銅めっきの後、露光及び現像を行って所定パターンのめっきレジストを形成する。この状態で無電解銅めっき層を共通電極として電解銅めっきを施した後、まずレジストを溶解除去して、さらに不要な無電解銅めっき層及び銅箔をエッチングで除去する。その結果、基板本体95を得る。   Furthermore, the module wiring substrate 91 (substrate body 95) in the individual manufacturing process is basically manufactured by a conventionally known method. That is, drilling is performed on the copper clad laminate using a mechanical drill, and via holes (not shown) penetrating the copper clad laminate are formed in advance at predetermined positions. In addition, you may form a via hole by performing a laser drilling process with respect to a copper clad laminated board using a YAG laser or a carbon dioxide gas laser. Then, electroless copper plating and electrolytic copper plating are performed according to a conventionally known method to form the conductive pillar 96 in the via hole. Further, the copper foil on both sides of the copper clad laminate is etched to form the upper surface side pad 97 and the lower surface side pad 99 by, for example, a subtractive method. Specifically, after the electroless copper plating, electrolytic copper plating is performed using the electroless copper plating layer as a common electrode. Further, the dry film is laminated, and the dry film is exposed and developed to form a dry film in a predetermined pattern. In this state, unnecessary electrolytic copper plating layer, electroless copper plating layer and copper foil are removed by etching. Thereafter, the substrate main body 95 is obtained by peeling the dry film. The upper surface side pad 97 and the lower surface side pad 99 may be formed by a semi-additive method. Specifically, after electroless copper plating, exposure and development are performed to form a predetermined pattern of plating resist. In this state, after electrolytic copper plating is performed using the electroless copper plating layer as a common electrode, the resist is first dissolved and removed, and unnecessary electroless copper plating layer and copper foil are removed by etching. As a result, a substrate body 95 is obtained.

また、下記の要領で接着シート61(または接着シート71)を作製する(接着シート作製工程)。具体的には、所定の大きさに切断された接着性有機材料シート60(図4参照)に対してメカニカルドリル、YAGレーザー、COレーザー、パンチング装置等を用いて孔あけ加工を行い、接着性有機材料シート60を貫通するビア孔66(またはビア孔76)を所定位置にあらかじめ形成しておく(図5参照)。なお、本実施形態のパンチング装置のパンチピンは、120μmの直径を有している。また、ビア孔66(またはビア孔76)は、上側開口部の直径が約117μmとなり、下側開口部の直径が約113μmとなる。次に、従来周知の印刷法により、導電ペーストをビア孔66(またはビア孔76)に充填し導体柱62(または導体柱72)を形成する。具体的には、接着性有機材料シート60を支持台(図示略)に載置する。次に、ビア孔66(またはビア孔76)に対応した位置に開口部を有する印刷マスクを用い、印圧を2kgf/cm、印刷スピードを50mm/secに設定して、表面に銀をコートした銅粉を含む導電ペーストを印刷し、ペースト充填層を形成する。そして、印刷装置から取り外した後、導電ペーストを加熱して溶剤等を蒸発させ、固形化させる。次いで、100℃程度の温度で約30分間加熱して仮硬化を行う。これにより、導電ペーストからなる導体柱62(または導体柱72)が少しだけ硬化し、接着シート61(接着シート71)が完成する。その結果、ビア孔66(またはビア孔76)内に導体柱62(または導体柱72)が形成される。このとき、導体柱62(導体柱72)の先端部分が、接着性有機材料シート60の上面から約20μmだけ突出する(図6参照)。このような構造にすれば、フレキシブル配線基板51にセラミック配線基板31を接合する際に、導体柱62の先端部分とフレキシブル配線基板51の下面側配線層55とが圧接し、フレキシブル配線基板51に基板本体95を接合する際に、導体柱72の先端部分と基板本体95の下面側パッド99とが圧接する。よって、例えば先端部分がフラットである場合に比べて他基板の導体部との接合強度が高くなり、接続信頼性の向上が図りやすくなる。 Moreover, the adhesive sheet 61 (or adhesive sheet 71) is produced in the following manner (adhesive sheet production process). Specifically, the adhesive organic material sheet 60 (see FIG. 4) cut to a predetermined size is punched using a mechanical drill, YAG laser, CO 2 laser, punching device, etc. A via hole 66 (or via hole 76) penetrating the conductive organic material sheet 60 is previously formed at a predetermined position (see FIG. 5). In addition, the punch pin of the punching apparatus of this embodiment has a diameter of 120 μm. The via hole 66 (or the via hole 76) has an upper opening with a diameter of about 117 μm and a lower opening with a diameter of about 113 μm. Next, the conductive paste is filled into the via hole 66 (or via hole 76) by a conventionally known printing method to form the conductor column 62 (or conductor column 72). Specifically, the adhesive organic material sheet 60 is placed on a support base (not shown). Next, a printing mask having an opening at a position corresponding to the via hole 66 (or via hole 76) is used, the printing pressure is set to 2 kgf / cm 2 , the printing speed is set to 50 mm / sec, and the surface is coated with silver. The conductive paste containing the copper powder is printed to form a paste filling layer. And after removing from a printing apparatus, a conductive paste is heated and a solvent etc. are evaporated and it solidifies. Next, temporary curing is performed by heating at a temperature of about 100 ° C. for about 30 minutes. Thereby, the conductor column 62 (or the conductor column 72) made of the conductive paste is slightly cured, and the adhesive sheet 61 (adhesive sheet 71) is completed. As a result, the conductor pillar 62 (or conductor pillar 72) is formed in the via hole 66 (or via hole 76). At this time, the tip end portion of the conductor column 62 (conductor column 72) protrudes from the upper surface of the adhesive organic material sheet 60 by about 20 μm (see FIG. 6). With such a structure, when the ceramic wiring board 31 is joined to the flexible wiring board 51, the tip end portion of the conductor pillar 62 and the lower surface side wiring layer 55 of the flexible wiring board 51 are pressed into contact with the flexible wiring board 51. When the substrate body 95 is joined, the tip end portion of the conductor column 72 and the lower surface side pad 99 of the substrate body 95 are pressed against each other. Therefore, for example, compared with the case where the tip portion is flat, the bonding strength with the conductor portion of the other substrate is increased, and the connection reliability is easily improved.

次に、電気検査工程(個別検査工程)を実施し、完成したフレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91の電気検査を個別に行う。なお、本実施形態における電気検査としては、インサーキットテスタを用いて行う一般的なインサーキットテストを行っている。さらに、完成したフレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91に対し、この時点で併せて外観検査を個別に行ってもよい。このとき、不良品を発見した場合には、その不良品を事前に除去する。そして、電気検査や外観検査に合格したフレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91のみを用いて位置決め工程(第1位置決め工程または第2位置決め工程)以降の工程を行う。従って、複合配線基板構造体11が不良品となる確率が低くなり、歩留まりの向上につながる。   Next, an electrical inspection process (individual inspection process) is performed, and electrical inspections of the completed flexible wiring board 51, ceramic wiring board 31, and module wiring board 91 are individually performed. As an electrical test in this embodiment, a general in-circuit test is performed using an in-circuit tester. Further, the visual inspection of the completed flexible wiring board 51, ceramic wiring board 31, and module wiring board 91 may be individually performed at this time. At this time, if a defective product is found, the defective product is removed in advance. And the process after a positioning process (a 1st positioning process or a 2nd positioning process) is performed only using the flexible wiring board 51, the ceramic wiring board 31, and the module wiring board 91 which passed the electrical inspection and the external appearance inspection. Therefore, the probability that the composite wiring board structure 11 becomes a defective product is reduced, leading to an improvement in yield.

そして、第1位置決め工程では、まず、平板状の下治具101上に、フレキシブル配線基板51を載置する。この場合、フレキシブル配線基板51の外周部分には、下治具101に突設された複数の位置決めピン105が挿通される。これにより、フレキシブル配線基板51の平面方向への位置ずれが防止される。次に、フレキシブル配線基板51上に、接着シート61、セラミック配線基板31を順番に載置する。そして、下治具101の上にスペーサ102を載置する。なお、スペーサ102の板厚は、接着シート61及びセラミック配線基板31からなる積層部の高さと略等しくなっている。また、スペーサ102には複数の位置決めピン105が挿通されている。このため、接着シート61及びセラミック配線基板31の平面方向への位置ずれが防止される。その後、セラミック配線基板31及びスペーサ102上に平板状の上治具104を載置する(図7参照)。なお、上治具104は、同上治具104の下面側に、クッション材103を貼り付けた構造となっている。なお、上記のような治具を用いて位置決めを行う代わりに、基板などの位置を検出する画像認識装置を有する、いわゆるダイマウンタ装置を用いて位置決めを行うことも可能である。   In the first positioning step, first, the flexible wiring board 51 is placed on the flat lower jig 101. In this case, a plurality of positioning pins 105 projecting from the lower jig 101 are inserted into the outer peripheral portion of the flexible wiring board 51. Thereby, the position shift to the plane direction of the flexible wiring board 51 is prevented. Next, the adhesive sheet 61 and the ceramic wiring board 31 are placed in order on the flexible wiring board 51. Then, the spacer 102 is placed on the lower jig 101. The plate thickness of the spacer 102 is substantially equal to the height of the laminated portion composed of the adhesive sheet 61 and the ceramic wiring substrate 31. A plurality of positioning pins 105 are inserted through the spacer 102. For this reason, the position shift to the plane direction of the adhesive sheet 61 and the ceramic wiring board 31 is prevented. Thereafter, a flat upper jig 104 is placed on the ceramic wiring substrate 31 and the spacer 102 (see FIG. 7). The upper jig 104 has a structure in which a cushion material 103 is attached to the lower surface side of the upper jig 104. In addition, it is also possible to perform positioning using what is called a die mounter apparatus which has an image recognition apparatus which detects the position of a board | substrate etc. instead of performing positioning using the above jig | tools.

そして次に、下記の要領で第1接合工程(接合工程)を実施する。本実施形態において具体的には、20Torr(≒2666Pa)以下の真空下で260℃以上の温度となるように加熱を行いながら積層方向に押圧力(4MPa)を加える(真空熱プレス)。これに伴い、セラミック配線基板31がフレキシブル配線基板51側に押圧されるとともに、熱により接着シート61の可塑性が大きくなる。そして、このような状態の接着シート61を介して、フレキシブル配線基板51の下面53側にセラミック配線基板31が接合される。この際、フレキシブル配線基板51のビア導体57とセラミック配線基板31のビア導体35とが、接着シート61の導体柱62を介して互いに電気的に接続される。即ち、フレキシブル配線基板51に対するセラミック配線基板31の接合は真空雰囲気下での接合となるため、エアの巻き込みによるボイドの発生を効果的に抑制できる。   Next, the first joining step (joining step) is performed in the following manner. Specifically, in this embodiment, a pressing force (4 MPa) is applied in the laminating direction while heating to a temperature of 260 ° C. or higher under a vacuum of 20 Torr (≈2666 Pa) or less (vacuum hot press). Accordingly, the ceramic wiring board 31 is pressed toward the flexible wiring board 51 and the plasticity of the adhesive sheet 61 is increased by heat. And the ceramic wiring board 31 is joined to the lower surface 53 side of the flexible wiring board 51 through the adhesive sheet 61 in such a state. At this time, the via conductor 57 of the flexible wiring board 51 and the via conductor 35 of the ceramic wiring board 31 are electrically connected to each other via the conductor column 62 of the adhesive sheet 61. That is, since the bonding of the ceramic wiring substrate 31 to the flexible wiring substrate 51 is performed in a vacuum atmosphere, generation of voids due to air entrainment can be effectively suppressed.

次に、下記の要領で第2位置決め工程及び第2接合工程(接合工程)を実施する。なお、第2位置決め工程及び第2接合工程は、第1位置決め工程及び第1接合工程の前に行ってもよい。また、第1位置決め工程及び第1接合工程と同時に行うようにすれば、工数が少なくなり、確実に低コスト化を達成することができる。   Next, a 2nd positioning process and a 2nd joining process (joining process) are implemented in the following ways. In addition, you may perform a 2nd positioning process and a 2nd joining process before a 1st positioning process and a 1st joining process. Moreover, if it is performed simultaneously with the first positioning step and the first joining step, the number of steps can be reduced and the cost can be reliably reduced.

第2位置決め工程では、まず、平板状の下治具151上に、フレキシブル配線基板51を載置する。この場合、フレキシブル配線基板51の外周部分には、下治具151に突設された複数の位置決めピン155が挿通される。これにより、フレキシブル配線基板51の平面方向への位置ずれが防止される。次に、フレキシブル配線基板51上に、接着シート71、基板本体95を順番に載置する。そして、下治具151の上にスペーサ152を載置する。なお、スペーサ152の板厚は、接着シート71及び基板本体95からなる積層部の高さと略等しくなっている。また、スペーサ152には複数の位置決めピン155が挿通されている。このため、接着シート71及び基板本体95の平面方向への位置ずれが防止される。その後、基板本体95及びスペーサ152上に平板状の上治具154を載置する(図8参照)。   In the second positioning step, first, the flexible wiring board 51 is placed on the flat lower jig 151. In this case, a plurality of positioning pins 155 protruding from the lower jig 151 are inserted into the outer peripheral portion of the flexible wiring board 51. Thereby, the position shift to the plane direction of the flexible wiring board 51 is prevented. Next, the adhesive sheet 71 and the substrate body 95 are placed in order on the flexible wiring board 51. Then, the spacer 152 is placed on the lower jig 151. Note that the plate thickness of the spacer 152 is substantially equal to the height of the laminated portion including the adhesive sheet 71 and the substrate body 95. A plurality of positioning pins 155 are inserted through the spacer 152. For this reason, displacement of the adhesive sheet 71 and the substrate body 95 in the planar direction is prevented. Thereafter, a flat upper jig 154 is placed on the substrate body 95 and the spacer 152 (see FIG. 8).

そして次に、第2接合工程を実施する。本実施形態において具体的には、20Torr(≒2666Pa)以下の真空下で260℃以上の温度となるように加熱を行いながら積層方向に押圧力(4MPa)を加える(真空熱プレス)。これに伴い、基板本体95がフレキシブル配線基板51側に押圧されるとともに、熱により接着シート71の可塑性が大きくなる。そして、このような状態の接着シート71を介して、フレキシブル配線基板51の上面52側に基板本体95が接合される。この際、基板本体95の導体柱96とセラミック配線基板31のビア導体35とが、接着シート71の導体柱72を介して互いに電気的に接続される。即ち、フレキシブル配線基板51に対する基板本体95の接合は真空雰囲気下での接合となるため、エアの巻き込みによるボイドの発生を効果的に抑制できる。   Next, a second joining step is performed. Specifically, in this embodiment, a pressing force (4 MPa) is applied in the laminating direction while heating to a temperature of 260 ° C. or higher under a vacuum of 20 Torr (≈2666 Pa) or less (vacuum hot press). As a result, the substrate body 95 is pressed toward the flexible wiring substrate 51 and the plasticity of the adhesive sheet 71 is increased by heat. Then, the substrate body 95 is bonded to the upper surface 52 side of the flexible wiring substrate 51 through the adhesive sheet 71 in such a state. At this time, the conductor column 96 of the substrate body 95 and the via conductor 35 of the ceramic wiring substrate 31 are electrically connected to each other via the conductor column 72 of the adhesive sheet 71. That is, since the bonding of the substrate body 95 to the flexible wiring substrate 51 is performed in a vacuum atmosphere, generation of voids due to air entrainment can be effectively suppressed.

なお、上記の上治具154は、同上治具154の下面側に、クッション材153を貼り付けた構造となっている。従って、基板本体95の上面93に突出する上面側パッド97は、弾性体であるクッション材153に接触するようになっている。このとき、クッション材153は弾性変形して基板本体95側の凹凸形状に追従する。これにより、基板本体95に対して均等に押圧力を付加することができる。   The upper jig 154 has a structure in which a cushion material 153 is attached to the lower surface side of the same jig 154. Therefore, the upper surface side pad 97 protruding from the upper surface 93 of the substrate body 95 comes into contact with the cushion material 153 which is an elastic body. At this time, the cushion material 153 is elastically deformed to follow the uneven shape on the substrate body 95 side. Thereby, a pressing force can be applied evenly to the substrate body 95.

次に、セラミック配線基板31の下面33に対するはんだペースト印刷を行い、基板側はんだバンプ49を形成する。このようにすれば、第1接合工程を実施する際に基板側はんだバンプ49が邪魔にならなくて済む。また、前記第1接合工程後に基板側はんだバンプ形成を行うと、前記第1接合工程前に基板側はんだバンプ形成を行う場合とは異なり、基板側はんだバンプ49が260℃以上の高温に遭遇しにくくなる。従って、必ずしも高融点はんだを選択しなくてもよくなり、はんだ材料の選択の自由度が大きくなる。   Next, solder paste printing is performed on the lower surface 33 of the ceramic wiring substrate 31 to form substrate-side solder bumps 49. In this way, the board-side solder bumps 49 do not have to be in the way when the first bonding step is performed. Also, when the substrate-side solder bump formation is performed after the first bonding step, the substrate-side solder bump 49 encounters a high temperature of 260 ° C. or higher, unlike the case where the substrate-side solder bump formation is performed before the first bonding step. It becomes difficult. Therefore, it is not always necessary to select a high melting point solder, and the degree of freedom in selecting a solder material is increased.

もっとも、セラミック配線基板31を作製する工程を行う時点で、基板側はんだバンプ49を同時に形成し、その後で第1接合工程を実施するようにしてもよい。このようにすれば、電気検査工程にてセラミック配線基板31を検査する際に、基板側はんだバンプ49も含めて検査できるため、基板側はんだバンプ49に不良が生じた状態で複合配線基板構造体11が製造されることを防止できる。   Of course, the substrate-side solder bumps 49 may be formed at the same time when the step of manufacturing the ceramic wiring substrate 31 is performed, and then the first bonding step may be performed. In this way, when the ceramic wiring board 31 is inspected in the electrical inspection process, the board-side solder bumps 49 can be inspected, so that the composite wiring board structure is in a state where the board-side solder bumps 49 are defective. 11 can be prevented from being manufactured.

また、基板本体95の上面93側に複数の電子部品92を載置する。このとき、電子部品92側の面接続端子98と、基板本体95側の上面側パッド97とを位置合わせするようにする。そして、加熱して各面接続端子98をリフローすることにより、面接続端子98と上面側パッド97とを接合する(電子部品接合工程)。その結果、図1に示す複合配線基板構造体11が完成する。   In addition, a plurality of electronic components 92 are placed on the upper surface 93 side of the substrate body 95. At this time, the surface connection terminal 98 on the electronic component 92 side and the upper surface side pad 97 on the substrate body 95 side are aligned. And by heating and reflowing each surface connection terminal 98, the surface connection terminal 98 and the upper surface side pad 97 are joined (electronic component joining process). As a result, the composite wiring board structure 11 shown in FIG. 1 is completed.

その後、フレキシブル配線基板51の素子搭載部56にICチップ21を載置する。このとき、ICチップ21側の面接続端子22と、フレキシブル配線基板51側の上面側配線層54とを位置合わせするようにする。そして、加熱して各面接続端子22をリフローすることにより、面接続端子22と上面側配線層54とを接合する。するとこの段階で、複数の機能が集積してシステム化された複合配線基板構造体11(いわゆるシステム・イン・パッケージ:SIP)が完成する。   Thereafter, the IC chip 21 is mounted on the element mounting portion 56 of the flexible wiring board 51. At this time, the surface connection terminals 22 on the IC chip 21 side and the upper surface side wiring layer 54 on the flexible wiring board 51 side are aligned. And by heating and reflowing each surface connection terminal 22, the surface connection terminal 22 and the upper surface side wiring layer 54 are joined. At this stage, a composite wiring board structure 11 (so-called system in package: SIP) in which a plurality of functions are integrated and systematized is completed.

さらに、セラミック配線基板31側の基板側はんだバンプ49と、マザーボード81側の端子82とを位置合わせして、マザーボード81上に複合配線基板構造体11を載置する。そして、加熱して各基板側はんだバンプ49をリフローすることにより、基板側はんだバンプ49と端子82とを接合する。これにより、複合配線基板構造体11がマザーボード81上に搭載される。なお、複合配線基板構造体11をマザーボード81上に搭載した後で、ICチップ21を載置するようにしてもよい。   Further, the board-side solder bumps 49 on the ceramic wiring board 31 side and the terminals 82 on the mother board 81 side are aligned, and the composite wiring board structure 11 is placed on the mother board 81. The substrate-side solder bumps 49 and the terminals 82 are joined by heating and reflowing the substrate-side solder bumps 49. Thereby, the composite wiring board structure 11 is mounted on the mother board 81. The IC chip 21 may be mounted after the composite wiring board structure 11 is mounted on the mother board 81.

従って、本実施形態によれば以下の効果を得ることができる。   Therefore, according to the present embodiment, the following effects can be obtained.

(1)本実施形態の複合配線基板構造体11の製造方法によれば、フレキシブル配線基板51にセラミック配線基板31を接合させる前や、フレキシブル配線基板51に基板本体95を接合させる前に、フレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及び基板本体95の電気検査を個別に行うことができる。よって、接合前に不良品を発見してそれを事前に除去することができるため、電気検査に合格したフレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及び基板本体95のみを接合して複合配線基板構造体11を構成することができる。   (1) According to the method for manufacturing the composite wiring board structure 11 of the present embodiment, before the ceramic wiring board 31 is joined to the flexible wiring board 51 or before the board body 95 is joined to the flexible wiring board 51, Electrical inspection of the wiring board 51, the ceramic wiring board 31, and the board body 95 can be performed individually. Therefore, since a defective product can be found and removed in advance before bonding, only the flexible wiring board 51, the ceramic wiring board 31 and the board main body 95 that have passed the electrical inspection are joined to form a composite wiring board structure. 11 can be configured.

また、基板本体95の上面側パッド97に電子部品92を実装してモジュール配線基板91を構成しておいてから、そのモジュール配線基板91をフレキシブル配線基板51に接合することが考えられる。この場合、フレキシブル配線基板51にセラミック配線基板31を接合させる前や、フレキシブル配線基板51にモジュール配線基板91を接合させる前に、フレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91の電気検査を個別に行うことができる。よって、接合前に不良品を発見してそれを事前に除去することができるため、電気検査に合格したフレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91のみを接合して複合配線基板構造体11を構成することができる。   It is also conceivable that the module wiring board 91 is configured by mounting the electronic component 92 on the upper surface side pad 97 of the board body 95 and then the module wiring board 91 is bonded to the flexible wiring board 51. In this case, before the ceramic wiring board 31 is joined to the flexible wiring board 51 or before the module wiring board 91 is joined to the flexible wiring board 51, the electrical inspection of the flexible wiring board 51, the ceramic wiring board 31 and the module wiring board 91 is performed. Can be done individually. Therefore, since a defective product can be found and removed in advance before bonding, only the flexible wiring board 51, the ceramic wiring board 31 and the module wiring board 91 that have passed the electrical inspection are joined to form a composite wiring board structure. The body 11 can be configured.

従って、複合配線基板構造体11が不良品となる確率が低くなり、歩留まりの向上を達成しやすくなる。ひいては、複合配線基板構造体11の製造コストの低減を図ることができる。   Therefore, the probability that the composite wiring board structure 11 becomes a defective product is reduced, and it is easy to achieve an improvement in yield. As a result, the manufacturing cost of the composite wiring board structure 11 can be reduced.

(2)本実施形態の複合配線基板構造体11では、フレキシブル配線基板51のビア導体57、セラミック配線基板31のビア導体35及びモジュール配線基板91の導体柱96が互いに電気的に接続されている。このため、例えば、互いに別々の機能を有するフレキシブル配線基板51、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91をあらかじめ作製しておいてから、セラミック配線基板31及びモジュール配線基板91をフレキシブル配線基板51に接合させることにより、複数の機能を有する複合配線基板構造体11を実現することができる。   (2) In the composite wiring board structure 11 of this embodiment, the via conductor 57 of the flexible wiring board 51, the via conductor 35 of the ceramic wiring board 31, and the conductor pillar 96 of the module wiring board 91 are electrically connected to each other. . For this reason, for example, the flexible wiring board 51, the ceramic wiring board 31, and the module wiring board 91 having different functions are prepared in advance, and then the ceramic wiring board 31 and the module wiring board 91 are joined to the flexible wiring board 51. By doing so, the composite wiring board structure 11 having a plurality of functions can be realized.

また、複合配線基板構造体11は、フレキシブル配線基板51及びセラミック配線基板31に加えてモジュール配線基板91を有するため、2種類の基板からなる特許文献1に記載のリジッド・フレキ基板に比べて、多機能化を図ることができる。ゆえに、1つのシステム化された複合配線基板構造体11(いわゆるシステム・イン・パッケージ:SIP)を実現しやすくなり、付加価値も高くなる。   Moreover, since the composite wiring board structure 11 includes the module wiring board 91 in addition to the flexible wiring board 51 and the ceramic wiring board 31, compared to the rigid / flexible board described in Patent Document 1 including two types of boards, Multiple functions can be achieved. Therefore, one systemized composite wiring board structure 11 (so-called system in package: SIP) can be easily realized, and the added value is also increased.

(3)本実施形態の製造方法では、フレキシブル配線基板51の素子搭載部56にICチップ21を実装する前の時点で第1接合工程を実施しているため、上治具104の荷重がICチップ21に加わることがない。ゆえに、ICチップ21のクラックの発生を確実に防止することができる。また、本実施形態では、基板本体95の上面側パッド97に電子部品92を実装する前の時点で第2接合工程を実施しているため、上治具154の荷重が電子部品92に加わることがない。ゆえに、電子部品92のクラックの発生を確実に防止することができる。   (3) In the manufacturing method of the present embodiment, since the first bonding step is performed before the IC chip 21 is mounted on the element mounting portion 56 of the flexible wiring board 51, the load of the upper jig 104 is IC It does not join the chip 21. Therefore, the occurrence of cracks in the IC chip 21 can be reliably prevented. In the present embodiment, since the second bonding step is performed before the electronic component 92 is mounted on the upper surface side pad 97 of the substrate body 95, the load of the upper jig 154 is applied to the electronic component 92. There is no. Therefore, the occurrence of cracks in the electronic component 92 can be reliably prevented.

なお、本発明の実施形態は以下のように変更してもよい。   In addition, you may change embodiment of this invention as follows.

・上記実施形態のモジュール配線基板91は、フレキシブル配線基板51の上面52側に接合されていたが、フレキシブル配線基板51の下面53側に接合されていてもよい。   In the above embodiment, the module wiring board 91 is bonded to the upper surface 52 side of the flexible wiring board 51, but may be bonded to the lower surface 53 side of the flexible wiring board 51.

・上記実施形態において、フレキシブル配線基板51を、所定部分(張出部58)を上側または下側に屈曲させた状態で使用してもよい。また、図9に示されるように、フレキシブル配線基板51の屈曲部分を避けるようにセラミック配線基板31及びモジュール配線基板91を接合してもよい。このようにすれば、セラミック配線基板31の接合箇所やモジュール配線基板91の接合箇所に大きな変形が生じるような事態を回避でき、これらの箇所の接続信頼性の低下を防止することができる。   In the above embodiment, the flexible wiring board 51 may be used in a state where a predetermined portion (the protruding portion 58) is bent upward or downward. Further, as shown in FIG. 9, the ceramic wiring board 31 and the module wiring board 91 may be joined so as to avoid a bent portion of the flexible wiring board 51. In this way, it is possible to avoid a situation in which a large deformation occurs at the joint location of the ceramic wiring board 31 or the joint location of the module wiring board 91, and it is possible to prevent a decrease in connection reliability at these locations.

さらに、図9に示されるように、フレキシブル配線基板51を下側に屈曲させ、フレキシブル配線基板51におけるモジュール配線基板91の接合部位を、接着層141を介してセラミック配線基板31の下面33側に接着してもよい。このようにすれば、フレキシブル配線基板51を屈曲させた状態で保持することができる。なお、接着層141の代わりに、接着シート61と同様の構成を有する接着シートを配置し、その接着シートを介してフレキシブル配線基板51とセラミック配線基板31との導通を図るようにしてもよい。このようにすれば、複合配線基板構造体11内に、より複雑な回路を形成することができる。   Further, as shown in FIG. 9, the flexible wiring board 51 is bent downward, and the joint portion of the module wiring board 91 in the flexible wiring board 51 is brought to the lower surface 33 side of the ceramic wiring board 31 through the adhesive layer 141. It may be glued. In this way, the flexible wiring board 51 can be held in a bent state. Instead of the adhesive layer 141, an adhesive sheet having the same configuration as that of the adhesive sheet 61 may be arranged so that the flexible wiring board 51 and the ceramic wiring board 31 are electrically connected via the adhesive sheet. In this way, a more complicated circuit can be formed in the composite wiring board structure 11.

・上記実施形態において、フレキシブル配線基板51は、積層タイプの多層フレキシブル配線基板であってもよい。即ち、フレキシブル配線基板51は、複数枚の樹脂製基板を接着層を介して積層することにより構成したものであってもよい。   In the above embodiment, the flexible wiring board 51 may be a multilayer type multilayer flexible wiring board. That is, the flexible wiring substrate 51 may be configured by laminating a plurality of resin substrates via an adhesive layer.

・上記実施形態において、フレキシブル配線基板51の張出部58に、モジュール配線基板91とは別の構造物が接合されていてもよい。例えば、フレキシブル配線基板51の上面52に形成された上面側配線層54に、例えばチップコンデンサ等のような電子部品を実装してもよい。   In the above embodiment, a structure different from the module wiring board 91 may be joined to the overhanging portion 58 of the flexible wiring board 51. For example, an electronic component such as a chip capacitor may be mounted on the upper surface side wiring layer 54 formed on the upper surface 52 of the flexible wiring substrate 51.

・上記実施形態では、フレキシブル配線基板51とセラミック配線基板31とが接着シート61を介して接合され、フレキシブル配線基板51とモジュール配線基板91(基板本体95)とが接着シート71を介して接合されていた。しかし、接着シート61,71の代わりに異方導電性接着剤を用いることにより、フレキシブル配線基板51とセラミック配線基板31とを接合し、フレキシブル配線基板51と基板本体95とを接合してもよい。   In the above embodiment, the flexible wiring board 51 and the ceramic wiring board 31 are joined via the adhesive sheet 61, and the flexible wiring board 51 and the module wiring board 91 (board body 95) are joined via the adhesive sheet 71. It was. However, by using an anisotropic conductive adhesive instead of the adhesive sheets 61 and 71, the flexible wiring board 51 and the ceramic wiring board 31 may be joined, and the flexible wiring board 51 and the board body 95 may be joined. .

次に、前述した実施形態によって把握される技術的思想を以下に列挙する。   Next, the technical ideas grasped by the embodiment described above are listed below.

(1)第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側に半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定された第1基板と、前記第1基板の前記第2主面側に接合された第2基板と、前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に接合された機能モジュールとを備え、前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュールの導体部が互いに電気的に接続され、前記素子搭載部は、前記第2基板の反対側となる領域に設定されていることを特徴とする複合配線基板構造体。   (1) A first substrate having a first main surface and a second main surface, wherein an element mounting portion to which a semiconductor circuit element can be connected is set on the first main surface side, and the second of the first substrate A second substrate bonded to the main surface side; and a functional module bonded to at least one of the first main surface and the second main surface of the first substrate, the conductor of the first substrate The conductive portion of the second substrate and the conductive portion of the functional module are electrically connected to each other, and the element mounting portion is set in a region opposite to the second substrate. Composite wiring board structure.

(2)第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側に半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定された第1基板と、前記第1基板の前記第2主面側に第1接着層を介して接合された第2基板と、前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に第2接着層を介して接合された機能モジュールとを備え、前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュールの導体部が互いに電気的に接続され、前記第1接着層及び前記第2接着層が、ともに耐熱性樹脂を絶縁基材とする接着シートであることを特徴とする複合配線基板構造体。   (2) a first substrate having a first main surface and a second main surface, wherein an element mounting portion to which a semiconductor circuit element can be connected is set on the first main surface side, and the second of the first substrate A second substrate bonded to the main surface side via a first adhesive layer, and a second substrate bonded to at least one of the first main surface and the second main surface of the first substrate A conductive part of the first substrate, a conductive part of the second substrate, and a conductive part of the functional module are connected to each other, and the first adhesive layer and the second adhesive layer are A composite wiring board structure characterized in that both are adhesive sheets having a heat-resistant resin as an insulating base material.

(3)前記接着シートは、シート第1主面と、シート第2主面と、前記シート第1主面側及び前記シート第2主面側を連通させるビア孔内に設けられた導体柱とを有することを特徴とする上記(2)記載の複合配線基板構造体。   (3) The adhesive sheet includes a sheet first main surface, a sheet second main surface, and a conductor column provided in a via hole that communicates the sheet first main surface side and the sheet second main surface side. The composite wiring board structure according to (2) above, characterized by comprising:

(4)第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側に半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定された第1基板、前記第1基板の前記第2主面側に接合された第2基板及び前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に接合された機能モジュールを個別に作製する個別作製工程と、前記第1基板と前記第2基板とを接合し、前記第1基板と前記機能モジュールとを接合するととともに、その際に前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュールの導体部を互いに電気的に接続する接合工程と、前記接合工程の実施前に、前記第1基板の導体部と前記第2基板の導体部とを対応させて配置するとともに、前記第1基板の導体部と前記機能モジュールの導体部とを対応させて配置する位置決め工程とを含むことを特徴とする複合配線基板構造体の製造方法。   (4) A first substrate having a first main surface and a second main surface, wherein an element mounting portion to which a semiconductor circuit element can be connected is set on the first main surface side, and the second main surface of the first substrate An individual manufacturing step of individually manufacturing a functional module bonded to at least one of the second main surface and the second main surface of the first substrate bonded to the surface side; 1 substrate and the 2nd substrate are joined, and the 1st substrate and the functional module are joined, and at that time, the conductor part of the 1st substrate, the conductor part of the 2nd substrate, and the conductor of the functional module A bonding step of electrically connecting parts to each other, and prior to performing the bonding step, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are arranged in correspondence with each other, and the conductor of the first substrate Position in which the portion and the conductor portion of the functional module are arranged corresponding to each other Method for manufacturing a composite wiring board structure, characterized in that it comprises a fit process.

(5)前記接合工程において、接合方向に押圧力を加えることにより、前記第1基板の導体部と前記第2基板の導体部とを圧接させるとともに、前記第1基板の導体部と前記機能モジュールの導体部とを圧接させることを特徴とする上記(4)記載の複合配線基板構造体の製造方法。   (5) In the joining step, by applying a pressing force in the joining direction, the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are brought into pressure contact, and the conductor portion of the first substrate and the functional module The method for producing a composite wiring board structure according to (4), wherein the conductor part is pressed into contact with the conductor part.

本実施形態において、フレキシブル配線基板(第1基板)、セラミック配線基板(第2基板)及びモジュール配線基板(機能モジュール)などからなる複合配線基板構造体を示す概略断面図。1 is a schematic cross-sectional view showing a composite wiring board structure including a flexible wiring board (first board), a ceramic wiring board (second board), a module wiring board (functional module), and the like in the present embodiment. フレキシブル配線基板及びセラミック配線基板からなる構造体の構成を示す分解断面図。The exploded sectional view showing the composition of the structure which consists of a flexible wiring board and a ceramic wiring board. フレキシブル配線基板及びモジュール配線基板からなる構造体の構成を示す分解断面図。The exploded sectional view showing composition of a structure which consists of a flexible wiring board and a module wiring board. 接着シートの作製過程において、接着性有機材料シートを示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows an adhesive organic material sheet in the preparation process of an adhesive sheet. 接着シートの作製過程において、接着性有機材料シートにビア孔を形成する工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the process of forming a via hole in an adhesive organic material sheet in the preparation process of an adhesive sheet. 接着シートの作製過程において、ビア孔内に導体柱を形成する工程を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the process of forming a conductor pillar in a via hole in the preparation process of an adhesive sheet. 複合配線基板構造体の製造過程において、フレキシブル配線基板及びセラミック配線基板を互いに接合するときの様子を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows a mode when a flexible wiring board and a ceramic wiring board are mutually joined in the manufacture process of a composite wiring board structure. 複合配線基板構造体の製造過程において、フレキシブル配線基板及びモジュール配線基板を互いに接合するときの様子を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows a mode when a flexible wiring board and a module wiring board are joined together in the manufacture process of a composite wiring board structure. 他の実施形態における複合配線基板構造体を示す概略断面図。The schematic sectional drawing which shows the composite wiring board structure in other embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

11…複合配線基板構造体
21…半導体回路素子としてのICチップ
31…第2基板及びセラミック基板としてのセラミック配線基板
32…接合面としての上面
33…非接合面としての下面
35…第2基板の導体部としてのビア導体
49…外部接続端子としての基板側はんだバンプ
51…第1基板としてのフレキシブル配線基板
52…第1主面としての上面
53…第2主面としての下面
54…導体パターンとしての上面側配線層
56…素子搭載部
57…第1基板の導体部としてのビア導体
59…機能モジュール搭載部
61…第1接着層としての接着シート
62…第1接着層内の導体部としての導体柱
71…第2接着層としての接着シート
72…第2接着層内の導体部としての導体柱
81…マザーボード
82…端子
91…機能モジュールとしてのモジュール配線基板
92…電子部品
95…機能モジュール基板本体としての基板本体
96…機能モジュールの導体部としての導体柱
130…受動部品搭載部としての凹部
131…受動部品としてのキャパシタ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Composite wiring board structure 21 ... IC chip 31 as a semiconductor circuit element ... Ceramic wiring board 32 as a second substrate and a ceramic substrate ... Upper surface 33 as a bonding surface ... Lower surface 35 as a non-bonding surface ... Via conductor 49 as a conductor portion ... Substrate-side solder bump 51 as an external connection terminal ... Flexible wiring substrate 52 as a first substrate ... Upper surface 53 as a first main surface ... Lower surface 54 as a second main surface ... As a conductor pattern Upper surface side wiring layer 56... Element mounting portion 57 .. via conductor 59 as a conductor portion of the first substrate... Functional module mounting portion 61... Adhesive sheet 62 as the first adhesive layer. Conductor column 71 ... Adhesive sheet 72 as the second adhesive layer ... Conductor column 81 as the conductor part in the second adhesive layer ... Motherboard 82 ... Terminal 91 ... As a functional module Module wiring board 92 ... capacitor constituted by recesses 131 ... passive components as conductor posts 130 ... passive component mounting portion of the conductor portion of the substrate main body 96 ... function modules as an electronic component 95 ... functional module substrate body

Claims (17)

第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側に半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定された第1基板と、
前記第1基板の前記第2主面側に接合された第2基板と、
前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に接合された機能モジュールと
を備え、前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュールの導体部が互いに電気的に接続されていることを特徴とする複合配線基板構造体。
A first substrate having a first main surface and a second main surface, wherein an element mounting portion to which a semiconductor circuit element can be connected is set on the first main surface side;
A second substrate bonded to the second main surface side of the first substrate;
A functional module bonded to at least one of the first main surface and the second main surface of the first substrate, the conductor portion of the first substrate, the conductor portion of the second substrate, and the function A composite wiring board structure characterized in that conductor portions of modules are electrically connected to each other.
前記第1基板は、有機材料を主体とするフレキシブル配線基板であることを特徴とする請求項1に記載の複合配線基板構造体。   The composite wiring board structure according to claim 1, wherein the first board is a flexible wiring board mainly composed of an organic material. 前記第2基板は、無機材料を主体とするセラミック基板であることを特徴とする請求項1または2に記載の複合配線基板構造体。   3. The composite wiring board structure according to claim 1, wherein the second substrate is a ceramic substrate mainly composed of an inorganic material. 前記第2基板には、前記半導体回路素子の動作性向上に関与する受動部品を接続可能な受動部品搭載部が設定されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   The passive component mounting part which can connect the passive component which concerns on the operativity improvement of the said semiconductor circuit element is set to the said 2nd board | substrate, The any one of Claim 1 thru | or 3 characterized by the above-mentioned. Composite wiring board structure. 前記第2基板は、前記半導体回路素子の動作性向上に関与する機能を有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   4. The composite wiring board structure according to claim 1, wherein the second substrate has a function related to improvement in operability of the semiconductor circuit element. 5. 前記機能モジュールは、複数種類の電子部品を含んで構成された回路を有するモジュール配線基板であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   6. The composite wiring board structure according to claim 1, wherein the functional module is a module wiring board having a circuit including a plurality of types of electronic components. 前記第2基板は、前記第1基板の前記第2主面側に第1接着層を介して接合され、前記第1接着層内の導体部を介して、前記第1基板の導体部と前記第2基板の導体部とが電気的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   The second substrate is bonded to the second main surface side of the first substrate via a first adhesive layer, and the conductor portion of the first substrate and the conductor via the conductor portion in the first adhesive layer The composite wiring board structure according to any one of claims 1 to 6, wherein a conductor portion of the second substrate is electrically connected. 前記機能モジュールは、前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に、第2接着層を介して接合され、前記第2接着層内の導体部を介して、前記第1基板の導体部と前記機能モジュールの導体部とが電気的に接続されていることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   The functional module is bonded to at least one of the first main surface and the second main surface of the first substrate via a second adhesive layer, and via a conductor portion in the second adhesive layer. The composite wiring board structure according to claim 1, wherein the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the functional module are electrically connected. 前記第1基板は、前記素子搭載部を中心としてその周囲にファンアウトする複数の導体パターンと、前記複数の導体パターンに電気的に接続する複数のビア導体とを、導体部として有する多層フレキシブル配線基板であることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   The first substrate has a plurality of conductor patterns fanned out around the element mounting portion as a center, and a plurality of via conductors electrically connected to the plurality of conductor patterns as a multilayer flexible wiring. The composite wiring board structure according to claim 1, wherein the composite wiring board structure is a board. 前記第1基板は所定部分を屈曲させた状態で使用されるとともに、前記第2基板及び前記機能モジュールはその屈曲部分を避けるようにして接合されていることを特徴とする請求項1乃至9のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   10. The first substrate according to claim 1, wherein the first substrate is used in a state where a predetermined portion is bent, and the second substrate and the functional module are bonded so as to avoid the bent portion. The composite wiring board structure according to any one of the preceding claims. 前記第2基板は、前記半導体回路素子に供給すべき電源を安定化させるためのキャパシタ機能を有することを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   11. The composite wiring board structure according to claim 1, wherein the second substrate has a capacitor function for stabilizing a power supply to be supplied to the semiconductor circuit element. 前記第2基板は、前記第1基板と接合される接合面と、前記接合面の反対側に位置する非接合面とを有するとともに、前記非接合面上には、マザーボードが有する複数の端子に対して接続可能な複数の外部接続端子が設けられていることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体。   The second substrate has a bonding surface bonded to the first substrate and a non-bonding surface positioned on the opposite side of the bonding surface, and a plurality of terminals included in the motherboard are provided on the non-bonding surface. The composite wiring board structure according to any one of claims 1 to 11, wherein a plurality of external connection terminals connectable to each other are provided. 請求項1乃至12のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体の製造方法であって、
前記第1基板、前記第2基板及び前記機能モジュールを個別に作製する個別作製工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを接合し、前記第1基板と前記機能モジュールとを接合するとともに、その際に前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュールの導体部を互いに電気的に接続する接合工程と
を含むことを特徴とする複合配線基板構造体の製造方法。
A method for manufacturing a composite wiring board structure according to any one of claims 1 to 12,
An individual manufacturing step of individually manufacturing the first substrate, the second substrate, and the functional module;
The first substrate and the second substrate are joined, and the first substrate and the functional module are joined. At that time, the conductor portion of the first substrate, the conductor portion of the second substrate, and the functional module And a bonding step of electrically connecting the conductor portions to each other.
前記接合工程の実施前に、前記第1基板、前記第2基板及び前記機能モジュールに対する電気検査を個別に行う個別検査工程をさらに含むことを特徴とする請求項13に記載の複合配線基板構造体の製造方法。   14. The composite wiring board structure according to claim 13, further comprising an individual inspection step of individually performing an electrical inspection on the first substrate, the second substrate, and the functional module before the bonding step. Manufacturing method. 請求項1乃至12のいずれか1項に記載の複合配線基板構造体の製造方法であって、
前記第1基板、前記第2基板、及び、前記機能モジュールの一部となる機能モジュール基板本体を個別に作製する個別作製工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを接合し、前記第1基板と前記機能モジュール基板本体とを接合するとともに、その際に前記第1基板の導体部、前記第2基板の導体部及び前記機能モジュール基板本体の導体部を互いに電気的に接続する接合工程と
を含むことを特徴とする複合配線基板構造体の製造方法。
A method for manufacturing a composite wiring board structure according to any one of claims 1 to 12,
An individual manufacturing step of individually manufacturing the first substrate, the second substrate, and a functional module substrate main body to be a part of the functional module;
The first substrate and the second substrate are joined, and the first substrate and the functional module substrate main body are joined. At that time, the conductor portion of the first substrate, the conductor portion of the second substrate, and the A method of manufacturing a composite wiring board structure, comprising: a joining step of electrically connecting conductor portions of the functional module board main body to each other.
第1主面及び第2主面を有し、前記第1主面側に半導体回路素子が接続可能な素子搭載部が設定された第1基板と、
前記第1基板の前記第2主面側に接合された第2基板と
を備え、
前記第1基板の前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方側に機能モジュール搭載部が設定され、
前記第1基板の導体部及び前記第2基板の導体部が互いに電気的に接続されていることを特徴とする複合配線基板構造体。
A first substrate having a first main surface and a second main surface, wherein an element mounting portion to which a semiconductor circuit element can be connected is set on the first main surface side;
A second substrate bonded to the second main surface side of the first substrate,
A functional module mounting portion is set on at least one of the first main surface and the second main surface of the first substrate;
A composite wiring board structure, wherein the conductor portion of the first substrate and the conductor portion of the second substrate are electrically connected to each other.
前記機能モジュール搭載部に、機能モジュールの一部となる機能モジュール基板本体が接合されていることを特徴とする請求項16に記載の複合配線基板構造体。   The composite wiring board structure according to claim 16, wherein a functional module substrate main body that is a part of the functional module is joined to the functional module mounting portion.
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JP2008211201A (en) * 2007-02-01 2008-09-11 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board and semiconductor package
JP2008258357A (en) * 2007-04-04 2008-10-23 Fujikura Ltd Rigid flexible board and manufacturing method thereof

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008211201A (en) * 2007-02-01 2008-09-11 Ngk Spark Plug Co Ltd Wiring board and semiconductor package
JP2008258357A (en) * 2007-04-04 2008-10-23 Fujikura Ltd Rigid flexible board and manufacturing method thereof

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