JPH06278751A - 光回折パターン付き缶 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 光回折パターンが表面に凹凸模様として形成
される光回折パターン形成樹脂層３４−金属蒸着の薄膜
層３６−感熱接着層３８よりなる光回折パターン転写箔
が転写された光回折パターン付き缶。 【効果】 特定積層状態の光回折パターン箔を転写する
ので、優れたホログラム状態及び製缶特性を同時に得る
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は光回折パターン付き缶、
特にその光回折パターンと缶胴との接着状態の改良に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来より面白みのある意匠性の付与、或
いは情報記憶などの分野でホログラムや回折格子などの
光回折パターンが活用されている。そして、容器にホロ
グラムを付与することも試みられており（特開平２−３
２９４６号公報）、該ホログラム付き容器においては、
金属表面にレリーフ型ホログラムを転写させている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のホログラム付き容器においては、金属表面と、像と
して表現すべき原稿からの光の波面に相当する干渉縞が
凹凸の形でホログラムに形成されている工具表面とを係
合させ、該金属表面にレリーフ型ホログラムを直接形成
しており、製造に時間がかかると共に、例えば平板状態
の金属表面にホログラムを形成したのち円筒形に丸め、
缶胴を形成する場合などには、ホログラムが形成された
金属面に過大な負荷をかけなければならず、ホログラム
自体に悪影響を与える恐れがあった。

【０００４】また、円筒状に缶胴を形成したのち、缶胴
表面に直接レリーフ型ホログラムを形成する場合には、
円筒面と工具との係合作業などを極めて微妙且つ正確に
行わなければならず、大幅な作業能率の低下と共に、や
はりホログラムに悪影響を与えやすいという課題があっ
た。

【０００５】これに対して、ホログラムをシート状に形
成し、該シート状ホログラムを情報カードなどに転写す
る技術が開発されている（特開昭５８−４１７３号公
報、特開昭５８−１３２２７１号公報など）。

【０００６】しかしながら、缶の製造工程及びその缶を
使用する缶詰製造工程においては、ホログラム箔の転写
後、極めて高速での搬送、充填工程、または場合により
殺菌工程などの、一般の情報カードなどとは比較になら
ない厳しい条件が課せられ、また、ホログラム箔は平面
で形成されており、凹凸模様を含む構造であり、一般的
な箔に比べて厚みがあるので、転写後のホログラム箔に
剥離方向の応力が残るため、缶上に転写されたホログラ
ム箔の剥離或いは損傷が生じてしまうという問題があ
り、事実上ホログラム箔を転写した缶は製造されていな
いというのが実情であった。

【０００７】本発明は、前記従来技術の課題に鑑みなさ
れたものであり、その目的は優れた光回折パターンと缶
胴との接着状態及び製缶特性を有する光回折パターン付
き缶を得ることにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者らが鋭意検討した結果、接着層とベースコー
ト層との組み合わせにより、曲率を有する表面における
光回折パターンの接着保持性が得られることを見出し、
本発明を完成するにいたった。

【０００９】すなわち、本発明にかかる光回折パターン
付き缶は、光回折パターンが表面に凹凸模様として記録
されている樹脂層と、前記樹脂層の凹凸模様面に形成さ
れ、前記樹脂層に入射した光を反射する薄膜層と、感熱
接着層とが、加熱により接着力が活性化されるベースコ
ート層が形成された缶胴の曲率を有する表面に、積層さ
れていることを特徴とする。

【００１０】また、本発明は、成形後の缶胴に施すと
き、さらに効果がある。

【００１１】さらに、本発明におけるベースコート層と
して、ポリエステル樹脂とエポキシ樹脂とアミノ樹脂と
を含み、加熱により活性化されるベースコート層が好適
に用いられる。

【００１２】さらにまた、本発明におけるベースコート
層として、ポリエステル樹脂１００重量部に対して、５
〜１１重量部のエポキシ樹脂、３９〜５４重量部のアミ
ノ樹脂を含む、加熱により接着力が活性化されるベース
コート層が好適に用いられる。

【００１３】前記樹脂層（光回折パターン形成樹脂層）
は、熱成形性を有する紫外線または電子線で硬化する樹
脂あるいは熱成形性を有する熱硬化樹脂で構成され、こ
れら樹脂の表面にホログラムが凹凸模様で形成されてい
る。

【００１４】この光回折パターン形成樹脂層の凹凸模様
は、物体からの光の波面に相当する干渉縞が凹凸模様で
表面に形成された光回折パターン原版を用いた複製法に
より形成され、その厚みは、０．１〜５０μｍ、望まし
くは０．５〜５μｍである。

【００１５】本発明に使用可能な光回折パターン形成樹
脂層用の樹脂は、光回折パターンの成形（複製）時には
熱成形可能であり、光回折パターン成形後つまり転写時
には、転写の際の熱に耐えるだけの耐熱性を有すること
が必要である。このような樹脂としては、いわゆる紫外
線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性
樹脂、自然硬化型の反応性樹脂などが、単独もしくは混
合して用いられ得る。

【００１６】本発明においては、硬化時間の遅い、紫外
線もしくは電子線で硬化する樹脂が適している。具体的
には、たとえばメチルメタクリレート、メチルアクリレ
ート、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プ
ロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチル
アクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチルアク
リレート、イソブチルメタクリレート、ｔ−ブチルアク
リレート、ｔ−ブチルメタクリレート、イソアミルアク
リレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘキシル
アクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、２−エ
チルヘキシルアクリレート、２−エチルヘキシルメタク
リレート、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリ
レート、ヘキサンジオールジアクリレート、ヘキサンジ
オールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメ
チロールプロパンジメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
メタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペン
タエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリス
リトールヘキサメタクリレート、エチレングリコールジ
グリシジルエーテルジアクリレート、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレ
ングリコールジグリシジルエーテルジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジグリシジルエーテルジメタクリ
レート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジ
アクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエー
テルジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リジルエーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコ
ールジグリジルエーテルジメタクリレート、ソルビトー
ルテトラグリジルエーテルテトラアクリレート、ソルビ
トールテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレート
などのラジカル重合性不飽和基を有する単量体が用いら
れうる。

【００１７】さら熱成形性を有する紫外線または電子線
硬化樹脂としては、以下の化合物〜を重合もしくは
共重合させた重合体に対し、後述する方法（イ）〜
（ニ）によりラジカル性不飽和基を導入したものが用い
られる。

【００１８】水酸基を有する単量体：Ｎ−メチロール
アクリルアミド、２−ヒドロキシエチルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシ
プロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタク
リレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、２−ヒ
ドロキシブチルメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピルメタクリレート、２−ヒドロキシ−
３−フェノキシプロピルアクリレートなど。

【００１９】カルボキシル基を有する単量体：アクリ
ル酸、メタクリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサ
クシネートなど。

【００２０】エポキシ基を有する単量体：グリシジル
メタクリレートなど。

【００２１】アジリジニル基を有する単量体：２−ア
ジリジニルエチルメタクリレート、２−アジリジニルプ
ロピオン酸アリルなど。

【００２２】アミノ基を有する単量体：アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、
ジメチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノ
エチルメタクリレートなど。

【００２３】スルフォン基を有する単量体：２−アク
リルアミド−２−メチルプロパンスルフォン酸など。

【００２４】イソシアネート基を有する単量体：２，
４−トルエンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチル
アクリレートの１モル対１モル付加物などのジイソシア
ネートと活性水素を有するラジカル重合性単量体の付加
物など。

【００２５】さらに、上記の共重合体のガラス転移点
を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、
上記の化合物と、この化合物の共重合可能な以下のよう
な単量体とを共重合させることができる。このような共
重合可能な単量体としては、たとえばメチルメタクリレ
ート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、エチ
ルメタクリレート、プロピルアクリレート、プロピルメ
タクリレート、ブチルアクリレート、ブチルメタクリレ
ート、イソブチルアクリレート、イソブチルメタクリレ
ート、ｔ−ブチルアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレ
ート、イソアミルアクリレート、イソアミルメタクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメ
タクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−
エチルヘキシルメタクリレートなどが挙げられる。

【００２６】次に上述のようにして得られた重合体を以
下に述べる方法（イ）〜（ニ）により反応させ、ラジカ
ル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線もし
くは電子線硬化樹脂が得られる。

【００２７】（イ）水酸基を有する単量体の重合体また
は共重合体の場合には、アクリル酸、メタクリル酸など
のカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させ
る。

【００２８】（ロ）カルボキシル基、スルフォン基を有
する単量体の重合体または共重合体の場合には、前記の
水酸基を有する単量体を縮合反応させる。

【００２９】（ハ）エポキシ基、イソシアネート基ある
いはアジリジニル基を有する単量体の重合体または共重
合体の場合には、前記の水酸基を有する単量体もしくは
カルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。

【００３０】（ニ）水酸基あるいはカルボキシル基を有
する単量体の重合体または共重合体の場合には、エポキ
シ基を有する単量体あるいはアジリジニル基を有する単
量体あるいはジイソシアネート化合物と水酸基含有アク
リル酸エステル単量体の１対１モルの付加物を付加反応
させても良い。

【００３１】また更に、前記の単量体と、上記の熱成形
性の紫外線または電子線硬化樹脂とを混合して用いるこ
ともできる。

【００３２】また上記のものは電子線により十分に硬化
可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合には、増感
剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテルなどのベンゾインエーテル類、ハロゲン化アセ
トフェノン類、ピアチル類などの紫外線照射によりラジ
カルを発生するものも用いることができる。

【００３３】次に、前記光回折パターン形成樹脂層に入
射した光を反射する薄膜層は、該樹脂層の光回折パター
ンに反射性を与えるものであって、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、
Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓ
ｂ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｅ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｇ
ａ、Ｒｂなどの金属およびその酸化物、窒化物などを単
独もしくは２種以上組み合わせて用いて形成される。こ
れらの金属のうちＡｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕなどが
特に好ましい。

【００３４】このような薄膜層を光回折パターン形成樹
脂層上に形成するには、上記のような金属あるいは合金
もしくは化合物を準備し、これをスパッタリング法、真
空蒸着法、イオンプレーティング法、電気メッキ法など
の従来既知の方法によって光回折パターン形成樹脂層の
光回折パターン記録面上に形成すればよい。この薄膜層
の膜厚は、１０〜１００００Å、望ましくは２００〜２
０００Åである。

【００３５】あるいは上記のような金属、金属酸化物、
もしくは金属窒化物の単独もしくは組合せの薄膜以外
に、光回折パターン形成樹脂層とは異なる屈折率を持つ
物質の連続薄膜を設けても、このような膜自体は透明で
あるにも拘わらず、透明薄膜からなる反射層として使用
できる。

【００３６】このうち屈折率が透明層より大きいものと
しては（以下、材質名の右に括弧書きで屈折率：ｎを付
記する）、Ｓｂ₂ Ｓ₃ （ｎ＝３．０）、Ｆｅ₂ Ｏ₃ （ｎ
＝２．７）、ＴｉＯ₂ （ｎ＝２．６）、ＣｄＳ（ｎ＝
２．６）、ＣｅＯ₂ （ｎ＝２．３）、ＺｎＳ（ｎ＝２．
３）、ＰｂＣｌ₂ （ｎ＝２．３）、ＣｄＯ（ｎ＝２．
２）、Ｓｂ₂ Ｏ₃ （ｎ＝２．０）、ＷＯ₃ （ｎ＝２．
０）、ＳｉＯ（ｎ＝２．０）、Ｂｉ₂ Ｏ₃ （ｎ＝２．
５）、Ｉｎ₂ Ｏ₃ （ｎ＝２．０）、ＰｂＯ（ｎ＝２．
６）、Ｔａ₂ Ｏ₃ （ｎ＝２．４）、ＺｎＯ（ｎ＝２．
１）、ＺｒＯ₂ （ｎ＝２．〇）、Ｃｄ₂ Ｏ₃ （ｎ＝１．
８）、Ａｌ₂ Ｏ₃ （ｎ＝１．６）、ＣａＯ・ＳｉＯ
₂（ｎ＝１．８）などが挙げられる。

【００３７】薄膜層はその屈折率が光回折パターン形成
樹脂層の屈折率よりも０．３以上大きいことが好まし
く、より好ましくは０．５以上大きいことである。本発
明者等の実験によれは１．０以上大きいことが最適であ
るという結果がもたらされている。

【００３８】薄膜層の膜厚は薄膜を形成する材料の透明
領域であればよいが通常は１００Å〜１００００Åが好
ましい。連続薄膜を光回折パターン形成樹脂層のレリー
フ形成面に形成する方法として、真空蒸着法、スパッタ
リング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーティ
ング法などの一般的薄膜形成手段が採用できる。

【００３９】このように屈折率の大きい連続薄膜を設け
ると、光回折パターンの特徴である再生の角度依存性に
より、光回折パターンの再生可能な角度範囲外では単な
る透明体としてしか見えず、光回折パターンの再生可能
な角度範囲内では光の反射率が最大になり、反射性ホロ
グラムとしての効果がでてくる。

【００４０】上記した連続薄膜は光回折パターン形成樹
脂層の屈折率よりも小さいものであってもよく、ＬｉＦ
（ｎ＝１．４）、ＭｇＦ₂ （ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・
ＡｌＦ₃ （ｎ＝１．４もしくは１．２）、ＡｌＦ₃ （ｎ
＝１．４）、ＣａＦ₂ （ｎ＝１．３もしくは１．４）、
ＮａＦ（ｎ＝１．３）などが例示される。

【００４１】あるいは光回折パターン形成樹脂層より屈
折率が大きい透明な強誘導体も同様に使用でき、ＣｕＣ
ｌ（ｎ＝２．０）、ＣｕＢｒ（ｎ＝２．２）、ＧａＡｓ
（ｎ＝３．３から３．６）、ＧａＰ（ｎ＝３．３から
３．５）、Ｎ₄ （ＣＨ₂ ）₆ （ｎ＝１．６）、Ｂｉ
₄ （ＧｅＯ₄ ）（ｎ＝２．１）、ＫＨ₂ ＰＯ₄ （ＫＤ
Ｐ）（ｎ＝１．５）、ＫＤ₂ ＰＯ₄ （ｎ＝１．５）、Ｎ
Ｈ₄ Ｈ₂ ＰＯ₄ （ｎ＝１．５）、ＫＨ₂ ＡｓＯ₄ （ｎ＝
１．６）、ＲｂＨ₂ ＡｓＯ₄ （ｎ＝１．６）、ＢａＴｉ
Ｏ₃ （ｎ＝２．４）、ＫＴａ_0.65Ｎｂ_0.35Ｏ₃ （ｎ＝
２．３）、Ｋ_0.6 Ｌｉ_0.4ＮｂＯ₃ （ｎ＝２．３）、Ｋ
Ｓｒ₂ Ｎｂ₅ Ｏ₁₅（ｎ＝２．３）、Ｓｒ_x Ｂａ_1-xＮｂ
₂ Ｏ₆ （ｎ＝２．３）、Ｂａ₂ ＮａＮｂＯ₁₅（ｎ＝２．
３）、ＬｉＮｂＯ₃（ｎ＝２．３）、ＬｉＴａＯ₃ （ｎ
＝２．４）、ＳｒＴｉＯ₃ （ｎ＝２．４）、ＫＴａＯ₃
（ｎ＝２．２）などが例示される。

【００４２】また、光回折パターン形成樹脂層とは屈折
率の異なる透明な合成樹脂の層を透明薄膜からなる薄膜
層とすることもでき、具体的な合成樹脂として使用でき
るものは次のようなものである

【００４３】ポリテトラフロロエチレン（ｎ＝１．３
５）、ポリクロロトリフロロ（ｎ＝１．４３）、ポリ酢
酸ビニル（ｎ＝１．４５から１．４７）、ポリエチレン
（ｎ＝１．５０〜１．５４）、ポリプロピレン（ｎ＝
１．４９）、ポリメチルメタクリレート（ｎ＝１．４
５）、ポリスチレン（ｎ＝１．６０）、ポリ塩化ビニリ
デン（ｎ＝１．６０から．１６３）、ポリビニルブチラ
ール（ｎ＝１．４８）、ポリビニルホルマール（ｎ＝
１．５０）、ポリ塩化ビニル（ｎ＝１．５２から１．５
５）、ポリエステル（ｎ＝１．５２から１．５７）。

【００４４】本発明における光回折パターンは上記のよ
うに光回折パターンの凹凸模様を下面に有する光回折パ
ターン樹脂層および光回折パターン形成樹脂層の下面の
透明薄膜からなる薄膜層とを原則的に有しているが、光
回折パターンの凹凸模様を上面に有する光回折パターン
形成樹脂層と、光回折パターンの凹凸模様の上に接して
設けられた薄膜層とから成ってもよい。

【００４５】又、本発明における感熱接着層を構成する
材料として、フェノール系樹脂、フラン系樹脂、尿素系
樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレ
タン系樹脂、エポキシ系樹脂若しくはその他の熱硬化性
樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、
ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ニトロセルロース、ポリ
アミド若しくはその他の熱可塑性樹脂のうち１種又は２
種以上を主成分とする接着剤を使用することができる。
また、これらの接着剤は溶液型、エマルジョン型、粉末
型またはフィルム型等のいずれのものでもよい。感熱接
着層の厚みとしては４μｍから２０μｍ程度が好まし
い。

【００４６】また、本発明におけるベースコート層を構
成する材料として、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、
アミノ樹脂の混合物を主成分とすることが好適であり、
必要に応じて潤滑剤、可塑剤、安定剤、硬化剤等を添加
した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなるベー
スコート層用塗料を用いて、グラビア法、ロール法、ナ
イフエッジ法等の塗布方法により行うことができる。

【００４７】

【作用】光回折パターン箔の感熱接着層が、加熱により
接着力が活性化されるベースコート層と対向して接着さ
れるので、感熱接着層を軟化させるための加熱によりベ
ースコート層の接着力が活性化され、缶胴の曲率を有す
る表面に接着される光回折パターンであっても、極めて
強固な光回折パターンと缶胴との接着状態が維持され
る。

【００４８】

【実施例】以下、図面に基づき本発明の好適な実施例を
説明する。

【００４９】図１には本発明の一実施例にかかる光回折
パターン箔転写に用いられる転写装置の概略構成が示さ
れている。

【００５０】同図に示す転写装置１０は、転写用ロータ
リー版１２と、該転写用ロータリー版１２の上方に配置
されたセラミックヒーター１４とを含み、図中転写用ロ
ータリー版１２の下方に被転写体である缶胴１６が配置
され、缶胴１６と転写用ロータリー版１２の間隙に光回
折パターン箔転写シート１８が配置されている。

【００５１】前記転写用ロータリー版１２は、表面に凸
部１２ａを有するシリコンゴムにより被覆されており、
３００℃程度の高温に耐えられるようにできている。

【００５２】一方、転写用ロータリー版１２は回転しな
がら２００℃前後に加熱する必要があり、このため該転
写用ロータリー版１２の温度は赤外線温度センサー２０
により監視され、該温度センサー２０の出力に基づきセ
ラミックヒーター１４の加熱状態の制御が行われ、適宜
所定の温度に保持される。

【００５３】被転写体である缶胴１６は、表面が耐熱ゴ
ムで被覆されている２個の受けロール２２、２２によっ
て支持されており、これら受けロール２２、２２は転写
用ロータリー版１２と同期して回転しているので、缶胴
１６も転写用ロータリー版１２と同期して回転する。ま
た缶胴１６を支持している受けロール２２、２２の内部
にはカートリッジヒーター２３が配置され、缶を外側よ
り１００℃前後に加熱している。

【００５４】そして、転写用ロータリー版１２の凸部１
２ａにより、光回折パターン箔転写シート１８を缶胴１
６に圧着し、該圧着部分の光回折パターン箔を缶胴１６
上へ転写するものである。なお、光回折パターン箔転写
シート１８も、箔送りロール２４により、転写用ロータ
リー版１２の送り及び缶胴１６の回転に同期して送られ
ている

【００５５】図２には本発明に用いられる光回折パター
ン箔転写シート１８の積層構成が示されている。

【００５６】同図に示すように、光回折パターン箔転写
シート１８は転写用ロータリー版１２側よりベースフィ
ルム３０、剥離層３２、保護層３３、光回折パターン形
成樹脂層３４、薄膜層３６、感熱接着層３８の順番に積
層されている。そして、転写用ロータリー版１２の凸部
１２ａに対応した部分の接着層３８が缶胴１６に接着さ
れ、該転写シート１８は剥離層３２でベースフィルム３
０より剥離し、剥離層３２−保護層３３−光回折パター
ン形成樹脂層３４−薄膜層３６−接着層３８よりなる転
写箔片１８ａが缶胴１６上に接着されることとなる。従
って、缶胴１６上には前記凸部１２ａの形状に従って光
回折パターン箔転写が行われる。

【００５７】なお、本実施例においては缶胴１６の表面
にはベースコート４０が塗布されており、光回折パター
ン箔転写シート１８のより高速の転写を可能としてい
る。

【００５８】ベースフィルム３０としては、フィルム状
のあらゆる材料が用いられうる。具体的には、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリイミド、ポリメタクリル酸メ
チル、ポリスチレン、ポリビニルブチラール、ポリカー
ボネートなどの重合体フィルム、合成紙、鉄などの金属
フィルムなどが用いられ、これらの積層体も用いられう
る。このベースフィルムの膜厚は１〜２００μｍ、望ま
しくは１０〜５０μｍであることが好ましい。

【００５９】剥離層３２としては、任意の剥離剤が使用
でき、具体的には、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、
ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、塩化ゴム系樹脂、シ
リコン系樹脂、ニトロセルロース系、ワックス類、天然
ゴム等が使用できる。

【００６０】保護層３３としては、透明性があれば着色
してあっても良いが、無色透明の樹脂が好ましい。例え
ば、アルキッド樹脂、ブチル化アミノアルデヒド樹脂、
フェノール樹脂、フタル酸系樹脂、エポキシ系樹脂、ウ
レタン系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル系樹脂、不飽
和ポリエステル系樹脂、ポリシロキサン系樹脂等が挙げ
られる。

【００６１】以下に本発明の実施例と比較例とに対して
行なった比較試験とその結果を説明する。

【００６２】周知のロール塗装装置のマンドレルに冠着
させたアルミニウム合金製のツーピース缶胴１６に、表
１に示す組成の塗料をベースコートとして塗装した（乾
燥後の膜厚換算で約１０μ）後、オーブン内で約３００
℃の熱風下で約１０秒間（缶胴のピーク温度約２００
℃）乾燥させた（各ベースコートそれぞれ６０缶ず
つ）。

【００６３】一方、巻いてあるポリエチレンテレフタレ
ート樹脂フィルムから成る厚さ２５μｍのベースフィル
ム３０を解きながら、その片面にグラビアロールを用い
て熱可塑製アクリル樹脂とゴムの混合物を主成分とする
組成物を塗装し（乾燥後の膜厚１μｍ）、乾燥して剥離
層３２を形成した後、その上に、熱硬化性アクリル樹脂
溶液をグラビアロールを用いて乾燥膜厚が１μｍになる
様に塗装し、乾燥して保護層３３を形成し、更にその上
に、トリメチロールプロパントリアクリレート１００部
に対し、増感材としてイルガキュアー１８４（チバガイ
ギー社製）を４％加えた紫外線硬化樹脂をグラビアロー
ルを用いて膜厚２μになる様に塗布してから、この樹脂
面に、光回析パターンが凹凸形状で記録されている金型
を密着させ、ベースフィルム側より、８０Ｗ／ｃｍ水銀
灯下１０ｃｍの位置を２ｍ／ｍｉｎの速さで通して紫外
線を照射して樹脂を硬化させ、深さ０．２μｍ、ピッチ
（幅）０．４〜０．７μｍの凹凸模様を形成して光回折
パターン形成樹脂層３４を形成した後、これら各層が形
成されているフィルムを真空蒸着装置内に送り込んで光
回折パターン形成樹脂層３４上にアルミニウムを５００
Åの厚さに蒸着して薄膜層３６を形成し、最後にこの薄
膜層３６上にポリ酢酸ビニル樹脂溶液を乾燥膜厚が５μ
ｍになる様にグラビアロールで塗装し、乾燥して接着層
３８を形成して光回折パターン転写シート１８を完成
し、ロールに巻取った。

【００６４】次に、前記２種類のベースコート剤を塗装
してあるツーピース缶胴１６上に光回折パターン転写箔
１８ａを１５缶／分の速度で転写印刷した（各６０缶ず
つ）。

【００６５】即ち、図１に示す受けロール２２、２２上
にツーピース缶胴１６を載置し、９０〜１１０℃の温度
に維持しながら、転写用ロータリー版１２（１９０〜２
１０℃）を缶胴１６側に移動して回転させながら光回折
パターン箔転写シート１８を缶胴１６に押し付けて（押
圧力５〜６ｋｇ／ｃｍ² ）、缶胴１６表面上に接着層３
８、薄膜層３６、光回折パターン形成樹脂層３４、保護
層３３、剥離層３２から成る転写箔片１８ａを、アルフ
ァベットのＡ、Ｃ、Ｄ、Ｉ、Ｎ、Ｗの文字の形に転写し
た。

【００６６】尚、この転写印刷の際には、受けロール２
２、２２を転写用ロータリー版１２と同期して回転させ
ることにより、缶胴１６を転写用ロータリー版１２と同
期回転させると共にロールから巻き解いて送る光回折パ
ターン箔転写シート１８の送り量は、缶胴１６の回転量
に合せる。

【００６７】実施例の組成のベースコート剤を塗装した
ツーピース缶胴１６上に転写された転写箔片１８ａは、
６０缶全部が各アルファベットのどこにも欠けがなくき
れいに転写されており（評価○）、またはその表面は、
各文字が異なる色に輝く（黄金色、橙色、紅色、赤紫
色、青紫色、黄緑色、緑色、水色、青緑色、銀色等）多
数の小面積部分に区分されており、缶胴を見る角度を変
えれば小面積部分の色も様々に変わるので、非常に美し
く意匠性に秀れた缶胴となった。

【００６８】一方、比較例の組成（表１）のベースコー
ト剤を塗装したツーピース缶胴１６上には、６０缶すべ
て転写箔片１８ａが全く転写されなかった（評価×）。

【００６９】転写印刷がうまくなされた実施例の缶胴
を、各試験毎に各１０缶ずつ抜き取り、以下の基準で密
着性、耐水性、耐アルコール性、塗膜（転写層）硬度を
調べ評価した。

【００７０】密着性；ＪＩＳ Ｋ５４００の塗料一般試
験法に基づき、ナイフで転写箔片に基盤目状の切目を入
れ、セロハンテープを転写箔片上に一担貼着してから引
き剥し、転写箔片の剥離が全くなければ○、転写箔片
（転写層）の一部が剥離するが、剥離部分が３５％以下
ならば△、剥離部分が３５％を越えれば×と評価した。

【００７１】耐水性；６５℃の温水に転写印刷を施した
缶胴部分を３０分間浸漬した場合の転写箔片の表面状態
を観察し、全く変化がなければ○、光沢が低下（グロス
ダウン）していれば△、白化又は転写層に浮きが発生し
ていれば×と評価した。

【００７２】耐アルコール性；２つの試験を行なった。
先ず、３８℃に保持した濃度６０％のエチルアルコール
中に転写印刷を施した缶胴部分を２４時間浸漬した後、
転写箔片の表面状態を観察し、全く変化がなければ○、
光沢が低下していれば△、白化又は転写層に浮きが発生
していれば×と評価した。

【００７３】一方、この試験で使った缶胴とは別の缶胴
を用意し、濃度８０％のエチルアルコールを脱脂綿に染
み込ませ、この脱脂綿をハンマーの曲面側に巻き付けて
約０．９ｋｇの圧力で転写面に圧着し５０回往復して擦
った場合の転写層の剥離の有無を観察し、変化がなけれ
ば○、１０回以上擦って転写層が剥離し始める場合は
△、１０回擦らないうちに転写層が剥離し始める場合は
×と評価した。

【００７４】そして、これら２つの試験の評価が同じと
きにはその評価を耐アルコール性の評価として採用し、
また２つの試験の評価が異なるときには悪い方の評価を
採用した。

【００７５】塗膜（転写層）硬度；各温度時の塗膜（転
写層）硬度に相当する鉛筆硬度で評価した。

【００７６】これらの評価結果を同じく表１に示す。

【００７７】

【表１】

【００７８】〔各成分内容〕 ポリエステル樹脂； 平均分子量：７０００ ガラス転移点：７４±２℃ 酸価：１５±３ 水酸基価：２５±５ 酸成分：テレフタル酸、イソフタル酸、セバチン酸 アルコール成分：エチレングリコール、ネオペンチルグ
リコール エポキシ樹脂； 平均分子量：１４００、ビスフェノールＡ型 アミノ樹脂； メラミンはメチル化高イミノ基型、分子量：約５００ グアナミンはメチル化高イミノ基型、分子量：約１５０
０ ワックス；マイクロクリスタリンワックス フロー剤；低分子量アクリル樹脂

【００７９】表１より明らかなように、従来のベースコ
ート剤を用いた場合（比較例）には、転写特性に劣り、
使用不可能である。

【００８０】一方、本実施例にかかる転写用ベースコー
トを用いた場合には、各特性とも良好であり、缶として
の適性にも優れていることが理解される。

【００８１】以上のように本実施例にかかるベースコー
トは、ポリエステル樹脂、エボキシ樹脂、アミノ樹脂を
主成分とすることで、優れた転写性と共に、密着性、耐
水性、耐アルコール性なども大幅に改善される。

【００８２】次に各組成物の配合量についての検討結果
を説明する。

【００８３】すなわち、基本配合を前記実施例の組成と
し、各成分を単独で増減した場合の塗膜特性の変化を表
２〜表４に示す。

【００８４】ここで評価基準は前記実施例の場合と同じ
であるが、転写性の評価の○は転写箔中の欠けが全くな
い場合で、△は部分的に欠けがある場合、×は全く転写
していない場合である。なお、各成分の増減分は１−ブ
タノールにより調整した。

【００８５】

【表２】

【００８６】

【表３】

【００８７】以上のように本実施例において、ポリエス
テル樹脂の配合量が多い場合には、転写箔片の密着性が
低下する傾向にある。また、エポキシ樹脂が多い場合
も、転写箔片の密着性が低下し、一方、少ない場合には
塗膜硬度が低下する傾向にある。

【００８８】

【００８９】以上のように、アミノ樹脂は２０〜５０重
量部、特に２５〜３５重量部程度配合することが好適で
あり、３５重量部を超えて配合すると、転写性、密着性
が悪化する傾向にある。

【００９０】前述の実験からも明らかなように、本発明
に用いられるベースコート層を構成する材料としては、
ポリエステル樹脂１００重量部に対して、エポキシ樹脂
を５〜１１重量部、アミノ樹脂を３９〜５４重量部混合
することが特に好適である。

【００９１】なお、本実施例にかかるベースコート剤
は、通常の印刷缶におけるトップコートとして用いるこ
とができる。

【００９２】すなわち、光回折パターン転写箔片を缶胴
の一部分にのみ転写する場合、他の部分は通常の印刷が
行われる場合が多い。そこで、缶胴表面に例えば先ずホ
ワイトベースコート剤を施し、次に印刷インキにより所
望の印刷をし、その上に通常は塗装の最上層であるツヤ
ニス層として前記ベースコート剤を施し、このベースコ
ート層上の一部分に前記光回折パターン転写シート（転
写箔片１８ａ）を転写することが好適である。

【００９３】図３には本発明に使用される光回折パター
ン箔転写装置１１０の他の例が示されている。なお、前
記図１と対応する部分には符号１００を加えて示し、説
明を省略する。

【００９４】図３に示す転写装置１１０は、転写用平板
状ゴム版１１２に所望の転写形状に合せた凸部１１２ａ
を設けるとともに、該転写用ゴム版１１２を支持板１５
０を介して加熱板１１４により加熱している。加熱板１
１４内には加熱用ヒーター１５２が配置され、該加熱ヒ
ーター１５２には電源１５４より加熱電流が供給されて
いる。なお、加熱板１１４内には温度センサー１５６も
配置されており、該温度センサー１５６の温度信号はコ
ントローラー１５８に供給され、該コントローラー１５
８が電源１５４に指示を与え、転写用ゴム版１１２を所
望の温度に制御する。

【００９５】この場合、転写用ゴム版１１２は缶胴１１
６の回転に同期して図中左右方向に移動し、缶胴の形状
に合せた光回折パターン箔の転写を可能としている

【００９６】また、上記ベースコート剤には、本発明特
有の効果を損わない範囲で、各種の補助樹脂、添加剤等
の配合を行うことが可能である。

【００９７】

【発明の効果】以上説明したように本発明に係る光回折
パターン付き缶によれば、光回折パターン箔の感熱接着
層が、加熱により接着力が活性化されるベースコート層
と対向して接着されるので、感熱接着層を軟化させるた
めの加熱によりベースコート層が接着力を活性化される
ため、缶胴の曲率を有する表面に接着された光回折パタ
ーンであっても、極めて高速での搬送、充填工程などの
厳しい条件下において剥離あるいは損傷が生じないとい
う、極めて強固な光回折パターンと缶との接着状態を維
持することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例で使用した光回折パターン箔片
の転写に用いる缶胴用転写装置の概略構成図。

【図２】光回折パターン箔片の転写に用いる缶胴用転写
装置の他の例の概略構成図。

【符号の説明】

１６ 缶胴 ３４ 光回折パターン形成樹脂層 ３８ 接着層（接着剤） ４０ ベースコート層

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【手続補正書】

【提出日】平成５年１０月１４日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】図面の簡単な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例で使用した光回折パターン箔片
の転写に用いる缶胴用転写装置の概略構成図。

【図２】図１に示した光回折パターン箔転写シートの構
成説明図。

【図３】光回折パターン箔片の転写に用いる缶胴用転写
装置の他の例の概略構成図。

【符号の説明】 １６ 缶胴 ３４ 光回折パターン形成樹脂層 ３８ 接着層（接着剤） ４０ ベースコート層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ｂ３２Ｂ 7/12 7148−4Ｆ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 光回折パターンが表面に凹凸模様として
   記録されている樹脂層と、前記樹脂層の凹凸模様面に形
   成され、前記樹脂層に入射した光を反射する薄膜層と、
   感熱接着層とが、加熱により接着力が活性化されるベー
   スコート層が形成された缶胴の曲率を有する表面に、積
   層されていることを特徴とする光回折パターン付き缶。
2. 【請求項２】 缶胴が成形済みの缶胴であることを特徴
   とする請求項１記載の光回折パターン付き缶。
3. 【請求項３】 加熱により接着力が活性化されるベース
   コート層が、ポリエステル樹脂とエポキシ樹脂とアミノ
   樹脂とを含むことを特徴とする請求項１または２記載の
   光回析パターン付き缶。
4. 【請求項４】 加熱により接着力が活性化されるベース
   コート層が、ポリエステル樹脂１００重量部に対して、
   ５〜１１重量部のエポキシ樹脂、３９〜５４重量部のア
   ミノ樹脂を含むことを特徴とする請求項１または２若し
   くは３記載の光回折パターン付き缶。