JPH06299339A - レーザ光照射による金属薄膜蒸着法 - Google Patents
レーザ光照射による金属薄膜蒸着法Info
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- JPH06299339A JPH06299339A JP8482393A JP8482393A JPH06299339A JP H06299339 A JPH06299339 A JP H06299339A JP 8482393 A JP8482393 A JP 8482393A JP 8482393 A JP8482393 A JP 8482393A JP H06299339 A JPH06299339 A JP H06299339A
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- transparent
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Abstract
(57)【要約】
【目的】レーザ発生装置以外には特殊な装置を不要と
し、なおかつ対象物が透明物質で構成されている限り当
該透明物質の表面に容易に各種の文字、記号、図形、電
子回路パターン等を金属蒸着により表示・形成可能なレ
ーザ光照射による金属薄膜蒸着法を提供する。 【構成】金属１と透明物質２を密接重合し、当該透明物
質２上からレーザ光Ｌを走査しつつ照射し、当該レーザ
光Ｌが当該透明物質を通して照射された部分の前記金属
１の重合表面１ａを前記透明物質２の相対重合表面２ａ
に蒸着転写したことを特徴とする。
し、なおかつ対象物が透明物質で構成されている限り当
該透明物質の表面に容易に各種の文字、記号、図形、電
子回路パターン等を金属蒸着により表示・形成可能なレ
ーザ光照射による金属薄膜蒸着法を提供する。 【構成】金属１と透明物質２を密接重合し、当該透明物
質２上からレーザ光Ｌを走査しつつ照射し、当該レーザ
光Ｌが当該透明物質を通して照射された部分の前記金属
１の重合表面１ａを前記透明物質２の相対重合表面２ａ
に蒸着転写したことを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種透明板等の透明物
質の表面に文字、記号、図形等を各種金属の蒸着により
表示するレーザ光照射による金属薄膜蒸着法に関する。
質の表面に文字、記号、図形等を各種金属の蒸着により
表示するレーザ光照射による金属薄膜蒸着法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、各種対象物の表面に文字、記
号、図形等の各種情報を表示する装置の一種として、レ
ーザ光を当該対象物の表面に照射し、当該レーザ光の照
射された部分の蒸発又は加熱に伴う変質により表示を行
う、いわゆるレーザマーカーと呼ばれる装置が存在して
おり、使用されるレーザ光源及びマーキング方法の種類
から、ＣＯ2 （炭酸ガス）レーザマスキングタイプ、Ｙ
ＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レー
ザマスキングタイプ、ＹＡＧレーザスキャンタイプ等が
一般的に普及している。
号、図形等の各種情報を表示する装置の一種として、レ
ーザ光を当該対象物の表面に照射し、当該レーザ光の照
射された部分の蒸発又は加熱に伴う変質により表示を行
う、いわゆるレーザマーカーと呼ばれる装置が存在して
おり、使用されるレーザ光源及びマーキング方法の種類
から、ＣＯ2 （炭酸ガス）レーザマスキングタイプ、Ｙ
ＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レー
ザマスキングタイプ、ＹＡＧレーザスキャンタイプ等が
一般的に普及している。
【０００３】ＣＯ2 レーザマスキングタイプレーザマー
カー並びにＹＡＧレーザマスキングタイプレーザマーカ
ーは、マスキングパターンを描貫したマスキングプレー
トを対象物とレーザヘッド間に配置し、当該マスキング
プレート上からそれぞれＣＯ2 レーザ光、ＹＡＧレーザ
光を照射して、マスキングパターンに合わせて対象物の
表面に表示してなる装置である。
カー並びにＹＡＧレーザマスキングタイプレーザマーカ
ーは、マスキングパターンを描貫したマスキングプレー
トを対象物とレーザヘッド間に配置し、当該マスキング
プレート上からそれぞれＣＯ2 レーザ光、ＹＡＧレーザ
光を照射して、マスキングパターンに合わせて対象物の
表面に表示してなる装置である。
【０００４】ＹＡＧレーザスキャンタイプレーザマーカ
ーには、ＹＡＧレーザ光を対象物の表面に照射し、対象
物の表面を殆ど彫り込まないで表面を黒く変色させて表
示を行う変色マーキング方式と、対象物の表面を削り取
って表示を行う彫り込みマーキング方式とがある。
ーには、ＹＡＧレーザ光を対象物の表面に照射し、対象
物の表面を殆ど彫り込まないで表面を黒く変色させて表
示を行う変色マーキング方式と、対象物の表面を削り取
って表示を行う彫り込みマーキング方式とがある。
【０００５】或いはこれらとは別個に、基板上に電子回
路パターンを形成する方法の一種として、予め基板上の
絶縁部分をマスキング剤にてマスキングして置き、当該
基板を真空容器の中に封入した後、当該真空容器内を減
圧加熱して金属を気化蒸発させ、当該基板表面に当該気
化した金属を蒸着させる蒸着法が存在していた。従来の
レーザマーキング装置及び蒸着法はこのような方法であ
るので、対象物の表面に各種の文字、記号、図形等を表
示或いは蒸着させることが可能である。
路パターンを形成する方法の一種として、予め基板上の
絶縁部分をマスキング剤にてマスキングして置き、当該
基板を真空容器の中に封入した後、当該真空容器内を減
圧加熱して金属を気化蒸発させ、当該基板表面に当該気
化した金属を蒸着させる蒸着法が存在していた。従来の
レーザマーキング装置及び蒸着法はこのような方法であ
るので、対象物の表面に各種の文字、記号、図形等を表
示或いは蒸着させることが可能である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のレーザマーキング装置は、対象物を蒸発或いは加熱
変質させて周囲との色彩や明度の変化により表示を行っ
ていたことから、当該蒸発或いは変質した部分の色彩を
任意に選択することができない上、外観上あまり見栄え
が良くないことから適用される対象物が非常に限られて
おり、加えて視認性もある程度までしか望めないもので
あった。
来のレーザマーキング装置は、対象物を蒸発或いは加熱
変質させて周囲との色彩や明度の変化により表示を行っ
ていたことから、当該蒸発或いは変質した部分の色彩を
任意に選択することができない上、外観上あまり見栄え
が良くないことから適用される対象物が非常に限られて
おり、加えて視認性もある程度までしか望めないもので
あった。
【０００７】また、蒸着法では、高沸点の金属を気化さ
せて蒸着処理を行うために、比較的高真空度の真空発生
装置や加熱装置及びこれらの付属装置を必要としてい
た。さらに、蒸着する金属、蒸着される対象物及び蒸着
処理の際の温度環境や条件等に応じて個別に適切なマス
キング剤の選定が必要であった。
せて蒸着処理を行うために、比較的高真空度の真空発生
装置や加熱装置及びこれらの付属装置を必要としてい
た。さらに、蒸着する金属、蒸着される対象物及び蒸着
処理の際の温度環境や条件等に応じて個別に適切なマス
キング剤の選定が必要であった。
【０００８】さらに、前記真空発生装置にて逐一対象物
の真空蒸着処理を行わねばならないだけでなく、蒸着処
理前に対象物に表示する文字、記号、図形等の形状に応
じて、当該対象物の表面に斑なく均一にマスキング剤を
塗布する工程と、さらに蒸着処理後に当該マスキング剤
を対象物の表面より完全に剥離洗浄する工程を必要とし
ていた。
の真空蒸着処理を行わねばならないだけでなく、蒸着処
理前に対象物に表示する文字、記号、図形等の形状に応
じて、当該対象物の表面に斑なく均一にマスキング剤を
塗布する工程と、さらに蒸着処理後に当該マスキング剤
を対象物の表面より完全に剥離洗浄する工程を必要とし
ていた。
【０００９】これにより製造コスト及びイニシャルコス
トの増加、製造工程の複雑化、製造に要する時間の長時
間化、作業者への負担の増加等の多くの欠点を有してお
り、人手のかかるバッチ処理工程を避け得ないものであ
った。ここにおいて、本発明はレーザ発生装置以外には
特殊な装置或いは工程を不要とし、なおかつ対象物が透
明材料で構成されている限り当該透明材料の表面に容易
に各種の文字、記号、図形、電子回路パターン等を金属
蒸着により表示・形成可能なレーザ光照射による金属薄
膜蒸着法を提供せんとするものである。
トの増加、製造工程の複雑化、製造に要する時間の長時
間化、作業者への負担の増加等の多くの欠点を有してお
り、人手のかかるバッチ処理工程を避け得ないものであ
った。ここにおいて、本発明はレーザ発生装置以外には
特殊な装置或いは工程を不要とし、なおかつ対象物が透
明材料で構成されている限り当該透明材料の表面に容易
に各種の文字、記号、図形、電子回路パターン等を金属
蒸着により表示・形成可能なレーザ光照射による金属薄
膜蒸着法を提供せんとするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前記課題は、本発明が次
に列挙する新規な特徴的構成手法を採用することにより
達成される。すなわち、本発明の第１の特徴は、金属と
透明物質を密接重合し、当該透明物質上からレーザ光を
走査しつつ照射し、当該レーザ光が当該透明物質を通し
て照射された部分の前記金属の重合表面を前記透明物質
の相対重合表面に蒸着転写してなるレーザ光照射による
金属薄膜蒸着法である。
に列挙する新規な特徴的構成手法を採用することにより
達成される。すなわち、本発明の第１の特徴は、金属と
透明物質を密接重合し、当該透明物質上からレーザ光を
走査しつつ照射し、当該レーザ光が当該透明物質を通し
て照射された部分の前記金属の重合表面を前記透明物質
の相対重合表面に蒸着転写してなるレーザ光照射による
金属薄膜蒸着法である。
【００１１】本発明の第２の特徴は、金属と透明物質を
密接重合し、マスキングパターンを描貫したマスキング
プレートを通過してきたレーザ光を当該透明物質上から
全般に亙り一括照射し、当該マスキングプレートに遮光
されずに当該レーザ光が前記透明物質を通して照射され
た部分の前記金属の重合表面を前記透明物質の相対重合
表面に蒸着転写してなるレーザ光照射による金属薄膜蒸
着法である。
密接重合し、マスキングパターンを描貫したマスキング
プレートを通過してきたレーザ光を当該透明物質上から
全般に亙り一括照射し、当該マスキングプレートに遮光
されずに当該レーザ光が前記透明物質を通して照射され
た部分の前記金属の重合表面を前記透明物質の相対重合
表面に蒸着転写してなるレーザ光照射による金属薄膜蒸
着法である。
【００１２】本発明の第３の特徴は、金属と透明物質を
密接重合し、マスキングパターンを描貫したマスキング
プレートを通過してきたレーザ光を当該透明物質上から
一定範囲毎に分割照射し、当該マスキングプレートに遮
光されずに当該レーザ光が前記透明物質を通して照射さ
れた部分の前記金属の重合表面を前記透明物質の相対重
合表面に蒸着転写してなるレーザ光照射による金属薄膜
蒸着法である。
密接重合し、マスキングパターンを描貫したマスキング
プレートを通過してきたレーザ光を当該透明物質上から
一定範囲毎に分割照射し、当該マスキングプレートに遮
光されずに当該レーザ光が前記透明物質を通して照射さ
れた部分の前記金属の重合表面を前記透明物質の相対重
合表面に蒸着転写してなるレーザ光照射による金属薄膜
蒸着法である。
【００１３】本発明の第４の特徴は、前記第１，第２又
は第３の特徴において、照射に用いられるレーザ光が、
単一のレーザ光源より分岐され、同時に複数の光ファイ
バを介して照射されてなるレーザ光照射による金属薄膜
蒸着法である。
は第３の特徴において、照射に用いられるレーザ光が、
単一のレーザ光源より分岐され、同時に複数の光ファイ
バを介して照射されてなるレーザ光照射による金属薄膜
蒸着法である。
【００１４】
【作用】本発明はこのような手法を採用するので、レー
ザ光の照射により透明物質と密接重合した部分の金属重
合表面を加熱により気化蒸発させて、透明物質の相対重
合表面に各種の文字、記号、図形、電子回路パターン等
を蒸着転写することが可能となる。
ザ光の照射により透明物質と密接重合した部分の金属重
合表面を加熱により気化蒸発させて、透明物質の相対重
合表面に各種の文字、記号、図形、電子回路パターン等
を蒸着転写することが可能となる。
【００１５】
（実施例１）本発明の第１実施例を図面につき詳説す
る。図１は本実施例を示すＹＡＧレーザ光による金属薄
膜蒸着法の概念説明断面図、図２は同・蒸着処理後の概
念説明断面図である。図中、Ｌはレーザ光、１は金属
板、１ａは重合表面、１ｂは凹部、２は透明板、２ａは
重合表面、３はレーザヘッド、４は蒸着金属薄膜であ
る。
る。図１は本実施例を示すＹＡＧレーザ光による金属薄
膜蒸着法の概念説明断面図、図２は同・蒸着処理後の概
念説明断面図である。図中、Ｌはレーザ光、１は金属
板、１ａは重合表面、１ｂは凹部、２は透明板、２ａは
重合表面、３はレーザヘッド、４は蒸着金属薄膜であ
る。
【００１６】図１において、金属板１上には透明板２が
密接重合されており、図中上方には図示しないＹＡＧレ
ーザ光源に図示しない光ファイバを介して光学的に接続
されたレーザヘッド３が配設され、鉛直方向下向きに極
微のスポット径に集束されたレーザ光Ｌを照射する。
密接重合されており、図中上方には図示しないＹＡＧレ
ーザ光源に図示しない光ファイバを介して光学的に接続
されたレーザヘッド３が配設され、鉛直方向下向きに極
微のスポット径に集束されたレーザ光Ｌを照射する。
【００１７】当該レーザ光Ｌは、透明板２には殆ど吸収
散乱されることなく透過し、当該透明板２を密接重合す
る金属板１重合表面１ａに照射される。金属板１重合表
面１ａに透明板２を通して照射されたレーザ光Ｌは、当
該金属板１に吸収されて熱エネルギーに変換され、照射
部分の金属板１重合表面１ａを急激に加熱する。
散乱されることなく透過し、当該透明板２を密接重合す
る金属板１重合表面１ａに照射される。金属板１重合表
面１ａに透明板２を通して照射されたレーザ光Ｌは、当
該金属板１に吸収されて熱エネルギーに変換され、照射
部分の金属板１重合表面１ａを急激に加熱する。
【００１８】加熱により照射部分の金属板１重合表面１
ａの金属は気化蒸発し、当該金属板１重合表面１ａの金
属は密接された透明板２の相対重合表面２ａにて冷却さ
れることにより、蒸着金属薄膜４として透明板２の相対
重合表面２ａに均一に蒸着転写される。よって、気化蒸
発した金属板１の重合表面１ａが図中に示すように凹部
１ｂとなり、図２に示すように透明板２相対重合表面２
ａには蒸着金属薄膜４が蒸着される。
ａの金属は気化蒸発し、当該金属板１重合表面１ａの金
属は密接された透明板２の相対重合表面２ａにて冷却さ
れることにより、蒸着金属薄膜４として透明板２の相対
重合表面２ａに均一に蒸着転写される。よって、気化蒸
発した金属板１の重合表面１ａが図中に示すように凹部
１ｂとなり、図２に示すように透明板２相対重合表面２
ａには蒸着金属薄膜４が蒸着される。
【００１９】ここでレーザヘッド３を平面方向に走査
し、目的とする文字、記号、図形等或いはその輪郭線等
をレーザ光Ｌで照射することにより、図２に示すように
透明板２の表面に任意形状に蒸着金属薄膜４が形成され
る。
し、目的とする文字、記号、図形等或いはその輪郭線等
をレーザ光Ｌで照射することにより、図２に示すように
透明板２の表面に任意形状に蒸着金属薄膜４が形成され
る。
【００２０】本実施例で使用される波長１．０６μｍ近
辺のＹＡＧ( イットリウム・アルミニウム・ガーネッ
ト）レーザは、鉄、ニッケル等の金属に比較的良く吸収
されると共に透明ガラス板、透明アクリル板等を透過す
る性質を有し、また大出力かつ低価格のものを容易に得
ることができる。
辺のＹＡＧ( イットリウム・アルミニウム・ガーネッ
ト）レーザは、鉄、ニッケル等の金属に比較的良く吸収
されると共に透明ガラス板、透明アクリル板等を透過す
る性質を有し、また大出力かつ低価格のものを容易に得
ることができる。
【００２１】このＹＡＧレーザ光Ｌは集光レンズにより
微少なスポット径に集束されることにより、パワー密度
が１０6 ｋＷ／ｃｍ2 以上となるので、各種の金属を蒸
発させるために十分な高温を発生する。
微少なスポット径に集束されることにより、パワー密度
が１０6 ｋＷ／ｃｍ2 以上となるので、各種の金属を蒸
発させるために十分な高温を発生する。
【００２２】また、パルスＹＡＧレーザを用いると、パ
ルス幅が数十〜数百ｎＳと狭く、ピークパワーが数十〜
数百ｋＷと大きいパルス特性を有するレーザ光Ｌを発生
させることができ、不要部分を熱伝導により加熱するこ
とのない短時間のレーザ光Ｌのパルス照射により蒸着処
理を行うことができる。
ルス幅が数十〜数百ｎＳと狭く、ピークパワーが数十〜
数百ｋＷと大きいパルス特性を有するレーザ光Ｌを発生
させることができ、不要部分を熱伝導により加熱するこ
とのない短時間のレーザ光Ｌのパルス照射により蒸着処
理を行うことができる。
【００２３】このように、レーザ光源の発振出力・出力
パルス幅並びにレーザスポット径を適宜調節することに
より、対象物の材質・表面積及び金属の材質に合わせて
適切な蒸着処理を行うことができる。
パルス幅並びにレーザスポット径を適宜調節することに
より、対象物の材質・表面積及び金属の材質に合わせて
適切な蒸着処理を行うことができる。
【００２４】さらにＹＡＧレーザは、石英光ファイバー
にて導光することが容易であることから、大出力の単一
ＹＡＧレーザ光源からのレーザ光Ｌを複数のレーザヘッ
ド３に分岐し、当該複数のレーザヘッド３を遠隔の多点
に設置することが可能となる。
にて導光することが容易であることから、大出力の単一
ＹＡＧレーザ光源からのレーザ光Ｌを複数のレーザヘッ
ド３に分岐し、当該複数のレーザヘッド３を遠隔の多点
に設置することが可能となる。
【００２５】金属板１としては、亜鉛板、真鋳板等各種
の金属を用いることができる。一例として亜鉛板、真鋳
板、燐青銅板をそれぞれ使用した場合には、銀色、金
色、青銅色等の任意の色彩を用いた蒸着表示をそれぞれ
行うことができる。
の金属を用いることができる。一例として亜鉛板、真鋳
板、燐青銅板をそれぞれ使用した場合には、銀色、金
色、青銅色等の任意の色彩を用いた蒸着表示をそれぞれ
行うことができる。
【００２６】本実施例はこのような処理手順を採用する
ので、透明板２の表面に任意の文字、記号、図形等を金
属を蒸着させて表示させることができる。また、蒸着金
属薄膜４の厚さを十分確保することにより、当該蒸着金
属薄膜４を導体として透明板２上に電子回路パターンを
形成することも可能である。
ので、透明板２の表面に任意の文字、記号、図形等を金
属を蒸着させて表示させることができる。また、蒸着金
属薄膜４の厚さを十分確保することにより、当該蒸着金
属薄膜４を導体として透明板２上に電子回路パターンを
形成することも可能である。
【００２７】（実施例２）本発明の第２実施例につき図
面を用いて詳説する。図３は本実施例を示すＹＡＧレー
ザ光による金属薄膜蒸着法の概念説明断面図である。図
中、Ｌはレーザ光、５は金属板、５ａは重合表面、５ｂ
は凹部、６は透明板、６ａは重合表面、７はマスキング
プレート、７ａは貫除部、８はレーザヘッド、９は蒸着
金属薄膜である。
面を用いて詳説する。図３は本実施例を示すＹＡＧレー
ザ光による金属薄膜蒸着法の概念説明断面図である。図
中、Ｌはレーザ光、５は金属板、５ａは重合表面、５ｂ
は凹部、６は透明板、６ａは重合表面、７はマスキング
プレート、７ａは貫除部、８はレーザヘッド、９は蒸着
金属薄膜である。
【００２８】図３において、金属板５上には透明板６が
密接重合されており、さらに当該透明板６上にはマスキ
ングパターンを貫除部７ａにて描貫したマスキングプレ
ート７が載置されている。
密接重合されており、さらに当該透明板６上にはマスキ
ングパターンを貫除部７ａにて描貫したマスキングプレ
ート７が載置されている。
【００２９】図中上方には図示しないＹＡＧレーザ光源
に図示しない光ファイバを介して光学的に接続されたレ
ーザヘッド８が配設され、鉛直方向下向きに集束された
レーザ光Ｌを前記透明板６の表面積が小さい場合には全
体に亙り、大きい場合には図中に示すように一定範囲毎
に分割して照射する。
に図示しない光ファイバを介して光学的に接続されたレ
ーザヘッド８が配設され、鉛直方向下向きに集束された
レーザ光Ｌを前記透明板６の表面積が小さい場合には全
体に亙り、大きい場合には図中に示すように一定範囲毎
に分割して照射する。
【００３０】当該レーザ光Ｌは、透明板６には殆ど吸収
散乱されることなく透過し、当該透明板６を密接重合す
る金属板５重合表面５ａに照射される。金属板５重合表
面５ａに照射されたレーザ光Ｌは、当該金属板５に吸収
されて熱エネルギーに変換され、照射部分の金属板５重
合表面５ａを急激に加熱する。
散乱されることなく透過し、当該透明板６を密接重合す
る金属板５重合表面５ａに照射される。金属板５重合表
面５ａに照射されたレーザ光Ｌは、当該金属板５に吸収
されて熱エネルギーに変換され、照射部分の金属板５重
合表面５ａを急激に加熱する。
【００３１】加熱により照射部分の金属板５重合表面５
ａの金属は気化蒸発し、当該金属板５重合表面５ａの金
属は密接された透明板６の相対重合表面６ａにて冷却さ
れることにより、蒸着金属薄膜９として透明板６相対重
合表面６ａに均一に蒸着転写される。よって、気化蒸発
した金属板５の重合表面５ａが図中に示すように凹部５
ｂとなり、透明板６の相対重合表面６ａには蒸着金属薄
膜９が蒸着される。
ａの金属は気化蒸発し、当該金属板５重合表面５ａの金
属は密接された透明板６の相対重合表面６ａにて冷却さ
れることにより、蒸着金属薄膜９として透明板６相対重
合表面６ａに均一に蒸着転写される。よって、気化蒸発
した金属板５の重合表面５ａが図中に示すように凹部５
ｂとなり、透明板６の相対重合表面６ａには蒸着金属薄
膜９が蒸着される。
【００３２】マスキングパターンを予め貫除部７ａにて
描貫したマスキングプレート７でレーザ光Ｌを限定して
遮光することにより、透明板６重合表面６ａに蒸着金属
薄膜９を形成する。
描貫したマスキングプレート７でレーザ光Ｌを限定して
遮光することにより、透明板６重合表面６ａに蒸着金属
薄膜９を形成する。
【００３３】本実施例はこのような処理手順を採用する
ので、透明板６の重合表面６ａに任意の文字、記号、図
形等を金属を蒸着させて表示させることができる。ま
た、蒸着金属薄膜９の厚さを十分確保することにより、
当該蒸着金属薄膜９を導体として透明板６重合表面６ａ
に電子回路パターンを形成することも可能である。
ので、透明板６の重合表面６ａに任意の文字、記号、図
形等を金属を蒸着させて表示させることができる。ま
た、蒸着金属薄膜９の厚さを十分確保することにより、
当該蒸着金属薄膜９を導体として透明板６重合表面６ａ
に電子回路パターンを形成することも可能である。
【００３４】なお、前記第１乃至第２実施例において、
レーザ光源としてＹＡＧレーザを用いたが、透明材料に
対する透過率及び金属に対する吸収率が高く、なおかつ
蒸着処理を行うために必要十分な光出力を有するレーザ
光源である限り、その種類は不問である。
レーザ光源としてＹＡＧレーザを用いたが、透明材料に
対する透過率及び金属に対する吸収率が高く、なおかつ
蒸着処理を行うために必要十分な光出力を有するレーザ
光源である限り、その種類は不問である。
【００３５】また、蒸着される対象物としては透明板
２，６を用いたが、蒸着する金属に密接重合可能かつレ
ーザ光Ｌの照射が可能な限り、透明ガラス板、透明アク
リル中空円筒、透明プラスチックフィルム等任意の材質
及び形状からなる透明物質を使用することができる。
２，６を用いたが、蒸着する金属に密接重合可能かつレ
ーザ光Ｌの照射が可能な限り、透明ガラス板、透明アク
リル中空円筒、透明プラスチックフィルム等任意の材質
及び形状からなる透明物質を使用することができる。
【００３６】
【発明の効果】かくして、本発明によれば、対象物に透
明物質を使用する限り、容易かつ迅速に当該透明物質の
表面に金属薄膜の蒸着処理を行うことができ、作業工程
を連続処理工程とすることができる。
明物質を使用する限り、容易かつ迅速に当該透明物質の
表面に金属薄膜の蒸着処理を行うことができ、作業工程
を連続処理工程とすることができる。
【００３７】従来のレーザマーカーを用いた対象物の蒸
発や熱変質による表示と異なり、蒸着した金属薄膜によ
り表示を行うので、視認性に優れると共にメタリックな
光沢や高級感を醸し出し、各種のネームプレートや装飾
標体の表示に用いることが可能であり、適用範囲が広
く、優れた汎用性、有用性を具備する。
発や熱変質による表示と異なり、蒸着した金属薄膜によ
り表示を行うので、視認性に優れると共にメタリックな
光沢や高級感を醸し出し、各種のネームプレートや装飾
標体の表示に用いることが可能であり、適用範囲が広
く、優れた汎用性、有用性を具備する。
【００３８】また、大出力のＹＡＧレーザ等をレーザ光
源として採用することにより、蒸着される金属として各
種の金属を用いることができる利点を有する。同じ理由
により照射時間が短時間で済むので、熱伝導により不要
部分を加熱することがなく、レーザ光の波長が短いこと
とも併せて仕上がり加工精度を非常に高くすることが可
能である。
源として採用することにより、蒸着される金属として各
種の金属を用いることができる利点を有する。同じ理由
により照射時間が短時間で済むので、熱伝導により不要
部分を加熱することがなく、レーザ光の波長が短いこと
とも併せて仕上がり加工精度を非常に高くすることが可
能である。
【００３９】真空発生装置等の専用の装置やマスキング
剤の塗布工程及び剥離洗浄工程等の複雑な処理工程を不
要とし、製造コスト及びイニシャルコストの低減、製造
工程及びこれに要する時間の大幅な削減を図ることがで
き、これらによる高い経済性と併せて多大な利点を有す
る。
剤の塗布工程及び剥離洗浄工程等の複雑な処理工程を不
要とし、製造コスト及びイニシャルコストの低減、製造
工程及びこれに要する時間の大幅な削減を図ることがで
き、これらによる高い経済性と併せて多大な利点を有す
る。
【００４０】またレーザヘッドの走査パターンを予め制
御装置に記憶させておく、或いはマスキングパターンを
複数種用意することにより、蒸着処理の高速化及び多品
種大量生産を可能とし、カスタムメイドの装飾表示パタ
ーンの蒸着処理に際しても高い融通性を具備する。
御装置に記憶させておく、或いはマスキングパターンを
複数種用意することにより、蒸着処理の高速化及び多品
種大量生産を可能とし、カスタムメイドの装飾表示パタ
ーンの蒸着処理に際しても高い融通性を具備する。
【００４１】また、レーザヘッドを複数同時に使用する
ことにより、複数の対象物に同時並行して蒸着作業を行
ったり、或いは大出力のレーザパルスを使用して短時間
で大面積に蒸着を行うことが可能で、蒸着処理の速度を
大幅に上昇させることができる。
ことにより、複数の対象物に同時並行して蒸着作業を行
ったり、或いは大出力のレーザパルスを使用して短時間
で大面積に蒸着を行うことが可能で、蒸着処理の速度を
大幅に上昇させることができる。
【００４２】各種情報の表示のみに限定することなく、
一般のプリント基板やフレキシブルプリント基板等の作
製にも適用可能であり、従来エッチング処理により作製
していたプリント基板の電子回路パターンを、容易かつ
高速に大量生産することができる。
一般のプリント基板やフレキシブルプリント基板等の作
製にも適用可能であり、従来エッチング処理により作製
していたプリント基板の電子回路パターンを、容易かつ
高速に大量生産することができる。
【図１】本発明の第１実施例を示すＹＡＧレーザ照射に
よる金属薄膜蒸着法の概念説明断面図である。
よる金属薄膜蒸着法の概念説明断面図である。
【図２】同上における蒸着処理後の概念説明断面図であ
る。
る。
【図３】本発明の第２実施例を示すＹＡＧレーザ照射に
よる金属薄膜蒸着法の概念説明断面図である。
よる金属薄膜蒸着法の概念説明断面図である。
Ｌ…レーザ光 １…金属板 １ａ，２ａ…重合表面 １ｂ…凹部 ２…透明板 ３…レーザヘッド ４…蒸着金属薄膜 ５…金属板 ５ａ，６ａ…重合表面 ５ｂ…凹部 ６…透明板 ７…マスキングプレート ７ａ…貫除部 ８…レーザヘッド ９…蒸着金属薄膜
Claims (4)
- 【請求項１】金属と透明物質を密接重合し、当該透明物
質上からレーザ光を走査しつつ照射し、当該レーザ光が
当該透明物質を通して照射された部分の前記金属の重合
表面を前記透明物質の相対重合表面に蒸着転写したこと
を特徴とするレーザ光照射による金属薄膜蒸着法。 - 【請求項２】金属と透明物質を密接重合し、マスキング
パターンを描貫したマスキングプレートを通過してきた
レーザ光を当該透明物質上から全般に亙り一括照射し、
当該マスキングプレートに遮光されずに当該レーザ光が
前記透明物質を通して照射された部分の前記金属の重合
表面を前記透明物質の相対重合表面に蒸着転写したこと
を特徴とするレーザ光照射による金属薄膜蒸着法。 - 【請求項３】金属と透明物質を密接重合し、マスキング
パターンを描貫したマスキングプレートを通過してきた
レーザ光を当該透明物質上から一定範囲毎に分割照射
し、当該マスキングプレートに遮光されずに当該レーザ
光が前記透明物質を通して照射された部分の前記金属の
重合表面を前記透明物質の相対重合表面に蒸着転写した
ことを特徴とするレーザ光照射による金属薄膜蒸着法。 - 【請求項４】照射に用いられるレーザ光は、単一のレー
ザ光源より分岐され、同時に複数の光ファイバを介して
照射されることを特徴とする請求項１，２又は３記載の
レーザ光照射による金属薄膜蒸着法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8482393A JPH06299339A (ja) | 1993-04-12 | 1993-04-12 | レーザ光照射による金属薄膜蒸着法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8482393A JPH06299339A (ja) | 1993-04-12 | 1993-04-12 | レーザ光照射による金属薄膜蒸着法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06299339A true JPH06299339A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=13841479
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8482393A Pending JPH06299339A (ja) | 1993-04-12 | 1993-04-12 | レーザ光照射による金属薄膜蒸着法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06299339A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006336109A (ja) * | 2006-06-22 | 2006-12-14 | Toppan Printing Co Ltd | 防汚性薄膜の形成方法 |
| WO2010082151A1 (en) * | 2009-01-14 | 2010-07-22 | Philips Intellectual Property & Standards Gmbh | A method for deposition of at least one electrically conducting film on a substrate |
| JP2013057099A (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-28 | Fujikura Ltd | 酸化物超電導導体用基材の製造方法、酸化物超電導導体用基材および酸化物超電導導体 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5487684A (en) * | 1977-12-21 | 1979-07-12 | Ibm | Vacuum evaporation method |
-
1993
- 1993-04-12 JP JP8482393A patent/JPH06299339A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5487684A (en) * | 1977-12-21 | 1979-07-12 | Ibm | Vacuum evaporation method |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| KR20110114666A (ko) * | 2009-01-14 | 2011-10-19 | 코닌클리즈케 필립스 일렉트로닉스 엔.브이. | 기판 상에 적어도 하나의 전기 전도성 막을 퇴적하는 방법 |
| CN102282693A (zh) * | 2009-01-14 | 2011-12-14 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于在衬底上沉积至少一个导电膜的方法 |
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