JPH0627789A - 画像形成装置のパターン露光装置 - Google Patents
画像形成装置のパターン露光装置Info
- Publication number
- JPH0627789A JPH0627789A JP4180113A JP18011392A JPH0627789A JP H0627789 A JPH0627789 A JP H0627789A JP 4180113 A JP4180113 A JP 4180113A JP 18011392 A JP18011392 A JP 18011392A JP H0627789 A JPH0627789 A JP H0627789A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- pattern
- light source
- pattern exposure
- exposure apparatus
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- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 比較的簡単な構造で光源に起因するパターン
潜像の濃度むらを無くし、写真等の絵的画像の階調再現
性をさらに向上させることができる手段を得ること。 【構成】 電子写真方式の画像形成装置に使用され、一
様帯電した感光体表面に階調再現性向上用のスリットパ
ターン潜像を形成するパターン露光装置であって、この
パターン露光装置は、感光体Ｆの略全幅に照射可能な蛍
光灯１１と、この蛍光灯１１を被い一定間隔で微細な光
透過孔１３を形成した遮光部材１２と、蛍光灯１１と感
光体Ｆの間に配置され、蛍光灯１１の照射光によって感
光体Ｆ表面にスリットパターンを形成するパターンプレ
ート１５を備えている。
潜像の濃度むらを無くし、写真等の絵的画像の階調再現
性をさらに向上させることができる手段を得ること。 【構成】 電子写真方式の画像形成装置に使用され、一
様帯電した感光体表面に階調再現性向上用のスリットパ
ターン潜像を形成するパターン露光装置であって、この
パターン露光装置は、感光体Ｆの略全幅に照射可能な蛍
光灯１１と、この蛍光灯１１を被い一定間隔で微細な光
透過孔１３を形成した遮光部材１２と、蛍光灯１１と感
光体Ｆの間に配置され、蛍光灯１１の照射光によって感
光体Ｆ表面にスリットパターンを形成するパターンプレ
ート１５を備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、電子写真方式を採用し
た複写機等の画像形成装置に使用され、写真等の絵的画
像の階調再現性を向上させる画像形成装置のパターン露
光装置に関する。
た複写機等の画像形成装置に使用され、写真等の絵的画
像の階調再現性を向上させる画像形成装置のパターン露
光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子写真方式を採用した画像形成装置に
おいては、例えば、本出願人により出願された特願平３
−１５７３６号明細書で提案されているように、感光体
に一様な帯電を与えた後、原稿画像に対応する静電潜像
を形成する前又は後の工程において、感光体上に複数の
線から成るパターン潜像を形成するパターン露光装置が
提案されている。
おいては、例えば、本出願人により出願された特願平３
−１５７３６号明細書で提案されているように、感光体
に一様な帯電を与えた後、原稿画像に対応する静電潜像
を形成する前又は後の工程において、感光体上に複数の
線から成るパターン潜像を形成するパターン露光装置が
提案されている。
【０００３】図７は、上記公報に示す従来のパターン露
光装置で、図７（ａ）は縦断面図、図７（ｂ）は図７
（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
光装置で、図７（ａ）は縦断面図、図７（ｂ）は図７
（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【０００４】同図において、パターン露光装置は、微小
光源としてのＬＥＤチップ１が４ｍｍピッチに配列され
た基板２、シリンドリカルレンズ３、ＬＥＤのランプハ
ウスも兼ねたハウジング４、１２５μｍ間隔で光透過部
と遮光部とを交互に形成したパターンプレート５、補強
板６、透明防塵カバー７等で構成され、感光体Ｆと一定
の間隔で保持されている。
光源としてのＬＥＤチップ１が４ｍｍピッチに配列され
た基板２、シリンドリカルレンズ３、ＬＥＤのランプハ
ウスも兼ねたハウジング４、１２５μｍ間隔で光透過部
と遮光部とを交互に形成したパターンプレート５、補強
板６、透明防塵カバー７等で構成され、感光体Ｆと一定
の間隔で保持されている。
【０００５】このパターン露光装置を設けることによっ
て、静電潜像の電荷分布パターンが改善され、特に写真
等の中間調を有する画像の再現性を大幅に向上させるこ
とができる。
て、静電潜像の電荷分布パターンが改善され、特に写真
等の中間調を有する画像の再現性を大幅に向上させるこ
とができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、同装置に使
用される発光ダイオードチップ１は、通常各々の輝度が
±４０％程度ばらつきがあり、このため、図８（ａ）に
示すようにパターン露光装置の光量分布を±２０％程度
に抑えても、画質上は同図（ｂ）に示すように感光体の
移動方向と直角方向に濃度むらとして現れ、充分に絵的
画像の階調再現性を向上させることができない。この対
策として、発光量にばらつきのない発光ダイオードチッ
プを選別して使用することが考えられるが、完全にばら
つきを無くすことは困難で、しかもコストアップの原因
となる。
用される発光ダイオードチップ１は、通常各々の輝度が
±４０％程度ばらつきがあり、このため、図８（ａ）に
示すようにパターン露光装置の光量分布を±２０％程度
に抑えても、画質上は同図（ｂ）に示すように感光体の
移動方向と直角方向に濃度むらとして現れ、充分に絵的
画像の階調再現性を向上させることができない。この対
策として、発光量にばらつきのない発光ダイオードチッ
プを選別して使用することが考えられるが、完全にばら
つきを無くすことは困難で、しかもコストアップの原因
となる。
【０００７】本発明が解決すべき課題は、比較的簡単な
構造で光源に起因するパターン潜像の電位むらをなくす
ことにより画像上の濃度むらを改善し、写真等の絵的画
像の階調再現性をさらに向上させることができる手段を
得ることにある。
構造で光源に起因するパターン潜像の電位むらをなくす
ことにより画像上の濃度むらを改善し、写真等の絵的画
像の階調再現性をさらに向上させることができる手段を
得ることにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、電子写真方式の画像形成装置に使用され、
一様帯電した感光体表面に階調再現性向上用のスリット
パターン潜像を形成するパターン露光装置において、前
記感光体の略全幅に照射可能な光源と、該光源を被い一
定間隔で光透過孔を形成した遮光部材と、該光源と前記
感光体の間に配置され、前記光源の照射光によって前記
感光体表面に前記スリットパターンを形成するパターン
プレートを備えたことを特徴とする。
するために、電子写真方式の画像形成装置に使用され、
一様帯電した感光体表面に階調再現性向上用のスリット
パターン潜像を形成するパターン露光装置において、前
記感光体の略全幅に照射可能な光源と、該光源を被い一
定間隔で光透過孔を形成した遮光部材と、該光源と前記
感光体の間に配置され、前記光源の照射光によって前記
感光体表面に前記スリットパターンを形成するパターン
プレートを備えたことを特徴とする。
【０００９】ここで、遮光部材をパターン露光装置のハ
ウジングの一部として構成したり、パターンプレートの
光量が不足する両端部分に光量増加用スリット部を形成
したり、また、光源として、感光体の除電に使用する除
電ランプを共用することもできる。
ウジングの一部として構成したり、パターンプレートの
光量が不足する両端部分に光量増加用スリット部を形成
したり、また、光源として、感光体の除電に使用する除
電ランプを共用することもできる。
【００１０】なおここでいう光源としては、感光体と略
同じ幅の、直径１０ｍｍ程度の蛍光灯や冷陰極管、また
は幅１０ｍｍ程度のＥＬ板等を用いるできる。
同じ幅の、直径１０ｍｍ程度の蛍光灯や冷陰極管、また
は幅１０ｍｍ程度のＥＬ板等を用いるできる。
【００１１】また、遮光部材に形成した光透過孔として
は、光量，スリットの深度，感光体との間隔の適正値等
の関係から、直径が２００〜３００μｍ、間隔は４ｍｍ
程度が望ましい。
は、光量，スリットの深度，感光体との間隔の適正値等
の関係から、直径が２００〜３００μｍ、間隔は４ｍｍ
程度が望ましい。
【００１２】
【作用】本発明の画像形成装置のパターン露光装置の光
源は、基本的に蛍光灯や冷陰極管等の単一光源を用い、
この光源の一部を遮蔽して結果として複数の発光源を得
るものであり、従来の独立した光源とくらべ濃度むらの
ない一様な光源となりうる。
源は、基本的に蛍光灯や冷陰極管等の単一光源を用い、
この光源の一部を遮蔽して結果として複数の発光源を得
るものであり、従来の独立した光源とくらべ濃度むらの
ない一様な光源となりうる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の画像形成装置のパターン露光
装置を図面に示す実施例に基づき具体的に説明する。
装置を図面に示す実施例に基づき具体的に説明する。
【００１４】図１（ａ）は、本発明の第１の実施例のパ
ターン露光装置の縦断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の
Ｂ−Ｂ線断面図である。なお本実施例において、従来例
で示したパターン露光装置と同一のものは同じ符号を付
して説明を省略する。
ターン露光装置の縦断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の
Ｂ−Ｂ線断面図である。なお本実施例において、従来例
で示したパターン露光装置と同一のものは同じ符号を付
して説明を省略する。
【００１５】図中１１は、本実施例に用いた直径１０ｍ
ｍの蛍光灯からなる光源であり、感光体Ｆの幅と略同じ
長さを有し、その外周部には図２（ａ）の正面図及び図
２（ｂ）の断面図に示すように、円筒状の遮光部材１２
が取付けられている。遮光部材１２は合成ゴム製で、蛍
光灯の外周面に密着状に取付けられ、図１（ａ）の感光
体Ｆを向く面には、一辺が２７５μｍの矩形状の光透過
孔１３を４ｍｍ間隔で形成している。この蛍光灯１１
は、ハウジング４の側面に取り付けられた補強部材１４
の下端部をＵ字状に形成し、ここを光源である蛍光灯１
１のカバーとしている。
ｍの蛍光灯からなる光源であり、感光体Ｆの幅と略同じ
長さを有し、その外周部には図２（ａ）の正面図及び図
２（ｂ）の断面図に示すように、円筒状の遮光部材１２
が取付けられている。遮光部材１２は合成ゴム製で、蛍
光灯の外周面に密着状に取付けられ、図１（ａ）の感光
体Ｆを向く面には、一辺が２７５μｍの矩形状の光透過
孔１３を４ｍｍ間隔で形成している。この蛍光灯１１
は、ハウジング４の側面に取り付けられた補強部材１４
の下端部をＵ字状に形成し、ここを光源である蛍光灯１
１のカバーとしている。
【００１６】図中１５はスリットパターンを形成するた
めのパターンプレートで、図３（ａ）に示すように、表
面に１２５μｍの等間隔でスリット１６を形成し、光源
の光量が不足する両端部分はスリット１６の長さを徐々
に長くして光量増加用スリット部１７を設けている。
めのパターンプレートで、図３（ａ）に示すように、表
面に１２５μｍの等間隔でスリット１６を形成し、光源
の光量が不足する両端部分はスリット１６の長さを徐々
に長くして光量増加用スリット部１７を設けている。
【００１７】上記構成において、本実施例の画像形成装
置のパターン露光装置は、光源として蛍光灯１１からな
る単一光源を用い、この光源の一部を遮蔽して結果とし
て複数の発光源を得るものであり、従来の独立した光源
とくらべ輝度むらのない一様な光源となりうる。さら
に、パターンプレート１５の両端部に光量増加用スリッ
ト部１７を形成しているため、特に光量が不足しがちな
両端部の光量を増加させることができ、図３（ｂ）に示
すように中心部から両端部で全て同一の光量を得ること
ができる。これらの相乗効果によって、図４に示すよう
な均一な安定した光量を得ることができ、感光体表面に
電位むらのないスリットパターン潜像を形成することが
可能となる。なお、図３（ｂ）の破線は、光量増加用ス
リット部１７を設けない場合、すなわち、スリット１６
の長さが光源の全幅に渡って等しい場合の光源両端での
光量低下を示す。
置のパターン露光装置は、光源として蛍光灯１１からな
る単一光源を用い、この光源の一部を遮蔽して結果とし
て複数の発光源を得るものであり、従来の独立した光源
とくらべ輝度むらのない一様な光源となりうる。さら
に、パターンプレート１５の両端部に光量増加用スリッ
ト部１７を形成しているため、特に光量が不足しがちな
両端部の光量を増加させることができ、図３（ｂ）に示
すように中心部から両端部で全て同一の光量を得ること
ができる。これらの相乗効果によって、図４に示すよう
な均一な安定した光量を得ることができ、感光体表面に
電位むらのないスリットパターン潜像を形成することが
可能となる。なお、図３（ｂ）の破線は、光量増加用ス
リット部１７を設けない場合、すなわち、スリット１６
の長さが光源の全幅に渡って等しい場合の光源両端での
光量低下を示す。
【００１８】上記第１の実施例では、蛍光灯１１の外周
に個別の部品として構成された遮蔽部材１２を設けた
が、無論これに限定されるものではなく、以下に説明す
る第２の実施例に示すように、例えば遮蔽材料で形成さ
れたパターン露光装置のハウジングの一部に透光孔を設
け、これを遮蔽部材とすることもできる。
に個別の部品として構成された遮蔽部材１２を設けた
が、無論これに限定されるものではなく、以下に説明す
る第２の実施例に示すように、例えば遮蔽材料で形成さ
れたパターン露光装置のハウジングの一部に透光孔を設
け、これを遮蔽部材とすることもできる。
【００１９】図５は、本発明の第２の実施例を示してお
り、同図（ａ）は縦断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の
Ｄ−Ｄ線断面図である。なお第２の実施例において、第
１の実施例で示したパターン露光装置と同一のものは同
じ符号を付して説明を省略する。
り、同図（ａ）は縦断面図、同図（ｂ）は同図（ａ）の
Ｄ−Ｄ線断面図である。なお第２の実施例において、第
１の実施例で示したパターン露光装置と同一のものは同
じ符号を付して説明を省略する。
【００２０】第２の実施例においては、ハウジング４の
下端部に内側に延びる突出部４ａを設け、突出部４ａに
囲まれる部分に光透過孔１３を形成する。
下端部に内側に延びる突出部４ａを設け、突出部４ａに
囲まれる部分に光透過孔１３を形成する。
【００２１】図６は、本発明のパターン露光装置の第３
の実施例を示す画像形成装置の概略図である。第３の実
施例におけるパターン露光装置２５は、光源部を除いて
基本的には第１，第２の実施例と同様な構造を有してお
り、ベルト状感光体２６とは反対側の端部、すなわち、
ハウジング底部に、上記したような一定間隔の透過孔
（図示せず）が設けられている。そして、光源として、
感光体の除電に用いる除電ランプ２４を共用可能な構造
となっている。
の実施例を示す画像形成装置の概略図である。第３の実
施例におけるパターン露光装置２５は、光源部を除いて
基本的には第１，第２の実施例と同様な構造を有してお
り、ベルト状感光体２６とは反対側の端部、すなわち、
ハウジング底部に、上記したような一定間隔の透過孔
（図示せず）が設けられている。そして、光源として、
感光体の除電に用いる除電ランプ２４を共用可能な構造
となっている。
【００２２】図中、２２は除電ランプ２４の照射光を所
定方向に反射させる反射板、２３は照射光をパターン露
光装置２５に選択的に供給するシャッター、２６はベル
ト状感光体、２７は帯電器、２８は現像機、２９は清掃
機をそれぞれ示す。
定方向に反射させる反射板、２３は照射光をパターン露
光装置２５に選択的に供給するシャッター、２６はベル
ト状感光体、２７は帯電器、２８は現像機、２９は清掃
機をそれぞれ示す。
【００２３】本実施例においては、反射板２２とシャッ
ター２３により、光路と照射タイミングとが制御され、
除電工程での除電ランプ２４の照射光を利用してパター
ン露光を行なうことができる。
ター２３により、光路と照射タイミングとが制御され、
除電工程での除電ランプ２４の照射光を利用してパター
ン露光を行なうことができる。
【００２４】
【発明の効果】以上に説明したように、本発明の画像形
成装置のパターン露光装置は、光源として光量むらのな
い単一光源を使用しており、これによって簡単な構造で
感光体表面にむらのないパターン潜像を形成でき、写真
等の絵的画像の階調再現性をさらに向上させることがで
きる。
成装置のパターン露光装置は、光源として光量むらのな
い単一光源を使用しており、これによって簡単な構造で
感光体表面にむらのないパターン潜像を形成でき、写真
等の絵的画像の階調再現性をさらに向上させることがで
きる。
【図１】 （ａ）は本発明の第１の実施例のパターン露
光装置の縦断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線断面図で
ある。
光装置の縦断面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線断面図で
ある。
【図２】 （ａ）は図１のパターン露光装置に使用した
光源及び遮光部材の正面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線
断面図である。
光源及び遮光部材の正面図、（ｂ）は（ａ）のＣ−Ｃ線
断面図である。
【図３】 （ａ）スリットパターンの正面図、（ｂ）は
（ａ）のスリットパターン通過後の光量を示すグラフで
ある。
（ａ）のスリットパターン通過後の光量を示すグラフで
ある。
【図４】 第１の実施例による光量分布を示すグラフで
ある。
ある。
【図５】 （ａ）は本発明の第２の実施例のパターン露
光装置の縦断面図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線断面図で
ある。
光装置の縦断面図、（ｂ）は（ａ）のＤ−Ｄ線断面図で
ある。
【図６】 本発明のパターン露光装置の第３の実施例を
示す画像形成装置の概略図である。
示す画像形成装置の概略図である。
【図７】 （ａ）は従来のパターン露光装置の縦断面
図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。
【図８】 従来のパターン露光装置における濃度むらの
説明図である。
説明図である。
１ ＬＥＤチップ、２ 基板、３ シリンドリカルレン
ズ、４ ハウジング、４ａ 突出部、５ プレート、６
補強板、７ カバー、１１ 蛍光灯、１２遮光部材、
１３ 光透過孔、１４ 補強部材、１５ パターンプレ
ート、１６スリット、１７光量増加用スリット部、２２
反射板、２３ シャッター、２４除電ランプ、２５
パターン露光装置、２６ ベルト状感光体、２７ 帯電
器、２８ 現像機、２９ 清掃機
ズ、４ ハウジング、４ａ 突出部、５ プレート、６
補強板、７ カバー、１１ 蛍光灯、１２遮光部材、
１３ 光透過孔、１４ 補強部材、１５ パターンプレ
ート、１６スリット、１７光量増加用スリット部、２２
反射板、２３ シャッター、２４除電ランプ、２５
パターン露光装置、２６ ベルト状感光体、２７ 帯電
器、２８ 現像機、２９ 清掃機
Claims (4)
- 【請求項１】 電子写真方式の画像形成装置に使用さ
れ、一様帯電した感光体表面に階調再現性向上用のスリ
ットパターン潜像を形成するパターン露光装置におい
て、同パターン露光装置は、前記感光体の略全幅に照射
可能な光源と、該光源を被い一定間隔で微細な光透過孔
を形成した遮光部材と、該光源と前記感光体の間に配置
され、前記光源の照射光によって前記感光体表面に前記
スリットパターンを形成するパターンプレートを備えた
ことを特徴とする画像形成装置のパターン露光装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の遮光部材は、パターン露
光装置のハウジングの一部であることを特徴とする画像
形成装置のパターン露光装置。 - 【請求項３】 請求項１記載のパターンプレートは、前
記光源の光量が不足する両端部分に光量増加用スリット
部を形成したものであることを特徴とする画像形成装置
のパターン露光装置。 - 【請求項４】 請求項１記載の光源は、前記感光体の除
電に使用する除電ランプであることを特徴とする画像形
成装置のパターン露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4180113A JPH0627789A (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 画像形成装置のパターン露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4180113A JPH0627789A (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 画像形成装置のパターン露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0627789A true JPH0627789A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16077650
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4180113A Pending JPH0627789A (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | 画像形成装置のパターン露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0627789A (ja) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5381237A (en) * | 1976-12-27 | 1978-07-18 | Minolta Camera Co Ltd | Photosensitivity control of photosensitive body |
| JPS61137963U (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-27 | ||
| JPS61250662A (ja) * | 1985-04-30 | 1986-11-07 | Toshiba Corp | 画像形成装置 |
| JPS62103663A (ja) * | 1985-10-31 | 1987-05-14 | Fuji Xerox Co Ltd | 複写機 |
| JPS62144181A (ja) * | 1985-12-19 | 1987-06-27 | Ricoh Co Ltd | 電子写真複写機の階調補正装置 |
| JPS6353573A (ja) * | 1986-08-23 | 1988-03-07 | Ricoh Co Ltd | 複写機 |
| JPS6461773A (en) * | 1987-09-01 | 1989-03-08 | Ricoh Kk | Mesh screen exposing device |
| JPH0245573U (ja) * | 1988-09-19 | 1990-03-28 |
-
1992
- 1992-07-07 JP JP4180113A patent/JPH0627789A/ja active Pending
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