JPH06281321A - スラッシュ水素の製造方法及び装置 - Google Patents
スラッシュ水素の製造方法及び装置Info
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- JPH06281321A JPH06281321A JP5074173A JP7417393A JPH06281321A JP H06281321 A JPH06281321 A JP H06281321A JP 5074173 A JP5074173 A JP 5074173A JP 7417393 A JP7417393 A JP 7417393A JP H06281321 A JPH06281321 A JP H06281321A
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- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 122
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スラッシュ水素を連続的に製造する際の液体
ヘリウムの使用量を低減でき、スラッシュ水素を効率よ
く、低コストで製造することができるスラッシュ水素の
製造方法及び装置を提供する。 【構成】 クライオスタット１内の液体水素を低温ヘリ
ウムにより冷却される冷却面２上に析出させ、該析出し
た固体水素をオーガ３で剥離してスラッシュ水素を製造
する方法において、大気圧以上の圧力で供給される飽和
液体水素を前記冷却面２を導出した低温ヘリウムを冷却
源とする過冷器７により過冷却状態に冷却し、かつ、該
液体水素を膨張弁８で３重点圧力又はそれ以下まで膨張
させて前記クライオスタット１内に導入する。
ヘリウムの使用量を低減でき、スラッシュ水素を効率よ
く、低コストで製造することができるスラッシュ水素の
製造方法及び装置を提供する。 【構成】 クライオスタット１内の液体水素を低温ヘリ
ウムにより冷却される冷却面２上に析出させ、該析出し
た固体水素をオーガ３で剥離してスラッシュ水素を製造
する方法において、大気圧以上の圧力で供給される飽和
液体水素を前記冷却面２を導出した低温ヘリウムを冷却
源とする過冷器７により過冷却状態に冷却し、かつ、該
液体水素を膨張弁８で３重点圧力又はそれ以下まで膨張
させて前記クライオスタット１内に導入する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、スラッシュ水素の製造
方法及び装置に関し、詳しくは、液体ヘリウム等の低温
ヘリウムにより液体水素を冷却して析出させ、該析出し
た固体水素を機械的に剥離して液体水素と固体水素との
混合物であるスラッシュ水素を製造する方法及び装置に
関する。
方法及び装置に関し、詳しくは、液体ヘリウム等の低温
ヘリウムにより液体水素を冷却して析出させ、該析出し
た固体水素を機械的に剥離して液体水素と固体水素との
混合物であるスラッシュ水素を製造する方法及び装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】スラッシュ水素の製造方法としては、液
体水素を貯留した低温容器（クライオスタット）内の圧
力を変動させて液体水素の表面に固体水素を発生させ、
この固体水素を破砕する凍結−融解法（フリーズ・ソー
法）と、低温ヘリウムと液体水素とを熱交換させること
により生じる固体水素を削り取ってスラッシュ水素とす
る熱交換法（オーガ法）とが知られている。
体水素を貯留した低温容器（クライオスタット）内の圧
力を変動させて液体水素の表面に固体水素を発生させ、
この固体水素を破砕する凍結−融解法（フリーズ・ソー
法）と、低温ヘリウムと液体水素とを熱交換させること
により生じる固体水素を削り取ってスラッシュ水素とす
る熱交換法（オーガ法）とが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】前記フリーズ・ソー法
は、密閉構造のクライオスタット内に液体水素を供給し
て、これをスラッシュ水素とするので、システムがバッ
チ処理となり、連続処理を行うことは困難である。ま
た、オーガ法は、連続処理は可能ではあるが、高価な液
体ヘリウムを大量に使用するため、スラッシュ水素を大
量に製造する際には問題となる。
は、密閉構造のクライオスタット内に液体水素を供給し
て、これをスラッシュ水素とするので、システムがバッ
チ処理となり、連続処理を行うことは困難である。ま
た、オーガ法は、連続処理は可能ではあるが、高価な液
体ヘリウムを大量に使用するため、スラッシュ水素を大
量に製造する際には問題となる。
【０００４】そこで本発明は、スラッシュ水素を連続的
に製造する際の液体ヘリウムの使用量を低減でき、スラ
ッシュ水素を効率よく、低コストで製造することができ
るスラッシュ水素の製造方法及び装置を提供することを
目的としている。
に製造する際の液体ヘリウムの使用量を低減でき、スラ
ッシュ水素を効率よく、低コストで製造することができ
るスラッシュ水素の製造方法及び装置を提供することを
目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記した目的を達成する
ため、本発明のスラッシュ水素の製造方法は、低温容器
内の液体水素を、低温ヘリウムにより冷却される冷却面
上に析出させ、該析出した固体水素を剥離してスラッシ
ュ水素を製造する方法において、大気圧以上の圧力で供
給される飽和液体水素を、前記冷却面を導出した低温ヘ
リウムを冷却源とする過冷器により過冷却状態に冷却
し、かつ、該冷却された水素を膨張弁で３重点圧力又は
それ以下まで膨張させて前記低温容器内に導入すること
を特徴とするものであって、さらに、前記低温容器内に
発生する水素ガスを、前記冷却面を導出した低温ヘリウ
ムを冷却源とする凝縮器により液化すること、前記過冷
器で水素を冷却して導出した低温ヘリウムを冷却源とす
る熱交換器により別途供給されるヘリウムガスを冷却
し、該冷却されたヘリウムガスを前記低温容器内に導入
して低温容器内を所定圧力に加圧すること、あるいは前
記過冷器を導出した低温ヘリウムの一部を前記低温容器
内に導入して低温容器内を所定圧力に加圧することを特
徴としている。
ため、本発明のスラッシュ水素の製造方法は、低温容器
内の液体水素を、低温ヘリウムにより冷却される冷却面
上に析出させ、該析出した固体水素を剥離してスラッシ
ュ水素を製造する方法において、大気圧以上の圧力で供
給される飽和液体水素を、前記冷却面を導出した低温ヘ
リウムを冷却源とする過冷器により過冷却状態に冷却
し、かつ、該冷却された水素を膨張弁で３重点圧力又は
それ以下まで膨張させて前記低温容器内に導入すること
を特徴とするものであって、さらに、前記低温容器内に
発生する水素ガスを、前記冷却面を導出した低温ヘリウ
ムを冷却源とする凝縮器により液化すること、前記過冷
器で水素を冷却して導出した低温ヘリウムを冷却源とす
る熱交換器により別途供給されるヘリウムガスを冷却
し、該冷却されたヘリウムガスを前記低温容器内に導入
して低温容器内を所定圧力に加圧すること、あるいは前
記過冷器を導出した低温ヘリウムの一部を前記低温容器
内に導入して低温容器内を所定圧力に加圧することを特
徴としている。
【０００６】また、本発明のスラッシュ水素の製造装置
は、液体水素を貯留する低温容器と、該低温容器内に設
けられた冷却面に低温ヘリウムを供給する系統と、前記
冷却面に析出した固体水素を剥離する剥離手段とを備え
たスラッシュ水素の製造装置において、前記低温容器に
導入する大気圧以上の圧力の飽和液体水素と前記冷却面
を導出した低温ヘリウムとを熱交換させて水素を過冷却
状態に冷却する過冷器と、該水素を３重点圧力又はそれ
以下まで膨張させる膨張弁と、該低温容器内に生成した
スラッシュ水素の導出部とを備えたことを特徴とするも
ので、さらに、前記冷却面を導出した低温ヘリウムを冷
却源として前記低温容器内に発生する水素ガスを液化す
る凝縮器を設けたこと、前記低温容器内を所定圧力に加
圧するヘリウムガス供給系統を別途設けるとともに、該
加圧用ヘリウムガスと前記過冷器で水素を冷却して導出
した低温ヘリウムとを熱交換させて加圧用ヘリウムガス
を冷却する熱交換器を設けたこと、あるいは前記過冷器
で水素を冷却して導出した低温ヘリウムの一部を分岐し
て前記低温容器内に導入する経路を設けたことを特徴と
している。
は、液体水素を貯留する低温容器と、該低温容器内に設
けられた冷却面に低温ヘリウムを供給する系統と、前記
冷却面に析出した固体水素を剥離する剥離手段とを備え
たスラッシュ水素の製造装置において、前記低温容器に
導入する大気圧以上の圧力の飽和液体水素と前記冷却面
を導出した低温ヘリウムとを熱交換させて水素を過冷却
状態に冷却する過冷器と、該水素を３重点圧力又はそれ
以下まで膨張させる膨張弁と、該低温容器内に生成した
スラッシュ水素の導出部とを備えたことを特徴とするも
ので、さらに、前記冷却面を導出した低温ヘリウムを冷
却源として前記低温容器内に発生する水素ガスを液化す
る凝縮器を設けたこと、前記低温容器内を所定圧力に加
圧するヘリウムガス供給系統を別途設けるとともに、該
加圧用ヘリウムガスと前記過冷器で水素を冷却して導出
した低温ヘリウムとを熱交換させて加圧用ヘリウムガス
を冷却する熱交換器を設けたこと、あるいは前記過冷器
で水素を冷却して導出した低温ヘリウムの一部を分岐し
て前記低温容器内に導入する経路を設けたことを特徴と
している。
【０００７】
【作 用】上記構成によれば、固体水素を析出させる冷
却面を冷却した後の低温ヘリウムの寒冷を有効に利用し
て、低温容器内に発生する水素ガスの液化及び該低温容
器内に導入される飽和液体水素の冷却を行うことがで
き、また、冷却後の液体水素を膨張弁で３重点圧力又は
それ以下まで膨張させることにより、液体水素の一部を
固体水素にすることができる。したがって、液体ヘリウ
ムの寒冷を有効に使用することができ、液体ヘリウム使
用量の低減、スラッシュ水素生産量の増大が図れる。
却面を冷却した後の低温ヘリウムの寒冷を有効に利用し
て、低温容器内に発生する水素ガスの液化及び該低温容
器内に導入される飽和液体水素の冷却を行うことがで
き、また、冷却後の液体水素を膨張弁で３重点圧力又は
それ以下まで膨張させることにより、液体水素の一部を
固体水素にすることができる。したがって、液体ヘリウ
ムの寒冷を有効に使用することができ、液体ヘリウム使
用量の低減、スラッシュ水素生産量の増大が図れる。
【０００８】さらに、上記低温ヘリウムの寒冷を利用し
て別途供給されるヘリウムガスを冷却し、該冷却したヘ
リウムガスで低温容器内を加圧することにより、あるい
は、低温ヘリウムの一部で低温容器内を加圧することに
より、該低温容器内の水素分圧を所定圧力に保ったまま
の状態で低温容器内を大気圧より高い圧力にすることが
でき、低温容器内に外気が侵入することを防止できると
ともに、生成したスラッシュ水素を低温容器から連続的
に送り出せる。
て別途供給されるヘリウムガスを冷却し、該冷却したヘ
リウムガスで低温容器内を加圧することにより、あるい
は、低温ヘリウムの一部で低温容器内を加圧することに
より、該低温容器内の水素分圧を所定圧力に保ったまま
の状態で低温容器内を大気圧より高い圧力にすることが
でき、低温容器内に外気が侵入することを防止できると
ともに、生成したスラッシュ水素を低温容器から連続的
に送り出せる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明を、図面に示す実施例に基づい
てさらに詳細に説明する。まず、図１に示すスラッシュ
水素製造装置は、液体水素を貯留する低温容器（クライ
オスタット）１と、該クライオスタット１内に設置され
た円筒状の冷却面２と、該冷却面２に析出した固体水素
を剥離するオーガ３と、生成したスラッシュ水素を導出
する管４ａ及び弁４ｂからなるスラッシュ水素導出部４
と、クライオスタット１内に液体水素を供給する液体水
素供給系統５と、冷却源となる低温ヘリウム（気体，液
体，気液混合状態のいずれでも可）を供給する低温ヘリ
ウム供給系統６とから構成されている。
てさらに詳細に説明する。まず、図１に示すスラッシュ
水素製造装置は、液体水素を貯留する低温容器（クライ
オスタット）１と、該クライオスタット１内に設置され
た円筒状の冷却面２と、該冷却面２に析出した固体水素
を剥離するオーガ３と、生成したスラッシュ水素を導出
する管４ａ及び弁４ｂからなるスラッシュ水素導出部４
と、クライオスタット１内に液体水素を供給する液体水
素供給系統５と、冷却源となる低温ヘリウム（気体，液
体，気液混合状態のいずれでも可）を供給する低温ヘリ
ウム供給系統６とから構成されている。
【００１０】そして、上記液体水素供給系統５には、該
液体水素を低温ヘリウムとの熱交換により過冷却状態に
冷却する過冷器７と、該過冷器７で冷却された液体窒素
を３重点圧力又はそれ以下まで膨張させる膨張弁８とが
設けられており、低温ヘリウム供給系統６には、前記冷
却面２を冷却して導出した低温ヘリウムによりクライオ
スタット１内の水素ガスを凝縮液化させる凝縮器９が設
けられている。
液体水素を低温ヘリウムとの熱交換により過冷却状態に
冷却する過冷器７と、該過冷器７で冷却された液体窒素
を３重点圧力又はそれ以下まで膨張させる膨張弁８とが
設けられており、低温ヘリウム供給系統６には、前記冷
却面２を冷却して導出した低温ヘリウムによりクライオ
スタット１内の水素ガスを凝縮液化させる凝縮器９が設
けられている。
【００１１】すなわち、原料として大気圧以上の圧力で
供給される飽和液体水素は、過冷器７で過冷却状態に冷
却された後、膨張弁８で３重点圧力に膨張してクライオ
スタット１内に供給され、低温ヘリウムは、まず、冷却
面２を冷却してその表面に固体水素を析出させ、凝縮器
９でクライオスタット１内の水素ガスを凝縮させた後、
さらに過冷器７で液体水素を過冷却するための寒冷源と
して使用される。
供給される飽和液体水素は、過冷器７で過冷却状態に冷
却された後、膨張弁８で３重点圧力に膨張してクライオ
スタット１内に供給され、低温ヘリウムは、まず、冷却
面２を冷却してその表面に固体水素を析出させ、凝縮器
９でクライオスタット１内の水素ガスを凝縮させた後、
さらに過冷器７で液体水素を過冷却するための寒冷源と
して使用される。
【００１２】このように構成することにより、クライオ
スタット１内を水素の３重点である５３Ｔｏｒｒ，１
３．８Ｋに保つこと、すなわち、スラッシュ水素の製造
工程における連続状態でのマテリアルバランス及びサー
マルバランスを成立させることができ、スラッシュ水素
を連続的に製造することが可能になる。さらに、低温ヘ
リウムが有する寒冷を、凝縮器９及び過冷器７で有効に
利用するので、低温ヘリウムの使用量も低減できる。ま
た、過冷却状態の液体水素が膨張弁８で膨張する際に、
その一部が固化するので、スラッシュ水素の製造量も増
加する。
スタット１内を水素の３重点である５３Ｔｏｒｒ，１
３．８Ｋに保つこと、すなわち、スラッシュ水素の製造
工程における連続状態でのマテリアルバランス及びサー
マルバランスを成立させることができ、スラッシュ水素
を連続的に製造することが可能になる。さらに、低温ヘ
リウムが有する寒冷を、凝縮器９及び過冷器７で有効に
利用するので、低温ヘリウムの使用量も低減できる。ま
た、過冷却状態の液体水素が膨張弁８で膨張する際に、
その一部が固化するので、スラッシュ水素の製造量も増
加する。
【００１３】例えば、本実施例装置において、１気圧，
２０．３Ｋの標準沸点の液体水素５００ｇ（約７リット
ル）をクライオスタット１内に入れ、５００ｇ（約６．
２リットル）のスラッシュ水素を製造する場合に必要な
液体ヘリウムの量は、約２．８リットルになる。これ
は、液体ヘリウムで３重点の同じ量の液体水素を固化し
てスラッシュ水素を製造したときに比べて１５％少ない
量である。
２０．３Ｋの標準沸点の液体水素５００ｇ（約７リット
ル）をクライオスタット１内に入れ、５００ｇ（約６．
２リットル）のスラッシュ水素を製造する場合に必要な
液体ヘリウムの量は、約２．８リットルになる。これ
は、液体ヘリウムで３重点の同じ量の液体水素を固化し
てスラッシュ水素を製造したときに比べて１５％少ない
量である。
【００１４】このようにして製造したスラッシュ水素
は、クライオスタット１内の液体水素中に蓄積してくる
ので、前記液体水素供給系統５から供給される液体窒素
に相当する分をスラッシュ水素導出部４から常時連続的
に取出してもよいが、このとき、クライオスタット１内
の圧力が５３Ｔｏｒｒであるので、外気を侵入させない
ような配慮が必要になる。したがって、実際の装置で
は、スラッシュ水素を間欠的に導出するなどの手段を適
宜採用する。
は、クライオスタット１内の液体水素中に蓄積してくる
ので、前記液体水素供給系統５から供給される液体窒素
に相当する分をスラッシュ水素導出部４から常時連続的
に取出してもよいが、このとき、クライオスタット１内
の圧力が５３Ｔｏｒｒであるので、外気を侵入させない
ような配慮が必要になる。したがって、実際の装置で
は、スラッシュ水素を間欠的に導出するなどの手段を適
宜採用する。
【００１５】なお、前記凝縮器９を設けずにクライオス
タット１内に発生する水素ガスを排出してもよいが、本
実施例に示すように凝縮器９を設けることにより、水素
のロスを抑えることができる。また、過冷器７と膨張弁
８とを逆に配置して、水素を膨張させてから冷却するよ
うにしてもよい。
タット１内に発生する水素ガスを排出してもよいが、本
実施例に示すように凝縮器９を設けることにより、水素
のロスを抑えることができる。また、過冷器７と膨張弁
８とを逆に配置して、水素を膨張させてから冷却するよ
うにしてもよい。
【００１６】図２は、上記実施例装置に、クライオスタ
ット１内を加圧する系統を付加した実施例を示すもので
ある。この加圧系統１１は、別途供給されるヘリウムガ
スを液体窒素を冷却源とする冷却器１２で予冷した後、
前記過冷器７を導出した低温ヘリウムを冷却源とする熱
交換器１３で所定温度に冷却し、さらに弁１４で所定圧
力に調節してクライオスタット１内に導入するようにし
たものである。
ット１内を加圧する系統を付加した実施例を示すもので
ある。この加圧系統１１は、別途供給されるヘリウムガ
スを液体窒素を冷却源とする冷却器１２で予冷した後、
前記過冷器７を導出した低温ヘリウムを冷却源とする熱
交換器１３で所定温度に冷却し、さらに弁１４で所定圧
力に調節してクライオスタット１内に導入するようにし
たものである。
【００１７】さらに、図３は、クライオスタット１内を
加圧する系統の別の実施例を示すもので、前記過冷器７
を導出した低温ヘリウムの一部を管２１に分岐し、弁２
２及び弁２３により低温ヘリウムの分岐量及び圧力を調
節してクライオスタット１内に導入するようにしたもの
である。
加圧する系統の別の実施例を示すもので、前記過冷器７
を導出した低温ヘリウムの一部を管２１に分岐し、弁２
２及び弁２３により低温ヘリウムの分岐量及び圧力を調
節してクライオスタット１内に導入するようにしたもの
である。
【００１８】このようにして、１４Ｋ程度の低温ヘリウ
ムをクライオスタット１内に導入することにより、クラ
イオスタット１内の水素分圧を５３Ｔｏｒｒに保持した
まま正圧状態にすることができ、外部からの空気の侵入
を防ぎながら、生成したスラッシュ水素をスラッシュ水
素導出部４から連続的に送り出すことが可能となる。
ムをクライオスタット１内に導入することにより、クラ
イオスタット１内の水素分圧を５３Ｔｏｒｒに保持した
まま正圧状態にすることができ、外部からの空気の侵入
を防ぎながら、生成したスラッシュ水素をスラッシュ水
素導出部４から連続的に送り出すことが可能となる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のスラッシ
ュ水素の製造方法及び装置によれば、スラッシュ水素の
連続製造が可能になるとともに、単に液体ヘリウムのみ
で３重点液体水素を固体水素にするのに比べて液体ヘリ
ウムの使用量を低減することが可能となる。
ュ水素の製造方法及び装置によれば、スラッシュ水素の
連続製造が可能になるとともに、単に液体ヘリウムのみ
で３重点液体水素を固体水素にするのに比べて液体ヘリ
ウムの使用量を低減することが可能となる。
【図１】 本発明の一実施例を示すスラッシュ水素製造
装置の系統図である。
装置の系統図である。
【図２】 加圧系統を設けたスラッシュ水素製造装置の
系統図である。
系統図である。
【図３】 他の加圧系統を設けたスラッシュ水素製造装
置の系統図である。
置の系統図である。
１…クライオスタット、２…冷却面、３…オーガ、４…
スラッシュ水素導出部、５…液体水素供給系統、６…低
温ヘリウム供給系統、７…過冷器、８…膨張弁、９…凝
縮器、１１…加圧系統１２…冷却器、１３…熱交換器
スラッシュ水素導出部、５…液体水素供給系統、６…低
温ヘリウム供給系統、７…過冷器、８…膨張弁、９…凝
縮器、１１…加圧系統１２…冷却器、１３…熱交換器
Claims (8)
- 【請求項１】 低温容器内の液体水素を、低温ヘリウム
により冷却される冷却面上に析出させ、該析出した固体
水素を剥離してスラッシュ水素を製造する方法におい
て、大気圧以上の圧力で供給される飽和液体水素を、前
記冷却面を導出した低温ヘリウムを冷却源とする過冷器
により過冷却状態に冷却し、かつ、該液体水素を膨張弁
で３重点圧力又はそれ以下まで膨張させて前記低温容器
内に導入することを特徴とするスラッシュ水素の製造方
法。 - 【請求項２】 前記低温容器内に発生する水素ガスを、
前記冷却面を導出した低温ヘリウムを冷却源とする凝縮
器により液化することを特徴とする請求項１記載のスラ
ッシュ水素の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のスラッシュ水素の製造方
法において、前記過冷器で水素を冷却して導出した低温
ヘリウムを冷却源とする熱交換器により別途供給される
ヘリウムガスを冷却し、該冷却されたヘリウムガスを前
記低温容器内に導入して低温容器内を所定圧力に加圧す
ることを特徴とするスラッシュ水素の製造方法。 - 【請求項４】 請求項１記載のスラッシュ水素の製造方
法において、前記過冷器を導出した低温ヘリウムの一部
を分岐し、前記低温容器内に導入して低温容器内を所定
圧力に加圧することを特徴とするスラッシュ水素の製造
方法。 - 【請求項５】 液体水素を貯留する低温容器と、該低温
容器内に設けられた冷却面に低温ヘリウムを供給する系
統と、前記冷却面に析出した固体水素を剥離する剥離手
段とを備えたスラッシュ水素の製造装置において、前記
低温容器に導入する大気圧以上の圧力の飽和液体水素と
前記冷却面を導出した低温ヘリウムとを熱交換させて水
素を過冷却状態に冷却する過冷器と、該水素を３重点圧
力又はそれ以下まで膨張させる膨張弁と、該低温容器内
に生成したスラッシュ水素の導出部とを備えたことを特
徴とするスラッシュ水素の製造装置。 - 【請求項６】 前記低温容器内に、前記冷却面を冷却し
て導出した低温ヘリウムを冷却源として前記低温容器内
に発生する水素ガスを液化する凝縮器を設けたことを特
徴とする請求項５記載のスラッシュ水素の製造装置。 - 【請求項７】 請求項５記載のスラッシュ水素の製造装
置において、前記低温容器内を所定圧力に加圧するヘリ
ウムガス供給系統を別途設けるとともに、該加圧用ヘリ
ウムガスと前記過冷器で水素を冷却して導出した低温ヘ
リウムとを熱交換させて加圧用ヘリウムガスを冷却する
熱交換器を設けたことを特徴とするスラッシュ水素の製
造装置。 - 【請求項８】 請求項５記載のスラッシュ水素の製造装
置において、前記過冷器で水素を冷却して導出した低温
ヘリウムの一部を分岐して前記低温容器内に導入する経
路を設けたことを特徴とするスラッシュ水素の製造装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5074173A JPH06281321A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | スラッシュ水素の製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5074173A JPH06281321A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | スラッシュ水素の製造方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06281321A true JPH06281321A (ja) | 1994-10-07 |
Family
ID=13539509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5074173A Pending JPH06281321A (ja) | 1993-03-31 | 1993-03-31 | スラッシュ水素の製造方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06281321A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000258053A (ja) * | 1999-03-04 | 2000-09-22 | Boeing Co:The | スラッシュ生成プロセスおよびスラッシュ生成装置 |
| US7155930B2 (en) | 2003-03-11 | 2007-01-02 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Apparatus for producing slush nitrogen and method for producing the same |
| US7201018B2 (en) | 2003-01-28 | 2007-04-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Generation and delivery system for high pressure ultra high purity product |
| JP2008273756A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 固液２相窒素の製造装置および固液２相窒素の製造方法 |
| US7526925B2 (en) | 2004-02-06 | 2009-05-05 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for producing slush nitrogen |
| US7591138B2 (en) | 2005-04-25 | 2009-09-22 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Process for producing slush fluid and apparatus therefor |
| JP2010121932A (ja) * | 2010-02-01 | 2010-06-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | スラッシュ水素製造装置 |
| KR102461916B1 (ko) * | 2021-10-19 | 2022-11-01 | 고등기술연구원연구조합 | 분쇄 에너지를 이용한 극저온 물질의 슬러시 생산 시스템 |
-
1993
- 1993-03-31 JP JP5074173A patent/JPH06281321A/ja active Pending
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000258053A (ja) * | 1999-03-04 | 2000-09-22 | Boeing Co:The | スラッシュ生成プロセスおよびスラッシュ生成装置 |
| JP4709342B2 (ja) * | 1999-03-04 | 2011-06-22 | ザ・ボーイング・カンパニー | スラッシュ生成プロセスおよびスラッシュ生成装置 |
| US7201018B2 (en) | 2003-01-28 | 2007-04-10 | Air Products And Chemicals, Inc. | Generation and delivery system for high pressure ultra high purity product |
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| US7370481B2 (en) | 2003-03-11 | 2008-05-13 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Apparatus and method for cooling super conductive body |
| US7526925B2 (en) | 2004-02-06 | 2009-05-05 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Method and apparatus for producing slush nitrogen |
| US7591138B2 (en) | 2005-04-25 | 2009-09-22 | Mayekawa Mfg. Co., Ltd. | Process for producing slush fluid and apparatus therefor |
| JP2008273756A (ja) * | 2007-04-25 | 2008-11-13 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 固液２相窒素の製造装置および固液２相窒素の製造方法 |
| JP2010121932A (ja) * | 2010-02-01 | 2010-06-03 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | スラッシュ水素製造装置 |
| KR102461916B1 (ko) * | 2021-10-19 | 2022-11-01 | 고등기술연구원연구조합 | 분쇄 에너지를 이용한 극저온 물질의 슬러시 생산 시스템 |
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