JPH06289403A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 液晶表示装置の製造に於いて、静電気による
スペーサの塊を防止することを目的とする。 【構成】 対向する２枚の基板を有し、前記２枚の基板
の間に介在させて前記２枚の基板の間の間隔を維持する
スペーサー粒子と、前記２枚の基板の基板間の周辺を封
着するシール剤と、前記基板間に保持される液晶材料と
を備えた液晶表示装置の製造方法において、前記スペー
サー粒子の散布時に、軟Ｘ線を用いて前記スペーサーを
イオン化し、しかる後スペーサーを散布する事を特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータや液晶テ
レビ等の表示装置に用いられる液晶表示装置の製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置としては、例えば図２に示
す構成のものが知られている。図２において、対向した
面に透明な電極３０を有する透明なガラスでなる基板１
０と基板２０とを対向設置し、基板１０と基板２０の電
極３０の上面には配向膜４０を設け、そして基板１０と
基板２０の外周周辺部間はシール剤５０で封着されてお
り、このシール剤５０の内側であり、基板１０と基板２
０との基板間には液晶材料６０及び基板１０と基板２０
との間の間隔を保持するために基板面に一様に分布した
スペーサー粒子７０が封入挟持されている。ところでス
ペーサー粒子７０を散布する時、スペーサー粒子７０の
散布密度が一様でないと、スペーサー粒子７０の集中し
て有る所と無い所で基板１０と基板２０との間隔がバラ
ツキ、液晶表示装置の表示にムラが生じてしまう。

【０００３】従来は、スペーサー粒子の散布作業を、湿
式法、あるいは乾式法という方法によって行われてい
る。湿式法は、フレオン等の分散液中にスペーサー粒子
添加して攪拌した後、スプレーノズルから窒素ガスを吹
き付ける事により、この溶液を電極基板の上方から噴霧
すると言う手法であり、溶液が電極基板に到達するまで
に分散液を完全に飛散、乾燥させる様にする。一方乾式
法は、分散液を用いず、スペーサー粒子をそのまま窒素
ガス中に分散させておき、これを固体と気体との二相流
としてスプレーノズルから噴射するという手法である。
この様な湿式法あるいは乾式法によってスペーサー粒子
７０を基板上に散布した後、前記スペーサーを散布した
基板と他の基板とを組み合わせて液晶が注入され前の状
態である空セル容器を形成し、次に前記空セル容器内に
液晶を封入して、液晶表示装置を作成する。こうして得
た液晶表示装置の基板間であるところのセルギャップ、
正確には基板１０の電極と基板２０の電極との電極間の
ギャップは、スペーサー粒子７０の粒径、散布密度によ
り規定される、通常ツイストネマテック（ＴＮ）型液晶
表示装置を製造する場合、セルギャップのねらい値１０
μｍ±０．５μｍに対してスペーサー粒径１０μｍを用
い、散布密度が均一になる様に散布し、セルギャップの
バラツキを±０．５μｍ以内に抑えている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板１
０と基板２０との基板間であるセルギャップが６μｍ程
度のＳＴＮ（スーパー・ツイスト・ネマテック）型表示
装置を製造する場合、セルギャップのバラツキを±０．
１μｍ程度に抑えないと表示に色ムラが生じてしまう。
前記した従来方式の湿式法では、分散液が完全に飛散、
乾燥しきらずに電極基板に到達してしまう事がありその
場合、分散液の蒸発に伴ってスペーサー粒子が凝集して
しまうので、電極基板上においてスペーサー粒子にある
程度の疎密が生じる事はさけがたく、そのため、セルギ
ャップのバラツキを±０．１μｍに抑える事は困難であ
った。一方、前記した従来方式の乾式方ではスペーサー
粒子がノズルから散布される際、スペーサー粒子どうし
の衝突、摩擦により静電気が発生し、帯電したスペーサ
ー粒子が互いに凝集してしまう事があるので、同様にセ
ルギャップのバラツキを±０．１μｍ程度に抑えるのは
困難であった。

【発明の構成】

【０００５】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
本発明は、対向する２枚の基板と、これら基板の間であ
る基板間に介在し、これら基板間の間隔を維持するスペ
ーサー粒子と前記基板間の外周周辺部を封着するシール
剤と、前記基板間に保持された液晶材料とを備えた液晶
表示素子の製造方法において、上記スペーサー粒子を基
板に均一散布する事により、基板間の均一性を向上する
表示装置の製造方法を提供する事にあり、本発明は、軟
Ｘ線を散布容器内に照射する事により、散布容器内の雰
囲気をイオン化させ、散布されるスペーサー粒子に帯電
した静電気及び電極基板に帯電している静電気を中和す
る事により、静電気による散布への悪影響をなくしスペ
ーサー粒子が電極基板上で散布密度が一様となることを
特徴とする。

【０００６】

【実施例】次に本発明の実施例を図を用いて説明する。
図１は本発明の一実施例を示す構成図であり、図１に於
いて１０は散布機のスペーサー粒子散布用の容器８０で
あり、容器８０の中に基板２０（又は基板１０）を所定
の位置に置く、この基板１０（又は基板２０）は絶縁体
であるため通常の工程中に正又は負の電荷が帯電する。
９０はスペーサー粒子７０を散布するノズルである。ス
ペーサー散布用のノズル９０より散布されるスペーサー
粒子７０は散布する瞬間、特に従来技術の項で説明した
ところの乾式散布法の場合、摩擦等によりスペーサー粒
子７０に電荷が帯電してしまう。１００は軟Ｘ線発生装
置で浜松フォトニクス製、Ｃ４８７０を使用した。使用
する軟Ｘ線は１０ＫＶ未満であるためＸ線の取扱い資格
及び管理区域を必要とせず容易かつ安全に作業する事が
出来る。軟Ｘ線の照射時間は１ｓｅｃ〜１１ｓｅｃの間
で静電気中和状況を静電気測定機にて測定したところ、
１秒の照射でも十分効果がある事が確認された。当実験
においては照射時間を１秒とした。

【０００７】当実施例においては散布するスペーサー粒
子７０として粒径６μｍのプラビーズを使用、Ｎ₂ をキ
ャリアーガスとして使用した。散布する直前に１秒間基
板の帯電除去のため軟Ｘ線を照射、基板２０（又は基板
１０）のイオンの中和を行い、しかる後散布と同時に２
秒間、軟Ｘ線を照射し、スペーサー粒子のイオンの中和
を行い基板２０（又は基板１０）に均一にスペーサ粒子
７０であるプラビーズを散布する事が出来た。この後基
板２０（又は基板１０）を他方の基板１０（又は基板２
０）と対向させ、対向しあった基板１０と基板２０の基
板間の外周周辺部をシール剤にて接合した後、この空セ
ル容器内に液晶を封入して液晶表示装置を完成した。こ
のように上記実施例は、従来の乾式散布法の欠点であっ
た静電気によるスペーサー粒子７０の凝集を軟Ｘ線照射
による静電気の中和により防止して、均一なスペーサー
粒子７０を散布する事が出来た。それにより作成したセ
ルギャップをギャップ検査機にて測定したところ、セル
ギャップのばらつきを±１μｍ程度に抑える事が出来
た。このためセルギャップが６±０．１μｍという均一
度の高いＳＴＮ型表示装置の製造において、歩留りを著
しく向上させる事が出来た。

【０００８】さらに、ＴＮ型液晶表示装置でも本発明よ
ればは、ＳＴＮ型液晶表示装置と同様の効果が得られ
る。特に多数個の表示装置を１枚の基板上に形成した
後、単個に分割して個々の液晶表示装置を得る。多数個
取製造方式に於けるスペーサー散布に於いては、上記以
上の効果が得られる。

【０００９】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、軟
Ｘ線を照射する事により、電極基板及びスペーサー粒子
の静電気の帯電を中和する事により、静電気の影響を受
けずに、スペーサー粒子を電極基板に均一に散布する事
が出来、セルギャップのバラツキを大幅に低減する事が
出来る。その結果セルギャップに厳しい均一性を要求さ
れるＳＴＮ型表示装置等の製造において、歩留りを著し
く向上させる事が出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す構成図である。

【図２】本発明を説明するための液晶表示装置の断面図
である。

【符号の説明】

１０、２０ 基板 ７０ スペーサー粒子 ８０ 容器 ９０ ノズル １００ 軟Ｘ線発生装置

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 対向する２枚の基板を有し、前記２枚の
   基板の間に介在させて前記２枚の基板の間の間隔を維持
   するスペーサー粒子と、前記２枚の基板の基板間の周辺
   を封着するシール剤と、前記基板間に保持される液晶材
   料とを備えた液晶表示装置の製造方法において、前記ス
   ペーサー粒子の散布時に、軟Ｘ線を用いて前記スペーサ
   ーをイオン化し、しかる後スペーサーを散布する事を特
   徴とする液晶表示装置の製造方法。