JPH06295413A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH06295413A JPH06295413A JP7949893A JP7949893A JPH06295413A JP H06295413 A JPH06295413 A JP H06295413A JP 7949893 A JP7949893 A JP 7949893A JP 7949893 A JP7949893 A JP 7949893A JP H06295413 A JPH06295413 A JP H06295413A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 トラック幅方向側部に切欠を有する磁気コア
半体部材のギャップ対向面にＦｅ−Ｎ系合金等からなる
強磁性金属薄膜が被着形成され、該強磁性金属薄膜が非
磁性のギャップスペーサを介して他方の磁気コア半体に
突き合わせ接合され、前記切欠部に充填されたガラスに
よって前記ギャップ突き合わせ接合が補強されてなる磁
気ヘッドにおいて、ガラスの強磁性金属薄膜に近い部分
に小さい泡が多数発生するという問題を解決する。 【構成】 前記ギャップスペーサを、ＳｉＯ2等からな
る非磁性酸化物薄膜とＣｒ等からなる非磁性金属薄膜と
の積層体で構成し、該積層体は前記ギャップ対向部上及
び切欠部上の強磁性金属薄膜を連続的に覆うように被着
形成され、前記非磁性金属薄膜は前記切欠部上において
２ｎｍ以上の厚さを有するような構成とする。
半体部材のギャップ対向面にＦｅ−Ｎ系合金等からなる
強磁性金属薄膜が被着形成され、該強磁性金属薄膜が非
磁性のギャップスペーサを介して他方の磁気コア半体に
突き合わせ接合され、前記切欠部に充填されたガラスに
よって前記ギャップ突き合わせ接合が補強されてなる磁
気ヘッドにおいて、ガラスの強磁性金属薄膜に近い部分
に小さい泡が多数発生するという問題を解決する。 【構成】 前記ギャップスペーサを、ＳｉＯ2等からな
る非磁性酸化物薄膜とＣｒ等からなる非磁性金属薄膜と
の積層体で構成し、該積層体は前記ギャップ対向部上及
び切欠部上の強磁性金属薄膜を連続的に覆うように被着
形成され、前記非磁性金属薄膜は前記切欠部上において
２ｎｍ以上の厚さを有するような構成とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はＶＴＲ、ＨＤＤ等の高密
度磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関するも
のである。
度磁気記録再生装置に用いられる磁気ヘッドに関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】ＶＴＲ、ＨＤＤ等の磁気記録再生装置に
用いられる磁気ヘッドとしては、高密度磁気記録を実現
するための高抗磁力媒体に対応して、強磁性酸化物から
なる磁気コア半体部材のギャップ突き合わせ部に強磁性
金属薄膜を配した、ＭＩＧ（メタル・イン・ギャップ）
型と称されるものが提案されている。
用いられる磁気ヘッドとしては、高密度磁気記録を実現
するための高抗磁力媒体に対応して、強磁性酸化物から
なる磁気コア半体部材のギャップ突き合わせ部に強磁性
金属薄膜を配した、ＭＩＧ（メタル・イン・ギャップ）
型と称されるものが提案されている。
【０００３】このようなＭＩＧ型磁気ヘッドの構成の一
例を図１０に示す。図１０において１、１’はＭｎ−Ｚ
ｎフェライト等の強磁性酸化物からなる磁気コア半体部
材、２、２’はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｎ系合
金等からなる強磁性金属薄膜、３、３’はＳｉＯ2等の
非磁性酸化物からなるギャップスペーサ薄膜、４はトラ
ック幅方向側部の切欠に充填されてギャップ突き合わせ
接合を補強するためのガラスである。
例を図１０に示す。図１０において１、１’はＭｎ−Ｚ
ｎフェライト等の強磁性酸化物からなる磁気コア半体部
材、２、２’はＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ｎ系合
金等からなる強磁性金属薄膜、３、３’はＳｉＯ2等の
非磁性酸化物からなるギャップスペーサ薄膜、４はトラ
ック幅方向側部の切欠に充填されてギャップ突き合わせ
接合を補強するためのガラスである。
【０００４】図１０のような磁気ヘッドは、以下のよう
な工程を経て製造される。
な工程を経て製造される。
【０００５】すなわち、まず図１１に示すような２枚の
強磁性酸化物基板１０、１０’を準備し、その上面に切
欠溝加工、巻線溝加工、ガラス棒挿入溝加工を施す。図
１２は前記切欠溝加工１４、１４’が施された図１１の
基板１０、１０’のＰ、Ｐ’側面を示すものであり、前
記巻線溝及びガラス棒挿入溝のの断面はＱ、Ｑ’側面に
現れるが、図示省略する。
強磁性酸化物基板１０、１０’を準備し、その上面に切
欠溝加工、巻線溝加工、ガラス棒挿入溝加工を施す。図
１２は前記切欠溝加工１４、１４’が施された図１１の
基板１０、１０’のＰ、Ｐ’側面を示すものであり、前
記巻線溝及びガラス棒挿入溝のの断面はＱ、Ｑ’側面に
現れるが、図示省略する。
【０００６】次に、図１３に示すように前記溝加工の施
された強磁性酸化物基板の上面全体に強磁性金属薄膜
２、２’、ギャップスペーサ薄膜３、３’をスパッタリ
ング法等によって被着形成する。
された強磁性酸化物基板の上面全体に強磁性金属薄膜
２、２’、ギャップスペーサ薄膜３、３’をスパッタリ
ング法等によって被着形成する。
【０００７】次に、図１４に示すように両基板を突き合
わせた状態で昇温し、前記ガラス棒挿入溝に配置された
ガラス棒を溶融流動させてトラック幅規制溝部に充填
し、磁気コアブロックを得る。以下、この工程を溶着工
程と略称する。
わせた状態で昇温し、前記ガラス棒挿入溝に配置された
ガラス棒を溶融流動させてトラック幅規制溝部に充填
し、磁気コアブロックを得る。以下、この工程を溶着工
程と略称する。
【０００８】最後に、該磁気コアブロックを前記切欠溝
の中央部に沿って切断すれば、図１０のような磁気ヘッ
ドチップが得られる。
の中央部に沿って切断すれば、図１０のような磁気ヘッ
ドチップが得られる。
【０００９】ところが、上記従来のＭＩＧ型磁気ヘッド
及びその製造方法によれば、前記切欠部に充填されたガ
ラス内に泡が発生することがあり、特に強磁性金属薄膜
としてＦｅ−Ｎ系合金薄膜を採用した場合には、図１５
に示すようにガラス４の強磁性金属薄膜２、２’に近い
部分に小さな泡４９が多数発生する。
及びその製造方法によれば、前記切欠部に充填されたガ
ラス内に泡が発生することがあり、特に強磁性金属薄膜
としてＦｅ−Ｎ系合金薄膜を採用した場合には、図１５
に示すようにガラス４の強磁性金属薄膜２、２’に近い
部分に小さな泡４９が多数発生する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記図１０
のようなＭＩＧ型磁気ヘッドにおいて、切欠部に充填さ
れるガラスの強磁性金属薄膜に近い部分に、図１５のよ
うな小さい泡が多数発生するのを抑制しようとするもの
である。
のようなＭＩＧ型磁気ヘッドにおいて、切欠部に充填さ
れるガラスの強磁性金属薄膜に近い部分に、図１５のよ
うな小さい泡が多数発生するのを抑制しようとするもの
である。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明による磁気ヘッド
は、トラック幅方向側部に切欠を有する磁気コア半体部
材のギャップ対向面にＦｅ−Ｎ系合金等からなる強磁性
金属薄膜が被着形成され、該強磁性金属薄膜が非磁性の
ギャップスペーサを介して他方の磁気コア半体に突き合
わせ接合され、前記切欠部に充填されたガラスによって
前記ギャップ突き合わせ接合が補強されてなる磁気ヘッ
ドにおいて、前記ギャップスペーサはＳｉＯ2等からな
る非磁性酸化物薄膜とＣｒ等からなる非磁性金属薄膜と
の積層体で構成され、該積層体は前記ギャップ対向部上
及び切欠部上の強磁性金属薄膜を連続的に覆うように被
着形成されており、前記非磁性金属薄膜は前記切欠部上
において２ｎｍ以上の厚さを有することを特徴とする。
は、トラック幅方向側部に切欠を有する磁気コア半体部
材のギャップ対向面にＦｅ−Ｎ系合金等からなる強磁性
金属薄膜が被着形成され、該強磁性金属薄膜が非磁性の
ギャップスペーサを介して他方の磁気コア半体に突き合
わせ接合され、前記切欠部に充填されたガラスによって
前記ギャップ突き合わせ接合が補強されてなる磁気ヘッ
ドにおいて、前記ギャップスペーサはＳｉＯ2等からな
る非磁性酸化物薄膜とＣｒ等からなる非磁性金属薄膜と
の積層体で構成され、該積層体は前記ギャップ対向部上
及び切欠部上の強磁性金属薄膜を連続的に覆うように被
着形成されており、前記非磁性金属薄膜は前記切欠部上
において２ｎｍ以上の厚さを有することを特徴とする。
【００１２】
【作用】前記図１５に示したような泡は、強磁性金属薄
膜中のＮ原子が溶着工程における昇温によって抜け出
し、非磁性酸化物薄膜を越えてガラス中に拡散、凝集し
たものであると考えられる。
膜中のＮ原子が溶着工程における昇温によって抜け出
し、非磁性酸化物薄膜を越えてガラス中に拡散、凝集し
たものであると考えられる。
【００１３】本発明によれば、強磁性金属薄膜上に非磁
性金属薄膜を非磁性酸化物薄膜と積層して形成すること
により、前述のようなＮの拡散、泡の発生が抑制され
る。
性金属薄膜を非磁性酸化物薄膜と積層して形成すること
により、前述のようなＮの拡散、泡の発生が抑制され
る。
【００１４】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【００１５】本発明によるＭＩＧ型磁気ヘッドの構成の
一例を図１に示す。図１において１、１’はＭｎ−Ｚｎ
フェライト等の強磁性酸化物からなる磁気コア半体部
材、２、２’はＦｅ−Ｎ系合金等の強磁性金属薄膜、３
３、３３’はＳｉＯ2等の非磁性酸化物薄膜、３２、３
２’はＣｒ、Ｔｉ、Ｍｏ等の非磁性金属薄膜、４はトラ
ック幅方向側部に形成された切欠部に充填されてギャッ
プ突き合わせ接合を補強するためのガラスである。
一例を図１に示す。図１において１、１’はＭｎ−Ｚｎ
フェライト等の強磁性酸化物からなる磁気コア半体部
材、２、２’はＦｅ−Ｎ系合金等の強磁性金属薄膜、３
３、３３’はＳｉＯ2等の非磁性酸化物薄膜、３２、３
２’はＣｒ、Ｔｉ、Ｍｏ等の非磁性金属薄膜、４はトラ
ック幅方向側部に形成された切欠部に充填されてギャッ
プ突き合わせ接合を補強するためのガラスである。
【００１６】図１のような磁気ヘッドは、以下のような
工程を経て製造される。
工程を経て製造される。
【００１７】すなわち、まず図２に示すような２枚の強
磁性酸化物基板１０、１０’を準備し、その上面に切欠
溝加工、巻線溝加工、ガラス棒挿入溝加工を施す。図３
は前記切欠溝加工１４、１４’が施された図２の基板１
０、１０’のＰ、Ｐ’側面を示すものであり、前記巻線
溝及びガラス棒挿入溝のの断面はＱ、Ｑ’側面に現れる
が、図示省略する。
磁性酸化物基板１０、１０’を準備し、その上面に切欠
溝加工、巻線溝加工、ガラス棒挿入溝加工を施す。図３
は前記切欠溝加工１４、１４’が施された図２の基板１
０、１０’のＰ、Ｐ’側面を示すものであり、前記巻線
溝及びガラス棒挿入溝のの断面はＱ、Ｑ’側面に現れる
が、図示省略する。
【００１８】次に、図４に示すように前記溝加工の施さ
れた強磁性酸化物基板の上面全体に厚さ約４μｍの強磁
性金属薄膜２、２’、厚さ約１００ｎｍの非磁性酸化物
薄膜３３、３３’、厚さ約２０ｎｍの非磁性金属薄膜３
２、３２’をスパッタリング法等によって被着形成す
る。
れた強磁性酸化物基板の上面全体に厚さ約４μｍの強磁
性金属薄膜２、２’、厚さ約１００ｎｍの非磁性酸化物
薄膜３３、３３’、厚さ約２０ｎｍの非磁性金属薄膜３
２、３２’をスパッタリング法等によって被着形成す
る。
【００１９】次に、図５に示すように両基板を突き合わ
せた状態で昇温し、前記ガラス棒挿入溝に配置されたガ
ラス棒を溶融流動させて前記切欠溝部に充填し、磁気コ
アブロックを得る。以下、この工程を溶着工程と略称す
る。
せた状態で昇温し、前記ガラス棒挿入溝に配置されたガ
ラス棒を溶融流動させて前記切欠溝部に充填し、磁気コ
アブロックを得る。以下、この工程を溶着工程と略称す
る。
【００２０】最後に、該磁気コアブロックを前記切欠溝
の中央部に沿って切断すれば、図１のような磁気ヘッド
チップが得られる。
の中央部に沿って切断すれば、図１のような磁気ヘッド
チップが得られる。
【００２１】ここで、前記非磁性金属薄膜によるガラス
内発泡抑制効果に関する実験について説明する。
内発泡抑制効果に関する実験について説明する。
【００２２】実験は、Ｍｎ−Ｚｎフェライト基板上に、
Ｎを約１５ａｔ％含有するＦｅ−Ｚｒ−Ｔｉ−Ｎ系合金
薄膜を約４μｍ、ＳｉＯ2 薄膜を約１００ｎｍ被着形成
し、その上に種々の厚さのＣｒ薄膜を形成した試料を準
備し、該Ｃｒ膜上に軟化点が約４５０℃のＰｂＯ−Ｓｉ
Ｏ2−Ｂ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ−Ｆｅ2Ｏ3系ガラス板を載せ、前
記溶着工程の履歴温度に相当する約５５０℃に昇温して
ガラスを溶融させ、降温後試料を切断して、ガラス内の
強磁性金属薄膜に近い部分に発生する泡の個数を勘定し
た。
Ｎを約１５ａｔ％含有するＦｅ−Ｚｒ−Ｔｉ−Ｎ系合金
薄膜を約４μｍ、ＳｉＯ2 薄膜を約１００ｎｍ被着形成
し、その上に種々の厚さのＣｒ薄膜を形成した試料を準
備し、該Ｃｒ膜上に軟化点が約４５０℃のＰｂＯ−Ｓｉ
Ｏ2−Ｂ2Ｏ3−Ｎａ2Ｏ−Ｆｅ2Ｏ3系ガラス板を載せ、前
記溶着工程の履歴温度に相当する約５５０℃に昇温して
ガラスを溶融させ、降温後試料を切断して、ガラス内の
強磁性金属薄膜に近い部分に発生する泡の個数を勘定し
た。
【００２３】その結果を図６に示す。図６において、横
軸はＣｒ薄膜の厚さ、縦軸は泡の個数（Ｃｒ薄膜を形成
しなかった場合を基準にした相対値）を示している。図
６によれば、実験に供した最小Ｃｒ膜厚の２ｎｍの場合
においてすでに発泡抑制効果が認められ、膜厚１５ｎｍ
以上では泡がほとんど発生していない。
軸はＣｒ薄膜の厚さ、縦軸は泡の個数（Ｃｒ薄膜を形成
しなかった場合を基準にした相対値）を示している。図
６によれば、実験に供した最小Ｃｒ膜厚の２ｎｍの場合
においてすでに発泡抑制効果が認められ、膜厚１５ｎｍ
以上では泡がほとんど発生していない。
【００２４】このようにして、前記図１のような磁気ヘ
ッドの強磁性金属薄膜とガラスとの間に非磁性酸化物薄
膜と積層されて介在する非磁性金属薄膜の膜厚が、２ｎ
ｍ以上であれば前記ガラス中の発泡を抑制することがで
きるという、本発明の主題が導き出された。
ッドの強磁性金属薄膜とガラスとの間に非磁性酸化物薄
膜と積層されて介在する非磁性金属薄膜の膜厚が、２ｎ
ｍ以上であれば前記ガラス中の発泡を抑制することがで
きるという、本発明の主題が導き出された。
【００２５】なお、該磁気ヘッドにおいて、非磁性酸化
物薄膜を形成せずに非磁性金属薄膜のみによってギャッ
プスペーサを構成すると、強磁性金属薄膜と非磁性金属
薄膜は外観上の区別がつきにくいため、顕微鏡等の光学
的手段ではギャップ部を識別することが困難となり、後
工程で磁気ヘッドチップを支持基板等に貼り着けたりシ
リンダ等に組み込んだりする際に、正確な位置決めがで
きなくなるという問題が生じる。
物薄膜を形成せずに非磁性金属薄膜のみによってギャッ
プスペーサを構成すると、強磁性金属薄膜と非磁性金属
薄膜は外観上の区別がつきにくいため、顕微鏡等の光学
的手段ではギャップ部を識別することが困難となり、後
工程で磁気ヘッドチップを支持基板等に貼り着けたりシ
リンダ等に組み込んだりする際に、正確な位置決めがで
きなくなるという問題が生じる。
【００２６】このことを考慮すれば、本発明の構成要件
としての非磁性酸化物薄膜と非磁性金属薄膜との積層体
においても、非磁性金属薄膜の膜厚はなるべく薄く、具
体的には非磁性酸化物薄膜の膜厚を越えないようにして
おくことが望ましい。
としての非磁性酸化物薄膜と非磁性金属薄膜との積層体
においても、非磁性金属薄膜の膜厚はなるべく薄く、具
体的には非磁性酸化物薄膜の膜厚を越えないようにして
おくことが望ましい。
【００２７】一方、ここまでの説明では強磁性金属薄膜
上に非磁性酸化物薄膜を形成した後に非磁性金属薄膜を
形成するという工程順に従って説明してきたたため、該
磁気ヘッドの記録媒体対向面は図７に示すような構成と
なるが、強磁性金属薄膜上に非磁性金属薄膜を形成した
後に非磁性酸化物薄膜を形成するという工程順を採用す
ると、図８に示すような記録媒体対向面構成を有する磁
気ヘッドが得られ、この場合も本発明の効果が期待でき
る。
上に非磁性酸化物薄膜を形成した後に非磁性金属薄膜を
形成するという工程順に従って説明してきたたため、該
磁気ヘッドの記録媒体対向面は図７に示すような構成と
なるが、強磁性金属薄膜上に非磁性金属薄膜を形成した
後に非磁性酸化物薄膜を形成するという工程順を採用す
ると、図８に示すような記録媒体対向面構成を有する磁
気ヘッドが得られ、この場合も本発明の効果が期待でき
る。
【００２８】また、図９に示すように磁気コア半体の切
欠部上の強磁性金属薄膜が除去された構成の磁気ヘッド
においても、強磁性金属薄膜のトラック幅方向側部にお
いては本発明の解決しようとする課題が提起され、本発
明の効果が期待できる。
欠部上の強磁性金属薄膜が除去された構成の磁気ヘッド
においても、強磁性金属薄膜のトラック幅方向側部にお
いては本発明の解決しようとする課題が提起され、本発
明の効果が期待できる。
【００２９】なお、本発明と同様な課題を解決するため
には、図１６に示すように強磁性金属膜２の上に比較的
厚い非磁性金属薄膜３９を形成した後、図１７に示すよ
うにギャップ突き合わせ面を研磨して強磁性金属膜２を
露出させ、その上にギャップスペーサとなる非磁性酸化
物薄膜（図示せず）を形成するという製造方法も考えら
れるが、この方法では工程数が増加すること、研磨によ
り強磁性金属膜の膜厚がばらつくこと等の問題が生じ
る。
には、図１６に示すように強磁性金属膜２の上に比較的
厚い非磁性金属薄膜３９を形成した後、図１７に示すよ
うにギャップ突き合わせ面を研磨して強磁性金属膜２を
露出させ、その上にギャップスペーサとなる非磁性酸化
物薄膜（図示せず）を形成するという製造方法も考えら
れるが、この方法では工程数が増加すること、研磨によ
り強磁性金属膜の膜厚がばらつくこと等の問題が生じ
る。
【００３０】
【発明の効果】以上の説明からわかるように、本発明に
よれば、強磁性金属薄膜からガラス中へのＮ原子の拡散
に起因すると思われる発泡の問題が解決されて、Ｆｅ−
Ｎ系合金薄膜等の優れた磁気特性を十分に生かしたＭＩ
Ｇ型磁気ヘッドが得られる。
よれば、強磁性金属薄膜からガラス中へのＮ原子の拡散
に起因すると思われる発泡の問題が解決されて、Ｆｅ−
Ｎ系合金薄膜等の優れた磁気特性を十分に生かしたＭＩ
Ｇ型磁気ヘッドが得られる。
【００３１】また、前記発泡を抑制するために形成され
る非磁性金属薄膜の厚さはごく薄いものでよいので、元
々ギャップスペーサ膜として採用していた非磁性酸化物
薄膜と積層して形成してもギャップ長が大きくなり過ぎ
るようなことがなく、製造工程上、他の工程に工数増大
等の問題を起こすこともない。
る非磁性金属薄膜の厚さはごく薄いものでよいので、元
々ギャップスペーサ膜として採用していた非磁性酸化物
薄膜と積層して形成してもギャップ長が大きくなり過ぎ
るようなことがなく、製造工程上、他の工程に工数増大
等の問題を起こすこともない。
【図１】本発明第１実施例磁気ヘッドの斜視図である。
【図２】本発明第１実施例磁気ヘッドの製造方法を説明
するための、基板の斜視図である。
するための、基板の斜視図である。
【図３】本発明第１実施例磁気ヘッドの製造方法（溝加
工工程）を説明するための、基板の側面図である。
工工程）を説明するための、基板の側面図である。
【図４】本発明第１実施例磁気ヘッドの製造方法（成膜
工程）を説明するための、基板の側面図である。
工程）を説明するための、基板の側面図である。
【図５】本発明第１実施例磁気ヘッドの製造方法（溶着
工程）を説明するための、基板の側面図である。
工程）を説明するための、基板の側面図である。
【図６】本発明を導き出すに至った実験結果図である。
【図７】本発明第１実施例磁気ヘッドの記録媒体対向面
平面図である。
平面図である。
【図８】本発明第２実施例磁気ヘッドの記録媒体対向面
平面図である。
平面図である。
【図９】本発明第３実施例磁気ヘッドの斜視図である。
【図１０】従来例磁気ヘッドの斜視図である。
【図１１】従来例磁気ヘッドの製造方法を説明するため
の、基板の斜視図である。
の、基板の斜視図である。
【図１２】従来例磁気ヘッドの製造方法（溝加工工程）
を説明するための、基板の側面図である。
を説明するための、基板の側面図である。
【図１３】従来例磁気ヘッドの製造方法（成膜工程）を
説明するための、基板の側面図である。
説明するための、基板の側面図である。
【図１４】従来例磁気ヘッドの製造方法（溶着工程）を
説明するための、基板の側面図である。
説明するための、基板の側面図である。
【図１５】従来例磁気ヘッドの問題点を説明するため
の、記録媒体対向面平面図である。
の、記録媒体対向面平面図である。
【図１６】比較例磁気ヘッドの製造方法（成膜工程）を
説明するための、基板の側面図である。
説明するための、基板の側面図である。
【図１７】比較例磁気ヘッドの製造方法（研摩工程）を
説明するための、基板の側面図である。
説明するための、基板の側面図である。
１ 磁気コア半体部材 ２ 強磁性金属薄膜 ３２ 非磁性金属薄膜 ３３ 非磁性酸化物薄膜 ４ ガラス
Claims (4)
- 【請求項１】 トラック幅方向側部に切欠を有する磁気
コア半体部材のギャップ対向面に強磁性金属薄膜が被着
形成され、該強磁性金属薄膜が非磁性のギャップスペー
サを介して他方の磁気コア半体に突き合わせ接合され、
前記切欠部に充填されたガラスによって前記ギャップ突
き合わせ接合が補強されてなる磁気ヘッドにおいて、前
記ギャップスペーサは非磁性酸化物薄膜と非磁性金属薄
膜との積層体で構成され、該積層体は前記ギャップ対向
部上及び切欠部上の強磁性金属薄膜を連続的に覆うよう
に被着形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記非磁性金属薄膜の膜厚が、前記切欠
部において２ｎｍ以上、前記ギャップ突き合わせ部にお
いて前記非磁性金属薄膜の膜厚以下であることを特徴と
する請求項１の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記磁気コア半体部材が強磁性酸化物か
らなり、前記強磁性金属薄膜がＦｅを主成分として少な
くともＮを含有する合金からなることを特徴とする請求
項１または２記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記非磁性酸化物薄膜がＳｉＯ2からな
り、前記非磁性金属薄膜がＣｒからなることを特徴とす
る請求項１、２または３記載の磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7949893A JPH06295413A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7949893A JPH06295413A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06295413A true JPH06295413A (ja) | 1994-10-21 |
Family
ID=13691595
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7949893A Pending JPH06295413A (ja) | 1993-04-06 | 1993-04-06 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06295413A (ja) |
-
1993
- 1993-04-06 JP JP7949893A patent/JPH06295413A/ja active Pending
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