JPH06271813A - 被覆用組成物 - Google Patents
被覆用組成物Info
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- JPH06271813A JPH06271813A JP5089197A JP8919793A JPH06271813A JP H06271813 A JPH06271813 A JP H06271813A JP 5089197 A JP5089197 A JP 5089197A JP 8919793 A JP8919793 A JP 8919793A JP H06271813 A JPH06271813 A JP H06271813A
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- Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 活性エネルギー線硬化型樹脂および／又は活
性エネルギー線硬化型ビニルモノマーを樹脂成分とし
て、さらに比表面積が１５０〜５００m2/gである無機質
系顔料を樹脂固形分に対して０．１〜３０重量％含有し
てなる被覆用組成物。 【効果】 本発明の組成物より得られる被膜は、長期
間、低温環境下あるいは高温下に放置しても良好な保護
機能を維持できる。
性エネルギー線硬化型ビニルモノマーを樹脂成分とし
て、さらに比表面積が１５０〜５００m2/gである無機質
系顔料を樹脂固形分に対して０．１〜３０重量％含有し
てなる被覆用組成物。 【効果】 本発明の組成物より得られる被膜は、長期
間、低温環境下あるいは高温下に放置しても良好な保護
機能を維持できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、極低温から高温環境下
において、基材、特に光ファイバーのガラス表面に対し
良好な物性を有する保護被膜を提供できる被覆用組成物
に関する。
において、基材、特に光ファイバーのガラス表面に対し
良好な物性を有する保護被膜を提供できる被覆用組成物
に関する。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】従来より、光ファイバーは
そのガラス表面を湿気や摩耗から保護するためにファイ
バー形成時に保護被膜が形成されている。また該被膜の
形成には、生産性などの点から通常紫外線硬化タイプの
樹脂組成物などが用いられている。かかる光ファイバー
の如き無機ガラスなどの基材上に上記の如き保護被膜を
形成した被覆材を、長期間高温環境下に放置すると、被
膜が伸びやすくなり、強度が低下するなどの問題があっ
た。特に光ファイバーにおいては、それによって伝送特
性が損なわれやすい。一方、上記の如き被覆材を長期間
低温環境下に放置すると、該基材と被膜との間の温度変
化に対する応答の違いによって歪が生じ被覆材の応力破
壊や劣化などが誘発されるという不具合があった。
そのガラス表面を湿気や摩耗から保護するためにファイ
バー形成時に保護被膜が形成されている。また該被膜の
形成には、生産性などの点から通常紫外線硬化タイプの
樹脂組成物などが用いられている。かかる光ファイバー
の如き無機ガラスなどの基材上に上記の如き保護被膜を
形成した被覆材を、長期間高温環境下に放置すると、被
膜が伸びやすくなり、強度が低下するなどの問題があっ
た。特に光ファイバーにおいては、それによって伝送特
性が損なわれやすい。一方、上記の如き被覆材を長期間
低温環境下に放置すると、該基材と被膜との間の温度変
化に対する応答の違いによって歪が生じ被覆材の応力破
壊や劣化などが誘発されるという不具合があった。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決するため鋭意検討した結果、比表面積の大きい
無機質系顔料を特定量含有せしめた活性エネルギー線硬
化型の被覆用組成物を用いることにより、上記問題点を
解決できることを見出し本発明を完成した。
点を解決するため鋭意検討した結果、比表面積の大きい
無機質系顔料を特定量含有せしめた活性エネルギー線硬
化型の被覆用組成物を用いることにより、上記問題点を
解決できることを見出し本発明を完成した。
【０００４】すなわち本発明は、活性エネルギー線硬化
型樹脂および／又は活性エネルギー線硬化型ビニルモノ
マーを樹脂成分として、さらに比表面積が１５０〜５０
０m2/gである無機質系顔料を樹脂固形分に対して０．１
〜３０重量％含有してなることを特徴とする被覆用組成
物を提供するものである。
型樹脂および／又は活性エネルギー線硬化型ビニルモノ
マーを樹脂成分として、さらに比表面積が１５０〜５０
０m2/gである無機質系顔料を樹脂固形分に対して０．１
〜３０重量％含有してなることを特徴とする被覆用組成
物を提供するものである。
【０００５】本発明組成物において、活性エネルギー線
硬化型樹脂としては、エチレン性不飽和基含有樹脂が包
含され、具体的には例えば、ポリエステルに（メタ）ア
クリル酸を縮合させた樹脂、エチレン性不飽和基含有ポ
リウレタン樹脂、エチレン性不飽和基含有エポキシ樹
脂、エチレン性不飽和基含有含リンエポキシ樹脂、エチ
レン性不飽和基含有アクリル樹脂、エチレン性不飽和基
含有シリコン樹脂、エチレン性不飽和基含有メラミン樹
脂などがあげられる。このうち特に（メタ）アクリル基
を有せしめたポリウレタン樹脂、すなわちウレタンアク
リレート系樹脂が、硬化膜の伸び率が大きい点で好適に
使用される。
硬化型樹脂としては、エチレン性不飽和基含有樹脂が包
含され、具体的には例えば、ポリエステルに（メタ）ア
クリル酸を縮合させた樹脂、エチレン性不飽和基含有ポ
リウレタン樹脂、エチレン性不飽和基含有エポキシ樹
脂、エチレン性不飽和基含有含リンエポキシ樹脂、エチ
レン性不飽和基含有アクリル樹脂、エチレン性不飽和基
含有シリコン樹脂、エチレン性不飽和基含有メラミン樹
脂などがあげられる。このうち特に（メタ）アクリル基
を有せしめたポリウレタン樹脂、すなわちウレタンアク
リレート系樹脂が、硬化膜の伸び率が大きい点で好適に
使用される。
【０００６】また、本発明組成物において、活性エネル
ギー線硬化型ビニルモノマーとしては、重合性不飽和モ
ノマーのみではなく、重合性不飽和オリゴマーも包含さ
れ、具体的には次に例示するものが挙げられる。
ギー線硬化型ビニルモノマーとしては、重合性不飽和モ
ノマーのみではなく、重合性不飽和オリゴマーも包含さ
れ、具体的には次に例示するものが挙げられる。
【０００７】重合性不飽和モノマーとしては、まず、ア
クリル酸またはメタクリル酸と炭素数１〜２８個の１価
アルコールとのエステル化物があげられ、例えばアクリ
ル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリ
ル酸ｎ−ブチル、アクリル酸 iso−ブチル、メタクリル
酸 iso−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル
酸−tert−ブチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸
プロピル、アクリル酸ヘキシル、、メタクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アク
リル酸ラウリル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸２
−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、
アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、アクリル酸ステアリル、メタクリル酸ステアリルな
どが含まれる。
クリル酸またはメタクリル酸と炭素数１〜２８個の１価
アルコールとのエステル化物があげられ、例えばアクリ
ル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、
メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリ
ル酸ｎ−ブチル、アクリル酸 iso−ブチル、メタクリル
酸 iso−ブチル、アクリル酸tert−ブチル、メタクリル
酸−tert−ブチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸
プロピル、アクリル酸ヘキシル、、メタクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、アク
リル酸ラウリル、メタクリル酸ラウリル、アクリル酸２
−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、
アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシ
ル、アクリル酸ステアリル、メタクリル酸ステアリルな
どが含まれる。
【０００８】また、該モノマーとして、スチレン、ビニ
ルトルエン、メチルスチレン、クロルスチレン、ジビニ
ルベンゼンなどのビニル芳香族化合物：酢酸ビニル、塩
化ビニル、ビニルイソブチルエーテル、メチルビニルエ
ーテル、アクリロニトリル、２−エチルヘキシルビニル
エーテルなどのその他のビニル化合物も使用できる。さ
らに、該モノマーとして、アクリル酸、メタクリル酸な
どのカルボキシル基含有モノマー；２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレートなどの水酸基含有モノマ
ー；ブチルイソシアネート、フェニルイソシアネートな
どのポリイソシアネートと上記水酸基含有モノマーとの
付加物；リン酸と上記水酸基含有モノマーとの付加物；
ビニルピロリドン、ビニルピリジンなどの含窒素複素環
を有する不飽和モノマーなども使用できる。
ルトルエン、メチルスチレン、クロルスチレン、ジビニ
ルベンゼンなどのビニル芳香族化合物：酢酸ビニル、塩
化ビニル、ビニルイソブチルエーテル、メチルビニルエ
ーテル、アクリロニトリル、２−エチルヘキシルビニル
エーテルなどのその他のビニル化合物も使用できる。さ
らに、該モノマーとして、アクリル酸、メタクリル酸な
どのカルボキシル基含有モノマー；２−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロ
キシプロピルメタクリレートなどの水酸基含有モノマ
ー；ブチルイソシアネート、フェニルイソシアネートな
どのポリイソシアネートと上記水酸基含有モノマーとの
付加物；リン酸と上記水酸基含有モノマーとの付加物；
ビニルピロリドン、ビニルピリジンなどの含窒素複素環
を有する不飽和モノマーなども使用できる。
【０００９】また、重合性不飽和オリゴマーとしては、
例えば、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジ
オールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタ
クリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、
１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレートなどのジ
−、トリ−またはテトラビニル化合物；前記の多価アル
コールとエチレンオキシドとの付加物にアクリル酸およ
び／またはメタクリル酸を反応せしめた生成物；前記の
多価アルコールとプロピレンオキシドとの付加物にアク
リル酸および／またはメタクリル酸を反応せしめた生成
物；前記の多価アルコールとε−カプロラクトンとの付
加物にアクリル酸および／またはメタクリル酸を反応せ
しめた生成物；含リン重合性不飽和オリゴマー等が包含
される。以上に述べたモノマー及びオリゴマーは単独で
または２種以上混合して使用できる。
例えば、ジエチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、ポリエチレングリコールジメタク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、プロ
ピレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジ
オールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジメタ
クリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、
１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチ
ルグリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、
ペンタエリスリトールテトラメタクリレートなどのジ
−、トリ−またはテトラビニル化合物；前記の多価アル
コールとエチレンオキシドとの付加物にアクリル酸およ
び／またはメタクリル酸を反応せしめた生成物；前記の
多価アルコールとプロピレンオキシドとの付加物にアク
リル酸および／またはメタクリル酸を反応せしめた生成
物；前記の多価アルコールとε−カプロラクトンとの付
加物にアクリル酸および／またはメタクリル酸を反応せ
しめた生成物；含リン重合性不飽和オリゴマー等が包含
される。以上に述べたモノマー及びオリゴマーは単独で
または２種以上混合して使用できる。
【００１０】本発明で使用しうる比表面積１５０〜５０
０m2/g、好ましくは２００〜４００m2/gである無機質系
顔料としては、例えば二酸化珪素系顔料を挙げることが
でき、なかでも粒径０．１〜５μm の無定形二酸化珪素
が好適である。かかる顔料の市販品としては、例えば富
士デヴィソン社の商品名「サイロイド２４４」（比表面
積３００m2/g）、「サイロイド２６６」（比表面積３０
０m2/g）、デグサ社の商品名「アエロジルＴＴ−６０
０」（比表面積２００m2/g）などが挙げられる。該無機
質系顔料の比表面積が１５０m2/g未満では、被膜物性が
温度に依存して変化してしまい、一方５００m2/gを越え
ると塗装作業性が低下するので好ましくない。
０m2/g、好ましくは２００〜４００m2/gである無機質系
顔料としては、例えば二酸化珪素系顔料を挙げることが
でき、なかでも粒径０．１〜５μm の無定形二酸化珪素
が好適である。かかる顔料の市販品としては、例えば富
士デヴィソン社の商品名「サイロイド２４４」（比表面
積３００m2/g）、「サイロイド２６６」（比表面積３０
０m2/g）、デグサ社の商品名「アエロジルＴＴ−６０
０」（比表面積２００m2/g）などが挙げられる。該無機
質系顔料の比表面積が１５０m2/g未満では、被膜物性が
温度に依存して変化してしまい、一方５００m2/gを越え
ると塗装作業性が低下するので好ましくない。
【００１１】上記無機質系顔料の使用量は、全樹脂固形
分に対して０．１〜３０重量％、好ましくは０．５〜２
０重量％であることが必要である。かかる使用量が０．
１重量％未満では、被膜物性が温度の影響を受けるよう
になり、一方３０重量％を越えると、塗装作業性が低下
するので好ましくない。
分に対して０．１〜３０重量％、好ましくは０．５〜２
０重量％であることが必要である。かかる使用量が０．
１重量％未満では、被膜物性が温度の影響を受けるよう
になり、一方３０重量％を越えると、塗装作業性が低下
するので好ましくない。
【００１２】本発明組成物には、さらに必要に応じて粒
径１〜５０μm 程度の他の無機質系顔料、例えば、タル
ク、マイカ、シリカ、炭酸カルシウム、クレー、硫酸バ
リウム、セラミック、その他金属酸化物の粒子などを配
合することができる。
径１〜５０μm 程度の他の無機質系顔料、例えば、タル
ク、マイカ、シリカ、炭酸カルシウム、クレー、硫酸バ
リウム、セラミック、その他金属酸化物の粒子などを配
合することができる。
【００１３】本発明の組成物は電子線および紫外線など
の活性エネルギー線を照射することによって硬化せしめ
ることができる。紫外線照射によって硬化させる場合に
は、該組成物に光重合開始剤をあらかじめ添加しておく
必要がある。光重合開始剤としては、紫外線の照射によ
り励起されてラジカルを発生させるタイプの通常の光重
合開始剤が用いられ、例えば、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ベンゾフェノン、ｐ−メチルベン
ゾフェノン、ミヒラ−ケトン、アセトフェノン、１−ヒ
ドロキシ−１−シクロヘキシルアセトフェノン、２−ク
ロロチオキサントン、アントラキノン、２−メチルアン
トラキノン、フェニルジスルフィド、２−ニトロフルオ
レン等があげられる。これらの光重合開始剤は単独でも
しくは２種以上を混合して使用でき、その配合量は活性
エネルギー線硬化型樹脂と活性エネルギー線硬化型樹脂
との和、すなわちバインダー成分１００重量部に対して
０．１〜１０重量部の範囲が好ましい。
の活性エネルギー線を照射することによって硬化せしめ
ることができる。紫外線照射によって硬化させる場合に
は、該組成物に光重合開始剤をあらかじめ添加しておく
必要がある。光重合開始剤としては、紫外線の照射によ
り励起されてラジカルを発生させるタイプの通常の光重
合開始剤が用いられ、例えば、ベンゾイン、ベンゾイン
メチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンｎ−プロピルエーテル、ベンゾインイソプロピルエー
テル、ベンゾインｎ−ブチルエーテル、α−ヒドロキシ
イソブチルフェノン、ベンゾフェノン、ｐ−メチルベン
ゾフェノン、ミヒラ−ケトン、アセトフェノン、１−ヒ
ドロキシ−１−シクロヘキシルアセトフェノン、２−ク
ロロチオキサントン、アントラキノン、２−メチルアン
トラキノン、フェニルジスルフィド、２−ニトロフルオ
レン等があげられる。これらの光重合開始剤は単独でも
しくは２種以上を混合して使用でき、その配合量は活性
エネルギー線硬化型樹脂と活性エネルギー線硬化型樹脂
との和、すなわちバインダー成分１００重量部に対して
０．１〜１０重量部の範囲が好ましい。
【００１４】また、これらの光重合開始剤による光重合
反応を促進させるために、光増感促進剤を光重合開始剤
と併用してもよい。併用しうる光増感促進剤として、例
えば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−
ジメチルアミノエタノール等の３級アミン系；トリフェ
ニルホスフィン等のアルキルホスフィン系；β−チオジ
グリコール等のチオエーテル系の光増感促進剤があげら
れる。これら光増感促進剤はそれぞれ単独でもしくは２
種以上を混合して使用でき、その配合量は、バインダー
成分１００重量部に対して０．１〜１０重量部の範囲が
好ましい。
反応を促進させるために、光増感促進剤を光重合開始剤
と併用してもよい。併用しうる光増感促進剤として、例
えば、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、２−
ジメチルアミノエタノール等の３級アミン系；トリフェ
ニルホスフィン等のアルキルホスフィン系；β−チオジ
グリコール等のチオエーテル系の光増感促進剤があげら
れる。これら光増感促進剤はそれぞれ単独でもしくは２
種以上を混合して使用でき、その配合量は、バインダー
成分１００重量部に対して０．１〜１０重量部の範囲が
好ましい。
【００１５】一方、電子線照射を用いる場合には、本発
明の組成物に上記の如き光重合開始剤や光増感促進剤を
配合する必要はない。本発明組成物中には、その他、必
要に応じて、スべリ性付与剤、シリコーン系、フッ素系
などの添加剤を使用したり、硬化をいちじるしく害しな
い量の着色顔料、飽和樹脂、溶剤などを配合して使用し
てもよい。
明の組成物に上記の如き光重合開始剤や光増感促進剤を
配合する必要はない。本発明組成物中には、その他、必
要に応じて、スべリ性付与剤、シリコーン系、フッ素系
などの添加剤を使用したり、硬化をいちじるしく害しな
い量の着色顔料、飽和樹脂、溶剤などを配合して使用し
てもよい。
【００１６】スベリ性付与剤としては、シリコーン系、
フッ素系、ポリエチレンワックス系、ポリプロピレンワ
ックス系などの一般にスリップ剤と呼ばれているものが
使用可能である。シリコーン系スリップ剤としては、た
とえばＢＹＫ−３００（ビック・マリンクロット社製）
や、ＴＳＦ４７００（東芝シリコーン社製）などがあげ
られる。フッ素系スリップ剤としては、例えば、ユニダ
インＤＳ４０２（ダイキン工業株式会社製、商品名）等
が挙げられる。
フッ素系、ポリエチレンワックス系、ポリプロピレンワ
ックス系などの一般にスリップ剤と呼ばれているものが
使用可能である。シリコーン系スリップ剤としては、た
とえばＢＹＫ−３００（ビック・マリンクロット社製）
や、ＴＳＦ４７００（東芝シリコーン社製）などがあげ
られる。フッ素系スリップ剤としては、例えば、ユニダ
インＤＳ４０２（ダイキン工業株式会社製、商品名）等
が挙げられる。
【００１７】本発明においては、得られる硬化被膜のヤ
ング率が、温度変化に対してその変化率が小さいことが
望ましい。具体的には、例えば−４０℃から６０℃の測
定温度域において、一般にヤング率は温度上昇とともに
減少するものであるが、かかるヤング率の変化率（減少
率）が−４０℃の値を基準として５０％以内であること
が望ましい。ヤング率の測定は、ガラス板に乾燥膜厚約
３０μm となるように塗布し活性エネルギー線を照射し
硬化せしめたのち被膜を単離して測定試料とし、自動動
的粘弾性測定器［東洋ボールドウィン社製、モデルバイ
ブロンＤＤＶ−II−ＥＡ］を用いて行なうことができ
る。かかるヤング率の変化が上記範囲内となるよう前記
無機質系顔料その他の配合など調整することにより、長
期間、低温下あるいは高温下に放置されても伸びなどの
物性の変化の小さい被膜を与えることが可能となる。
ング率が、温度変化に対してその変化率が小さいことが
望ましい。具体的には、例えば−４０℃から６０℃の測
定温度域において、一般にヤング率は温度上昇とともに
減少するものであるが、かかるヤング率の変化率（減少
率）が−４０℃の値を基準として５０％以内であること
が望ましい。ヤング率の測定は、ガラス板に乾燥膜厚約
３０μm となるように塗布し活性エネルギー線を照射し
硬化せしめたのち被膜を単離して測定試料とし、自動動
的粘弾性測定器［東洋ボールドウィン社製、モデルバイ
ブロンＤＤＶ−II−ＥＡ］を用いて行なうことができ
る。かかるヤング率の変化が上記範囲内となるよう前記
無機質系顔料その他の配合など調整することにより、長
期間、低温下あるいは高温下に放置されても伸びなどの
物性の変化の小さい被膜を与えることが可能となる。
【００１８】本発明組成物は、電子線、紫外線などの活
性エネルギー光線によって硬化するものである。
性エネルギー光線によって硬化するものである。
【００１９】電子線の照射により本発明の組成物を硬化
させる場合の電子線発生源としては、コッククロフト
型、コッククロフトワルトン型、バン・デ・グラーフ
型、共振変圧器型、変圧器型、絶縁コア変圧器型、ダイ
ナミトロン型、リニアフィラメント型および高周波型な
どの電子線発生装置を用いることができる。その際の電
子線の照射条件は本発明の組成物の厚さ等により異なる
が、一般には１〜２０メガラッドの範囲内の線量が適し
ている。
させる場合の電子線発生源としては、コッククロフト
型、コッククロフトワルトン型、バン・デ・グラーフ
型、共振変圧器型、変圧器型、絶縁コア変圧器型、ダイ
ナミトロン型、リニアフィラメント型および高周波型な
どの電子線発生装置を用いることができる。その際の電
子線の照射条件は本発明の組成物の厚さ等により異なる
が、一般には１〜２０メガラッドの範囲内の線量が適し
ている。
【００２０】また、紫外線照射源としては、水銀ラン
プ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライド
ランプ、太陽光などを用いることができる。紫外線の照
射条件は特に制限されないが１５０〜４５０nmの範囲内
の紫外線を含む光線を空気中もしくは不活性ガス雰囲気
下で、照射することが好ましい。
プ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライド
ランプ、太陽光などを用いることができる。紫外線の照
射条件は特に制限されないが１５０〜４５０nmの範囲内
の紫外線を含む光線を空気中もしくは不活性ガス雰囲気
下で、照射することが好ましい。
【００２１】本発明組成物は、特に光ファイバーの被覆
に好適であり、またその他、無機ガラス、プラスチッ
ク、金属などの保護被覆にも使用できる。
に好適であり、またその他、無機ガラス、プラスチッ
ク、金属などの保護被覆にも使用できる。
【００２２】本発明組成物を用いて光ファイバーを被覆
するにはダイスコーティングが適当であり、形成被膜の
膜厚は約１０〜６０μm が適当である。また本発明組成
物を用いて、光ファイバー素線を束ねてテープ状光ファ
イバーユニットとする場合の光ファイバー素線の被覆だ
けでなくユニットへの成型に利用したり、バンドル型光
ファイバーに使用する光ファイバー素線の外層塗膜作成
に利用することができる。
するにはダイスコーティングが適当であり、形成被膜の
膜厚は約１０〜６０μm が適当である。また本発明組成
物を用いて、光ファイバー素線を束ねてテープ状光ファ
イバーユニットとする場合の光ファイバー素線の被覆だ
けでなくユニットへの成型に利用したり、バンドル型光
ファイバーに使用する光ファイバー素線の外層塗膜作成
に利用することができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明組成物より得られる硬化被膜は、
長期間、極低温から高温環境下に放置しても、ヤング率
の変化が小さく、被膜の伸びや強度などの物性が低下せ
ず、表面に該被膜が形成された被覆材、特に光ファイバ
ーにおいては良好な保護機能を維持できる。
長期間、極低温から高温環境下に放置しても、ヤング率
の変化が小さく、被膜の伸びや強度などの物性が低下せ
ず、表面に該被膜が形成された被覆材、特に光ファイバ
ーにおいては良好な保護機能を維持できる。
【００２４】
【実施例】以下、実施例により本発明をより具体的に説
明する。以下、「部」は特に断わりのない限り「重量
部」を示す。
明する。以下、「部」は特に断わりのない限り「重量
部」を示す。
【００２５】実施例１ ゴーセラックＵＶ−７０００Ｂ（日本合成化学社製、商
品名、活性エネルギー線硬化型ウレタンアクリレートオ
リゴマー）５０部、アロニックスＭ−５７００（東亜合
成化学工業社製、商品名、活性エネルギー線硬化型ビニ
ルモノマー）５０部、光重合開始剤１−ヒドロキシ−１
−シクロヘキシルアセトフェノン４部および平均粒子径
約１．８μm の無定形二酸化珪素サイロイド２４４（富
士デヴィソン社製、商品名、比表面積３００m2/g）７．
５部を混合し、紫外線硬化型組成物（Ｉ）を得た。該組
成物（Ｉ）を２ミリ厚のガラス板に３０μm （乾燥膜
厚）となるよう塗布し、窒素ガス雰囲気中で高圧水銀灯
を使用し、線量５mj/cm2の条件で硬化させた後、単離し
て得た被膜のヤング率を、自動動的粘弾性測定器（東洋
ボールドウィン社製、モデルレオバイブロンＤＤＶ−II
−ＥＡ）を用いて−４０℃及び６０℃の測定温度で測定
したところ、−４０℃で３０kg/mm2、６０℃で１５kg/m
m2であり、変化率は５０％であった。
品名、活性エネルギー線硬化型ウレタンアクリレートオ
リゴマー）５０部、アロニックスＭ−５７００（東亜合
成化学工業社製、商品名、活性エネルギー線硬化型ビニ
ルモノマー）５０部、光重合開始剤１−ヒドロキシ−１
−シクロヘキシルアセトフェノン４部および平均粒子径
約１．８μm の無定形二酸化珪素サイロイド２４４（富
士デヴィソン社製、商品名、比表面積３００m2/g）７．
５部を混合し、紫外線硬化型組成物（Ｉ）を得た。該組
成物（Ｉ）を２ミリ厚のガラス板に３０μm （乾燥膜
厚）となるよう塗布し、窒素ガス雰囲気中で高圧水銀灯
を使用し、線量５mj/cm2の条件で硬化させた後、単離し
て得た被膜のヤング率を、自動動的粘弾性測定器（東洋
ボールドウィン社製、モデルレオバイブロンＤＤＶ−II
−ＥＡ）を用いて−４０℃及び６０℃の測定温度で測定
したところ、−４０℃で３０kg/mm2、６０℃で１５kg/m
m2であり、変化率は５０％であった。
【００２６】該被覆板を−３０℃、２０℃、４０℃の各
環境下に１ケ月間放置した後、上記ヤング率の測定時と
同様の条件でそれぞれ単離被膜を作成し、該硬化被膜の
伸び率を引張り試験機テンシロン（「テンシロンＵＴＮ
II−２０」、東洋ボールドウィン社製、商品名）を用い
２５℃で引張り速度１００mm/ 分で測定した結果、 放置
前の被膜の伸び率が３２％であるのに対し、放置後の伸
び率が３０％（−３０℃）、３４％（２０℃）、２９％
（４０℃）で、ほとんど変化は見られなかった。
環境下に１ケ月間放置した後、上記ヤング率の測定時と
同様の条件でそれぞれ単離被膜を作成し、該硬化被膜の
伸び率を引張り試験機テンシロン（「テンシロンＵＴＮ
II−２０」、東洋ボールドウィン社製、商品名）を用い
２５℃で引張り速度１００mm/ 分で測定した結果、 放置
前の被膜の伸び率が３２％であるのに対し、放置後の伸
び率が３０％（−３０℃）、３４％（２０℃）、２９％
（４０℃）で、ほとんど変化は見られなかった。
【００２７】実施例２ ユニディック１５−８２９（大日本インキ化学工業社
製、商品名、活性エネルギー線硬化型ウレタンアクリレ
ートオリゴマー）５０部、アロニックスＭ−５７００
５０部、１−ヒドロキシ−１−シクロヘキシルアセトフ
ェノン４部および平均粒子径約１．６μm の無定形二酸
化珪素サイロイド２６６（富士デヴィソン社製、商品
名、比表面積３００m2/g）７．５部を混合し、紫外線硬
化型組成物（II）を得た。該組成物（II）について実施
例１と同様の操作で被覆板を作成し、同様に硬化被膜の
ヤング率を測定したところ、−４０℃で２０kg/mm2、６
０℃で１１kg/mm2であり、変化率は４５％であった。
製、商品名、活性エネルギー線硬化型ウレタンアクリレ
ートオリゴマー）５０部、アロニックスＭ−５７００
５０部、１−ヒドロキシ−１−シクロヘキシルアセトフ
ェノン４部および平均粒子径約１．６μm の無定形二酸
化珪素サイロイド２６６（富士デヴィソン社製、商品
名、比表面積３００m2/g）７．５部を混合し、紫外線硬
化型組成物（II）を得た。該組成物（II）について実施
例１と同様の操作で被覆板を作成し、同様に硬化被膜の
ヤング率を測定したところ、−４０℃で２０kg/mm2、６
０℃で１１kg/mm2であり、変化率は４５％であった。
【００２８】該被覆板を、−３０℃、４０℃の各環境下
に１ケ月間放置した後、上記と同様の条件でそれぞれ単
離被膜を作成し、該硬化被膜のヤング率を上記と同様の
測定器を用いて測定温度２０℃で測定したところ、放置
前の被膜のヤング率が２１kg/mm2であるのに対し、放置
後のヤング率が２１kg/mm2（−３０℃）、２２kg/mm
2（４０℃）でほとんど変化は見られなかった。
に１ケ月間放置した後、上記と同様の条件でそれぞれ単
離被膜を作成し、該硬化被膜のヤング率を上記と同様の
測定器を用いて測定温度２０℃で測定したところ、放置
前の被膜のヤング率が２１kg/mm2であるのに対し、放置
後のヤング率が２１kg/mm2（−３０℃）、２２kg/mm
2（４０℃）でほとんど変化は見られなかった。
【００２９】比較例１ 実施例１の紫外線硬化型組成物（Ｉ）において、無定形
二酸化珪素を配合しない以外は同様にして紫外線硬化型
組成物（III)を得た。該組成物（III)について実施例１
と同様の操作で被覆板を作成し、同様に硬化被膜のヤン
グ率を測定したところ、測定温度−４０℃で３０kg/m
m2、６０℃で１kg/mm2であり、変化率９６．７％であっ
た。
二酸化珪素を配合しない以外は同様にして紫外線硬化型
組成物（III)を得た。該組成物（III)について実施例１
と同様の操作で被覆板を作成し、同様に硬化被膜のヤン
グ率を測定したところ、測定温度−４０℃で３０kg/m
m2、６０℃で１kg/mm2であり、変化率９６．７％であっ
た。
【００３０】該被覆板を−３０℃、２０℃、４０℃の各
環境下に１ケ月間放置した後、実施例１と同様に硬化被
膜の伸び率を測定した結果、放置前の伸び率が３２％で
あるのに対し、放置後の伸び率が１３％（−３０℃）、
３２％（２０℃）、６０％（４０℃）で、非常に変化が
大きく、膜物性の低下がみられた。
環境下に１ケ月間放置した後、実施例１と同様に硬化被
膜の伸び率を測定した結果、放置前の伸び率が３２％で
あるのに対し、放置後の伸び率が１３％（−３０℃）、
３２％（２０℃）、６０％（４０℃）で、非常に変化が
大きく、膜物性の低下がみられた。
【００３１】比較例２ 実施例１の紫外線硬化型組成物（Ｉ）において、サイロ
イド２４４のかわりに二酸化珪素アエロジルＯＸ５０
（日本アエロジル社製、商品名、比表面積５０m2/g）を
同量配合する以外は同様にして紫外線硬化型組成物（I
V）を得た。該組成物（IV）について実施例１と同様の
操作で被覆板を作成し同様に硬化被膜のヤング率を測定
したところ、測定温度−４０℃で３０kg/mm2、６０℃で
２kg/mm2であり、変化率９３．３％であった。
イド２４４のかわりに二酸化珪素アエロジルＯＸ５０
（日本アエロジル社製、商品名、比表面積５０m2/g）を
同量配合する以外は同様にして紫外線硬化型組成物（I
V）を得た。該組成物（IV）について実施例１と同様の
操作で被覆板を作成し同様に硬化被膜のヤング率を測定
したところ、測定温度−４０℃で３０kg/mm2、６０℃で
２kg/mm2であり、変化率９３．３％であった。
【００３２】該被覆板を−３０℃、４０℃の各環境下に
１ケ月間放置した後、実施例１と同様に硬化被膜の伸び
率及びヤング率を測定した結果、放置前の伸び率が３４
％であるのに対し、放置後の伸び率が２９％（−３０
℃）、５１％（４０℃）であり、また、放置前のヤング
率（測定温度２０℃）が２２kg/mm2であるのに対し、放
置後のヤング率（測定温度２０℃）が２８kg/mm2（−３
０℃）、１１kg/mm2（４０℃）で、変化が大きく、膜物
性の低下がみられた。
１ケ月間放置した後、実施例１と同様に硬化被膜の伸び
率及びヤング率を測定した結果、放置前の伸び率が３４
％であるのに対し、放置後の伸び率が２９％（−３０
℃）、５１％（４０℃）であり、また、放置前のヤング
率（測定温度２０℃）が２２kg/mm2であるのに対し、放
置後のヤング率（測定温度２０℃）が２８kg/mm2（−３
０℃）、１１kg/mm2（４０℃）で、変化が大きく、膜物
性の低下がみられた。
Claims (4)
- 【請求項１】 活性エネルギー線硬化型樹脂および／又
は活性エネルギー線硬化型ビニルモノマーを樹脂成分と
して、さらに比表面積が１５０〜５００m2/gである無機
質系顔料を樹脂固形分に対して０．１〜３０重量％含有
してなることを特徴とする被覆用組成物。 - 【請求項２】 上記無機質系顔料が無定形二酸化珪素で
ある請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】 上記活性エネルギー線硬化型樹脂がウレ
タンアクリレート系樹脂である請求項１記載の組成物。 - 【請求項４】 請求項１記載の組成物を表面に塗布、硬
化させてなる被覆光ファイバー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089197A JPH06271813A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 被覆用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5089197A JPH06271813A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 被覆用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06271813A true JPH06271813A (ja) | 1994-09-27 |
Family
ID=13963993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5089197A Pending JPH06271813A (ja) | 1993-03-23 | 1993-03-23 | 被覆用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06271813A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001031448A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-02-06 | Alcatel | Ｕｖ硬化性の光ファイバ材料にｕｖ透過性真珠光沢顔料を混ぜた光ファイバ |
| JP2003075599A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ファイバ用電子線照射装置及び硬化方法 |
-
1993
- 1993-03-23 JP JP5089197A patent/JPH06271813A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001031448A (ja) * | 1999-06-30 | 2001-02-06 | Alcatel | Ｕｖ硬化性の光ファイバ材料にｕｖ透過性真珠光沢顔料を混ぜた光ファイバ |
| JP4681711B2 (ja) * | 1999-06-30 | 2011-05-11 | アルカテル−ルーセント | Ｕｖ硬化性の光ファイバ材料にｕｖ透過性真珠光沢顔料を混ぜた光ファイバ |
| JP2003075599A (ja) * | 2001-09-03 | 2003-03-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 光ファイバ用電子線照射装置及び硬化方法 |
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