JPH06296054A - 色素レーザー励起用ｙａｇレーザー - Google Patents
色素レーザー励起用ｙａｇレーザーInfo
- Publication number
- JPH06296054A JPH06296054A JP8287993A JP8287993A JPH06296054A JP H06296054 A JPH06296054 A JP H06296054A JP 8287993 A JP8287993 A JP 8287993A JP 8287993 A JP8287993 A JP 8287993A JP H06296054 A JPH06296054 A JP H06296054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- harmonic
- laser light
- dichroic mirror
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 外部からの接点信号で容易に３５５nmのレー
ザー光と５３５nmのレーザー光を選択できる分光分析用
光源に用いられる色素励起用ＹＡＧレーザーを提供す
る。 【構成】 基本波発生部３１に第二高調波発生部３２と
第三高調波発生部３３を直列に接続し、ＹＡＧレーザー
の基本波Ｌ1 を第二高調波発生部３２に入射させ、第三
高調波発生部３３から基本波Ｌ1 ，第二高調波Ｌ2 及び
第三高調波Ｌ3 の３つの波長のレーザー光を出射させ
る。５３２nm用ダイクロイックミラー３４，３９及び３
５５nm用ダイクロイックミラー３６，３７を光路内に挿
設したり、光路外に移動したりすることによって、レー
ザーＬのうち第二高調波（５３２nm）あるいは第三高調
波（３５５nm）が色素レーザーの光路上に出射される。
第三高調波の光路上にλ／２板を挿設しており、横偏光
である第三高調波のレーザー光は色素レーザーの励起に
必要な縦偏光に変換される。
ザー光と５３５nmのレーザー光を選択できる分光分析用
光源に用いられる色素励起用ＹＡＧレーザーを提供す
る。 【構成】 基本波発生部３１に第二高調波発生部３２と
第三高調波発生部３３を直列に接続し、ＹＡＧレーザー
の基本波Ｌ1 を第二高調波発生部３２に入射させ、第三
高調波発生部３３から基本波Ｌ1 ，第二高調波Ｌ2 及び
第三高調波Ｌ3 の３つの波長のレーザー光を出射させ
る。５３２nm用ダイクロイックミラー３４，３９及び３
５５nm用ダイクロイックミラー３６，３７を光路内に挿
設したり、光路外に移動したりすることによって、レー
ザーＬのうち第二高調波（５３２nm）あるいは第三高調
波（３５５nm）が色素レーザーの光路上に出射される。
第三高調波の光路上にλ／２板を挿設しており、横偏光
である第三高調波のレーザー光は色素レーザーの励起に
必要な縦偏光に変換される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主として分光分析用光
源に用いられる色素レーザー励起用ＹＡＧレーザーに関
する。
源に用いられる色素レーザー励起用ＹＡＧレーザーに関
する。
【０００２】
【従来の技術】色素レーザーを発振させるためには色素
を励起する必要がある。このためには一般に窒素レーザ
ーやＹＡＧレーザー等による光励起方式が用いられる。
このうち窒素レーザーは簡便かつ安価であり、繰り返し
発振数も比較的多く取れるため最も多く利用されている
が、窒素の消費量が多く連続的な使用に不向きであり出
力安定度も劣る等の欠点がある。
を励起する必要がある。このためには一般に窒素レーザ
ーやＹＡＧレーザー等による光励起方式が用いられる。
このうち窒素レーザーは簡便かつ安価であり、繰り返し
発振数も比較的多く取れるため最も多く利用されている
が、窒素の消費量が多く連続的な使用に不向きであり出
力安定度も劣る等の欠点がある。
【０００３】このためメンテナンス性や出力安定性の観
点からはＹＡＧレーザーによる励起が望ましい。ＹＡＧ
レーザーにより励起する場合はその第二高調波（５３２
nm）や第三高調波（３５５nm）が用いられる。特に色素
レーザーの特徴を生かして、幅広い波長範囲（３８０〜
７６０nm）に亙ってレーザーを発振させる場合は、第二
高調波と第三高調波とを切り換える必要がある。尚、第
三高調波のみで上記範囲を発振させることも可能ではあ
るが、特に５５０nm以上の波長域においては発振効率が
低下する。
点からはＹＡＧレーザーによる励起が望ましい。ＹＡＧ
レーザーにより励起する場合はその第二高調波（５３２
nm）や第三高調波（３５５nm）が用いられる。特に色素
レーザーの特徴を生かして、幅広い波長範囲（３８０〜
７６０nm）に亙ってレーザーを発振させる場合は、第二
高調波と第三高調波とを切り換える必要がある。尚、第
三高調波のみで上記範囲を発振させることも可能ではあ
るが、特に５５０nm以上の波長域においては発振効率が
低下する。
【０００４】従来のＹＡＧレーザーにおける第二高調波
を発生させるための構成図を図３に示す。同図中１１は
ＹＡＧレーザーの共振器を有する基本波発振部、１２は
非線形結晶を有する第二高調波発生部、１３及び１４は
５３２nm用ダイクロイックミラー、１５及び１６はビー
ムダンパーを各々図示する。
を発生させるための構成図を図３に示す。同図中１１は
ＹＡＧレーザーの共振器を有する基本波発振部、１２は
非線形結晶を有する第二高調波発生部、１３及び１４は
５３２nm用ダイクロイックミラー、１５及び１６はビー
ムダンパーを各々図示する。
【０００５】このような構成において発振したレーザー
の光路は次のようになる。基本波発振部１１で発生した
１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を経由
することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 とになる。この第二高調波発生部
１２から出射されたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザ
ー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とが混在したもの
となっている。そして、このレーザー光Ｌ1 は５３２nm
用ダイクロイックミラー１３によって５３２nmのレーザ
ー光Ｌ2 が反射され、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 は透
過してビームダンパー１５に達する。尚、１０６４nmレ
ーザー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とは５３２nm
用ダイクロイックミラー１３のみでは十分に分離されて
いないので、更に５３２nm用ダイクロイックミラー１４
で再度分離する。その結果、５３２nmのレーザー光Ｌ2
は反射し、わずかに残った１０６４nmのレーザー光Ｌ1
がビームダンパー１６に達する。
の光路は次のようになる。基本波発振部１１で発生した
１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を経由
することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 とになる。この第二高調波発生部
１２から出射されたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザ
ー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とが混在したもの
となっている。そして、このレーザー光Ｌ1 は５３２nm
用ダイクロイックミラー１３によって５３２nmのレーザ
ー光Ｌ2 が反射され、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 は透
過してビームダンパー１５に達する。尚、１０６４nmレ
ーザー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とは５３２nm
用ダイクロイックミラー１３のみでは十分に分離されて
いないので、更に５３２nm用ダイクロイックミラー１４
で再度分離する。その結果、５３２nmのレーザー光Ｌ2
は反射し、わずかに残った１０６４nmのレーザー光Ｌ1
がビームダンパー１６に達する。
【０００６】次に、従来のＹＡＧレーザーにおける第三
高調波を発生させるための構成図を図４に示す。同図中
１１は基本波発振部、１２は非線形結晶を有する第二高
調波発生部、１７は非線形結晶を有する第三高調波発生
部、１８及び１９は３５５nm用ダイクロイックミラー、
２０及び２１はビームダンパー、２２はλ／２板を各々
図示する。
高調波を発生させるための構成図を図４に示す。同図中
１１は基本波発振部、１２は非線形結晶を有する第二高
調波発生部、１７は非線形結晶を有する第三高調波発生
部、１８及び１９は３５５nm用ダイクロイックミラー、
２０及び２１はビームダンパー、２２はλ／２板を各々
図示する。
【０００７】このような構成において、発振したレーザ
ー光の光路は次のようになる。基本波発振部１１で発生
した１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を
経由することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と
５３２nmのレーザー光Ｌ2 になり、更に第三高調波発生
部１７を経由することによって１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー
光Ｌ3 とになる。この第三高調波発生部１７から出射さ
れたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー光Ｌ3 とが
混在したものとなっている。そして、このレーザー光
は、先づ３５５nm用ダイクロイックミラー１８によって
３５５nmのレーザー光Ｌ3 が反射され、１０６４nmと５
３２nmのレーザー光Ｌ 1 ，Ｌ2 は透過してビームダンパ
ー２０に達する。前記と同様に、３５５nmと１０６４nm
及び５３２nmのレーザー光は十分に分離されないので、
更に３５５nm用ダイクロイックミラー１９で再度分離す
る。その結果、３５５nmのレーザー光Ｌ3 は反射し、わ
ずかに残った１０６４nmレーザー光Ｌ1 と５３２nmのレ
ーザー光Ｌ2 とがビームダンパー２１に達する。また、
更に３５５nmのレーザー光Ｌ3 は色素レーザーを励起す
るために横偏光から縦偏光にする必要があるので、λ／
２板２２を透過させる。
ー光の光路は次のようになる。基本波発振部１１で発生
した１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を
経由することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と
５３２nmのレーザー光Ｌ2 になり、更に第三高調波発生
部１７を経由することによって１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー
光Ｌ3 とになる。この第三高調波発生部１７から出射さ
れたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー光Ｌ3 とが
混在したものとなっている。そして、このレーザー光
は、先づ３５５nm用ダイクロイックミラー１８によって
３５５nmのレーザー光Ｌ3 が反射され、１０６４nmと５
３２nmのレーザー光Ｌ 1 ，Ｌ2 は透過してビームダンパ
ー２０に達する。前記と同様に、３５５nmと１０６４nm
及び５３２nmのレーザー光は十分に分離されないので、
更に３５５nm用ダイクロイックミラー１９で再度分離す
る。その結果、３５５nmのレーザー光Ｌ3 は反射し、わ
ずかに残った１０６４nmレーザー光Ｌ1 と５３２nmのレ
ーザー光Ｌ2 とがビームダンパー２１に達する。また、
更に３５５nmのレーザー光Ｌ3 は色素レーザーを励起す
るために横偏光から縦偏光にする必要があるので、λ／
２板２２を透過させる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従来、色素レーザーを
励起するためにＹＡＧレーザーを用いる場合、使用する
色素に応じて自由に第二高調波や第三高調波を発生さ
せ、更に分離することは容易ではなかった。すなわち、
第二高調波を発生させるように装置構成後、次に第三高
調波を発生させるためには、第三高調波発生部１７を
付加する、５３２nm用ダイクロイックミラー１３を３
５５nm用ダイクロイックミラー１８に差し換える、λ
／２板２２を挿設する、等の構成変更が必要である。こ
のため従来の構成では自動的に３５５nmのレーザーＬ3
あるいは５３２nmのレーザー光Ｌ2 を取り出すのは困難
であった。
励起するためにＹＡＧレーザーを用いる場合、使用する
色素に応じて自由に第二高調波や第三高調波を発生さ
せ、更に分離することは容易ではなかった。すなわち、
第二高調波を発生させるように装置構成後、次に第三高
調波を発生させるためには、第三高調波発生部１７を
付加する、５３２nm用ダイクロイックミラー１３を３
５５nm用ダイクロイックミラー１８に差し換える、λ
／２板２２を挿設する、等の構成変更が必要である。こ
のため従来の構成では自動的に３５５nmのレーザーＬ3
あるいは５３２nmのレーザー光Ｌ2 を取り出すのは困難
であった。
【０００９】また自動的に３５５nmのレーザー光Ｌ3 あ
るいは５３２nmのレーザー光Ｌ2 を発振させるために第
三高調波発生部１７を駆動することは、第三高調波発生
部１７で用いる非線形結晶（例えばＫＤＰ；KH2PO4）が
潮解性であることから、恒温機構や窒素パージ機構等が
付設しているため容易ではない。
るいは５３２nmのレーザー光Ｌ2 を発振させるために第
三高調波発生部１７を駆動することは、第三高調波発生
部１７で用いる非線形結晶（例えばＫＤＰ；KH2PO4）が
潮解性であることから、恒温機構や窒素パージ機構等が
付設しているため容易ではない。
【００１０】本発明は上記問題に鑑み、自動的に３５５
nmのレーザー光あるいは５３２nmのレーザー光の発振切
り換えを実現しうる色素レーザーを励起するためのＹＡ
Ｇレーザーを提供することを目的とする。
nmのレーザー光あるいは５３２nmのレーザー光の発振切
り換えを実現しうる色素レーザーを励起するためのＹＡ
Ｇレーザーを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明に係る色素レーザー励起用ＹＡＧレーザーの構成は、
基本波発生部に第二高調波発生部と第三高調波発生部と
を直列に接続し、第三高調波発生部を経由して出力され
た基本波、第二高調波及び第三高調波のレーザー光を分
離する色素レーザ励起用ＹＡＧレーザーであって、２個
の５３２nm用ダイクロイックミラーと２個の３５５nm用
ダイクロイックミラーとを方形状に配設し、レーザー入
射側の５３２nm用ダイクロイックミラーとレーザー出射
側の３５５nm用ダイクロイックミラーあるいはレーザー
入射側の３５５nm用ダイクロイックミラーとレーザー出
射側の５３２nm用ダイクロイックミラーの組合せ等、少
なくとも二個のダイクロイックミラーを駆動可能とする
と共に、分離した第三高調波の光路にλ／２板を挿設し
てなることを特徴とする。
明に係る色素レーザー励起用ＹＡＧレーザーの構成は、
基本波発生部に第二高調波発生部と第三高調波発生部と
を直列に接続し、第三高調波発生部を経由して出力され
た基本波、第二高調波及び第三高調波のレーザー光を分
離する色素レーザ励起用ＹＡＧレーザーであって、２個
の５３２nm用ダイクロイックミラーと２個の３５５nm用
ダイクロイックミラーとを方形状に配設し、レーザー入
射側の５３２nm用ダイクロイックミラーとレーザー出射
側の３５５nm用ダイクロイックミラーあるいはレーザー
入射側の３５５nm用ダイクロイックミラーとレーザー出
射側の５３２nm用ダイクロイックミラーの組合せ等、少
なくとも二個のダイクロイックミラーを駆動可能とする
と共に、分離した第三高調波の光路にλ／２板を挿設し
てなることを特徴とする。
【００１２】すなわち、通常の第三高調波を発生させる
時と同様に第二高調波発生部と第三高調波発生部とを直
列に配置し、発生する第二高調波を用いた。一般に第三
高調波発生部を付加しない場合に比べて第二高調波の出
力エネルギーは低下するものの、分光分析用光源として
の色素レーザーを励起する場合においては、高々数ｍＪ
のエネルギーでよく、このような構成が可能である。ま
た、第二高調波発生部と第三高調波発生部とを経由して
発振した基本波（１０６４nmのレーザー光）、第二高調
波（５３２nmのレーザー光）及び第三高調波（３５５nm
のレーザー光）の各レーザー光を分離するため、５３２
nm用ダイクロイックミラー及び３５５nm用ダイクロイッ
クミラー並びにλ／２板等を適宜組合せて外部からの接
点信号で容易に３５５nmのレーザー光と５３５nmのレー
ザー光を選択できる構成にした。
時と同様に第二高調波発生部と第三高調波発生部とを直
列に配置し、発生する第二高調波を用いた。一般に第三
高調波発生部を付加しない場合に比べて第二高調波の出
力エネルギーは低下するものの、分光分析用光源として
の色素レーザーを励起する場合においては、高々数ｍＪ
のエネルギーでよく、このような構成が可能である。ま
た、第二高調波発生部と第三高調波発生部とを経由して
発振した基本波（１０６４nmのレーザー光）、第二高調
波（５３２nmのレーザー光）及び第三高調波（３５５nm
のレーザー光）の各レーザー光を分離するため、５３２
nm用ダイクロイックミラー及び３５５nm用ダイクロイッ
クミラー並びにλ／２板等を適宜組合せて外部からの接
点信号で容易に３５５nmのレーザー光と５３５nmのレー
ザー光を選択できる構成にした。
【００１３】
【作用】本発明では第二高調波発生部と第三高調波発生
部を直列に接続しているため、ＹＡＧレーザーの基本波
を第二高調波発生部に入射させることにより、第三高調
波発生部から基本波，第二高調波及び第三高調波の３つ
の波長のレーザー光が出射される。また、５３２nm用ダ
イクロイックミラー及び３５５nm用ダイクロイックミラ
ーを光路内に挿設したり、光路外に移動したりすること
によって第二高調波（５３２nm）あるいは第三高調波
（３５５nm）が色素レーザーの光路上に出射される。さ
らに、第三高調波の光路上にλ／２板を挿設しているた
め、横偏光である第三高調波のレーザー光は色素レーザ
ーの励起に必要な縦偏光に変換される。
部を直列に接続しているため、ＹＡＧレーザーの基本波
を第二高調波発生部に入射させることにより、第三高調
波発生部から基本波，第二高調波及び第三高調波の３つ
の波長のレーザー光が出射される。また、５３２nm用ダ
イクロイックミラー及び３５５nm用ダイクロイックミラ
ーを光路内に挿設したり、光路外に移動したりすること
によって第二高調波（５３２nm）あるいは第三高調波
（３５５nm）が色素レーザーの光路上に出射される。さ
らに、第三高調波の光路上にλ／２板を挿設しているた
め、横偏光である第三高調波のレーザー光は色素レーザ
ーの励起に必要な縦偏光に変換される。
【００１４】
【実施例】以下、本発明に係る色素レーザー励起用ＹＡ
Ｇレーザーの好適な実施例を説明する。
Ｇレーザーの好適な実施例を説明する。
【００１５】本発明の具体的な実施例のうち、第二高調
波を発生させる場合の構成例を図１に示す。同図中、３
１はＹＡＧレーザーの基本波発生部、３２は第二高調波
発生部、３３は第三高調波発生部、３４は可動ステージ
３５上に載置された３５５nmダイクロイックミラーを各
々図示する。また３６及び３７は５３２nm用ダイクロイ
ックミラーを図示し、いずれも可動ステージ３８上に載
置されている。３９は３５５nmダイクロイックミラー、
４０はλ／２板、４１，４２及び４３はビームダンパー
を図示する。また可動ステージ３５及び３８はいずれも
モータドライブ４４，４５で自動的に駆動できるように
なっており、これらのモータドライブ４４，４５はいず
れも外部からの接点信号で一定の範囲を走査させること
が可能である。
波を発生させる場合の構成例を図１に示す。同図中、３
１はＹＡＧレーザーの基本波発生部、３２は第二高調波
発生部、３３は第三高調波発生部、３４は可動ステージ
３５上に載置された３５５nmダイクロイックミラーを各
々図示する。また３６及び３７は５３２nm用ダイクロイ
ックミラーを図示し、いずれも可動ステージ３８上に載
置されている。３９は３５５nmダイクロイックミラー、
４０はλ／２板、４１，４２及び４３はビームダンパー
を図示する。また可動ステージ３５及び３８はいずれも
モータドライブ４４，４５で自動的に駆動できるように
なっており、これらのモータドライブ４４，４５はいず
れも外部からの接点信号で一定の範囲を走査させること
が可能である。
【００１６】このような構成において、第三高調波発生
部３３から出射されたレーザー光Ｌは基本波（１０６４
nmのレーザー光Ｌ1 ）、第二高調波（５３２nmのレーザ
ー光Ｌ2 ）及び第三高調波（３５５nmのレーザー光
Ｌ3 ）が混在したものとなる。このレーザー光Ｌが５３
２nm用ダイクロイックミラー３６に照射されると、第二
高調波である５３２nmのレーザー光Ｌ2 は反射され、基
本波である１０６４nmのレーザー光Ｌ1 及び第三高調波
である３５５nmのレーザー光Ｌ3 は透過する。この５３
２nm用ダイクロイックミラー３６で反射されたレーザー
光には、まだ若干基本波（１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 ）や第三高調波（３５５nmのレーザー光Ｌ3 ）が混
じっているので、更に５３２nm用ダイクロイックミラー
３７で分離する。その結果、５３２nm用ダイクロイック
ミラー３７で反射された５３２nmのレーザー光Ｌ2 のみ
を色素レーザーの光路内に導くことができる。
部３３から出射されたレーザー光Ｌは基本波（１０６４
nmのレーザー光Ｌ1 ）、第二高調波（５３２nmのレーザ
ー光Ｌ2 ）及び第三高調波（３５５nmのレーザー光
Ｌ3 ）が混在したものとなる。このレーザー光Ｌが５３
２nm用ダイクロイックミラー３６に照射されると、第二
高調波である５３２nmのレーザー光Ｌ2 は反射され、基
本波である１０６４nmのレーザー光Ｌ1 及び第三高調波
である３５５nmのレーザー光Ｌ3 は透過する。この５３
２nm用ダイクロイックミラー３６で反射されたレーザー
光には、まだ若干基本波（１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 ）や第三高調波（３５５nmのレーザー光Ｌ3 ）が混
じっているので、更に５３２nm用ダイクロイックミラー
３７で分離する。その結果、５３２nm用ダイクロイック
ミラー３７で反射された５３２nmのレーザー光Ｌ2 のみ
を色素レーザーの光路内に導くことができる。
【００１７】次に本発明の具体的実施例のうち、第三高
調波を発生させる場合の構成例を、図２に示す。尚、図
中の符号はすべて図１と同一であるので、同符号を付し
てその説明は省略する。構成上異なるのはモータドライ
ブ４４を駆動して３５５nm用ダイクロイックミラー３４
をＹＡＧレーザーからの光軸上に挿設していること及び
モータドライブ４５を駆動して５３２nm用ダイクロイッ
クミラー３６，３７を光路上から外していることであ
る。
調波を発生させる場合の構成例を、図２に示す。尚、図
中の符号はすべて図１と同一であるので、同符号を付し
てその説明は省略する。構成上異なるのはモータドライ
ブ４４を駆動して３５５nm用ダイクロイックミラー３４
をＹＡＧレーザーからの光軸上に挿設していること及び
モータドライブ４５を駆動して５３２nm用ダイクロイッ
クミラー３６，３７を光路上から外していることであ
る。
【００１８】このような構成において、第三高調波発生
部３３から出射されたレーザー光Ｌは前述のように基本
波（１０６４nmのレーザー光Ｌ1 ）、第二高調波（５３
２nmのレーザー光Ｌ2 ）及び第三高調波（３５５nmのレ
ーザー光Ｌ3 ）が混在したものとなる。このレーザー光
Ｌが３５５nm用ダイクロイックミラー３４に照射される
と、第三高調波である３５５nmのレーザー光Ｌ3 は反射
され基本波である１０６４nmのレーザー光Ｌ1 及び第二
高調波である５３２nmのレーザー光Ｌ2 は透過する。こ
の３５５用ダイクロイックミラー３４で反射されたレー
ザー光には、まだ若干基本波（１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 ）や第二高調波（５３２nmのレーザー光Ｌ2 ）が混
じっているので、更に３５５nm用ダイクロイックミラー
３９で分離する。その結果、３５５nm用ダイクロイック
ミラー３９で反射された３５５nmのレーザー光Ｌ3 のみ
をλ／２板４０を透過して色素レーザーの光路内に導く
ことができる。尚、図中のビームダンパー４１，４２，
４３はレーザー光が散乱して人体（特に眼等）に被害を
与えないようにするための散乱防止体であり、レーザー
光の終端に配置されるものである。
部３３から出射されたレーザー光Ｌは前述のように基本
波（１０６４nmのレーザー光Ｌ1 ）、第二高調波（５３
２nmのレーザー光Ｌ2 ）及び第三高調波（３５５nmのレ
ーザー光Ｌ3 ）が混在したものとなる。このレーザー光
Ｌが３５５nm用ダイクロイックミラー３４に照射される
と、第三高調波である３５５nmのレーザー光Ｌ3 は反射
され基本波である１０６４nmのレーザー光Ｌ1 及び第二
高調波である５３２nmのレーザー光Ｌ2 は透過する。こ
の３５５用ダイクロイックミラー３４で反射されたレー
ザー光には、まだ若干基本波（１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 ）や第二高調波（５３２nmのレーザー光Ｌ2 ）が混
じっているので、更に３５５nm用ダイクロイックミラー
３９で分離する。その結果、３５５nm用ダイクロイック
ミラー３９で反射された３５５nmのレーザー光Ｌ3 のみ
をλ／２板４０を透過して色素レーザーの光路内に導く
ことができる。尚、図中のビームダンパー４１，４２，
４３はレーザー光が散乱して人体（特に眼等）に被害を
与えないようにするための散乱防止体であり、レーザー
光の終端に配置されるものである。
【００１９】上記構成により、第二高調波発生部と第三
高調波発生部を直列に接続した場合の第二高調波の出力
安定性について試験した結果、±2.５％であり、第二高
調波発生部のみを用いた場合と同等であった。
高調波発生部を直列に接続した場合の第二高調波の出力
安定性について試験した結果、±2.５％であり、第二高
調波発生部のみを用いた場合と同等であった。
【００２０】以上のように第二高調波発生部３２と第三
高調波発生部３３とを直列に配設し、モータドライブ４
４や４５等の移動手段を用いて３５５nm用ダイクロイッ
クミラー３４や５３２nm用ダイクロイックミラー３６、
３７を移動させることによって容易かつ自動的に第二高
調波または第三高調波を発振できるようになった。よっ
てレーザーを用いた分析装置の自動化を図ることができ
た。
高調波発生部３３とを直列に配設し、モータドライブ４
４や４５等の移動手段を用いて３５５nm用ダイクロイッ
クミラー３４や５３２nm用ダイクロイックミラー３６、
３７を移動させることによって容易かつ自動的に第二高
調波または第三高調波を発振できるようになった。よっ
てレーザーを用いた分析装置の自動化を図ることができ
た。
【００２１】特に第二高調波発生部３２と第三高調波発
生部３３を直列に固定したまま配設しているので、内部
の非線形結晶の潮解を防止するため両者を一緒に乾燥し
たり窒素パージをすることができるので構造上も簡単と
なった。
生部３３を直列に固定したまま配設しているので、内部
の非線形結晶の潮解を防止するため両者を一緒に乾燥し
たり窒素パージをすることができるので構造上も簡単と
なった。
【００２２】
【発明の効果】以上実施例と共に述べたように、本発明
の色素レーザー励起用ＹＡＧレーザーは、第二高調波発
生部と第三高調波発生部とを直列に配設し、モータドラ
イブ等の移動手段等を用いて３５５nm用ダイクロイック
ミラーや５３２nm用ダイクロイックミラー等を移動させ
ることにより、容易かつ自動的に第二高調波または第三
高調波を発振することができるという効果を奏する。こ
のためレーザーを用いた分析装置の自動化を図るために
は非常に有用である。
の色素レーザー励起用ＹＡＧレーザーは、第二高調波発
生部と第三高調波発生部とを直列に配設し、モータドラ
イブ等の移動手段等を用いて３５５nm用ダイクロイック
ミラーや５３２nm用ダイクロイックミラー等を移動させ
ることにより、容易かつ自動的に第二高調波または第三
高調波を発振することができるという効果を奏する。こ
のためレーザーを用いた分析装置の自動化を図るために
は非常に有用である。
【００２３】また、第二高調波発生部と第三高調波発生
部とを直列に固定したまま配設しているので、内部の非
線形結晶の潮解を防止するため両者を一緒に乾燥したり
窒素パージをすることができるので構造上も簡易とな
り、生産性が向上する。以下の効果を奏する。
部とを直列に固定したまま配設しているので、内部の非
線形結晶の潮解を防止するため両者を一緒に乾燥したり
窒素パージをすることができるので構造上も簡易とな
り、生産性が向上する。以下の効果を奏する。
【図１】本発明の具体的実施例のうち第二高調波を発生
させるための構成図。
させるための構成図。
【図２】本発明の具体的実施例のうち第三高調波を発生
させるための構成図。
させるための構成図。
【図３】従来の第二高調波を発生させるための構成図。
【図４】従来の第三高調波を発生させるための構成図。
３１ 基本波発生部 ３２ 第二高調波発生部 ３３ 第三高調波発生部 ３４，３９ ３５５nm用ダイクロイックミラー ３５，３８ 可動ステージ ３６，３７ ５３２nm用ダイクロイックミラー ４０ λ／２板 ４１，４２，４３ ビームダンパー ４４，４５ モータドライブ Ｌ レーザー光 Ｌ1 基本波（１０６４nmレーザー光） Ｌ2 第二高調波（５３２nmレーザー光） Ｌ3 第三高調波（３５５nmレーザー光）
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年３月１５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００４】従来のＹＡＧレーザーにおける第二高調波
を発生させるための構成図を図３に示す。同図中１１は
ＹＡＧレーザーの共振器を有する基本波発生部、１２は
非線形結晶を有する第二高調波発生部、１３及び１４は
５３２nm用ダイクロイックミラー、１５及び１６はビー
ムダンパーを各々図示する。
を発生させるための構成図を図３に示す。同図中１１は
ＹＡＧレーザーの共振器を有する基本波発生部、１２は
非線形結晶を有する第二高調波発生部、１３及び１４は
５３２nm用ダイクロイックミラー、１５及び１６はビー
ムダンパーを各々図示する。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】このような構成において発振したレーザー
の光路は次のようになる。基本波発生部１１で発生した
１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を経由
することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 とになる。この第二高調波発生部
１２から出射されたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザ
ー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とが混在したもの
となっている。そして、このレーザー光Ｌ1 は５３２nm
用ダイクロイックミラー１３によって５３２nmのレーザ
ー光Ｌ2 が反射され、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 は透
過してビームダンパー１５に達する。尚、１０６４nmレ
ーザー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とは５３２nm
用ダイクロイックミラー１３のみでは十分に分離されて
いないので、更に５３２nm用ダイクロイックミラー１４
で再度分離する。その結果、５３２nmのレーザー光Ｌ2
は反射し、わずかに残った１０６４nmのレーザー光Ｌ1
がビームダンパー１６に達する。
の光路は次のようになる。基本波発生部１１で発生した
１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を経由
することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 とになる。この第二高調波発生部
１２から出射されたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザ
ー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とが混在したもの
となっている。そして、このレーザー光Ｌ1 は５３２nm
用ダイクロイックミラー１３によって５３２nmのレーザ
ー光Ｌ2 が反射され、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 は透
過してビームダンパー１５に達する。尚、１０６４nmレ
ーザー光Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 とは５３２nm
用ダイクロイックミラー１３のみでは十分に分離されて
いないので、更に５３２nm用ダイクロイックミラー１４
で再度分離する。その結果、５３２nmのレーザー光Ｌ2
は反射し、わずかに残った１０６４nmのレーザー光Ｌ1
がビームダンパー１６に達する。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】次に、従来のＹＡＧレーザーにおける第三
高調波を発生させるための構成図を図４に示す。同図中
１１は基本波発生部、１２は非線形結晶を有する第二高
調波発生部、１７は非線形結晶を有する第三高調波発生
部、１８及び１９は３５５nm用ダイクロイックミラー、
２０及び２１はビームダンパー、２２はλ／２板を各々
図示する。
高調波を発生させるための構成図を図４に示す。同図中
１１は基本波発生部、１２は非線形結晶を有する第二高
調波発生部、１７は非線形結晶を有する第三高調波発生
部、１８及び１９は３５５nm用ダイクロイックミラー、
２０及び２１はビームダンパー、２２はλ／２板を各々
図示する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】このような構成において、発振したレーザ
ー光の光路は次のようになる。基本波発生部１１で発生
した１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を
経由することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と
５３２nmのレーザー光Ｌ2 になり、更に第三高調波発生
部１７を経由することによって１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー
光Ｌ3 とになる。この第三高調波発生部１７から出射さ
れたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー光Ｌ3 とが
混在したものとなっている。そして、このレーザー光
は、先づ３５５nm用ダイクロイックミラー１８によって
３５５nmのレーザー光Ｌ3 が反射され、１０６４nmと５
３２nmのレーザー光Ｌ 1 ，Ｌ2 は透過してビームダンパ
ー２０に達する。前記と同様に、３５５nmと１０６４nm
及び５３２nmのレーザー光は十分に分離されないので、
更に３５５nm用ダイクロイックミラー１９で再度分離す
る。その結果、３５５nmのレーザー光Ｌ3 は反射し、わ
ずかに残った１０６４nmレーザー光Ｌ1 と５３２nmのレ
ーザー光Ｌ2 とがビームダンパー２１に達する。また、
更に３５５nmのレーザー光Ｌ3 は色素レーザーを励起す
るために横偏光から縦偏光にする必要があるので、λ／
２板２２を透過させる。
ー光の光路は次のようになる。基本波発生部１１で発生
した１０６４nmのレーザー光は第二高調波発生部１２を
経由することによって、１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と
５３２nmのレーザー光Ｌ2 になり、更に第三高調波発生
部１７を経由することによって１０６４nmのレーザー光
Ｌ1 と５３２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー
光Ｌ3 とになる。この第三高調波発生部１７から出射さ
れたレーザー光Ｌは１０６４nmのレーザー光Ｌ1 と５３
２nmのレーザー光Ｌ2 と３５５nmのレーザー光Ｌ3 とが
混在したものとなっている。そして、このレーザー光
は、先づ３５５nm用ダイクロイックミラー１８によって
３５５nmのレーザー光Ｌ3 が反射され、１０６４nmと５
３２nmのレーザー光Ｌ 1 ，Ｌ2 は透過してビームダンパ
ー２０に達する。前記と同様に、３５５nmと１０６４nm
及び５３２nmのレーザー光は十分に分離されないので、
更に３５５nm用ダイクロイックミラー１９で再度分離す
る。その結果、３５５nmのレーザー光Ｌ3 は反射し、わ
ずかに残った１０６４nmレーザー光Ｌ1 と５３２nmのレ
ーザー光Ｌ2 とがビームダンパー２１に達する。また、
更に３５５nmのレーザー光Ｌ3 は色素レーザーを励起す
るために横偏光から縦偏光にする必要があるので、λ／
２板２２を透過させる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図３
【補正方法】変更
【補正内容】
【図３】
【手続補正６】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図４
【補正方法】変更
【補正内容】
【図４】
Claims (1)
- 【請求項１】 基本波発生部に第二高調波発生部と第三
高調波発生部とを直列に接続し、第三高調波発生部を経
由して出力された基本波、第二高調波及び第三高調波の
レーザー光を分離する色素レーザ励起用ＹＡＧレーザー
であって、２個の５３２nm用ダイクロイックミラーと２
個の３５５nm用ダイクロイックミラーとを方形状に配設
し、レーザー入射側の５３２nm用ダイクロイックミラー
とレーザー出射側の３５５nm用ダイクロイックミラーあ
るいはレーザー入射側の３５５nm用ダイクロイックミラ
ーとレーザー出射側の５３２nm用ダイクロイックミラー
の組合せ等、少なくとも二個のダイクロイックミラーを
駆動可能とすると共に、分離した第三高調波の光路にλ
／２板を挿設してなることを特徴とする色素レーザー励
起用ＹＡＧレーザー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8287993A JPH06296054A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 色素レーザー励起用ｙａｇレーザー |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8287993A JPH06296054A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 色素レーザー励起用ｙａｇレーザー |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06296054A true JPH06296054A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=13786570
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8287993A Withdrawn JPH06296054A (ja) | 1993-04-09 | 1993-04-09 | 色素レーザー励起用ｙａｇレーザー |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06296054A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4105559C1 (ja) * | 1991-02-22 | 1992-09-17 | Heidelberger Druckmaschinen Ag, 6900 Heidelberg, De | |
| JP2008249658A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Topcon Corp | レーザ装置および距離測定装置 |
| WO2009047888A1 (ja) * | 2007-10-10 | 2009-04-16 | Panasonic Corporation | 固体レーザー装置及び画像表示装置 |
-
1993
- 1993-04-09 JP JP8287993A patent/JPH06296054A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4105559C1 (ja) * | 1991-02-22 | 1992-09-17 | Heidelberger Druckmaschinen Ag, 6900 Heidelberg, De | |
| JP2008249658A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Topcon Corp | レーザ装置および距離測定装置 |
| WO2009047888A1 (ja) * | 2007-10-10 | 2009-04-16 | Panasonic Corporation | 固体レーザー装置及び画像表示装置 |
| CN101821914A (zh) * | 2007-10-10 | 2010-09-01 | 松下电器产业株式会社 | 固体激光装置以及图像显示装置 |
| US8121156B2 (en) | 2007-10-10 | 2012-02-21 | Panasonic Corporation | Solid-state laser device and image display device |
| JP5096480B2 (ja) * | 2007-10-10 | 2012-12-12 | パナソニック株式会社 | 固体レーザー装置及び画像表示装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7298546B2 (en) | Ultraviolet light source, laser treatment apparatus comprising ultraviolet light source, and exposure apparatus comprising ultraviolet light source | |
| US6327281B1 (en) | Laser with harmonic cavity | |
| KR20000069013A (ko) | 광원장치 | |
| RU99100720A (ru) | Способ и устройство для генерации по меньшей мере трех световых пучков различной длины волны, в частности для воспроизведения цветных изображений | |
| JP4202730B2 (ja) | 固体レーザ装置 | |
| CN1161866C (zh) | 光学参量振荡器 | |
| KR100451115B1 (ko) | 파장가변레이저에서의파장선택가능레이저오실레이터 | |
| EP1630912A1 (en) | Frequency-doubled solid-state Raman laser | |
| US20070064750A1 (en) | Deep ultraviolet laser apparatus | |
| JP2009058782A (ja) | レーザ光発生装置およびレーザ光発生方法 | |
| JPH09162470A (ja) | ２波長レーザ発振器 | |
| JPH06296054A (ja) | 色素レーザー励起用ｙａｇレーザー | |
| JPH11233867A (ja) | パルスレーザ光発生装置 | |
| US5241551A (en) | High average power laser which generates radiation at a wavelength near 530 nm | |
| JPH1152443A (ja) | レーザ光発生装置 | |
| CN111404010A (zh) | 一种四次谐波激光器 | |
| JP2000171843A (ja) | 光源装置 | |
| JPH07235720A (ja) | レ−ザ発振装置 | |
| JP2002368312A (ja) | 極短パルスレーザ | |
| JP2002062555A (ja) | レーザ光発生装置 | |
| JP2020008657A (ja) | レーザ発生装置 | |
| JP3845687B2 (ja) | ラマン・レーザー発振装置 | |
| JPH0750442A (ja) | 加工用レーザ装置 | |
| JPH075511A (ja) | 光パラメトリック発振器及び該光パラメトリック発振器を用いた癌治療装置 | |
| JPH04286383A (ja) | ２波長切替固体レーザ発振器 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000704 |