JPH06286133A - インクジェットヘッド - Google Patents
インクジェットヘッドInfo
- Publication number
- JPH06286133A JPH06286133A JP5077086A JP7708693A JPH06286133A JP H06286133 A JPH06286133 A JP H06286133A JP 5077086 A JP5077086 A JP 5077086A JP 7708693 A JP7708693 A JP 7708693A JP H06286133 A JPH06286133 A JP H06286133A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ink jet
- jet head
- substrate
- photosensitive resin
- flow path
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 35
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 33
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 5
- 238000005192 partition Methods 0.000 abstract description 8
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 23
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 3
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 流路形成時の寸法精度が良く、かつ、応答周
波数が高いインクジェットヘッドを提供する。 【構成】 表面反射率が０．８以上の基板４上に０．２
０mm以上の厚さの感光性樹脂よりなる隔壁６を形成し、
さらに隔壁６上に複数のノズル開口２を有するノズル部
材３を配設した。
波数が高いインクジェットヘッドを提供する。 【構成】 表面反射率が０．８以上の基板４上に０．２
０mm以上の厚さの感光性樹脂よりなる隔壁６を形成し、
さらに隔壁６上に複数のノズル開口２を有するノズル部
材３を配設した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はインクジェットヘッドに
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年インクジェットプリンタは高速印
字、低騒音、高印字品位等の利点から、急速に発展して
いる。インクジェットプリンタに用いられる流路として
いくつかの方式が提案されている。なかでも感光性樹脂
を利用しフォトリソグラフィ法により流路を形成する方
法が、高密度化・小型化に有利な為、広く採用されてい
る。
字、低騒音、高印字品位等の利点から、急速に発展して
いる。インクジェットプリンタに用いられる流路として
いくつかの方式が提案されている。なかでも感光性樹脂
を利用しフォトリソグラフィ法により流路を形成する方
法が、高密度化・小型化に有利な為、広く採用されてい
る。
【０００３】基板上に感光性樹脂層を形成し、感光性樹
脂の必要部分を露光後、未露光の感光性樹脂層を除去し
て流路を形成するインクジェットヘッドは、特開昭５７
−２１２０６７号公報に開示されている。この従来のイ
ンクジェットヘッドは、図６に示すように、ガラス、プ
ラスチック、セラミック、金属等からなる基板１１上
に、ノズルからインクを吐出するために利用される圧力
を発生する圧力発生素子１２を設け、さらに、圧力発生
素子１２が設けられた基板１１上に２５〜１００μｍの
感光性樹脂層よる隔壁１３が設けられる。隔壁１３は感
光性樹脂を公知のフォトリソグラフィ法により形成され
る。そしてさらに、第二の基板１４を接合してインクジ
ェットヘッドを得ている。
脂の必要部分を露光後、未露光の感光性樹脂層を除去し
て流路を形成するインクジェットヘッドは、特開昭５７
−２１２０６７号公報に開示されている。この従来のイ
ンクジェットヘッドは、図６に示すように、ガラス、プ
ラスチック、セラミック、金属等からなる基板１１上
に、ノズルからインクを吐出するために利用される圧力
を発生する圧力発生素子１２を設け、さらに、圧力発生
素子１２が設けられた基板１１上に２５〜１００μｍの
感光性樹脂層よる隔壁１３が設けられる。隔壁１３は感
光性樹脂を公知のフォトリソグラフィ法により形成され
る。そしてさらに、第二の基板１４を接合してインクジ
ェットヘッドを得ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
感光性樹脂層の厚み２５〜１００μｍでは流路が浅く、
流路内のインク流動性が悪く、そのため、インクジェッ
トヘッドの応答周波数を高めることが困難であるという
課題があった。そこで本発明者は、感光性樹脂層の厚み
を厚くしたが、感光性樹脂層を厚くすると、現像後の流
路の寸法精度が非常に悪く、吐出安定性が悪いものにな
ってしまった。
感光性樹脂層の厚み２５〜１００μｍでは流路が浅く、
流路内のインク流動性が悪く、そのため、インクジェッ
トヘッドの応答周波数を高めることが困難であるという
課題があった。そこで本発明者は、感光性樹脂層の厚み
を厚くしたが、感光性樹脂層を厚くすると、現像後の流
路の寸法精度が非常に悪く、吐出安定性が悪いものにな
ってしまった。
【０００５】そこで本発明の目的とするところは、応答
周波数が高く、さらに、吐出安定性が良好なインクジェ
ットヘッドを提供することにある。
周波数が高く、さらに、吐出安定性が良好なインクジェ
ットヘッドを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明のインクジェット
ヘッドは、基板と前記基板上に形成された感光性樹脂層
よりなる流路を有するインクジェットヘッドに於て、前
記基板の表面反射率が０．８以上であり、かつ前記感光
性樹脂層の厚さが０．２mm以上であることを特徴とす
る。また、前記基板の表面粗度が１μｍ以下であること
を特徴とする。
ヘッドは、基板と前記基板上に形成された感光性樹脂層
よりなる流路を有するインクジェットヘッドに於て、前
記基板の表面反射率が０．８以上であり、かつ前記感光
性樹脂層の厚さが０．２mm以上であることを特徴とす
る。また、前記基板の表面粗度が１μｍ以下であること
を特徴とする。
【０００７】
【実施例】以下、図面を用いて本発明を説明する。
【０００８】図１は本発明の一実施例のインクジェット
ヘッドの分解斜視図である。図１に於いて、インクジェ
ットヘッドの表面反射率が０．８以上の基板４上に０．
２mmの感光性樹脂よりなる隔壁６が形成され、さらに隔
壁６上に複数のノズル開口２を有するノズル部材３が配
設されている。これにより流路１が形成される。流路１
は供給口１５と接続され、供給口１５はインクタンク
（図示されない）と接続される。また圧力発生素子５は
駆動回路（図示されない）に接続される。圧力発生素子
５は駆動回路より電気パルスが送られると矢印Ｅ方向に
伸び、基板４をＥ方向に変形する。それにより流路１に
満たされたインクは圧力を受け、ノズル開口２より吐出
する。圧力発生素子５は電気パルスにより伸縮するいわ
ゆる圧電材料であればよく、なかでも圧電定数の高いＰ
ＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）が好ましい。本発明者は
ＰＺＴのなかでも、低電圧で大きな変形が得られること
で注目を浴びている積層ＰＺＴを利用している。また基
板４は圧力発生素子５の伸縮により容易に変形し、且つ
耐インク性を有することを要求される為、０．０１mm以
下の厚さの金属泊、プラスチックフィルムが好ましい。
ヘッドの分解斜視図である。図１に於いて、インクジェ
ットヘッドの表面反射率が０．８以上の基板４上に０．
２mmの感光性樹脂よりなる隔壁６が形成され、さらに隔
壁６上に複数のノズル開口２を有するノズル部材３が配
設されている。これにより流路１が形成される。流路１
は供給口１５と接続され、供給口１５はインクタンク
（図示されない）と接続される。また圧力発生素子５は
駆動回路（図示されない）に接続される。圧力発生素子
５は駆動回路より電気パルスが送られると矢印Ｅ方向に
伸び、基板４をＥ方向に変形する。それにより流路１に
満たされたインクは圧力を受け、ノズル開口２より吐出
する。圧力発生素子５は電気パルスにより伸縮するいわ
ゆる圧電材料であればよく、なかでも圧電定数の高いＰ
ＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）が好ましい。本発明者は
ＰＺＴのなかでも、低電圧で大きな変形が得られること
で注目を浴びている積層ＰＺＴを利用している。また基
板４は圧力発生素子５の伸縮により容易に変形し、且つ
耐インク性を有することを要求される為、０．０１mm以
下の厚さの金属泊、プラスチックフィルムが好ましい。
【０００９】また圧力発生素子に電気熱変換素子を利用
したいわゆるバブルジェットタイプのインクジェットヘ
ッドにも本発明は利用できる。
したいわゆるバブルジェットタイプのインクジェットヘ
ッドにも本発明は利用できる。
【００１０】次に本発明のインクジェットヘッドの製造
方法を図２〜図５を基に説明をする。
方法を図２〜図５を基に説明をする。
【００１１】まず、図２に示すようにガラス、プラスチ
ック、セラミック、金属等の内の適切な材質からなる基
板４の表面を洗浄、乾燥し表面反射率を０．８以上とし
たのち、感光性樹脂層７を２mm以上の厚さで形成する。
ここで用いられる感光性樹脂は、液体状またはフィルム
状、ポジ型またはネガ型の別を問わず、公知の感光性樹
脂が使用できる。また、感光性樹脂層の形成方法として
はロールコーター、スピンコーター、スプレーコータ
ー、熱圧力ローラーラミネーター等の公知の方法で形成
できる。これらのうち、作業性や層厚の均一性等の観点
からドライフィルムフォトレジストを熱圧力ローラーラ
ミネーターで貼り合わせる方法が好ましい。本実施例で
は、感光性樹脂層にネガ型ドライフィルムフォトレジス
トを用いた。
ック、セラミック、金属等の内の適切な材質からなる基
板４の表面を洗浄、乾燥し表面反射率を０．８以上とし
たのち、感光性樹脂層７を２mm以上の厚さで形成する。
ここで用いられる感光性樹脂は、液体状またはフィルム
状、ポジ型またはネガ型の別を問わず、公知の感光性樹
脂が使用できる。また、感光性樹脂層の形成方法として
はロールコーター、スピンコーター、スプレーコータ
ー、熱圧力ローラーラミネーター等の公知の方法で形成
できる。これらのうち、作業性や層厚の均一性等の観点
からドライフィルムフォトレジストを熱圧力ローラーラ
ミネーターで貼り合わせる方法が好ましい。本実施例で
は、感光性樹脂層にネガ型ドライフィルムフォトレジス
トを用いた。
【００１２】次に、図３に示すように感光性樹脂層７上
に所定のパターンを有するパターンマスク８を重ね合わ
せたのち、紫外線光を露光する。紫外線光は矢印Ａ方向
に露光される。基板４とパターンマスク８は公知の手法
によって位置合わせを行う。
に所定のパターンを有するパターンマスク８を重ね合わ
せたのち、紫外線光を露光する。紫外線光は矢印Ａ方向
に露光される。基板４とパターンマスク８は公知の手法
によって位置合わせを行う。
【００１３】これにより感光性樹脂層７は硬化部９と可
溶化部１０とに分かれる。
溶化部１０とに分かれる。
【００１４】次に、図４に示すように感光性樹脂層７の
可溶化部１０を現像液を用いて溶解除去する。現像液は
感光性樹脂の種類に対応した公知の現像液が使用でき
る。
可溶化部１０を現像液を用いて溶解除去する。現像液は
感光性樹脂の種類に対応した公知の現像液が使用でき
る。
【００１５】次に、図５に示すようにガラス、プラスチ
ック、セラミック、金属等のうちの適切な材質からなる
ノズル部材３の表面を洗浄、乾燥したのち、公知の方法
によって感光性樹脂の硬化部１０と接合する。この、感
光性樹脂の硬化部１０と基板４とノズル部材３によって
なる空間が流路となる。
ック、セラミック、金属等のうちの適切な材質からなる
ノズル部材３の表面を洗浄、乾燥したのち、公知の方法
によって感光性樹脂の硬化部１０と接合する。この、感
光性樹脂の硬化部１０と基板４とノズル部材３によって
なる空間が流路となる。
【００１６】以上のようにしてインク流路が深く、ま
た、流路の寸法精度が良好で吐出安定性の優れたインク
ジェットヘッドを提供できる。
た、流路の寸法精度が良好で吐出安定性の優れたインク
ジェットヘッドを提供できる。
【００１７】以下に、本発明の感光性樹脂の厚さと第一
の基板の表面反射率の関係を実施例及び比較例を挙げ、
更に詳しく説明する。
の基板の表面反射率の関係を実施例及び比較例を挙げ、
更に詳しく説明する。
【００１８】（実施例１） 表面反射率が０．８である第一の基板上に厚さ０．２
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
【００１９】ドライフィルムフォトレジスト上にパタ
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光で露光す
る。パターンマスクの流路幅は０．１００mmである。
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光で露光す
る。パターンマスクの流路幅は０．１００mmである。
【００２０】ドライフィルムフォトレジストを現像器
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
【００２１】得られたよう流路の流路幅を測定する。
流路幅は０．１００mmであり、パターンマスクと同寸法
の流路が±２μｍ精度で形成できた。
流路幅は０．１００mmであり、パターンマスクと同寸法
の流路が±２μｍ精度で形成できた。
【００２２】得られた流路を用いてインクジェットヘ
ッド製造した。
ッド製造した。
【００２３】得られたインクジェットヘッドに駆動回
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数８ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数８ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
【００２４】（実施例２） 表面反射率が０．８である第一の基板上に厚さ０．２
５mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネー
タで積層する。
５mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネー
タで積層する。
【００２５】ドライフィルムフォトレジスト上にパタ
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
【００２６】ドライフィルムフォトレジストを現像器
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
【００２７】得られたよう流路の流路幅を測定する。
流路幅は０．１００mmであり、パターンマスクと同寸法
の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成できた。
流路幅は０．１００mmであり、パターンマスクと同寸法
の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成できた。
【００２８】得られた流路を用いてインクジェットヘ
ッド製造した。
ッド製造した。
【００２９】得られたインクジェットヘッドに駆動回
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数８ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数８ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
【００３０】（実施例３） 表面反射率が０．９である第一の基板上に厚さ０．２
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
【００３１】ドライフィルムフォトレジスト上にパタ
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
【００３２】ドライフィルムフォトレジストを現像器
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
【００３３】得られたよう流路の流路幅を測定する。
流路幅は０．１００mmであり、パターンマスクと同寸法
の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成できた。
流路幅は０．１００mmであり、パターンマスクと同寸法
の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成できた。
【００３４】得られた流路を用いてインクジェットヘ
ッド製造した。
ッド製造した。
【００３５】得られたインクジェットヘッドに駆動回
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数８ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数８ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
【００３６】（比較例１） 表面反射率が０．７である第一の基板上に厚さ０．２
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
【００３７】ドライフィルムフォトレジスト上にパタ
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
【００３８】ドライフィルムフォトレジストを現像器
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
【００３９】得られたよう流路の流路幅、ピッチを測
定する。流路幅は０．０８〜０．０５mmであった。
定する。流路幅は０．０８〜０．０５mmであった。
【００４０】得られた流路を用いてインクジェットヘ
ッド製造した。
ッド製造した。
【００４１】得られたインクジェットヘッドに駆動回
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは安定にインクを吐出しなか
った。
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは安定にインクを吐出しなか
った。
【００４２】（比較例２） 表面反射率が０．６である第一の基板上に厚さ０．２
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネータ
で積層する。
【００４３】ドライフィルムフォトレジスト上にパタ
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
【００４４】ドライフィルムフォトレジストを現像器
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
【００４５】得られたよう流路の流路幅、ピッチを測
定する。流路幅は比較例１と同様に０．０８〜０．０５
mmであった。
定する。流路幅は比較例１と同様に０．０８〜０．０５
mmであった。
【００４６】得られた流路を用いてインクジェットヘ
ッド製造した。
ッド製造した。
【００４７】得られたインクジェットヘッドに駆動回
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは比較例１と同様に安定にイ
ンクを吐出しなかった。
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは比較例１と同様に安定にイ
ンクを吐出しなかった。
【００４８】（比較例３） 表面反射率が０．７である第一の基板上に厚さ０．１
５mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネー
タで積層する。
５mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネー
タで積層する。
【００４９】ドライフィルムフォトレジスト上にパタ
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
【００５０】ドライフィルムフォトレジストを現像器
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
【００５１】得られたよう流路の流路幅、ピッチを測
定する。流路幅は０．１００mmでありパターンマスクと
同寸法の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成で
きた。
定する。流路幅は０．１００mmでありパターンマスクと
同寸法の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成で
きた。
【００５２】得られた流路を用いてインクジェットヘ
ッド製造した。
ッド製造した。
【００５３】得られたインクジェットヘッドに駆動回
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数３ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数３ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
【００５４】（比較例４） 表面反射率が０．７である第一の基板上に厚さ０．１
９mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネー
タで積層する。
９mmのドライフィルムフォトレジストを熱圧力ラミネー
タで積層する。
【００５５】ドライフィルムフォトレジスト上にパタ
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
ーンマスクを位置し、露光器により紫外線光を露光す
る。パターンマスクは実施例１と同じ物を用いた。
【００５６】ドライフィルムフォトレジストを現像器
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
により現像する。現像液はトリエタンを用いた。
【００５７】得られたよう流路の流路幅、ピッチを測
定する。流路幅は０．１００mmであり、パターンマスク
と同寸法の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成
できた。
定する。流路幅は０．１００mmであり、パターンマスク
と同寸法の流路が実施例１と同様に±２μｍ精度で形成
できた。
【００５８】得られた流路を用いてインクジェットヘ
ッド製造した。
ッド製造した。
【００５９】得られたインクジェットヘッドに駆動回
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数５ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
路を接続し、インクジェットジェットヘッドを駆動し
た。インクジェットヘッドは応答周波数５ｋHZまで安定
にインクを吐出した。
【００６０】以上の実施例及び比較例の流路幅と応答周
波数の関係を表１に示す。
波数の関係を表１に示す。
【００６１】
【表１】
【００６２】表１の実施例１、２、３と比較例１、２か
ら明らかなように０．２０mm以上の厚さの感光性樹脂を
精度良く流路に形成するためには基板の表面反射率が
０．８以上であることが分かる。また実施例１と比較例
１、２をより感光性樹脂の厚さが０．２０mm未満では応
答周波数が低いことが分かる。
ら明らかなように０．２０mm以上の厚さの感光性樹脂を
精度良く流路に形成するためには基板の表面反射率が
０．８以上であることが分かる。また実施例１と比較例
１、２をより感光性樹脂の厚さが０．２０mm未満では応
答周波数が低いことが分かる。
【００６３】さらに、本発明者は基板の表面粗度と感光
性樹脂層による流路形成との間に密接な関係があること
も見いだした。
性樹脂層による流路形成との間に密接な関係があること
も見いだした。
【００６４】実施例１の表面粗度を２μｍから１μｍ以
下にして、実施例１と同様の工程で流路を形成したと
き、パターンマスクと同寸法の流路が±１μｍの高精度
で形成できた。これは基板の表面粗度が大きいと表面反
射率が同じでも、測定器で測定できないような微少な乱
反射が発生する為と思われる。
下にして、実施例１と同様の工程で流路を形成したと
き、パターンマスクと同寸法の流路が±１μｍの高精度
で形成できた。これは基板の表面粗度が大きいと表面反
射率が同じでも、測定器で測定できないような微少な乱
反射が発生する為と思われる。
【００６５】
【発明の効果】以上ように、本発明のインクジェットヘ
ッドによれば、厚い感光性樹脂を用いて精度良く流路が
形成でき、応答周波数の高いインクジェットヘッドを提
供することができる。
ッドによれば、厚い感光性樹脂を用いて精度良く流路が
形成でき、応答周波数の高いインクジェットヘッドを提
供することができる。
【図１】 本発明の一実施例のインクジェットヘッドの
分解斜視図。
分解斜視図。
【図２】 本発明のインクジェットヘッドの製造方法を
説明する断面図。
説明する断面図。
【図３】 本発明のインクジェットヘッドの製造方法を
説明する断面図。
説明する断面図。
【図４】 本発明のインクジェットヘッドの製造方法を
説明する断面図。
説明する断面図。
【図５】 本発明のインクジェットヘッドの製造方法を
説明する断面図。
説明する断面図。
【図６】 従来技術インクジェットヘッドの構造を説明
する分解斜視図。
する分解斜視図。
１ 流路 ２ ノズル開口 ３ ノズル部材 ４ 基板 ５ 圧力発生素子 ６ 隔壁 ７ 感光性樹脂層 ８ パターンマスク ９ 感光性樹脂層の硬化部 １０ 感光性樹脂層の可溶化部 １１ 第一の基板 １２ 圧力発生素子 １３ 隔壁 １４ 第二の基板
Claims (2)
- 【請求項１】 少なくとも基板と前記基板上に形成され
た感光性樹脂層からなる流路を有するインクジェットヘ
ッドにおいて、 前記基板の表面反射率が０．８以上であり、かつ前記感
光性樹脂層の厚さが０．２mm以上であることを特徴とす
るインクジェットヘッド。 - 【請求項２】 前記基板の表面粗度が１μｍ以下である
ことを特徴とする請求項１記載のインクジェットヘッ
ド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5077086A JPH06286133A (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | インクジェットヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5077086A JPH06286133A (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | インクジェットヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06286133A true JPH06286133A (ja) | 1994-10-11 |
Family
ID=13623977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5077086A Pending JPH06286133A (ja) | 1993-04-02 | 1993-04-02 | インクジェットヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06286133A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12173390B2 (en) | 2018-11-30 | 2024-12-24 | Posco Co., Ltd | Electrical steel sheet and manufacturing method therefor |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5355298A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-19 | Asuku Enjiniaringu Kk | Twooface tape bonding machine |
| JPS62175382A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-01 | Hitachi Ltd | テ−プ貼付装置 |
-
1993
- 1993-04-02 JP JP5077086A patent/JPH06286133A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5355298A (en) * | 1976-10-27 | 1978-05-19 | Asuku Enjiniaringu Kk | Twooface tape bonding machine |
| JPS62175382A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-08-01 | Hitachi Ltd | テ−プ貼付装置 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US12173390B2 (en) | 2018-11-30 | 2024-12-24 | Posco Co., Ltd | Electrical steel sheet and manufacturing method therefor |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7523553B2 (en) | Method of manufacturing ink jet recording head | |
| KR100230028B1 (ko) | 잉크 제트 헤드의 제조 방법 | |
| JP5511191B2 (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出ヘッドの製造方法および構造体の形成方法 | |
| JP2003145780A (ja) | インクジェットプリントヘッドの製造方法 | |
| JP3601239B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド及びそれを用いたインクジェット式記録装置 | |
| JP3045180B2 (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
| US10618286B2 (en) | Manufacturing method for structure and manufacturing method for liquid ejecting head | |
| JPH06286133A (ja) | インクジェットヘッド | |
| JP2008119955A (ja) | インクジェット記録ヘッド及び該ヘッドの製造方法 | |
| JP2006224624A (ja) | 積層ノズルプレート、液滴吐出ヘッド、及び、積層ノズルプレート製造方法 | |
| JPH1110892A (ja) | ノズル形成部材及びその製造方法 | |
| US8430476B2 (en) | Method for manufacturing liquid discharge head | |
| US7014987B2 (en) | Manufacturing method of liquid jet head | |
| JPH1158747A (ja) | ノズル形成部材及びその製造方法並びにインクジェットヘッド | |
| JPH10337875A (ja) | ノズル形成部材及びその製造方法並びにインクジェットヘッド | |
| JPH07178906A (ja) | インクジェットヘッド | |
| JP3077444B2 (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
| JP4462777B2 (ja) | インクジェットヘッド | |
| JP3545147B2 (ja) | ノズル形成部材の製造方法及びインクジェットヘッド | |
| JP3749320B2 (ja) | 液室部品の製造方法 | |
| JP2001063068A (ja) | インクジェットヘッド及びその製造方法 | |
| JP2009226845A (ja) | インクジェット記録ヘッドの製造方法及び微細構造体の製造方法 | |
| JP2006231601A (ja) | 積層ノズルプレート、液滴吐出ヘッド、及び、積層ノズルプレート製造方法 | |
| JP3467563B2 (ja) | インクジェット式記録ヘッド、及びインクジェット式記録ヘッド用弾性板の製造方法 | |
| JP4194538B2 (ja) | 液体吐出ヘッドの製造方法 |