JPH06297380A - 基板処理装置および基板搬送機構の制御方法 - Google Patents

基板処理装置および基板搬送機構の制御方法

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JPH06297380A
JPH06297380A JP5113649A JP11364993A JPH06297380A JP H06297380 A JPH06297380 A JP H06297380A JP 5113649 A JP5113649 A JP 5113649A JP 11364993 A JP11364993 A JP 11364993A JP H06297380 A JPH06297380 A JP H06297380A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 被処理基板受け渡しなどによる時間的・空間
的ロスを防止し、基板搬送機構の運用効率が高い基板処
理装置を提供すること。 【構成】 環状軌道110に沿って処理部11,18な
どが配列している。2台の基板搬送ロボット150a、
150bが環状軌道上を反時計まわりに循環移動しなが
ら、被処理基板2の搬送および各処理部への被処理基板
の出し入れを行う。基板搬送ロボットは、環状軌道上を
1周するごとに給電線121a,121bの捻れを戻す
べく自転する。 【効果】 基板搬送ロボット間の被処理基板の受け渡し
が不要である。また、基板搬送ロボットは往路を経由す
ることなく初期位置に戻れるため、基板搬送ロボットの
運用効率が高い。基板搬送ロボットの自転によって給電
線の捻れが防止され、連続運用が可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は被処理基板を搬送しつ
つその被処理基板に対して一連の処理を行うための基板
処理装置と、それに使用される基板搬送機構の制御方法
に関する。
【0002】
【従来の技術とその問題点】周知のように、液晶表示基
板や半導体基板などの精密電子基板の製造プロセスにお
いては、たとえば回転式洗浄装置(以下「スピンスクラ
バ」)、回転式塗布装置(以下「スピンコータ」)、回
転式現像装置(以下「スピンデベロッパ」)、オーブン
(加熱器)、露光機などの単位処理部を配列し、被処理
基板をその配列に沿って搬送しつつそれら単位処理部に
出入れして一連の処理を行う基板処理装置が使用され
る。
【0003】従来の基板処理装置においては、これらの
単位処理部の配列からなる処理列に沿って直線的搬送路
が設けられ、その搬送路上を基板搬送機構が往復移動す
る。そして、その基板搬送機構によって各単位処理部へ
の被処理基板の出し入れを行わせ、それによって各被処
理基板に対する一連の表面処理が実行される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
基板処理装置においては、比較的多数の単位処理部が存
在するとともに多数の被処理基板を同時並行的に処理し
なければならない関係上、1台の基板搬送機構のみで被
処理基板の搬送を行っていては所定のタクトタイムが経
過するまでに所定の位置に基板搬送機構が戻れないとい
う事態が生じる。
【0005】このため、このような装置では複数の基板
搬送機構を使用し、それぞれに受け持ち範囲を持たせる
ゾーン守備方式とすることが多い。ところが、このよう
な場合には、ひとつの基板搬送機構から他の基板搬送機
構への被処理基板の受け渡しのための場所や時間が必要
であり、基板搬送機構の台数が多いとそのための空間的
および時間的ロスが特に大きくなるという問題がある。
【0006】このような問題を解決するためにはゾーン
守備方式ではなく、各基板搬送機構が処理列の全範囲に
わたって移動可能となった「全範囲守備方式」とすれば
よい。しかしながら、複数の基板搬送機構が直線的な搬
送路を共用する場合には、先方の基板搬送機構が初期位
置に戻ろうとすると必然的に後方の基板搬送機構と衝突
してしまうため、1つの搬送路では「全範囲守備方式」
は不可能である。このため、基板搬送機構ごとに搬送路
を別個に設ければ「全範囲守備方式」は可能にはなる
が、そうすると他の問題が生じる。すなわち、複数の搬
送路を設けた場合、それらは互いに近接しているため
に、先方の基板搬送機構が初期位置に戻る際に後方の基
板搬送機構のアームを待避させて干渉を防止しなければ
ならず、後方の基板搬送機構が待機状態になってしま
う。その結果、基板搬送機構の運用の効率が低下してし
まう。
【0007】また、基板搬送機構が一連の処理を1回終
えるごとにその初期位置に戻る際にも、上記同様の衝突
あるいは干渉防止のための待機の問題が生じる。
【0008】さらに、複数の搬送路を設けている場合に
おいて、基板搬送機構の戻り移動の際には空状態で引き
返すため、基板搬送機構の運用効率が低いという問題も
ある。
【0009】このように、従来の装置では時間的および
空間的ロスが多く、基板搬送機構の運用効率も低いとい
う問題があった。
【0010】
【発明の目的】この発明は従来技術における上記の問題
を解決するためになされたものであり、被処理基板の受
け渡しのための空間的および時間的ロスを防止あるいは
軽減し、基板搬送機構の効率的運用を可能とした基板搬
送装置を提供することを第1の目的とする。
【0011】第2の目的は、そのような処理装置におけ
る基板搬送機構を適切に制御することである。
【0012】
【目的を達成するための手段】この発明にかかる基板処
理装置は、被処理基板を搬送しつつ前記被処理基板に対
して一連の処理を行うための基板処理装置を対象として
おり、この装置は、(a) 環状軌道と、(b) 複数の単位処
理部が前記環状軌道に沿って配列された処理列と、(c)
前記被処理基板を保持して環状軌道上を循環移動し、そ
れによって前記被処理基板の搬送を行うとともに、前記
単位処理部への前記被処理基板の出し入れを行う基板搬
送機構とを備える。
【0013】また、この発明は上記装置における基板搬
送機構の制御方法をも提供する。すなわち、前記基板搬
送機構には給電線によって駆動電力が供給されていると
ともに、前記基板搬送機構は旋回による自転が可能とさ
れていることを条件として、この発明の方法は、(a) 前
記基板搬送機構に、前記環状軌道上の循環に相当する公
転と、前記旋回による自転とを行わせつつ、前記基板搬
送機構によって前記単位処理部への前記被処理基板の出
し入れを行わせる工程と、(b) 前記基板搬送機構がN回
(Nは所定の正の整数)の公転を行うごとに、前記基板
搬送機構の自転累積角度がゼロになるように前記基板搬
送機構に戻し自転を行わせる工程とを備える。
【0014】
【作用】この発明の基板処理装置では、基板搬送機構が
環状軌道上を循環しつつ被処理基板の搬送と単位処理部
への出し入れを行うため、基板搬送機構相互の被処理基
板の受け渡しは不要である。このため、被処理基板の受
け渡しに伴う空間的および時間的ロスが防止される。
【0015】また、基板搬送機構が初期位置に戻る際に
「空状態」である期間が少なく、初期位置に戻るための
時間的ロスが軽減される。
【0016】さらに、1台の基板搬送機構が初期位置に
戻る際に他の基板搬送機構との衝突や干渉は生じない。
このため、各基板搬送機構の運用効率が高い。
【0017】したがって、この発明の装置では時間的お
よび空間的ロスが少なく、基板搬送機構の運用効率も高
い装置となっている。
【0018】一方、この発明の制御方法では、基板搬送
機構がN回の公転を行うごとに基板搬送機構の自転累積
角度をゼロに戻すため、基板搬送機構への給電線の捻れ
が防止される。
【0019】
【実施例】以下、この発明の実施例を説明するが、各図
においては水平XおよびY方向と鉛直Z方向とがプラス
マイナスの符号とともに定義されており、各図における
それらの方向は互いに対応している。なお、各方向にお
いてプラスマイナスの向きを区別する必要がないときに
は、単に「X方向」のように引用する。
【0020】
【1.装置の全体構成と概略動作】図1は、この発明の
一実施例である基板処理装置1の平面配置図である。こ
の基板処理装置1は、液晶用ガラス角型基板を被処理基
板2とし、その被処理基板2の表面に電極などのパター
ンを形成する装置として構成されている。
【0021】基板処理装置1は、被処理基板2に対して
一連の処理を行うための矩形環状の処理系10と、それ
に囲まれた空間に配置されて被処理基板2を処理系10
に沿って環状に搬送し、処理系10に含まれる各単位処
理部に基板2を出し入れするための基板搬送系100と
を備えている。この装置1はまた、各単位処理部や後述
する基板搬送機構などを制御するコントローラCTを備
える。
【0022】このうち、基板搬送系100は略矩形の水
平環状軌道110の上を循環移動する2台の基板搬送ロ
ボット(基板搬送機構)150a,150bを有してい
る。なお、以下では、これら2台の基板搬送ロボット1
50a,150bを区別せずにそのうちの任意の1台を
指すときには「基板搬送ロボット150」と呼ぶことに
する。
【0023】一方、処理系10は基板搬入ステーション
11を備えている。この基板搬入ステーション11に
は、純水リンス処理を終えた被処理基板2がカセット3
に収容されて搬入されてくる。そして、基板搬送ロボッ
ト150は被処理基板2をカセット3から取り出し、そ
れを1枚ずつ第1処理部12に転送する。
【0024】第1処理部12は後述する詳細構成を有し
ており、被処理基板2に対する露光前の一連の処理を行
う。その処理内容についても後述するが、それらの処理
が完了した時点では被処理基板2の表面にレジスト膜が
形成された状態となっている。
【0025】第1処理部12における処理を完了した被
処理基板2は基板搬送ロボット150によってバッファ
13に送られる。このバッファ13には露光機(ステッ
パ)15が隣接している。
【0026】バッファ13では基板搬送ロボット150
が被処理基板2を1枚ずつ露光機15に転送する。露光
機15では所定のマスクを使用してレジスト膜へのパタ
ーンの露光転写を行う。この露光が完了した被処理基板
2はバッファ13に戻され、基板搬送ロボット150に
よってさらに追加露光部16に送られる。追加露光部1
6は被処理基板2のエッジ露光機および文字焼付け機を
備えており、被処理基板2のレジストに対する端部露光
および文字の焼付けを行う。これらの処理を完了した
後、被処理基板2は基板搬送ロボット150によって第
2処理部17に送られる。
【0027】第2処理部17の詳細構成も後述するが、
この第2処理部17での処理を完了した時点での被処理
基板2は、上記レジストの現像が完了した状態となって
いる。その被処理基板2は、基板搬送ロボット150に
よって1枚ずつ搬出ステーション18へ移送され、その
上に載置されたカセット3に収容される。
【0028】処理完了後の被処理基板2を収容したカセ
ット3は、搬出ステーション18から次工程へと搬出さ
れる。
【0029】基板搬送ロボット150a,150bは図
1において反時計まわりに循環しており、ひとつの基板
搬送ロボット150aが搬入ステーション11を出発し
て搬出ステーション18まで戻ると、その基板搬送ロボ
ット150aは往路を引き返すことなくそのまま反時計
まわりに移動して搬入ステーション11に戻る。そして
次の被処理基板2の受取りを行う。他方の基板搬送ロボ
ット150bも同様である。
【0030】このため、従来のゾーン守備方式のように
基板搬送機構間での被処理基板の受け渡しの場所も時間
も必要がなく、空間的および時間的ロスが防止される。
【0031】また、一連の搬送処理がいったん完了した
後に、基板搬送機構がその初期位置に往路を戻る必要が
なく、そのような戻りのための時間的ロスが軽減でき
る。
【0032】これら2台の基板搬送ロボット150a,
150bの位置関係は、各部での基板処理の配列や順序
に依存するため、常に一定というわけではないが、平均
するとほぼ180°だけ循環位相が異なった状態になっ
ている。したがって、これら2台の基板搬送ロボット1
50a,150bは互いに干渉することなく、それぞれ
が独立して被処理基板2の搬送を行うことができる。
【0033】基板処理装置1はまた、基板搬送ロボット
150a,150bに電力を供給するための給電パネル
120を備えており、この給電パネル120から延びる
給電線121a,121bを介してそれらの駆動電力を
受け取っている。
【0034】なお、搬入ステーション11と搬出ステー
ション18との境界部分には、外部から搬送系100の
保守のために搬送系100側へアクセスするための通路
19が形成されている。
【0035】
【2.基板処理系の詳細】図2は、第1処理部12にお
ける単位処理部の配列を示す概念的立面図である。第1
処理部12は、複数の単位処理部を多段に配列した多段
構成となっている。第1段部分12aには、スピンスク
ラバSS、スピンコータSC、エッジおよびバックリン
ス部ERがX方向に配列している。
【0036】一方、第1段部分12aの上には第2段部
分12bが設けられている。第2段部分12bは2層構
造になっており、第1層目はホットプレート(オーブ
ン)HP1,HP4〜HP5,クールプレート(冷却プ
レート)CP1〜CP3のX方向配列を有している。ま
た、第2層目はホットプレートHP2,HP3,HP6
を有している。対応する第1層目と第2層目(たとえば
クールプレートCP1とホットプレートHP3)とは上
下に積み重ねられている。
【0037】以上説明した各処理部SS,SC,ER,
HP1〜HP6,CP1〜CP3がこの第1処理部12
aにおける「単位処理部」に相当しており、それらが全
体として多段の「処理列」を構成している。
【0038】図3は第2処理部17の概念的立面図であ
る。この第2処理部17においても複数の単位処理部が
2段3層に配列されており、第1段部分17aは2個の
スピンデベロッパSD1,SD2のX方向1次元配列を
備えている。
【0039】第2段部分17bの処理部は2層構造であ
って、第1層目にはホットプレートHP7〜HP9とク
ールプレートCP4との1次元配列が設けられている。
【0040】この第2処理部17においては、各処理部
SD1,SD2,HP7〜HP10,CP4が「単位処
理部」に相当しており、それらが全体として多段の「処
理列」を構成している。
【0041】以上の各処理部12,17の基板出し入れ
口は、図1の搬送系100に対向している。また、ひと
つの被処理基板に着目したとき、各処理部12,17に
おける処理内容との詳細は表1の通りであり、この表1
の上から下への方向が処理順序に相当する。
【0042】なお、ホットプレートHP9の代わりにホ
ットプレートHP10が使用されてもよい。また、スピ
ンデベロッパSD1,SD2は、それぞれ奇数番目およ
び偶数番目の被処理基板を処理するために交替的に使用
される。
【0043】
【表1】
【0044】図2,図3および表1からわかるように、
この実施例においては基板搬送ロボット150を単純に
図1の環状軌道110に沿って反時計まわりに循環させ
るだけでなく、局部的には往復移動などを行わねばなら
ない。たとえば、図2および表1を参照すると、図2の
ホットプレートHP5での処理の後には基板搬送ロボッ
ト150が(−X)方向に移動してホットプレートHP
6に被処理基板を転載し、その後には(+X)方向に移
動してクールプレートCP3へ移動する必要がある。
【0045】また、図2,図3からわかるように、被処
理基板を各処理部における各段相互間および各層相互間
で転載させるために、基板搬送ロボット150の被処理
基板保持ハンドは、Z方向にも移動することが必要であ
る。
【0046】このため、基板搬送ロボット150は環状
軌道110に沿って水平面内に反時計まわりに循環する
だけではなく、環状軌道110上を時計回りに一時的に
戻ることも可能となっている。また、基板搬送ロボット
150の被処理基板保持ハンドは、各単位処理部への出
し入れのためにYZの2方向への並進移動自由度を有す
る。また、Z軸まわりの旋回による自転も可能である。
【0047】そのような移動自由度を実現するための機
構して望ましい例については次の項で説明する。
【0048】
【3.基板搬送系の詳細】
【0049】
【3−1.基板搬送ロボット】図4は、基板搬送ロボッ
ト150の機構をロボット関節シンボルを使用して示す
概念図である。ただし、この図4における水平面内の方
向符号(+X),(−X),(+Y),(−Y)は基板
搬送ロボット150が図1の150aの位置にあるとき
の状態で示されており、基板搬送ロボット150が環状
軌道110のどの位置にあるかによって水平面内の方向
は変わってくる。
【0050】図4において、環状軌道110上には、こ
の環状軌道110に沿って移動可能な基台151が載っ
ている。基台151にはZ軸まわりのθ旋回が可能な旋
回部151Rが設置されている。また、旋回部151R
には垂直アーム機構152が連結されている。これら垂
直アーム機構152はいわゆるスカラロボット機構とさ
れており、それが屈伸することによって、ハウジング1
53を水平姿勢不変のままZ方向に並進させることがで
きる。
【0051】ハウジング153内のの位置155には、
Y方向に屈伸可能な水平アーム機構154が連結されて
いる。水平アーム機構154の先端にはハンド156a
が連結されており、ハンド156aは被処理基板2をそ
の上に載置して保持可能である。
【0052】水平アーム機構154もまた、いわゆるス
カラロボット機構とされており、それが屈伸することに
よって、ハンド156を水平姿勢不変のままY方向に並
進させることができる。
【0053】なお、この基板搬送ロボット150ではハ
ンド156aのほかに類似のハンド156bも設けられ
ており、それらが独立して動作可能である。
【0054】以上のような構成を有することによって、
基板搬送ロボット150はXYZの3方向での並進自由
度とZ軸回りのθ旋回自由度とを有するロボット機構と
なっている。
【0055】図5は、基板搬送ロボット150による単
位処理部への被処理基板の出し入れを模式的に示す図で
ある。1例として被処理基板2aが単位処理部PPにお
いて処理済であり、その被処理基板2aを単位処理部P
Pから取り出すとともに、新たな被処理基板2bをこの
単位処理部PPに入れる処理を説明する。
【0056】まず、第2のハンド156bに被処理基板
2bを保持し、ハウジング153内に収容しておく(図
5(a) )。次に水平アーム機構を使用して第1のハンド
156aを延ばし、被処理基板2aを単位処理部PPか
ら取り出す(図5(b) )。この第1のハンド156a
は、水平アーム機構を逆方向に並進させることにより、
被処理基板2aとともにハウジング153内に収容され
る(図5(c) )。
【0057】一方、第2のハンド150bに保持された
被処理基板2bは、この第2のハンド156bがハウジ
ング153外に延びることによって単位処理部PPに向
かって並進する(図5(c) )。そして第2のハンド15
6bから単位処理部PPへ被処理基板2bを移し、第2
のハンド156bが単位処理部PPから出て被処理基板
2a,2bの交換処理を完了する(図5(d) )。
【0058】以上が基板搬送ロボット150を使用した
被処理基板の交換処理の原理である。
【0059】
【3−2.給電系】基板搬送ロボット150の各部の駆
動はモータによってなされる。このため、基板搬送ロボ
ット150に外部の電源線から給電を行わねばならな
い。また、制御信号を基板搬送ロボット150に供給す
ることも必要である。基板搬送ロボット150が1台の
みの場合にはこのような給電は特に問題を生じさせない
が、この実施例のように2台の基板搬送ロボット150
a,150bを使用する場合には、それぞれの給電線1
21a,121b相互のの絡み付きの問題が生じる。
【0060】すなわち、仮に図1の中央部の床面上にひ
とつの給電パネルを配置し、その給電パネルから各給電
線121a,121bに電力を供給したような場合に
は、基板搬送ロボット150a,150bが環状軌道1
10にそった循環を繰り返すことに伴って、図6に示す
ように給電線121a,121相互に絡み付きが発生し
てしまう。1回の循環程度ではその影響は少ないもの
の、循環を繰り返すに伴ってこの絡み付きは増大し、つ
いには基板搬送ロボット150の動作を妨げ、あるいは
給電線の破損が生ずるおそれもある。
【0061】そこでこの実施例の装置1では、次のよう
な対策をとっている。すなわち、図1の(+X)方向に
見た概念的側面図である図7において、第1の基板搬送
ロボット150aのための給電パネル120aは天井面
Tに設けられている一方、第2の基板搬送ロボット15
0bのための給電パネル120bは床面Fに設けられて
いる。
【0062】外部電源からの1次給電線122a,12
2bのうち、第1の基板搬送ロボット150aのための
1次給電線122aは天井面T側から給電パネル120
aに至り、そこから延びる2次給電線121aが天井側
から第1の基板搬送ロボット150aに延びている。ま
た、第2の基板搬送ロボット150bのための1次給電
線122bは床面F側から給電パネル120bに至り、
そこから延びる2次給電線121bが第2の基板搬送ロ
ボット150bに延びている。
【0063】このように、一方の給電経路を上方側か
ら、また他方を下方側からとることによって2台の基板
搬送ロボット150a,150bがそれぞれ循環を繰り
返しても給電線121a,121bの絡み付きを防止す
ることができる。
【0064】給電線121aの水平部分が落下しないよ
うにする目的で、給電線121aのうち給電パネル12
0aから出た部分とその後の水平部分とは、旋回可能な
L字形の配管の中に収容してもよい。
【0065】このような方式で給電を行う場合、1つの
環状軌道110の上に付設できる基板搬送ロボットは、
この実施例のように2台が限度である。仮に3台の基板
搬送ロボットを1つの環状軌道110の上に付設した場
合には、第3の基板搬送ロボットに対する給電経路を他
の給電経路と絡み付くことなく設けることは不可能であ
る。したがって、この実施例のように1つの環状軌道1
10の上に2台の基板搬送ロボットを付設し、それらへ
の給電経路を上方および下方に分けることは単なる設計
上の選択ではなく、格別の意味を有する配置となってい
る。
【0066】一方、この実施例のような基板処理装置で
は、図1におけるX方向の長さがY方向の長さよりも長
くなることが通例である。このため、環状軌道110も
正方形ではなく長方形になる場合が多い。したがって、
その長方形の短辺の長さに合わせて給電線121a,1
21bの長さを定めると、基板搬送ロボット150がX
方向両端側に移動したとき、給電線121a,121b
の長さが足りなくなる。逆に、給電線121a,121
bを環状軌道110の長辺の長さに合わせると、基板搬
送ロボット150がたとえば図1の第1処理部12の中
央付近に来たときに、給電線121a(121b)が長
すぎて無用の弛みなどが生じ易い。
【0067】このため、この実施例では次のような方式
を採用している。すなわち、図1の(+Y)方向から見
た部分拡大断面図である図8において、上部の給電パネ
ル120a内にはキャタピラ給電ガイド(以下、「キャ
タピラ」)123aを設けておく。外部からの1次給電
線122aはこのキャタピラ123aの端部から入り、
このキャタピラ123aの中を通る。キャタピラ123
aの他端には給電管124aが連結されており、1次給
電線122aに電気的に接続されている2次給電線12
1aが給電管124aから図1の基板搬送ロボット15
0aに延びている。なお、図1では基板搬送ロボット1
50a,150bは処理部12,17にそれぞれ対向し
ているが、図8では第1の基板搬送ロボット150aが
バッファ13側に、また第2の基板搬送ロボット150
bが搬入ステーション11側に位置している時点を想定
して給電線121a,121bの方向が描かれている。
【0068】給電パネル120aのハウジングの底面1
25aにはX方向にスリットが切ってあり、給電管12
4aはそのスリットに沿ってX方向に移動可能である。
このため、たとえば基板搬送ロボット150aが図8の
右方向に移動すると給電線121aも右側に引張られ、
給電管124aが右側に移動するとともに、仮想線Iで
示すようにキャタピラ123aの屈曲位置が右側にずれ
る。基板搬送ロボット150aが図8の左方向に移動し
た場合はその逆になる。
【0069】このようにすることによって、給電線12
1aに弛みや線長不足を生じることなく、基板搬送ロボ
ット150aの循環移動に伴う給電線121aの引き回
しが可能となる。
【0070】同様に、基板搬送ロボット150bに関す
る給電パネル120bにおいても、キャタピラ123b
と給電管124bを用いることによって、外部からの1
次給電線122bと2次給電線121bとの連結が図ら
れている。この場合には、給電パネル120bのハウジ
ングの天井面125bにX方向のスリットが切ってあ
る。
【0071】
【3−3.基板搬送ロボットの自転制御】このようにし
て2台の基板搬送ロボットの循環移動による給電線12
1a,121b相互の絡み付きの問題は解決されるが、
これとは別に給電線121a,121b個々の捻れの問
題がある。すなわち、基板搬送ロボット150は各単位
処理部に対向して被処理基板の出し入れをしなければな
らないため、図1の第1処理部12に対向しているとき
にはそのハンドが(−Y)方向を向いた姿勢となる。ま
た、第2処理部17に対向しているときにはそのハンド
が(+Y)方向を向いた姿勢となる。同様に、バッファ
13の位置では(+X)方向、ステーション11,18
位置では(−X)方向となる。
【0072】このため、基板の出し入れや受け渡しの際
にはハンドが常に環状軌道110の外側を向いているこ
とになる。したがって、ハンドが常に環状軌道110の
外側を向くようにしておけば、ハンドの作業上は効率的
であり、それが最も簡易な方法である。
【0073】ところが、そのようにすると、基板搬送ロ
ボット150が環状軌道110に沿って1周する間に、
基板搬送ロボット150は自分自身の垂直中心軸のまわ
りに1回自転することになる。すると、給電線121a
(121b)は図9のようにそれ自身の軸の回りに捻れ
てしまう。
【0074】このような捻れも1周分程度では問題はな
いが、基板搬送ロボット150が循環を繰り返すと捻れ
が累積して基板搬送ロボット150の動作の阻害や給電
線121a(121b)の断線などの問題を生じる。
【0075】そこで、この実施例では基板搬送ロボット
150が環状軌道110を1周(公転)するごとに基板
搬送ロボット150を逆方向に自転させ、自転累積角度
がゼロになるような制御を行う。ここで、「自転累積角
度」とは、所定の初期方向からの自転角度の和のことを
指す。たとえば、図10の例では初期方向POから角度
θaだけ反時計まわりに自転し、その後に角度θbだけ
時計まわりに自転した場合には、自転累積角度θは、θ
=(θa−θb)となる。
【0076】このような自転累積角度の補償の具体的方
法としては種々のものがあるが、図11には好ましい例
が示されている。この図11は、図1の処理系10と搬
送系100との境界に相当する矩形を、図1の配置関係
に対応させて描いた平面図である。このため、図11の
基準位置C0は搬入ステーション11へ対向する位置に
相当し、コーナーC1は搬入ステーション11と第1処
理部12との境界の隅に相当する。他のコーナC2〜C
4も同様である。
【0077】初期位置C0においては自転累積角度θは
ゼロである。そして、第1のコーナC1においては基板
搬送ロボット150が反時計回りにθ1=90°だけ自
転する。このとき、自転累積角度θはθ=90°であ
る。
【0078】各単位処理部における被処理基板の出し入
れの際には、基板搬送ロボット150はいったん単位処
理部に向かう方向に旋回するが、その後に搬送が再開さ
れるときには進行方向に向きを戻す。このため、図11
に例示するように各単位処理部への被処理基板の出し入
れの前後では、たとえば時計回りの90°の回転角度と
反時計回りの90°の回転角度とがペアになり、自転累
積角度θの増分Δθは、Δθ=90°−90°=0°で
ある。このため、単位処理部への被処理基板の出し入れ
については、自転累積角度への寄与は無視してよい。
【0079】このため、次に考慮しなければならないの
は第2のコーナC2における反時計回りの角度θ2=9
0°の自転である。これが終わると自転累積角度θは、
θ=90°+90°=180°になる。
【0080】同様に、第3のコーナC3における反時計
回りの角度θ3=90°の自転がさらに加算されるた
め、基板搬送ロボット150が第4のコーナC4に至っ
たときには、自転累積角度θは、θ=180°+90°
=270°となっている。
【0081】この第4のコーナC4において、仮に基板
搬送ロボット150が反時計回りに90°自転すると、
基板搬送ロボット150の配向方向は初期位置C0にお
ける配向方向と同じにはなるが、既述したように給電線
121aの捻れが生じる。このため、この実施例におけ
る制御では、この第4のコーナC4において基板搬送ロ
ボット150を時計回りに270°、すなわちθ4=−
270°の自転させる。すると、自転累積角度θは、θ
=270°−270°=0°となり、初期位置C0にお
ける自転角度初期値に戻る。この戻り回転の際に、3/
4周だけ捻れていた給電線121a(121b)が元に
戻る。
【0082】初期位置C0において完全に最初と同じ状
態になるわけであるから、それ以後も同様の自転制御を
行わせることにより、基板搬送ロボット150が循環経
路110を何周しても自転累積角度θは1周ごとにゼロ
に戻り、給電線121a,121bの捻れが防止され
る。
【0083】図12はこのような目的を有する自転制御
の他の例を示している。この図12の例では第3のコー
ナC3に至るまでは図11と同じであるが、第3のコー
ナC3での自転角度θ3はゼロとする。このため、第3
のコーナC3を過ぎた時点での自転累積角度θは180
°である。
【0084】そして、第4のコーナC4に至った時点で
も自転累積角度θは180°であり、この第4のコーナ
C4において基板搬送ロボット150を時計回りに18
0°、すなわちθ4=−180°だけ自転させる。する
と、自転累積角度θは、θ=180°−180°=0°
となり、初期位置C0における自転角度初期値に戻る。
この戻り回転の際に、1/2周だけ捻れていた給電線1
21a(121b)が元に戻る。
【0085】このような自転累積角度θの補償は、上記
の2例に限らず、種々の態様で実現可能である。自転累
積角度θが初期位置C0においてゼロに戻る限り、環状
軌道110のどの位置で戻り自転を行っても良い。図1
3は、これらの戻り自転の状況例をグラフで示してお
り、破線のように初期位置C0で360°に至らしめる
ことなく、実線のように0°に戻すことが本質である。
【0086】
【4.他の実施例】図14は他の実施例を示す平面配置
図である。この基板処理装置1aでは、第1と第2の処
理部12,17の外側を囲むように環状軌道110を設
けている。これに対応して、これらの処理部12,17
における被処理基板2の出し入れ口はそれぞれ(−Y)
方向、(+Y)方向を向いている。このような配置の場
合には、図1の通路19に相当する通路を設けなくても
搬送系の保守のためのアクセスが可能であるという利点
がある。
【0087】図15に側面図として示すように、この装
置1aの場合の電源装置120のうち、基板搬送ロボッ
ト150bのための電源装置120bは比較的高い位置
に床面側から支持される。それは、給電線121bが処
理部12,17の上を越える必要があるためである。
【0088】給電線121a,121bの水平部分が落
下しないようにする目的で、給電線121a,121b
のうち給電パネル120から出た部分とその後の水平部
分とは、旋回可能なL字形の配管の中に収容してもよ
い。
【0089】残余の構成および動作は図1の装置1と同
様である。戻り自転もまた、任意の位置で行わせること
ができる。
【0090】
【5.変形例および補遺】 (1) 環状軌道は複数あってもよい。この場合には図1
6のようにそれらを互いに平行に配置させることができ
る。この場合には基板搬送ロボット150aは外側の環
状軌道110a上を走り、基板搬送ロボット150bは
内側の環状軌道110b上を走る。また、基板搬送ロボ
ット150bも各単位処理部にアクセスできるように、
基板搬送ロボット、150aと150bとでは、アーム
などの長さを変えておく。
【0091】この図16の場合には基板搬送ロボット1
50aが基板搬送ロボット150bとすれ違うことや追
い越しなどもできるため、それぞれの基板搬送ロボット
150a,150bの運用自由度が高い。
【0092】(2) 側面概念図として示す図17のよう
に複数の環状軌道110a,110b,110cを設け
ると共に、各環状軌道110a,110b,110cの
それぞれに複数の基板搬送ロボット(R1a,R2
a),(R1b,R2b),(R1c,R2c)を付設
するようにしてもよい。この場合においても、給電線相
互の絡み付きを防止するために、一つの環状軌道110
a,110bまたは110cに付設できる基板搬送ロボ
ットは2台までである。
【0093】図17には3つの環状軌道が示されている
が、一般にN(Nは2以上の整数)の環状軌道を設けた
場合の給電線は次の(a) 〜(c) の規則によって配置すれ
ば給電線相互の絡み付きを防止可能である(括弧内は図
17の例の場合の参照符号)。
【0094】(a) 最も内側の環状軌道(110a)に
付設された基板搬送ロボットのうちの1台(R2a)に
は、床面F側から給電する(E2a)。
【0095】(b) 内側からi番目(i=1,2,…,
N−1)の環状軌道に付設された基板搬送ロボットのう
ちの1台(i=1のときR1a)と、内側から(i+
1)番目の環状軌道に付設された基板搬送ロボットのう
ちの1台(R2b)とには、i番目の環状軌道(110
a)と(i+1)番目の環状軌道(110b)との間を
通って床面F側から立設させたガイド(Gab)を通し
てそれぞれ給電する(E1a,E2b)。図17におい
て、i=2については、R1bとR2cとへの給電線E
1b、E2cをガイドGbcに通す。
【0096】(c) 最も外側の環状軌道(110c)に
付設された基板搬送ロボットのうちの1台(R1c)に
は、天井T側から給電する(E1c)。
【0097】なお、ガイドGab、Gbcは各単位処理
部への被処理基板の出し入れに支障がないように、それ
らの単位処理部における被処理基板の出し入れ口を避け
て立設させる。
【0098】(3) 図18のように、複数の環状軌道11
0a,110b,110cを縦積みとし、それぞれに1
台または2台の基板搬送ロボットを付設するようにして
もよい(図示例では3段積み)。この場合には、各階の
環状軌道の2台の基板搬送ロボットのうち、一方は上方
から、他方はそれぞれの階における床面F1,F2また
はF3側から給電する。2階以上の階F2,F3におけ
る給電線は、それぞれの下方の循環軌道110c,11
0bの中と通らないようにして電源装置側へと導く。図
示例では、これらの電源線は上方に釣り上げ、天井面T
を介して電源装置側へと導いている。これは、仮に基板
搬送ロボットR2bの給電線を破線Iのように床面F2
から真下に降して環状軌道110cの中を通すと、最下
段の基板搬送ロボットR1c,R2cの給電線との間で
絡み付きが生じてしまうためである。
【0099】図18のような縦積みないしは多段構成の
場合、2階以上の床面F2,F3の支持には注意が必要
である。たとえば、2階部分F2については図19に示
すようにそれぞれの下に存在する環状軌道110cの内
側に柱502を立設して支持すると、最下段の環状軌道
110c上を走る基板搬送ロボットの給電線がこの柱5
02に絡み付く。第3段部分F3における柱503につ
いても同様である。このため、床面F1側からの柱によ
って支持をする場合には下方の環状軌道110cの外側
から支持をする。また、最上段の床面F3を天井側から
釣って支持する場合には、矢印523で示すように環状
軌道110aの外部側から支持する。
【0100】もっとも、太い矢印512,513のよう
に水平方向から支持をしてもよく、この場合には上記よ
うな問題は生じない。
【0101】(4) 基板搬送ロボット150は、一連の処
理のタクトタイムに応じた所要台数だけ設けることがで
きる。上記実施例のように摺動部分を持たない給電系統
を使用する場合には、複数の給電線相互の絡みを防止す
るために1つの環状軌道に付設する基板搬送ロボットは
1台または2台が望ましいが、第3条軌方式やトロリー
方式での給電を行っても良いような装置の場合には1つ
の環状軌道上に3台以上の基板搬送ロボットを付設する
こともできる。制御信号は無線通信で伝送してもよい。
【0102】(3) 給電線の捻れ防止のための戻り自転
は、一般にN周(Nは正の整数)だけ環状軌道を周回し
た都度行うことができる。もっとも、捻れを最小限にす
るためには、上記実施例のように1周(N=1)ごとに
戻り自転を行うことが好ましい。
【0103】半周した都度に戻り自転をするという方式
も考えられるが、この場合にも偶数回目の戻り自転は
「1周(N=1)ごとの戻り自転」に相当するため、こ
のような方式もこの発明の態様に含まれる。1/4周ご
との戻り自転なども同様である。
【0104】(4) 実施例の装置では、1台の基板搬送ロ
ボット150aが故障または点検整備のために環状軌道
から取り除かれても、残りの基板搬送ロボット150b
がそすべての搬送を受け持つことができる。この場合、
スループットは低下するが、装置全体の稼働を停止させ
る必要がない。これは、ゾーン守備方式としていないこ
とによる利点である。
【0105】(5) 環状軌道は床面上に設置されていなく
ともよく、高架方式になっていてもよい。また、環状軌
道は水平軌道でなくてもよい。
【0106】(6) この発明は液晶表示用基板の処理装置
だけでなく、半導体基板その他の基板の処理装置にも適
用可能である。
【0107】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明で
は、基板搬送機構が循環路を循環しつつ被処理基板の搬
送と単位処理部への出し入れを行うため、基板搬送機構
相互の被処理基板の受け渡しは不要である。このため、
被処理基板の受け渡しに伴う空間的および時間的ロスが
防止される。
【0108】また、基板搬送機構が初期位置に戻る際に
「空状態」である期間が少なく、初期位置に戻るための
時間的ロスが軽減される。
【0109】さらに、複数の基板搬送機構を設けた場合
であっても、1台の基板搬送機構が初期位置に戻る際に
他の基板搬送機構との衝突や干渉は生じない。このた
め、各基板搬送機構の運用効率が高い。
【0110】したがって、この装置は時間的および空間
的ロスが少なく、基板搬送機構の運用効率も高い装置と
なっている。
【0111】さらに、請求項2の制御方法では、基板搬
送機構がN回の公転を行うごとに基板搬送機構の自転累
積角度をゼロに戻すため、基板搬送機構への給電線のね
じれが防止される。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例である基板処理装置の平面
配置図である。
【図2】第1処理部の模式的立面図である。
【図3】第2処理部の模式的立面図である。
【図4】ロボット記号を用いた基板搬送ロボットの機構
図である。
【図5】基板搬送ロボットによる被処理基板の出し入れ
の説明図である。
【図6】2本の給電線の絡みの説明図である。
【図7】給電系の説明図である。
【図8】給電系の部分拡大図である。
【図9】給電線の捻れの説明図である。
【図10】基板搬送ロボットの自転累積角度の説明図で
ある。
【図11】基板搬送ロボットの自転制御の説明図であ
る。
【図12】基板搬送ロボットの自転制御の説明図であ
る。
【図13】基板搬送ロボットの自転制御を説明するグラ
フである。
【図14】この発明の他の実施例を示す平面図である。
【図15】図14の装置の側面図である。
【図16】この発明の変形例を示す平面図である。
【図17】この発明の変形例を示す側面図である。
【図18】この発明の変形例を示す側面図である。
【図19】図18の配置における支持説明図である。
【符号の説明】
1 基板処理装置 2 被処理基板 3 カセット 10 処理系 11 搬入ステーション 12 第1処理部(処理列) 17 第2処理部(処理列) 18 搬出ステーション 100 搬送理系 110 水平環状軌道 120,120a,120b 給電パネル 121a,121b 給電線 150,150a,150b 基板搬送ロボット θ 自転累積角度
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/02 Z 21/027 21/68 A 8418−4M

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被処理基板を搬送しつつ前記被処理基板
    に対して一連の処理を行うための基板処理装置であっ
    て、 (a) 環状軌道と、 (b) 複数の単位処理部が前記環状軌道に沿って配列され
    た処理列と、 (c) 前記被処理基板を保持して環状軌道上を循環移動
    し、それによって前記被処理基板の搬送を行うととも
    に、前記単位処理部への前記被処理基板の出し入れを行
    う基板搬送機構と、を備えることを特徴とする基板搬送
    装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の基板処理装置における前
    記基板搬送機構の制御方法であって、 前記基板搬送機構には給電線によって駆動電力が供給さ
    れているとともに、 前記基板搬送機構は旋回による自転が可能とされてお
    り、 前記制御方法が、 (a) 前記基板搬送機構に、前記環状軌道上の循環に相当
    する公転と、前記旋回による自転とを行わせつつ、前記
    基板搬送機構によって前記単位処理部への前記被処理基
    板の出し入れを行わせる工程と、 (b) 前記基板搬送機構がN回(Nは所定の正の整数)の
    公転をするごとに、前記基板搬送機構の自転累積角度が
    ゼロになるように前記基板搬送機構に戻し自転を行わせ
    る工程と、を備えることを特徴とする基板搬送機構の制
    御方法。
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