JPH0627451A - スペース部吸光性基板の製法 - Google Patents
スペース部吸光性基板の製法Info
- Publication number
- JPH0627451A JPH0627451A JP18085392A JP18085392A JPH0627451A JP H0627451 A JPH0627451 A JP H0627451A JP 18085392 A JP18085392 A JP 18085392A JP 18085392 A JP18085392 A JP 18085392A JP H0627451 A JPH0627451 A JP H0627451A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- resist film
- ito
- ions
- implanted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は、表示品位を向上させるための方法
を提案するものである。 【構成】 表示装置用基板において、透明電極の微細加
工時に、サイドエッチ部に吸光層を同時に作り込むこと
を特徴とし、これにより、コントラストを上げる。
を提案するものである。 【構成】 表示装置用基板において、透明電極の微細加
工時に、サイドエッチ部に吸光層を同時に作り込むこと
を特徴とし、これにより、コントラストを上げる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示装置等、表示
装置用基板の製法に関する。特に表示のコントラストを
向上させる基板の製法に関する。以下、特に、液晶表示
装置に限って、話を進めるが、論旨は電場発光表示装置
等にも、適合するものである。
装置用基板の製法に関する。特に表示のコントラストを
向上させる基板の製法に関する。以下、特に、液晶表示
装置に限って、話を進めるが、論旨は電場発光表示装置
等にも、適合するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置等、表示装置は、マン・マ
シーン・インターフェースとしては、是非必要となる技
術である。特に、最近、コンピューター端末等におい
て、ダウン・サイジングの意味からも、液晶表示装置は
必須となってきた。
シーン・インターフェースとしては、是非必要となる技
術である。特に、最近、コンピューター端末等におい
て、ダウン・サイジングの意味からも、液晶表示装置は
必須となってきた。
【０００３】電気抵抗値、生産時の制御性、膜の均一
性、光の透過率、微細加工性等の点から、産業的には、
圧倒的に、インジウム−錫の酸化物（いわゆるＩＴＯ）
が使われている。通常、このＩＴＯ膜を表面に有するガ
ラス基板を、フォト・リソグラフィー法でもって、ＩＴ
Ｏ膜を微細加工して、表示装置用基板となしている。
性、光の透過率、微細加工性等の点から、産業的には、
圧倒的に、インジウム−錫の酸化物（いわゆるＩＴＯ）
が使われている。通常、このＩＴＯ膜を表面に有するガ
ラス基板を、フォト・リソグラフィー法でもって、ＩＴ
Ｏ膜を微細加工して、表示装置用基板となしている。
【０００４】この技術内容は、「薄膜ハンドブック」、
日本学術振興会第１３１委員会 編、オーム社刊に詳し
い。
日本学術振興会第１３１委員会 編、オーム社刊に詳し
い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】最近、コンピューター
端末等に使われる液晶表示装置において、高品位表示の
要求が現実のものとなってきた。これらの液晶表示装置
においては、ＳＴＮ等、単純モードの液晶表示装置が主
に使われている。これらの液晶表示装置には、表示にお
いて、光の制御がなされない、基板主面のＩＴＯ膜の無
い部分、すなわちスペース部からの光の漏れが問題とな
る。すなわち、これが表示のコントラストを著しく劣化
させる。
端末等に使われる液晶表示装置において、高品位表示の
要求が現実のものとなってきた。これらの液晶表示装置
においては、ＳＴＮ等、単純モードの液晶表示装置が主
に使われている。これらの液晶表示装置には、表示にお
いて、光の制御がなされない、基板主面のＩＴＯ膜の無
い部分、すなわちスペース部からの光の漏れが問題とな
る。すなわち、これが表示のコントラストを著しく劣化
させる。
【０００６】また、この問題は、強誘電性液晶表示装置
や他の表示装置においてもあてはまる。
や他の表示装置においてもあてはまる。
【０００７】スペース部に黒色物質を設けることは、一
部の表示装置では実施されているが、コストが高く、こ
のことがこの技術の広がりを妨げている。
部の表示装置では実施されているが、コストが高く、こ
のことがこの技術の広がりを妨げている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は前述のような課
題を解決するために、ガラス基板の主面全面に亘る透明
電極の上に、所望の状態にパターン化されたレジスト膜
を形成し、透明電極の腐食液でサイドエッチ状態になる
まで微細加工をし、洗浄し、乾燥させて後、所望の単数
または複数のイオン種を、イオン注入機で基板に必要ド
ーズ量、注入し、次に、レジスト膜を除去し、洗浄、乾
燥させて、更に前記基板を熱処理するようなスペース部
吸光性基板の製法を明かにする。
題を解決するために、ガラス基板の主面全面に亘る透明
電極の上に、所望の状態にパターン化されたレジスト膜
を形成し、透明電極の腐食液でサイドエッチ状態になる
まで微細加工をし、洗浄し、乾燥させて後、所望の単数
または複数のイオン種を、イオン注入機で基板に必要ド
ーズ量、注入し、次に、レジスト膜を除去し、洗浄、乾
燥させて、更に前記基板を熱処理するようなスペース部
吸光性基板の製法を明かにする。
【０００９】この際、イオン種として、炭素を含むイオ
ンと硫黄を含むイオン、またはクロムを含むイオン、ま
たはコバルトを含むイオンが望ましい。
ンと硫黄を含むイオン、またはクロムを含むイオン、ま
たはコバルトを含むイオンが望ましい。
【００１０】
【作用】基板において、ＩＴＯの無いスペース部に光遮
断物質を設ければ良いことが分かる。すなわち、ブラッ
クマトリクス構造にすれば良い。しかも、この光遮断物
質を、コスト安く実現させる必要がある。
断物質を設ければ良いことが分かる。すなわち、ブラッ
クマトリクス構造にすれば良い。しかも、この光遮断物
質を、コスト安く実現させる必要がある。
【００１１】本発明は、スペース部の光遮断を、スペー
ス部のみ、ガラス基板を着色させることに成功したこと
に端を発している。さらに、ＩＴＯのフォトリソグラフ
ィー法を用いた通常の微細加工プロセスに、若干の工程
を追加することにより、実現させたものであり、コスト
は若干、上がるのみである。
ス部のみ、ガラス基板を着色させることに成功したこと
に端を発している。さらに、ＩＴＯのフォトリソグラフ
ィー法を用いた通常の微細加工プロセスに、若干の工程
を追加することにより、実現させたものであり、コスト
は若干、上がるのみである。
【００１２】本発明を簡単に説明する。まず、基板主
面、全面に亘るＩＴＯを所望のパターンに微細加工す
る。これは常に行われるプロセスである。まず、ＩＴＯ
面の上に、公知の方法で、所望のパターンのレジスト膜
を形成する。次に、腐食液、例えば塩鉄溶液で、前記レ
ジスト膜をマスクとして、ＩＴＯを微細加工する。ここ
までは、産業で大々的に実施されているものである。か
くて、基板上にＩＴＯの無い部分、すなわち、スペース
部が形成される。
面、全面に亘るＩＴＯを所望のパターンに微細加工す
る。これは常に行われるプロセスである。まず、ＩＴＯ
面の上に、公知の方法で、所望のパターンのレジスト膜
を形成する。次に、腐食液、例えば塩鉄溶液で、前記レ
ジスト膜をマスクとして、ＩＴＯを微細加工する。ここ
までは、産業で大々的に実施されているものである。か
くて、基板上にＩＴＯの無い部分、すなわち、スペース
部が形成される。
【００１３】次に、所望の単数、または複数のイオン
を、産業用イオン注入機を用い、基板主面に照射する。
この時スペース部には、イオンが直接、ガラス基板表面
に注入されるが、他の部分は、レジスト膜に注入され
る。次に、このレジスト膜を公知の方法で除去すると、
結局、基板のうち、スペース部にのみ、注入されたイオ
ンが残る。
を、産業用イオン注入機を用い、基板主面に照射する。
この時スペース部には、イオンが直接、ガラス基板表面
に注入されるが、他の部分は、レジスト膜に注入され
る。次に、このレジスト膜を公知の方法で除去すると、
結局、基板のうち、スペース部にのみ、注入されたイオ
ンが残る。
【００１４】さらに、この基板を２５０℃以上に熱処理
して、スペース部の着色、すなわち光の遮断特性を安定
にさせる。なお、より好ましい熱処理雰囲気は、注入さ
れたイオン種により、窒素雰囲気がよかったり、空気が
よかったりする。
して、スペース部の着色、すなわち光の遮断特性を安定
にさせる。なお、より好ましい熱処理雰囲気は、注入さ
れたイオン種により、窒素雰囲気がよかったり、空気が
よかったりする。
【００１５】炭素含むイオンと硫黄を含むイオンを使っ
た場合、褐色に着色し、クロムを含むイオンを使った場
合、緑色に着色し、コバルトを含むイオンを使った場
合、紺色に着色する。
た場合、褐色に着色し、クロムを含むイオンを使った場
合、緑色に着色し、コバルトを含むイオンを使った場
合、紺色に着色する。
【００１６】注入ドーズ量は、約１０19／ｃｍ2以上が
望ましい。
望ましい。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００１８】（実施例１）（図１）に従って説明する。
構成断面図、（図１）において、１はガラス基板、２は
フォトレジスト、３はＩＴＯ透明電極、４はスペース
部、５はイオン流、６は着色層である。
構成断面図、（図１）において、１はガラス基板、２は
フォトレジスト、３はＩＴＯ透明電極、４はスペース
部、５はイオン流、６は着色層である。
【００１９】コーニング社製＃７０５９ガラス基板１を
入手した。東京応化製ポジレジストを使い、公知のフォ
トリソグラフィー法でもって、（図１）（ａ）の如く、
レジストパターン２を作った。更に、市販の塩鉄溶液で
腐食、微細加工して、スペース部４を得た（図１）
（ｂ）。
入手した。東京応化製ポジレジストを使い、公知のフォ
トリソグラフィー法でもって、（図１）（ａ）の如く、
レジストパターン２を作った。更に、市販の塩鉄溶液で
腐食、微細加工して、スペース部４を得た（図１）
（ｂ）。
【００２０】次に、産業用注入機で、２硫化炭素をイオ
ン化し、加速、前述のような基板に照射した。ドーズ量
は正確には測定し難いが、約１０19／ｃｍ2程度になる
ようにした（図１）（ｃ）。つぎに、レジスト膜の除去
後、窒素雰囲気中で、約３００℃、３０分熱処理した
（図１）（ｄ）。スペース部は、黒褐色に着色した。
ン化し、加速、前述のような基板に照射した。ドーズ量
は正確には測定し難いが、約１０19／ｃｍ2程度になる
ようにした（図１）（ｃ）。つぎに、レジスト膜の除去
後、窒素雰囲気中で、約３００℃、３０分熱処理した
（図１）（ｄ）。スペース部は、黒褐色に着色した。
【００２１】スペース部の光の透過率は２０％以下とな
った。通常の如く、この基板に、ポリイミド膜を形成
し、をレーヨン繊維を用いて、ラビング処理を行った。
このような２枚の基板を、ＩＴＯ膜が対向するように、
間隙が７．０ミクロンとなるように、貼り合わせ、この
間隙にＳＴＮ用ネマティック液晶組成物を充填した。更
に、位相差板、偏光板を公知の如く設け、表示パネルと
した。コントラストは約２倍に上昇した。
った。通常の如く、この基板に、ポリイミド膜を形成
し、をレーヨン繊維を用いて、ラビング処理を行った。
このような２枚の基板を、ＩＴＯ膜が対向するように、
間隙が７．０ミクロンとなるように、貼り合わせ、この
間隙にＳＴＮ用ネマティック液晶組成物を充填した。更
に、位相差板、偏光板を公知の如く設け、表示パネルと
した。コントラストは約２倍に上昇した。
【００２２】
【発明の効果】以上本発明は、表示装置の表示品位の向
上を実現するに有力な方法を提供するものであり、産業
に貢献するところ大である。
上を実現するに有力な方法を提供するものであり、産業
に貢献するところ大である。
【図１】本発明の実施例を説明するための構成断面図
１ ガラス基板 ２ フォトレジスト ３ ＩＴＯ透明電極 ４ スペース部 ５ イオン流 ６ 着色層
Claims (2)
- 【請求項１】ガラス基板の主面全面に亘る透明電極の上
に、所望の状態にパターン化されたレジスト膜を形成
し、透明電極の腐食液でサイドエッチ状態になるまで微
細加工をし、洗浄し、乾燥させて後、所望の単数または
複数のイオン種を、イオン注入機で基板に必要ドーズ
量、注入し、次に、レジスト膜を除去し、洗浄、乾燥さ
せて、更に前記基板を熱処理することを特徴とするスペ
ース部吸光性基板の製法。 - 【請求項２】イオン種が、炭素を含むイオンと硫黄を含
むイオン、またはクロムを含むイオン、またはコバルト
を含むイオンであることを特徴とする請求項１記載のス
ペース部吸光性基板の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18085392A JPH0627451A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | スペース部吸光性基板の製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18085392A JPH0627451A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | スペース部吸光性基板の製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0627451A true JPH0627451A (ja) | 1994-02-04 |
Family
ID=16090509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18085392A Pending JPH0627451A (ja) | 1992-07-08 | 1992-07-08 | スペース部吸光性基板の製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0627451A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6195147B1 (en) | 1997-08-01 | 2001-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal substrate with optical modulation region having different alignment control forces |
-
1992
- 1992-07-08 JP JP18085392A patent/JPH0627451A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6195147B1 (en) | 1997-08-01 | 2001-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Liquid crystal substrate with optical modulation region having different alignment control forces |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20030218703A1 (en) | Color filter for a liquid crystal display and a liquid crystal display using the same | |
| CN107634070A (zh) | 阵列基板的制造方法、阵列基板及显示装置 | |
| JPH0627451A (ja) | スペース部吸光性基板の製法 | |
| JPS61235814A (ja) | 液晶素子の製法 | |
| JPH01189631A (ja) | 液晶パネル電極の製造方法 | |
| JPH0475025A (ja) | Ｌｃｄパネル | |
| KR100663714B1 (ko) | Ｉｔｏ를 합성하기 위한 조성물을 형성하는 방법 및 그조성물로 합성된 ｉｔｏ를 패터닝하는 방법 | |
| JPH1090689A (ja) | 液晶表示パネル | |
| JP2004302291A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
| JPH06273780A (ja) | 液晶装置の製造方法及びそれを用いた液晶装置 | |
| JP3130570B2 (ja) | 液晶表示素子 | |
| JPH01296201A (ja) | カラーフィルタの製造方法 | |
| KR100687332B1 (ko) | 액정표시장치 제조방법 | |
| JPH08254692A (ja) | 液晶表示パネルおよびその製造方法 | |
| JPS6349788A (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
| JPH05307181A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| KR100331887B1 (ko) | 박막트랜지스터의 게이트패턴 및 그것의 형성방법 | |
| JPH08328024A (ja) | 液晶表示パネル | |
| JP2861510B2 (ja) | 基体表面の平滑化法及び平滑化物 | |
| JPH01253713A (ja) | 液晶表示素子の製造法 | |
| JPH07270612A (ja) | カラーフィルターの製造方法 | |
| JPH02204717A (ja) | 液晶表示装置およびその製造法 | |
| JP4480853B2 (ja) | 転写基板の製造方法及び転写方法 | |
| JPH06118218A (ja) | スペース部吸光性基板の製法 | |
| JPH08327990A (ja) | 液晶表示素子用電極基板およびその製造方法 |