JPH0629367A - 真空装置のバルブ制御方法 - Google Patents
真空装置のバルブ制御方法Info
- Publication number
- JPH0629367A JPH0629367A JP17952492A JP17952492A JPH0629367A JP H0629367 A JPH0629367 A JP H0629367A JP 17952492 A JP17952492 A JP 17952492A JP 17952492 A JP17952492 A JP 17952492A JP H0629367 A JPH0629367 A JP H0629367A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- valve
- smr
- str
- valve control
- Prior art date
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- Withdrawn
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- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】ロードロック室，搬送室，処理室から構成され
る真空装置でウェーハの加工を行う際、各部屋間のバル
ブを開けた時の圧力差によるごみの舞い上がりを防止
し、ウェーハへのごみの付着を防ぐ。 【構成】例えば、外部よりバルブ制御１３にＶｍｒ−ｔ
ｒ開信号が入力されると、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７がそれぞ
れの指定値以下であり、かつ、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が同
じであればバルブ制御部１３よりＳｖｍｒ−ｔｒ１５を
出力する。Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそれぞれの指定値以
上であればエラー信号を出力し、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が
同じでなければ圧力が高いのは処理室９か搬送室１０か
の判定を行い、バルブ制御部１３より圧力が高い部屋の
排気バルブ開信号Ｓｖｏｍ１６又はＳｖｏｔ１７の信号
が出力され処理室９又は搬送室１０の真空排気が行われ
る。Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が同じになったらバルブ制御部
１３よりＳｖｍｒ−ｔｒ開信号１５が出力される。
る真空装置でウェーハの加工を行う際、各部屋間のバル
ブを開けた時の圧力差によるごみの舞い上がりを防止
し、ウェーハへのごみの付着を防ぐ。 【構成】例えば、外部よりバルブ制御１３にＶｍｒ−ｔ
ｒ開信号が入力されると、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７がそれぞ
れの指定値以下であり、かつ、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が同
じであればバルブ制御部１３よりＳｖｍｒ−ｔｒ１５を
出力する。Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそれぞれの指定値以
上であればエラー信号を出力し、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が
同じでなければ圧力が高いのは処理室９か搬送室１０か
の判定を行い、バルブ制御部１３より圧力が高い部屋の
排気バルブ開信号Ｓｖｏｍ１６又はＳｖｏｔ１７の信号
が出力され処理室９又は搬送室１０の真空排気が行われ
る。Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が同じになったらバルブ制御部
１３よりＳｖｍｒ−ｔｒ開信号１５が出力される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体装置の加工を真空
中で行う半導体製造装置において、ロードロック室，搬
送室，処理室から構成される真空装置の各部屋間のバル
ブを開く際の真空装置のバルブ制御方法に関する。
中で行う半導体製造装置において、ロードロック室，搬
送室，処理室から構成される真空装置の各部屋間のバル
ブを開く際の真空装置のバルブ制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のロードロック室，搬送室，処理室
から構成される真空装置のバルブを開く際の制御方法
を、図３のブロック図，図４（ａ），（ｂ）の流れ図を
参照して説明する。
から構成される真空装置のバルブを開く際の制御方法
を、図３のブロック図，図４（ａ），（ｂ）の流れ図を
参照して説明する。
【０００３】ロードロック室１１内のウェーハ１２は搬
送室１０を通り処理室９に搬送される。この際ウェーハ
１２がロードロック室１１から搬送室１０に搬送される
時、搬送室とロードロック室間のバルブＶｔｒ−ｒｒ２
（以下Ｖｔｒ−ｒｒ２と称す）が開けられる。又、ウェ
ーハ２が搬送室１０から処理室９に搬送される時、処理
室と搬送室間のＶｍｒ−ｔｒ１（以下Ｖｍｒ−ｔｒ１と
称す）が開けられる。
送室１０を通り処理室９に搬送される。この際ウェーハ
１２がロードロック室１１から搬送室１０に搬送される
時、搬送室とロードロック室間のバルブＶｔｒ−ｒｒ２
（以下Ｖｔｒ−ｒｒ２と称す）が開けられる。又、ウェ
ーハ２が搬送室１０から処理室９に搬送される時、処理
室と搬送室間のＶｍｒ−ｔｒ１（以下Ｖｍｒ−ｔｒ１と
称す）が開けられる。
【０００４】この際のＶｍｒ−ｔｒ１を開く制御は、外
部よりバルブ制御部１３にＶｍｒ−ｔｒ開信号が入力さ
れると、真空計出力信号Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそれぞ
れの指定値以下であればバルブ制御部１３よりＳｖｍｒ
−ｔｒ１５を出力し、Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそれぞれ
の指定値以上であればエラー信号を出力する様になって
いる。Ｖｔｒ−ｒｒ２を開く制御も同様に行われてい
る。
部よりバルブ制御部１３にＶｍｒ−ｔｒ開信号が入力さ
れると、真空計出力信号Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそれぞ
れの指定値以下であればバルブ制御部１３よりＳｖｍｒ
−ｔｒ１５を出力し、Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそれぞれ
の指定値以上であればエラー信号を出力する様になって
いる。Ｖｔｒ−ｒｒ２を開く制御も同様に行われてい
る。
【０００５】上述した方法では、処理室９，搬送室１
０，ロードロック室１１間の圧力が指定値以下であれ
ば、同じ圧力でなくともＶｍｒ−ｔｒ１，Ｖｔｒ−ｒｒ
２が開く様な制御方法である為、各室間で気体の出入り
が生じ、各部屋に存在する微小なごみが舞い上がる。
０，ロードロック室１１間の圧力が指定値以下であれ
ば、同じ圧力でなくともＶｍｒ−ｔｒ１，Ｖｔｒ−ｒｒ
２が開く様な制御方法である為、各室間で気体の出入り
が生じ、各部屋に存在する微小なごみが舞い上がる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来のロード
ロック室，搬送室，処理室間のバルブの制御方法では、
各部屋間の圧力に差が生じていても指定された圧力以下
であれば各部屋間のバルブが開く。この際圧力差により
ロードロック室と搬送室又は搬送室と処理室との間に気
体の出入りが生じ、各部屋に存在する微小なごみが舞い
上がりウェーハに付着するという問題点があった。
ロック室，搬送室，処理室間のバルブの制御方法では、
各部屋間の圧力に差が生じていても指定された圧力以下
であれば各部屋間のバルブが開く。この際圧力差により
ロードロック室と搬送室又は搬送室と処理室との間に気
体の出入りが生じ、各部屋に存在する微小なごみが舞い
上がりウェーハに付着するという問題点があった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のロードロック
室，搬送室，処理室からなる真空装置の各部屋間のバル
ブを開ける際の制御方法は、各部屋の圧力を比較し、ど
の部屋の圧力が高いかを判定し、この判定結果により排
気バルブを開く為の信号を出力し、相隣る部屋の圧力を
同じにして前記各部屋間のバルブを開くようにしたもの
である。
室，搬送室，処理室からなる真空装置の各部屋間のバル
ブを開ける際の制御方法は、各部屋の圧力を比較し、ど
の部屋の圧力が高いかを判定し、この判定結果により排
気バルブを開く為の信号を出力し、相隣る部屋の圧力を
同じにして前記各部屋間のバルブを開くようにしたもの
である。
【０００８】
【実施例】次に本発明について図面を参照して説明す
る。図１は本発明の一実施例のブロック図，図２
（ａ），（ｂ）は流れ図である。
る。図１は本発明の一実施例のブロック図，図２
（ａ），（ｂ）は流れ図である。
【０００９】ロードロック室１１内のウェーハ１２は搬
送室１０を通り処理室９に搬送される。この際ウェーハ
１２がロードロック室１１から搬送室１０に搬送される
時、Ｖｔｒ−ｒｒ２が開けられる。又、ウェーハ１２が
搬送室１０から処理室９に搬送される時Ｖｍｒ−ｔｒ１
が開けられる。
送室１０を通り処理室９に搬送される。この際ウェーハ
１２がロードロック室１１から搬送室１０に搬送される
時、Ｖｔｒ−ｒｒ２が開けられる。又、ウェーハ１２が
搬送室１０から処理室９に搬送される時Ｖｍｒ−ｔｒ１
が開けられる。
【００１０】この際、Ｖｍｒ−ｔｒ１を開く制御は、外
部よりバルブ制御部１３にＶｍｒ−ｔｒ１の開信号が入
力されると、真空計出力信号Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそ
れぞれの指定値以下でありかつＳｍｒ６とＳｔｒ７が同
じであればバルブ制御部１３より開信号Ｓｖｍｒ−ｔｒ
１５を出力する。
部よりバルブ制御部１３にＶｍｒ−ｔｒ１の開信号が入
力されると、真空計出力信号Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそ
れぞれの指定値以下でありかつＳｍｒ６とＳｔｒ７が同
じであればバルブ制御部１３より開信号Ｓｖｍｒ−ｔｒ
１５を出力する。
【００１１】Ｓｍｒ６及びＳｔｒ７がそれぞれの指定値
以上であればエラー信号を出し、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が
同じでなければ圧力が高いのは処理室９か搬送室１０か
の判定を行い、バルブ制御部１３より圧力が高い部屋の
排気バルブ開信号Ｓｖｏｍ１６又はＳｖｏｔ１７の信号
が処理室排気バルブ２２又は搬送室排気バルブ２３へ出
力され。処理室９又は搬送室１０の真空排気が行われ
る。Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が同じになったらバルブ制御部
１３より開信号Ｓｖｍｒ−ｔｒ１５が出力される。Ｖｔ
ｒ−ｒｒ２を開く制御についても同様に行われるものと
する。
以上であればエラー信号を出し、Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が
同じでなければ圧力が高いのは処理室９か搬送室１０か
の判定を行い、バルブ制御部１３より圧力が高い部屋の
排気バルブ開信号Ｓｖｏｍ１６又はＳｖｏｔ１７の信号
が処理室排気バルブ２２又は搬送室排気バルブ２３へ出
力され。処理室９又は搬送室１０の真空排気が行われ
る。Ｓｍｒ６とＳｔｒ７が同じになったらバルブ制御部
１３より開信号Ｓｖｍｒ−ｔｒ１５が出力される。Ｖｔ
ｒ−ｒｒ２を開く制御についても同様に行われるものと
する。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、ロードロ
ック室，搬送室，処理室間の圧力を比較し、同じであっ
た場合又は差が生じていた場合はどの部屋の圧力が高い
かを判定し、判定の結果圧力が高い部屋の真空引きを行
い、圧力が同じになった時点で各部屋間のバブを開く事
により各部屋間の気体の出入りをなくし、各部屋に存在
する微小なごみの舞い上がりを防止しウェーハへの付着
を防ぐことができる。
ック室，搬送室，処理室間の圧力を比較し、同じであっ
た場合又は差が生じていた場合はどの部屋の圧力が高い
かを判定し、判定の結果圧力が高い部屋の真空引きを行
い、圧力が同じになった時点で各部屋間のバブを開く事
により各部屋間の気体の出入りをなくし、各部屋に存在
する微小なごみの舞い上がりを防止しウェーハへの付着
を防ぐことができる。
【００１３】又、従来のバルブ制御方法では１００個程
度のごみの付着があったのに対し、本発明のバルブ制御
方法では３０個程度に低減する事が可能である。
度のごみの付着があったのに対し、本発明のバルブ制御
方法では３０個程度に低減する事が可能である。
【図１】本発明の一実施例を説明するブロック図であ
る。
る。
【図２】本発明の一実施例を示す図で、同図（ａ），
（ｂ）はそれぞれ流れ図である。
（ｂ）はそれぞれ流れ図である。
【図３】従来のバルブ制御方法を説明するブロック図で
ある。
ある。
【図４】従来のバルブ制御方法を示す図で、同図
（ａ），（ｂ）はそれぞれ流れ図である。
（ａ），（ｂ）はそれぞれ流れ図である。
１ 処理室と搬送室間のバルブＶｍｒ−ｔｒ ２ 搬送室とロードロック空間のバルブＶｔｒ−ｒｒ ３ 処理室真空計 ４ 搬送室真空計 ５ ロードロック室真空計 ６ 処理室真空計の出力信号Ｓｍｒ ７ 搬送室真空計の出力信号Ｓｔｒ ８ ロードロック真空室計の出力信号Ｓｒｒ ９ 処理室 １０ 搬送室 １１ ロードロック室 １２ ウェーハ １３ バルブ制御部 １４ Ｖｔｒ−ｒｒ開信号Ｓｖｔｒ−ｒｒ １５ Ｖｍｒ−ｔｒ開信号Ｓｖｍｒ−ｔｒ １６ 処理室排気バルブ開信号Ｓｖｏｍ １７ 搬送室排気バルブ開信号Ｓｖｏｔ １８ ロードロック室排気バルブ開信号Ｓｖｏｒ １９ 処理室真空排気ポンプ ２０ 搬送室真空排気ポンプ ２１ ロードロック室真空排気ポンプ ２２ 処理室排気バルブ ２３ 搬送室排気バルブ ２４ ロードロック室排気バルブ
Claims (1)
- 【請求項１】 真空を用いる半導体製造装置でロードロ
ック室，搬送室，処理室の各部屋の間に設けられたバル
ブを制御する真空装置のバルブ制御方法において、前記
各部屋の圧力を比較し、どの部屋の圧力が高いかを判定
し、この判定結果により圧力が高い部屋の排気バルブを
開く為の信号を出力し、相隣る部屋の圧力を同じにして
前記各部屋間のバルブを開く事を特徴とする真空装置の
バルブ制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17952492A JPH0629367A (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 真空装置のバルブ制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17952492A JPH0629367A (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 真空装置のバルブ制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0629367A true JPH0629367A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16067276
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17952492A Withdrawn JPH0629367A (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 真空装置のバルブ制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0629367A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6817377B1 (en) | 1998-12-23 | 2004-11-16 | Applied Materials, Inc. | Processing apparatus having integrated pumping system |
| EP1956112A3 (en) * | 1998-07-10 | 2008-10-22 | ASM America, Inc. | System and method for reducing particles in epitaxial reactors |
-
1992
- 1992-07-07 JP JP17952492A patent/JPH0629367A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1956112A3 (en) * | 1998-07-10 | 2008-10-22 | ASM America, Inc. | System and method for reducing particles in epitaxial reactors |
| US6817377B1 (en) | 1998-12-23 | 2004-11-16 | Applied Materials, Inc. | Processing apparatus having integrated pumping system |
| US7077159B1 (en) | 1998-12-23 | 2006-07-18 | Applied Materials, Inc. | Processing apparatus having integrated pumping system |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991005 |