JPH06313881A - 液晶表示装置及び液晶表示装置の欠陥修正方法 - Google Patents
液晶表示装置及び液晶表示装置の欠陥修正方法Info
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- JPH06313881A JPH06313881A JP5104582A JP10458293A JPH06313881A JP H06313881 A JPH06313881 A JP H06313881A JP 5104582 A JP5104582 A JP 5104582A JP 10458293 A JP10458293 A JP 10458293A JP H06313881 A JPH06313881 A JP H06313881A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 マイクロレンズアレイ基板を貼り合わせた高
輝度液晶表示装置の輝点絵素を修正し、実質的に欠陥の
ない液晶表示装置を得る。 【構成】 マイクロレンズアレイ基板が貼り合わせられ
る入射側透明基板の輝点絵素と同一の照射経路上にある
表面付近に、凹部を形成する。この凹部により照明光を
散乱させ、輝点絵素が周囲の正常絵素に対して欠陥とし
て目立たないよう修正する。
輝度液晶表示装置の輝点絵素を修正し、実質的に欠陥の
ない液晶表示装置を得る。 【構成】 マイクロレンズアレイ基板が貼り合わせられ
る入射側透明基板の輝点絵素と同一の照射経路上にある
表面付近に、凹部を形成する。この凹部により照明光を
散乱させ、輝点絵素が周囲の正常絵素に対して欠陥とし
て目立たないよう修正する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、一対の透明基板間に液
晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス状に配列され
た透過型液晶パネルにおいて、照明光入射側透明基板に
マイクロレンズアレイ基板が貼り合わされた高輝度液晶
表示装置及び液晶表示装置の輝点欠陥を修正する方法に
関する。
晶が封入され、表示用の絵素がマトリクス状に配列され
た透過型液晶パネルにおいて、照明光入射側透明基板に
マイクロレンズアレイ基板が貼り合わされた高輝度液晶
表示装置及び液晶表示装置の輝点欠陥を修正する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】プロジェクション装置に使用されるアク
ティブマトリクス駆動方式の液晶パネルは、貼り合わさ
れる一対のガラス基板の内の一方のガラス基板上にマト
リクス状に配設される絵素電極にＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）を形成し、このＴＦＴのスイッチング動作により
各絵素電極の選択、非選択を行って表示動作を行う。
ティブマトリクス駆動方式の液晶パネルは、貼り合わさ
れる一対のガラス基板の内の一方のガラス基板上にマト
リクス状に配設される絵素電極にＴＦＴ（薄膜トランジ
スタ）を形成し、このＴＦＴのスイッチング動作により
各絵素電極の選択、非選択を行って表示動作を行う。
【０００３】ところでＴＦＴはガラス基板上にゲ−ト電
極やソ−ス電極およびドレイン電極等を積層した多層構
造であるため、これらの金属薄膜をガラス基板上に積層
する工程と、これら金属薄膜をパタ−ニングする工程が
繰り返し行われる。このため欠陥のない完全なＴＦＴを
作製するには、製造工程において各種条件を維持、管理
するために非常な努力を要する。
極やソ−ス電極およびドレイン電極等を積層した多層構
造であるため、これらの金属薄膜をガラス基板上に積層
する工程と、これら金属薄膜をパタ−ニングする工程が
繰り返し行われる。このため欠陥のない完全なＴＦＴを
作製するには、製造工程において各種条件を維持、管理
するために非常な努力を要する。
【０００４】それ故、場合によっては正常なＴＦＴ特性
が得られていない欠陥ＴＦＴを発生することもあり、欠
陥が修復可能ものはその欠陥内容により、それぞれの修
正技術を用いて修復が図られる。このようなＴＦＴの欠
陥の一例として、回路形成パタ−ン上での修復ができず
表示駆動した場合に、ＴＦＴに接続された絵素電極に相
当する絵素が輝点となって表示画面上で認識される輝点
欠陥がある。
が得られていない欠陥ＴＦＴを発生することもあり、欠
陥が修復可能ものはその欠陥内容により、それぞれの修
正技術を用いて修復が図られる。このようなＴＦＴの欠
陥の一例として、回路形成パタ−ン上での修復ができず
表示駆動した場合に、ＴＦＴに接続された絵素電極に相
当する絵素が輝点となって表示画面上で認識される輝点
欠陥がある。
【０００５】この輝点欠陥の修正方法として、本件発明
者を含む発明者等による特願平３−３６２７９号があ
り、図８に示す。この方法は輝点絵素５を照射する照明
光４０の照射経路上に位置する出射側の透明基板２７の
表面付近（修正部１６）に凹部１８が形成され、該凹部
の底面１７Ａ、および側面１７Ｂを粗面化処理すること
により輝点絵素の透過光を抑制し、該輝点絵素の輝度低
減を行う修正手法をとる。
者を含む発明者等による特願平３−３６２７９号があ
り、図８に示す。この方法は輝点絵素５を照射する照明
光４０の照射経路上に位置する出射側の透明基板２７の
表面付近（修正部１６）に凹部１８が形成され、該凹部
の底面１７Ａ、および側面１７Ｂを粗面化処理すること
により輝点絵素の透過光を抑制し、該輝点絵素の輝度低
減を行う修正手法をとる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、マイクロレ
ンズアレイ基板を貼り合わせた高輝度タイプの液晶表示
装置に上記輝点絵素の修正を施した液晶表示装置を得る
ことであり、また輝点絵素を修正をする修正方法を課題
とする。
ンズアレイ基板を貼り合わせた高輝度タイプの液晶表示
装置に上記輝点絵素の修正を施した液晶表示装置を得る
ことであり、また輝点絵素を修正をする修正方法を課題
とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、マイクロレンズアレイ基板が貼り合わされた入射側
透明基板と、表示用の絵素がマトリクス状に配列された
透明基板間に液晶が封入された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルのマイクロレンズアレイ基板方向より
表示用の照明光を照射する光源手段とを有する液晶表示
装置において、輝点欠陥が発生している絵素を照射する
照明光の照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面
付近に凹陥加工部が形成され、且つ該凹陥加工部を光散
乱特性を示す粗面形状に形成していることにより上記目
的が達成される。
は、マイクロレンズアレイ基板が貼り合わされた入射側
透明基板と、表示用の絵素がマトリクス状に配列された
透明基板間に液晶が封入された透過型液晶パネルと、該
透過型液晶パネルのマイクロレンズアレイ基板方向より
表示用の照明光を照射する光源手段とを有する液晶表示
装置において、輝点欠陥が発生している絵素を照射する
照明光の照射経路上に位置する入射側の透明基板の表面
付近に凹陥加工部が形成され、且つ該凹陥加工部を光散
乱特性を示す粗面形状に形成していることにより上記目
的が達成される。
【０００８】また、本発明の液晶表示装置の欠陥修正方
法は、上記マイクロレンズアレイ基板を入射側透基板に
貼り合わせする工程前に、該入射側の透明基板の表面付
近に凹陥加工部を形成する方法であり、この修正工程に
おいて、照明光を透過型液晶パネルに照射して絵素に発
生している輝点欠陥を検出する工程と、輝点欠陥が発生
している絵素を照射する照明光の照射経路上に位置する
入射側の透明基板の表面付近に凹陥加工部を形成する工
程と、該凹陥加工部の表面を一部粗面化処理して光散乱
領域を形成する工程とを含んでなり、そのことにより上
記目的が達成される。
法は、上記マイクロレンズアレイ基板を入射側透基板に
貼り合わせする工程前に、該入射側の透明基板の表面付
近に凹陥加工部を形成する方法であり、この修正工程に
おいて、照明光を透過型液晶パネルに照射して絵素に発
生している輝点欠陥を検出する工程と、輝点欠陥が発生
している絵素を照射する照明光の照射経路上に位置する
入射側の透明基板の表面付近に凹陥加工部を形成する工
程と、該凹陥加工部の表面を一部粗面化処理して光散乱
領域を形成する工程とを含んでなり、そのことにより上
記目的が達成される。
【０００９】好ましくは、凹陥加工部の底面にメッシュ
状の粗面を形成する粗面化処理を行う。
状の粗面を形成する粗面化処理を行う。
【００１０】また、好ましくは、エキシマレ−ザ−ビ−
ムを用いたレ−ザ−エッチングにより前記凹陥加工部を
形成し、及び／又は前記凹陥加工部の表面に粗面化処理
を行う。
ムを用いたレ−ザ−エッチングにより前記凹陥加工部を
形成し、及び／又は前記凹陥加工部の表面に粗面化処理
を行う。
【００１１】
【作用】上記のように凹陥加工部をマイクロレンズの直
下に接近して形成し、該凹陥部の表面に粗面化処理を施
す。このことにより、この部分に入射される照明光はマ
イクロレンズの集光効果がまだ発揮されない段階である
ため、凹陥部での入射光拡散による減光効果も大きく、
粗面化レベルを選択することにより輝点絵素を透過する
光量を周囲の正常絵素に合わせることが可能である。ま
た、マイクロレンズ直下に接近しての凹陥部形成である
ため、修正サイズはマイクロレンズサイズと同等、すな
わち１絵素サイズで光り漏れが発生しない。この結果、
輝点絵素の存在が周囲の正常絵素に対して目立たない状
態になる。すなわち輝点絵素が修正されたことになる。
下に接近して形成し、該凹陥部の表面に粗面化処理を施
す。このことにより、この部分に入射される照明光はマ
イクロレンズの集光効果がまだ発揮されない段階である
ため、凹陥部での入射光拡散による減光効果も大きく、
粗面化レベルを選択することにより輝点絵素を透過する
光量を周囲の正常絵素に合わせることが可能である。ま
た、マイクロレンズ直下に接近しての凹陥部形成である
ため、修正サイズはマイクロレンズサイズと同等、すな
わち１絵素サイズで光り漏れが発生しない。この結果、
輝点絵素の存在が周囲の正常絵素に対して目立たない状
態になる。すなわち輝点絵素が修正されたことになる。
【００１２】
【実施例】以下本発明の一実施例を説明する。
【００１３】図１は本発明の一実施例にかかる欠陥の修
正方法を模式的に示しており、エキシマレ−ザ−発振器
９から出射されたレ−ザ−ビ−ム１０はスリットパタ−
ン１１を通り、紫外線反射ミラ−１２で反射された後、
レンズ１３を経て載置台１４上にセットされた液晶パネ
ル１の輝点修正部１６に集光されて照射される。 図２
に斜線で示すように、この輝点修正部１６は照射光に対
して輝点を発生している輝点絵素５と同一の照射経路上
にある。また、本実施例の輝点修正部１６は、図３に示
すように貼り合わされる一対のガラス基板の内、光源か
らの照明光４０が液晶パネル１に入射される側のガラス
基板２の表面付近に選定される。入射側のガラス基板２
の内面にはブラックマスク２４の開口部が絵素に対応し
て配列され、液晶に電圧を印加するための対向電極２５
が設けられている。
正方法を模式的に示しており、エキシマレ−ザ−発振器
９から出射されたレ−ザ−ビ−ム１０はスリットパタ−
ン１１を通り、紫外線反射ミラ−１２で反射された後、
レンズ１３を経て載置台１４上にセットされた液晶パネ
ル１の輝点修正部１６に集光されて照射される。 図２
に斜線で示すように、この輝点修正部１６は照射光に対
して輝点を発生している輝点絵素５と同一の照射経路上
にある。また、本実施例の輝点修正部１６は、図３に示
すように貼り合わされる一対のガラス基板の内、光源か
らの照明光４０が液晶パネル１に入射される側のガラス
基板２の表面付近に選定される。入射側のガラス基板２
の内面にはブラックマスク２４の開口部が絵素に対応し
て配列され、液晶に電圧を印加するための対向電極２５
が設けられている。
【００１４】一方、照明光４０が出射される側のガラス
基板２７の内面にはマトリクス状に配列された絵素電極
２８と該絵素電極２８への給電をスイッチングするＴＦ
Ｔ２９が形成され、両ガラス基板２と２７間には９０度
またはそれ以上ねじれ配向されたツイステッドネマティ
ック液晶層２６が封入されている。
基板２７の内面にはマトリクス状に配列された絵素電極
２８と該絵素電極２８への給電をスイッチングするＴＦ
Ｔ２９が形成され、両ガラス基板２と２７間には９０度
またはそれ以上ねじれ配向されたツイステッドネマティ
ック液晶層２６が封入されている。
【００１５】上記の液晶パネル１の輝点修正部１６への
レ−ザ−ビ−ム１０の入射方向は液晶パネル１に対する
照明光４０の入射方向に一致している。
レ−ザ−ビ−ム１０の入射方向は液晶パネル１に対する
照明光４０の入射方向に一致している。
【００１６】尚、スリットパタ−ン１１には輝点修正部
１６の外形サイズが拡大された形状のパタ−ンが形成さ
れており、該スリットパタ−ン１１を通した縮小スリッ
ト露光によりレ−ザ−ビ−ム１０が輝点修正部１６の位
置に精度よく照射されるようになっている。加えて、こ
のようなスリットパタ−ン１１を用いれば、次に説明す
る粗面１７を種々の凹凸段差で形成できる利点がある。
また、載置台１４は、例えば水平面内において、Ｘ−Ｙ
直交２軸方向に移動可能になっており、該載置台１４の
移動によりレ−ザ−ビ−ム１０を所望の輝点修正部１６
に照射できるようになっている。
１６の外形サイズが拡大された形状のパタ−ンが形成さ
れており、該スリットパタ−ン１１を通した縮小スリッ
ト露光によりレ−ザ−ビ−ム１０が輝点修正部１６の位
置に精度よく照射されるようになっている。加えて、こ
のようなスリットパタ−ン１１を用いれば、次に説明す
る粗面１７を種々の凹凸段差で形成できる利点がある。
また、載置台１４は、例えば水平面内において、Ｘ−Ｙ
直交２軸方向に移動可能になっており、該載置台１４の
移動によりレ−ザ−ビ−ム１０を所望の輝点修正部１６
に照射できるようになっている。
【００１７】尚、輝点絵素５の検出は、前工程におい
て、液晶パネル１に光源より照明光を照射し、駆動状態
にある液晶パネル１の表示画像を表示面上に投影し、こ
の投影像を検査装置の検査又は検査員の視認により行わ
れる。
て、液晶パネル１に光源より照明光を照射し、駆動状態
にある液晶パネル１の表示画像を表示面上に投影し、こ
の投影像を検査装置の検査又は検査員の視認により行わ
れる。
【００１８】本発明の実施例でのスリットパタ−ン１１
を用いた凹部１８の形成については、図３および図４、
図５に示すように、底面にむけて狭幅になった四角錘
状、あるいは円錐状をなす凹部１８を輝点絵素５に対応
するガラス基板２の表面部分、すなわち輝点修正部１６
に形成し、且つ該凹部１８の底面および側面（傾斜面）
に粗面１７Ａ、１７Ｂを形成し、これにより輝点絵素５
を透過する照明光を減光または遮光する。
を用いた凹部１８の形成については、図３および図４、
図５に示すように、底面にむけて狭幅になった四角錘
状、あるいは円錐状をなす凹部１８を輝点絵素５に対応
するガラス基板２の表面部分、すなわち輝点修正部１６
に形成し、且つ該凹部１８の底面および側面（傾斜面）
に粗面１７Ａ、１７Ｂを形成し、これにより輝点絵素５
を透過する照明光を減光または遮光する。
【００１９】このような凹部１８、粗面１７Ａ、１７Ｂ
はエキシマレ−ザ−を用いたエッチング加工により以下
のようにして形成される。まず、スリットパタ−ン１１
を通して縮小露光されるレ−ザ−ビ−ム１０の縮小率お
よびレ−ザ−ビ−ム１０のエネルギ−密度を適宜の値に
設定した上でエキシマレ−ザ−発振器９からレ−ザ−ビ
−ム１０を輝点修正部１６に照射し、これにより凹部１
８を形成する。次いで、スリットパタ−ン１１に図６に
示されるように丸穴６１が形成されたメッシュ状のスリ
ットパタ−ンマスク６０を挿入し、この状態でレ−ザ−
ビ−ム１０を凹部１８に照射する。これにより、凹部１
８の側面及び底面に鋸歯状の粗面１７Ｂが形成され、同
時に底面にメッシュ状の粗面１７Ａが形成される。
はエキシマレ−ザ−を用いたエッチング加工により以下
のようにして形成される。まず、スリットパタ−ン１１
を通して縮小露光されるレ−ザ−ビ−ム１０の縮小率お
よびレ−ザ−ビ−ム１０のエネルギ−密度を適宜の値に
設定した上でエキシマレ−ザ−発振器９からレ−ザ−ビ
−ム１０を輝点修正部１６に照射し、これにより凹部１
８を形成する。次いで、スリットパタ−ン１１に図６に
示されるように丸穴６１が形成されたメッシュ状のスリ
ットパタ−ンマスク６０を挿入し、この状態でレ−ザ−
ビ−ム１０を凹部１８に照射する。これにより、凹部１
８の側面及び底面に鋸歯状の粗面１７Ｂが形成され、同
時に底面にメッシュ状の粗面１７Ａが形成される。
【００２０】凹部１８の仕様としては、最表面は四角錘
形状および円錐形状いずれの場合もマイクロレンズのサ
イズ相当とし、傾斜角度は５〜２０度、深さが１００μ
ｍ以上のものが好ましい。
形状および円錐形状いずれの場合もマイクロレンズのサ
イズ相当とし、傾斜角度は５〜２０度、深さが１００μ
ｍ以上のものが好ましい。
【００２１】このような修正方法による減光レベルはレ
−ザ−ショット数を変えることにより可能であり、所望
の減光レベルに粗面化した液晶パネルはこの後、図７に
示すようにマイクロレンズアレイ３０を入射側透明基板
２の表面に透明性接着剤３２を用いて貼り合わせる。こ
の時凹部１８内には該接着剤３２の粘度や透明電極表面
の粗面条件等により、接着剤３２が入り込まない空洞部
が形成される。また接着剤３２の屈折率や前記空洞部の
形成条件を適切に選ぶことにより、減光量が適切化され
る。
−ザ−ショット数を変えることにより可能であり、所望
の減光レベルに粗面化した液晶パネルはこの後、図７に
示すようにマイクロレンズアレイ３０を入射側透明基板
２の表面に透明性接着剤３２を用いて貼り合わせる。こ
の時凹部１８内には該接着剤３２の粘度や透明電極表面
の粗面条件等により、接着剤３２が入り込まない空洞部
が形成される。また接着剤３２の屈折率や前記空洞部の
形成条件を適切に選ぶことにより、減光量が適切化され
る。
【００２２】なお、これまで述べてきた粗面化処理はＣ
Ｏ2レ−ザ−によるレ−ザ−エッチングで行ってもよい
し、あるいはダイヤモンド針や超硬合金製の針を用いた
触刻によって行うこともできるが、エキシマレ−ザ−エ
ッチングによればこれらの方法に比して以下に示す利点
がある。まず、触刻法と比較すると、粗面加工が容易に
なると共に、凹凸形状の精度がよい粗面１７を形成でき
る利点がある。
Ｏ2レ−ザ−によるレ−ザ−エッチングで行ってもよい
し、あるいはダイヤモンド針や超硬合金製の針を用いた
触刻によって行うこともできるが、エキシマレ−ザ−エ
ッチングによればこれらの方法に比して以下に示す利点
がある。まず、触刻法と比較すると、粗面加工が容易に
なると共に、凹凸形状の精度がよい粗面１７を形成でき
る利点がある。
【００２３】一方、ＣＯ2レ−ザ−と比較すると、ＣＯ2
レ−ザ−エッチングは熱加工であるため、輝点修正部１
６周囲のガラスに熱的ダメ−ジを与えることになるが、
エキシマレ−ザ−エッチングによればこのような熱的ダ
メ−ジを与えることがないという利点がある。従って、
以上の理由によりエキシマレ−ザ−エッチングにより粗
面１７を形成する修正方法が実施する上で最も好ましい
ものになる。
レ−ザ−エッチングは熱加工であるため、輝点修正部１
６周囲のガラスに熱的ダメ−ジを与えることになるが、
エキシマレ−ザ−エッチングによればこのような熱的ダ
メ−ジを与えることがないという利点がある。従って、
以上の理由によりエキシマレ−ザ−エッチングにより粗
面１７を形成する修正方法が実施する上で最も好ましい
ものになる。
【００２４】更に、エキシマレ−ザ−エッチングは封入
ガスとして、発振波長１９３ｎｍのＡｒＦ、発振波長２
４８ｎｍのＫｒＦ、発振波長３０８ｎｍのＸｅＣｌ等が
使用され、該封入ガスの種類によってエキシマレ−ザ−
発振器９のパルスエネルギ−が異なり、粗面の表面粗さ
も異なることになるが、本発明者等による以下の実験結
果により、封入ガスとしてＫｒＦを使用したエキシマレ
−ザ−エッチング加工が最も好ましい修正方法であるこ
とを確認できた。
ガスとして、発振波長１９３ｎｍのＡｒＦ、発振波長２
４８ｎｍのＫｒＦ、発振波長３０８ｎｍのＸｅＣｌ等が
使用され、該封入ガスの種類によってエキシマレ−ザ−
発振器９のパルスエネルギ−が異なり、粗面の表面粗さ
も異なることになるが、本発明者等による以下の実験結
果により、封入ガスとしてＫｒＦを使用したエキシマレ
−ザ−エッチング加工が最も好ましい修正方法であるこ
とを確認できた。
【００２５】すなわち、輝点修正部１６への入射光を拡
散させる粗面化に最適なエキシマレ−ザ−ガス種類を検
討するため、封入ガスの種類を変え、同一のパルスショ
ット条件で実験したところ、粗面の表面粗さはＫｒＦが
最も粗く、次いでＡｒＦであった。一方、封入ガスとし
てＸｅＣｌを使用した場合は、レ−ザ−ビ−ム１０がガ
ラス面を透過するため粗面化処理はできなかった。そし
て、表面粗さを最も粗面化できたＫｒＦによる粗面を顕
微鏡で観察すると、粗面が砂粒状を呈し、透過照明の透
過が十分に抑制されることが確認できた。
散させる粗面化に最適なエキシマレ−ザ−ガス種類を検
討するため、封入ガスの種類を変え、同一のパルスショ
ット条件で実験したところ、粗面の表面粗さはＫｒＦが
最も粗く、次いでＡｒＦであった。一方、封入ガスとし
てＸｅＣｌを使用した場合は、レ−ザ−ビ−ム１０がガ
ラス面を透過するため粗面化処理はできなかった。そし
て、表面粗さを最も粗面化できたＫｒＦによる粗面を顕
微鏡で観察すると、粗面が砂粒状を呈し、透過照明の透
過が十分に抑制されることが確認できた。
【００２６】なお、実施例で図示していないカラ−フィ
ルタ−については、単板パネル方式の投影型液晶表示装
置に用いられている液晶パネルのようにＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の三原色カラ−フィルタ−が交互に透
明基板上に配列されたもの、また３枚パネル方式の投影
型液晶表示装置に用いられている液晶パネルのように各
パネル毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色カラ
−フィルタ−を専用とするもの、即ちカラ−フィルタ−
が液晶パネル内にある場合、あるいは液晶パネルから独
立した位置にある場合、いずれのカラ−フィルタ−形式
の液晶パネルであっても本発明の修正方法は同様に実施
することができる。
ルタ−については、単板パネル方式の投影型液晶表示装
置に用いられている液晶パネルのようにＲ（赤）、Ｇ
（緑）、Ｂ（青）の三原色カラ−フィルタ−が交互に透
明基板上に配列されたもの、また３枚パネル方式の投影
型液晶表示装置に用いられている液晶パネルのように各
パネル毎にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三原色カラ
−フィルタ−を専用とするもの、即ちカラ−フィルタ−
が液晶パネル内にある場合、あるいは液晶パネルから独
立した位置にある場合、いずれのカラ−フィルタ−形式
の液晶パネルであっても本発明の修正方法は同様に実施
することができる。
【００２７】図９はマイクロレンズアレイ基板を貼り合
わせた高輝度タイプ液晶表示装置に前記先行出願（特願
平３−３６２７９号）の修正方法を用いた断面図を示し
ている。この液晶表示装置は、マイクロレンズ３１を各
絵素２８に対応して配置されたマイクロレンズアレイ基
板３０を照明光４０の入射側透明基板２の表面に貼り合
わされて構成され、各絵素２８への照明光４０はマイク
ロレンズ３１による集光効果で高輝度の液晶表示装置を
実現している。この高輝度タイプ液晶表示装置におい
て、輝点絵素５を照射する照明光４０の照射経路上に位
置する出射側の透明基板２７の表面付近（修正部１６）
に凹部１８が形成され、該凹部の底面１７Ａ、および側
面１７Ｂを粗面化処理することにより輝点絵素の透過光
を抑制し、該輝点絵素の輝度低減を行う。
わせた高輝度タイプ液晶表示装置に前記先行出願（特願
平３−３６２７９号）の修正方法を用いた断面図を示し
ている。この液晶表示装置は、マイクロレンズ３１を各
絵素２８に対応して配置されたマイクロレンズアレイ基
板３０を照明光４０の入射側透明基板２の表面に貼り合
わされて構成され、各絵素２８への照明光４０はマイク
ロレンズ３１による集光効果で高輝度の液晶表示装置を
実現している。この高輝度タイプ液晶表示装置におい
て、輝点絵素５を照射する照明光４０の照射経路上に位
置する出射側の透明基板２７の表面付近（修正部１６）
に凹部１８が形成され、該凹部の底面１７Ａ、および側
面１７Ｂを粗面化処理することにより輝点絵素の透過光
を抑制し、該輝点絵素の輝度低減を行う。
【００２８】しかしながら、上記マイクロレンズ３１に
より、集光効果が発揮される出射側透明基板２７の表面
に前記修正方法で修正した場合、マイクロレンズ３１の
集光効果のため修正部を透過する光量が増え、輝点の輝
度低減が周囲の正常な絵素の輝度レベルと同程度迄に低
減させることが困難になる。またマイクロレンズに入光
する光軸の角度ズレも配慮する必要もあることから、修
正部１６の修正サイズは絵素ピッチの１.３倍以上が必
要となり、このサイズで修正した場合は表示画面で修正
点の大きさが目立つことになる問題がある。
より、集光効果が発揮される出射側透明基板２７の表面
に前記修正方法で修正した場合、マイクロレンズ３１の
集光効果のため修正部を透過する光量が増え、輝点の輝
度低減が周囲の正常な絵素の輝度レベルと同程度迄に低
減させることが困難になる。またマイクロレンズに入光
する光軸の角度ズレも配慮する必要もあることから、修
正部１６の修正サイズは絵素ピッチの１.３倍以上が必
要となり、このサイズで修正した場合は表示画面で修正
点の大きさが目立つことになる問題がある。
【００２９】
【発明の効果】詳述してきたように、マイクロレンズ付
き高輝度液晶表示装置に於ける輝点欠陥絵素を正常絵素
と同程度まで減光させるため、本発明では粗面化凹陥部
をマイクロレンズの直下に接近して形成し、且つ、該凹
陥部は空洞を保持することにより、輝点絵素への入光が
この凹陥部で拡散され、輝点欠陥絵素が周囲の正常絵素
に対し目立たなくなり、また、修正サイズも絵素サイズ
相当でよいため、このことも修正点が目立たない大きな
効果がある。
き高輝度液晶表示装置に於ける輝点欠陥絵素を正常絵素
と同程度まで減光させるため、本発明では粗面化凹陥部
をマイクロレンズの直下に接近して形成し、且つ、該凹
陥部は空洞を保持することにより、輝点絵素への入光が
この凹陥部で拡散され、輝点欠陥絵素が周囲の正常絵素
に対し目立たなくなり、また、修正サイズも絵素サイズ
相当でよいため、このことも修正点が目立たない大きな
効果がある。
【図１】本発明の一実施例を説明するエキシマレ−ザ装
置を用いた欠陥修正方法を模式的に示す図面。
置を用いた欠陥修正方法を模式的に示す図面。
【図２】輝点絵素と輝点修正部が照明光に対して同一の
照射経路上にあることを示す図面。
照射経路上にあることを示す図面。
【図３】エキシマレ−ザエッチングにより凹部形成さ
れ、且つ凹部の側面および底面が粗面であることを示す
液晶パネル断面図。
れ、且つ凹部の側面および底面が粗面であることを示す
液晶パネル断面図。
【図４】凹部が四角錘形状であることを示す図３のＡ方
向矢視図。
向矢視図。
【図５】凹部が円錐形状であることを示す図３のＡ方向
矢視図。
矢視図。
【図６】エキシマレ−ザ−エッチングに使用するスリッ
トパタ−ンマスクを示す図面。
トパタ−ンマスクを示す図面。
【図７】修正した後、マイクロレンズアレイが貼り合わ
されて完成品となった液晶パネルを示す断面図。
されて完成品となった液晶パネルを示す断面図。
【図８】本件発明者を含む発明者等による先に出願した
特許の修正方法を示す液晶パネル断面図。
特許の修正方法を示す液晶パネル断面図。
【図９】高輝度液晶パネル断面図。
１ 液晶パネル ２ ガラス基板 ５ 輝点絵素 ９ レーザー発振機 １０ レーザービーム １１ スリットパターン １４ 載置台 １６ 輝点修正部 １８ 凹部 ２７ 出射側ガラス基板 ３０ マイクロレンズアレイ ３２ 接着剤
Claims (6)
- 【請求項１】マイクロレンズアレイ基板が貼り合わされ
た入射側透明基板と、反対側透明基板間に液晶が封入さ
れた透過型液晶パネルと、上記マイクロレンズアレイ基
板方向より表示用の照明光を照射する光源手段とを有す
る液晶表示装置において、輝点欠陥が発生している絵素
を照射する照明光の照射経路上に位置する入射側の透明
基板の表面付近に凹陥加工部を形成した液晶表示装置。 - 【請求項２】前記凹陥加工部の底面が光散乱用粗面に形
成された請求項１記載の液晶表示装置。 - 【請求項３】前記凹陥加工部を空洞とする請求項１記載
の液晶表示装置。 - 【請求項４】マイクロレンズアレイ基板が貼り合わされ
た入射側透明基板と、反対側透明基板間に液晶が封入さ
れた透過型液晶パネルと、該透過型液晶パネルのマイク
ロレンズアレイ基板方向より表示用の照明光を照射する
光源手段とを有する液晶表示装置の欠陥修正方法におい
て、上記マイクロレンズアレイ基板を入射側透明基板に
貼り合わせする工程前に、輝点欠陥を検出する工程と、
該輝点欠陥が発生している絵素を照射する照明光の照射
経路上に位置する入射側の透明基板の表面付近に凹陥加
工部を形成する工程とを行う液晶表示装置の欠陥修正方
法。 - 【請求項５】前記凹陥加工部の底面に粗面を形成する粗
面化処理を行う請求項４記載の液晶表示装置の欠陥修正
方法。 - 【請求項６】エキシマレ−ザ−ビ−ムを用いたレ−ザ−
エッチングにより前記凹陥加工部を形成し、及び／又は
前記凹陥加工部の表面に粗面化処理を行う請求項４又は
請求項５記載の液晶表示装置の欠陥修正方法。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10458293A JP3192269B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
| CN 94104644 CN1061147C (zh) | 1993-04-30 | 1994-04-29 | 液晶显示装置及在其中校正缺陷的方法 |
| KR1019940009634A KR0128816B1 (ko) | 1993-04-30 | 1994-04-29 | 액정표시장치 및 액정표시장치의 결함수정방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10458293A JP3192269B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06313881A true JPH06313881A (ja) | 1994-11-08 |
| JP3192269B2 JP3192269B2 (ja) | 2001-07-23 |
Family
ID=14384434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10458293A Expired - Fee Related JP3192269B2 (ja) | 1993-04-30 | 1993-04-30 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3192269B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100751281B1 (ko) * | 2004-09-27 | 2007-08-23 | 가부시끼가이샤 도시바 | 액정 디스플레이의 결함 화소 수정 방법 및 결함 화소 수정장치 |
| WO2009019913A1 (ja) | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US20100182561A1 (en) * | 2007-08-08 | 2010-07-22 | Masaki Ikeda | Liquid crystal display device and method of manufacturing same |
-
1993
- 1993-04-30 JP JP10458293A patent/JP3192269B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100751281B1 (ko) * | 2004-09-27 | 2007-08-23 | 가부시끼가이샤 도시바 | 액정 디스플레이의 결함 화소 수정 방법 및 결함 화소 수정장치 |
| US20100182561A1 (en) * | 2007-08-08 | 2010-07-22 | Masaki Ikeda | Liquid crystal display device and method of manufacturing same |
| WO2009019913A1 (ja) | 2007-08-09 | 2009-02-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| US8203690B2 (en) | 2007-08-09 | 2012-06-19 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method of manufacturing same |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3192269B2 (ja) | 2001-07-23 |
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