JPH06268104A - Tcp semiconductor device and its manufacture - Google Patents

Tcp semiconductor device and its manufacture

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JPH06268104A
JPH06268104A JP5709993A JP5709993A JPH06268104A JP H06268104 A JPH06268104 A JP H06268104A JP 5709993 A JP5709993 A JP 5709993A JP 5709993 A JP5709993 A JP 5709993A JP H06268104 A JPH06268104 A JP H06268104A
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semiconductor substrate
sealing resin
device hole
tcp
inner lead
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光昭 大園
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Abstract

PURPOSE:To make the thickness of a sealing resin on the surface of a semiconductor substrate uniform and, at the same time, to uniformly fill up the spaces of in device hole on both sides of the substrate with the sealing resin by making the clearance between the wall of the device hole and substrate on the side on which inner leads are connected to the substrate at longer intervals. CONSTITUTION:The intervals W1 of first-side inner leads 31 connected to the first side of a semiconductor substrate 2 mounted in the device hole 5 of a carrier tape 4 are made longer than those W2 of inner leads 31 connected to the second side of the substrate 2. In such a tape carrier package semiconductor device, the interval L1 between the first side of the hole 5 facing the first side of the substrate 2 and the first side of the substrate 2 is made shorter than that L2 between the second side of the hole 5 facing the second side of the substrate 2 and the second side of the substrate 2.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子のパッケー
ジ形態の一つであるテープキャリアパッケージを用いた
半導体装置(以下TCP半導体装置)、TCP半導体装
置用キャリアテープ及びTCP半導体装置の製造方法に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device (hereinafter referred to as a TCP semiconductor device) using a tape carrier package which is one of the package forms of semiconductor elements, a carrier tape for a TCP semiconductor device, and a method for manufacturing a TCP semiconductor device. .

【0002】[0002]

【従来の技術】図2は従来のTCP半導体装置を説明す
るための図であり、図2aは樹脂封止後の状態を示す断
面図、図2bは樹脂封止前の状態を示す平面図である。
図2aは図2bのB−B線での断面図である。
2. Description of the Related Art FIG. 2 is a view for explaining a conventional TCP semiconductor device, FIG. 2a is a sectional view showing a state after resin sealing, and FIG. 2b is a plan view showing a state before resin sealing. is there.
2a is a sectional view taken along line BB of FIG. 2b.

【0003】図から分かるように、近年のTCP半導体
装置においては、装着される半導体基板の機能が複雑化
してきており、電極の配列数が相対する辺で極端に異な
ることが多くなっている。つまり、半導体基板内の各辺
における電極が以前は比較的均等に配置されていたが、
昨今は極端に不均等な配置になることも多くなってきて
いる。また、多電極化によるインナーリード相互間の間
隙幅の狭小化が進んでいる。
As can be seen from the figure, in recent TCP semiconductor devices, the function of the semiconductor substrate to be mounted has become complicated, and the number of electrodes arranged is often extremely different on opposite sides. That is, the electrodes on each side of the semiconductor substrate were previously relatively evenly arranged,
In recent years, there have been many cases of extremely uneven arrangement. Further, the gap width between the inner leads is becoming narrower due to the increase in the number of electrodes.

【0004】この従来の半導体装置では、テープキャリ
ア4に形成されたデバイスホール5の内側に半導体基板
が装着されている。テープキャリア4に装着される半導
体基板2に形成された電極に接続される導体パターン3
の数に関係なく、テープキャリア4内に設けるデバイス
ホール5の中心7と半導体基板2の中心6とは一致させ
ていた。
In this conventional semiconductor device, a semiconductor substrate is mounted inside the device hole 5 formed in the tape carrier 4. Conductor pattern 3 connected to an electrode formed on a semiconductor substrate 2 mounted on a tape carrier 4
The center 7 of the device hole 5 provided in the tape carrier 4 and the center 6 of the semiconductor substrate 2 are aligned regardless of the number.

【0005】このような半導体装置において、樹脂封止
は、通常半導体基板2の表面側に軟化した封止樹脂(例
えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂
等)を滴下、又は塗布し、その流動性及び粘性を利用し
て半導体基板2の表面側から、デバイスホール間隙長
(図中に記号Lで示す)とリード間隙幅(図中に記号W
1,W2で示す)とで決まる樹脂流出寄与領域を介して
半導体基板2の側面のデバイスホール5に封止樹脂を供
給することにより、半導体基板2の表面及びデバイスホ
ール5全体に樹脂を充填して行う。
In such a semiconductor device, resin encapsulation is usually performed by dropping or applying a softened encapsulating resin (eg, epoxy resin, silicone resin, polyimide resin, etc.) on the surface side of the semiconductor substrate 2. Device hole gap length (indicated by symbol L in the figure) and lead gap width (indicated by symbol W in the figure) from the front surface side of the semiconductor substrate 2 using the property and viscosity.
1, W2) to supply the sealing resin to the device hole 5 on the side surface of the semiconductor substrate 2 through a resin outflow contribution region determined by Do it.

【0006】封止樹脂1は半導体基板表面を保護するた
めの表面保護膜となり、他方の封止樹脂13、14はデ
バイスホール5を充填し、半導体基板2の裏面及び側面
からの悪影響を阻止すると共に機械的強度を維持する。
The encapsulating resin 1 serves as a surface protective film for protecting the surface of the semiconductor substrate, and the other encapsulating resins 13 and 14 fill the device holes 5 to prevent adverse effects from the back and side surfaces of the semiconductor substrate 2. Along with maintaining mechanical strength.

【0007】デバイスホール5の第1辺53から半導体
基板2の方に延在する第1辺側インナーリード33はリ
ード間隙幅(W)が粗に形成され(W=W1)ており、
デバイスホール5の第1辺53に相対する第2辺54か
ら半導体基板2の方に延在する第2辺側インナーリード
34はリード間隙幅(W)が密に形成され(W=W2)
ている。なお、簡単のため第1辺側インナーリード3
3、第2辺側インナーリード34は各々均等な配列とし
ている。
In the first side inner lead 33 extending from the first side 53 of the device hole 5 toward the semiconductor substrate 2, the lead gap width (W) is roughly formed (W = W1),
The second side inner lead 34 extending toward the semiconductor substrate 2 from the second side 54 facing the first side 53 of the device hole 5 has a dense lead gap width (W) (W = W2).
ing. For simplicity, the inner lead 3 on the first side
3 and the second side inner leads 34 are evenly arranged.

【0008】ここで、デバイスホール各辺における樹脂
流出寄与領域の面積和Sについて検討してみる。
Now, the area sum S of the resin outflow contribution regions on each side of the device hole will be examined.

【0009】リード間隙幅をW、デバイスホール間隙長
をL、リード相互間の間隔数をNとすれば、樹脂流出寄
与領域の面積和Sは、S=W×L×Nで表される。な
お、簡単のため各辺が交差する部分については除外して
考える。
Assuming that the lead gap width is W, the device hole gap length is L, and the number of gaps between the leads is N, the area sum S of the resin outflow contribution region is represented by S = W × L × N. For the sake of simplicity, the part where each side intersects will be excluded.

【0010】デバイスホール5の第1辺53側におい
て、第1側デバイスホール間隙長Lを0.2mm、第1
辺側インナーリード33はリード間隙幅W1を3.0m
mとすれば、リード相互間の間隔数N1は5であるか
ら、第1辺側の樹脂流出寄与領域の面積和S1は、S1
=L1×W1×N1=0.2×3.0×5=3.0mm
2となる。デバイスホール5の第2辺54側において、
第2辺側デバイスホール間隙長L2を0.2mm,第2
辺側インナーリード34のリード間隙幅W2は0.5m
m、リード相互間の間隔数N2は11であるから、第2
辺側の樹脂流出寄与領域の面積和S2は、S2=L2×
W2×N2=0.2×0.5×11=1.1mm2 とな
る。
On the first side 53 side of the device hole 5, the first side device hole gap length L is 0.2 mm,
The side inner lead 33 has a lead gap width W1 of 3.0 m.
If m, the number of spaces N1 between the leads is 5, so the area sum S1 of the resin outflow contributing regions on the first side is S1.
= L1 x W1 x N1 = 0.2 x 3.0 x 5 = 3.0 mm
It becomes 2 . On the second side 54 side of the device hole 5,
The second side device hole gap length L2 is 0.2 mm,
The lead gap width W2 of the side inner lead 34 is 0.5 m
m, and the number of spaces N2 between leads is 11, the second
The area sum S2 of the resin outflow contribution regions on the side is S2 = L2 ×
W2 × N2 = 0.2 × 0.5 × 11 = 1.1 mm 2 .

【0011】即ち、樹脂流出寄与領域の面積和の比、S
2/S1は1.1/3.0=0.367となる。
That is, the ratio of the area sum of the resin outflow contribution regions, S
2 / S1 is 1.1 / 3.0 = 0.367.

【0012】このように樹脂流出寄与領域の面積和の比
が片寄っていることから、TCP半導体装置を生産する
樹脂封止工程において、半導体基板2に形成される電極
の配列が疎となるデバイスホール5の第1辺53側と、
電極の配列が密となるデバイスホール5の第2辺54側
とで樹脂供給面(半導体基板2の表面)側から半導体基
板2の側面側への樹脂供給量の差が著しく、樹脂供給面
側から半導体基板2の側面側への封止樹脂の流れを均一
にすることや、また、塗布した側の樹脂1厚を均一な平
面にすることが困難となり、設計した樹脂領域に対して
設計通りの封止形状とすることができず、安定的な生産
ができなかった。
Since the ratios of the area sums of the resin outflow contributing regions are deviated in this way, in the resin encapsulating step for producing the TCP semiconductor device, the device holes in which the electrodes formed on the semiconductor substrate 2 are sparsely arranged. 5, the first side 53 side,
There is a significant difference in the amount of resin supplied from the resin supply surface (the surface of the semiconductor substrate 2) side to the side surface side of the semiconductor substrate 2 with the second side 54 side of the device hole 5 where the electrodes are densely arranged, and the resin supply surface side It becomes difficult to make the flow of the sealing resin from the side to the side surface of the semiconductor substrate 2 uniform, and to make the thickness of the resin 1 on the applied side a uniform flat surface. However, it was not possible to obtain a stable shape, and stable production could not be achieved.

【0013】つまり、不均一な樹脂の流れだしにより、
薄く広がり過ぎた部分13ができたり、逆に封止樹脂が
十分に供給されないので隙間を生じた部分14ができ、
封止形状が左右で不均衡となり、機械的強度を十分に確
保することができず、機械的なストレスによるクラック
の発生原因となっていた。
In other words, due to the uneven flow of resin,
A part 13 that is too thin is formed, or conversely, a part 14 is formed that has a gap because the sealing resin is not sufficiently supplied.
The sealing shape becomes unbalanced on the left and right sides, and sufficient mechanical strength cannot be ensured, causing cracks due to mechanical stress.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前述した従
来のTCP半導体装置で問題となる、半導体基板表面側
から半導体基板側面のデバイスホールに供給される封止
樹脂の不均一な流れ出しを均等化し、それにより半導体
基板表面の封止樹脂の厚さを均一にし、さらに半導体基
板側面のデバイスホールへの封止樹脂の充填を均等化す
ることを可能にしたもので、設計値に沿った封止樹脂形
状を有するTCP半導体装置、TCP半導体装置用キャ
リアテープ及びTCP半導体装置の製造方法を提供する
ことを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION According to the present invention, the uneven flow of the sealing resin supplied from the front surface side of the semiconductor substrate to the device hole on the side surface of the semiconductor substrate, which is a problem in the above-described conventional TCP semiconductor device, is evenly distributed. This makes it possible to make the thickness of the sealing resin on the surface of the semiconductor substrate uniform and to evenly fill the device holes on the side surface of the semiconductor substrate with the sealing resin. An object of the present invention is to provide a TCP semiconductor device having a resin blocking shape, a carrier tape for a TCP semiconductor device, and a method for manufacturing a TCP semiconductor device.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、キャリアテープのデバイスホール内側
に装着された半導体基板の第1辺側に接続される第1辺
側インナーリードの間隙幅が、第1辺側に対応する半導
体基板の第2辺側に接続される第2辺側インナーリード
の間隙幅より大きく形成されたテープキャリアパッケー
ジ(TCP)半導体装置において、半導体基板の第1辺
とこれに対応するデバイスホールの第1辺とにより定ま
る第1辺側デバイスホールの間隙長が、半導体基板の第
2辺とこれに対応するデバイスホールの第2辺とにより
定まる第2辺側デバイスホールの間隙長より小さく形成
する。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a gap between inner leads of a first side which is connected to a first side of a semiconductor substrate mounted inside a device hole of a carrier tape. In the tape carrier package (TCP) semiconductor device, the width of which is formed larger than the gap width of the second side inner leads connected to the second side of the semiconductor substrate corresponding to the first side, The side length of the first side device hole, which is determined by the side and the first side of the device hole corresponding to the side, is determined by the second side of the semiconductor substrate and the second side of the device hole corresponding thereto. It is formed to be smaller than the gap length of the device hole.

【0016】また、同テープキャリアパッケージ(TC
P)半導体装置において、半導体基板の第1辺及び半導
体基板の第2辺により定まる中心が、デバイスホールの
第1辺及び第2辺により定まる中心より、第1辺側にず
らして形成することにより、第1辺側間隙長と第2辺側
間隙長とを異ならせる。
The tape carrier package (TC
P) In the semiconductor device, the center defined by the first side of the semiconductor substrate and the second side of the semiconductor substrate is formed so as to be shifted to the first side from the center defined by the first side and the second side of the device hole. , The first side gap length and the second side gap length are made different.

【0017】また、同テープキャリアパッケージ(TC
P)半導体装置において、第1辺側デバイスホールの間
隙長と第1辺側インナーリードの間隙幅とにより定まる
第1辺側の封止樹脂流出寄与領域の面積和と、第2辺側
デバイスホールの間隙長と第2辺側インナーリードの間
隙幅とにより定まる第2辺側の封止樹脂流出寄与領域の
面積和とをほぼ等しくする。
The tape carrier package (TC
P) In the semiconductor device, the sum of the areas of the sealing resin outflow contributing region on the first side, which is determined by the gap length of the first side device hole and the gap width of the first side inner lead, and the second side device hole. And the sum of the areas of the sealing resin outflow contributing region on the second side, which is determined by the gap width of the inner lead of the second side.

【0018】これらの構成を有するテープキャリアパッ
ケージ(TCP)半導体装置において、デバイスホール
の間隙長とインナーリードの間隙幅とにより定まる半導
体基板の第1辺側の一つの封止樹脂流出寄与領域の面積
と、これに対応する半導体基板の第2辺側の封止樹脂流
出寄与領域の面積和とをほぼ等しくすること、又は、半
導体基板の第1辺側の封止樹脂流出寄与領域の面積和
と、半導体基板の第2辺側の封止樹脂流出寄与領域の面
積和とを単位長さ当たりでほぼ等しくすることが、有効
である。
In the tape carrier package (TCP) semiconductor device having these configurations, the area of one sealing resin outflow contributing region on the first side of the semiconductor substrate, which is determined by the gap length of the device hole and the gap width of the inner lead. And the corresponding sum of the areas of the sealing resin outflow contributing regions on the second side of the semiconductor substrate corresponding thereto, or the sum of the areas of the sealing resin outflow contributing regions on the first side of the semiconductor substrate. It is effective to make the area sum of the sealing resin outflow contribution regions on the second side of the semiconductor substrate substantially equal per unit length.

【0019】さらに、半導体基板を装着するためのデバ
イスホールの第1辺から装着されるべき半導体基板の第
1辺に延長する第1辺側インナーリードの間隙幅が、第
1辺に対応するデバイスホールの第2辺から半導体基板
の第2辺に延長する第2辺側インナーリードの間隙幅よ
り大きく形成されたテープキャリアパッケージ(TC
P)半導体装置用キャリアテープにおいて、第1辺側イ
ンナーリードの長さを第2辺側インナーリードの長さよ
り短かくする。
Furthermore, the gap width of the inner leads on the first side extending from the first side of the device hole for mounting the semiconductor substrate to the first side of the semiconductor substrate to be mounted corresponds to the first side. A tape carrier package (TC) formed to be larger than the gap width of the second side inner lead extending from the second side of the hole to the second side of the semiconductor substrate.
P) In the carrier tape for a semiconductor device, the length of the inner leads on the first side is made shorter than the length of the inner leads on the second side.

【0020】また、同テープキャリアパッケージ(TC
P)半導体装置用キャリアテープにおいて、デバイスホ
ールの第1辺と半導体基板の第1辺とにより定まる第1
辺側デバイスホールの間隙長と第1辺側インナーリード
の間隙幅とにより定まる第1辺側の封止樹脂流出寄与領
域の面積和と、デバイスホールの第2辺と半導体基板の
第2辺とにより定まる第2辺側デバイスホールの間隙長
と、第2辺側インナーリードの間隙幅とにより定まる第
2辺側の封止樹脂流出寄与領域の面積和とを、ほぼ等し
くする。
The tape carrier package (TC
P) In the carrier tape for a semiconductor device, the first side determined by the first side of the device hole and the first side of the semiconductor substrate.
The sum of the areas of the sealing resin outflow contributing region on the first side, which is determined by the gap length of the side device hole and the gap width of the first side inner lead, and the second side of the device hole and the second side of the semiconductor substrate. The gap length of the second side device hole determined by the above and the sum of the areas of the sealing resin outflow contributing regions on the second side determined by the gap width of the second side inner leads are made substantially equal.

【0021】この構成を有するテープキャリアパッケー
ジ(TCP)半導体装置用キャリアテープにおいて、デ
バイスホールの間隙長とインナーリードの間隙幅とによ
り定まる半導体基板の第1辺側の一つの封止樹脂流出寄
与領域の面積と、これに対応する半導体基板の第2辺側
の封止樹脂流出寄与領域の面積和とがほぼ等しくするこ
と、又は、半導体基板の第1辺側の封止樹脂流出寄与領
域の面積和と、半導体基板の第2辺側の封止樹脂流出寄
与領域の面積和とが単位長さ当たりでほぼ等しくするこ
とが有効である。
In the tape carrier package (TCP) semiconductor device carrier tape having this structure, one sealing resin outflow contributing region on the first side of the semiconductor substrate, which is determined by the gap length of the device hole and the gap width of the inner lead. And the corresponding sum of the areas of the sealing resin outflow contributing regions on the second side of the semiconductor substrate, or the area of the sealing resin outflow contributing regions on the first side of the semiconductor substrate. It is effective that the sum and the sum of the areas of the sealing resin outflow contributing regions on the second side of the semiconductor substrate are substantially equal per unit length.

【0022】[0022]

【作用】半導体基板の表面側から半導体基板の側面側に
樹脂が流れ出す時に、その流出量に影響を与える主な要
因としては、デバイスホールエッジとインナーリードと
チップエッジとにより画定される隙間面積が考えられ
る。
When the resin flows from the front surface side of the semiconductor substrate to the side surface side of the semiconductor substrate, the main factor affecting the outflow amount is the gap area defined by the device hole edge, the inner lead and the chip edge. Conceivable.

【0023】本発明では、半導体基板に形成される電極
の配列が疎となるデバイスホールの第1辺側と、電極の
配列が密となるデバイスホールの第2辺側とで樹脂供給
面(半導体基板の表面)側から側面側への樹脂供給量が
均等になるように隙間面積を調整することにより、デバ
イスホールよりテープキャリアの裏面に流れ出す樹脂量
を、均一にすることができる。また、封止樹脂の流れが
均等になることから半導体基板表面の樹脂の厚さもほぼ
均等にすることができる。
According to the present invention, the resin supply surface (semiconductor) is formed on the first side of the device hole in which the electrodes are sparsely arranged on the semiconductor substrate and on the second side of the device hole in which the electrodes are densely arranged. By adjusting the gap area so that the resin supply amount from the front surface side to the side surface side of the substrate becomes uniform, the resin amount flowing out from the device hole to the back surface of the tape carrier can be made uniform. Moreover, since the flow of the sealing resin becomes uniform, the thickness of the resin on the surface of the semiconductor substrate can be made substantially uniform.

【0024】[0024]

【実施例】図1は本発明のTCP半導体装置を説明する
ための図であり、図1aは樹脂封止後の状態を示す断面
図、図1bは樹脂封止前の状態を示す平面図である。図
1aは図1bのA−A線での断面図である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a diagram for explaining a TCP semiconductor device of the present invention, FIG. 1a is a sectional view showing a state after resin sealing, and FIG. 1b is a plan view showing a state before resin sealing. is there. 1a is a sectional view taken along line AA of FIG. 1b.

【0025】図において、テープキャリア4に形成され
たデバイスホール5の内側に半導体基板2が装着されて
いる。
In the figure, the semiconductor substrate 2 is mounted inside the device hole 5 formed in the tape carrier 4.

【0026】このような半導体装置において、樹脂封止
は、通常半導体基板2の表面側に軟化した封止樹脂(例
えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリイミド樹脂
等)を滴下、又は塗布し、その流動性及び粘性を利用し
て半導体基板2の表面側から、デバイスホール間隙長と
リード間隙幅とで決まる樹脂流出寄与領域を介して半導
体基板2の側面のデバイスホール5に封止樹脂を供給す
ることにより、半導体基板2の表面及びデバイスホール
5全体に樹脂を充填して行う。
In such a semiconductor device, resin encapsulation is usually performed by dropping or applying a softened encapsulating resin (for example, epoxy resin, silicone resin, polyimide resin, etc.) on the surface side of the semiconductor substrate 2 and flowing the resin. Supplying the sealing resin from the front surface side of the semiconductor substrate 2 to the device hole 5 on the side surface of the semiconductor substrate 2 through the resin outflow contribution region determined by the device hole gap length and the lead gap width by utilizing the property and viscosity. Thus, the surface of the semiconductor substrate 2 and the entire device hole 5 are filled with resin.

【0027】封止樹脂1は半導体基板2の表面を保護す
るための表面保護膜となり、他方の封止樹脂11、12
はデバイスホール5を充填し、半導体基板2の裏面側及
び側面からの悪影響を阻止すると共に機械的強度を維持
する。
The sealing resin 1 serves as a surface protective film for protecting the surface of the semiconductor substrate 2, and the other sealing resins 11 and 12 are provided.
Fills the device hole 5 to prevent adverse effects from the back and side surfaces of the semiconductor substrate 2 and maintain mechanical strength.

【0028】デバイスホール5の第1辺51から半導体
基板2の方に延在する第1辺側インナーリード31はリ
ード間隙幅(W)が粗に形成され(W=W1)ており、
デバイスホール5の第1辺51に相対する第2辺52か
ら半導体基板2の方に延在する第2辺側インナーリード
32はリード間隙幅(W)が密に形成され(W=W2)
ている。なお、簡単のため第1辺側インナーリード3
1、第2辺側インナーリード32は各々均等な配列とし
ているが、必ずしもこれに限定されるものではない。
The first side inner lead 31 extending from the first side 51 of the device hole 5 toward the semiconductor substrate 2 has a coarse lead gap width (W) (W = W1),
The second side inner lead 32 extending toward the semiconductor substrate 2 from the second side 52 opposite to the first side 51 of the device hole 5 has a dense lead gap width (W) (W = W2).
ing. For simplicity, the inner lead 3 on the first side
The first and second side inner leads 32 are arranged uniformly, but the arrangement is not necessarily limited to this.

【0029】半導体基板2の中心6をデバイスホール5
の中心7よりデバイスホール5の第1辺51の方にずら
して装着できるように、第1辺側インナーリード31の
長さを第2辺側インナーリード32の長さより短く形成
している。これにより、半導体基板2の装着したときに
形成されるデバイスホール間隙長(L)は、デバイスホ
ール5の第1辺51側では短くなる(L=L1:第1辺
側デバイスホール間隙長)のに対して、デバイスホール
5の第2辺52側では長くなる(L=L2:第2辺側デ
バイスホール間隙長)。
The center 6 of the semiconductor substrate 2 is connected to the device hole 5
The length of the first side inner lead 31 is formed to be shorter than the length of the second side inner lead 32 so that the first side 51 of the device hole 5 can be displaced from the center 7 and mounted. As a result, the device hole gap length (L) formed when the semiconductor substrate 2 is mounted becomes shorter on the first side 51 side of the device hole 5 (L = L1: first side device hole gap length). On the other hand, on the second side 52 side of the device hole 5, it becomes longer (L = L2: second side device hole gap length).

【0030】ここで、デバイスホール各辺における樹脂
流出寄与領域の面積和Sは、従来技術と同様に、リード
間隙幅をW、デバイスホール間隙長をL、リード相互間
の間隔数をNとすれば、S=W×L×Nで表される。な
お、簡単のため各辺が交差する部分については除外して
考える。この実施例では、樹脂流出寄与面積をデバイス
ホールの相対する辺で等しくしている。
Here, the area sum S of the resin outflow contributing regions on each side of the device hole is the lead gap width W, the device hole gap length L, and the number of gaps between the leads N, as in the prior art. For example, S = W × L × N. For the sake of simplicity, the part where each side intersects will be excluded. In this embodiment, the resin outflow contributing areas are made equal on opposite sides of the device hole.

【0031】デバイスホール5の第1辺51側におい
て、第1辺側デバイスホール間隙長L1を0.2mm、
第1辺側インナーリード31のリード間隙幅W1を3.
0mmとすれば、リード相互間の間隔数N1は5である
から、第1辺側の樹脂流出寄与領域の面積和S1は、S
1=L1×W1×N1=0.2×3.0×5=3.0m
2 となる。
On the first side 51 side of the device hole 5, the first side device hole gap length L1 is 0.2 mm,
The lead gap width W1 of the inner lead 31 on the first side is set to 3.
If the distance is 0 mm, the number of spaces N1 between the leads is 5, so that the area sum S1 of the resin outflow contributing regions on the first side is S
1 = L1 × W1 × N1 = 0.2 × 3.0 × 5 = 3.0 m
It becomes m 2 .

【0032】デバイスホール5の第2辺52側におい
て、第2辺側インナーリード32のリード間隙幅W2は
0.5mm、リード相互間の間隔数N2は11であり、
第2辺側デバイスホール間隙長L2は、第2辺側の樹脂
流出寄与領域の面積和S2を第1辺側の樹脂流出寄与領
域の面積和S1と等しくすることから、L2=S2/
(W2×N2)=S1/(W2×N2)=3.0/
(0.5×11)=0.55mmとなる。
On the second side 52 side of the device hole 5, the lead gap width W2 of the second side inner lead 32 is 0.5 mm, and the number N2 of intervals between the leads is 11,
The second side device hole gap length L2 is equal to the area sum S2 of the resin outflow contribution regions on the second side and the area sum S1 of the resin outflow contribution regions on the first side, and thus L2 = S2 /
(W2 × N2) = S1 / (W2 × N2) = 3.0 /
(0.5 × 11) = 0.55 mm.

【0033】このように、デバイスホールの第1辺側と
第2辺側とにおける樹脂流出寄与領域の面積和を等しく
することにより、封止樹脂の流れをほぼ均等にできるこ
とから半導体基板2の表面の封止樹脂1の厚さを表面封
止部分の全面にわたってほぼ均一にできると共に、半導
体基板側面におけるデバイスホールへの封止樹脂の充填
を均等にすることができる。したがって、従来技術のよ
うな封止形状の不均一といったことがなくなる。
As described above, by equalizing the area sum of the resin outflow contribution regions on the first side and the second side of the device hole, the flow of the sealing resin can be made substantially equal, and therefore the surface of the semiconductor substrate 2 can be obtained. The thickness of the sealing resin 1 can be made substantially uniform over the entire surface sealing portion, and the sealing resin can be evenly filled in the device holes on the side surface of the semiconductor substrate. Therefore, the nonuniform sealing shape as in the prior art does not occur.

【0034】この実施例では樹脂流出寄与領域の面積和
の比を1.0としたが、必ずしもこのように厳密に一致
させる必要はなく、例えば、S2/S1=0.7〜1.
3程度としても、従来の場合に比べ同様な効果が得られ
る。これは、封止樹脂が、滴下、塗布時には液体状であ
り、一定の流動性、粘性を持つことから半導体基板の表
面側から半導体基板の側面側に所定量の樹脂が供給され
さえすればデバイスホールに沿って封止樹脂が十分に拡
がり、デバイスホールを十分に充填することができるた
めと思われる。
In this embodiment, the ratio of the sum of areas of the resin outflow contribution region is set to 1.0, but it is not always necessary to exactly match the above, and for example, S2 / S1 = 0.7 to 1.
Even if it is set to about 3, similar effects can be obtained as compared with the conventional case. This is because the encapsulating resin is in a liquid state at the time of dropping and applying, and has a certain fluidity and viscosity, so that a predetermined amount of resin is supplied from the front surface side of the semiconductor substrate to the side surface side of the semiconductor substrate. It is considered that the sealing resin spreads sufficiently along the holes and the device holes can be sufficiently filled.

【0035】図3は、キャリアテープのデバイスホール
5の内側に装着された半導体基板2の第1辺側に不均等
に接続される第1辺側インナーリード35の間隙幅W1
a,W1bが、第1辺側に対応する半導体基板2の第2
辺側に不均等に接続される第2辺側インナーリード36
の間隙幅W2a,W2bより大きく形成されたTCP半
導体装置を示す。デバイスホールの間隙長L1とインナ
ーリードの間隙幅W1a,W1bとにより定まる半導体
基板の第1辺側の任意の箇所の封止樹脂流出寄与領域の
面積S1、S2の面積和の4×S1,3×S2と、デバ
イスホールの間隙長L2とインナーリードの間隙幅W2
a,W2bとにより定まる半導体基板の第1辺側に対応
する第2辺側の任意の箇所の封止樹脂流出寄与領域の面
積S3、S4の面積和6×S3、5×S4とが均等にな
るようにしている。つまり、半導体基板の第1辺側の封
止樹脂流出寄与領域の面積和と、半導体基板の第2辺側
の封止樹脂流出寄与領域の面積和とが単位長さ当たりで
均等任意なるようにしている。
FIG. 3 shows the gap width W1 of the inner leads 35 on the first side which are unevenly connected to the first side of the semiconductor substrate 2 mounted inside the device hole 5 of the carrier tape.
a and W1b are the second side of the semiconductor substrate 2 corresponding to the first side.
Second side inner lead 36 that is unevenly connected to the side
2 shows a TCP semiconductor device formed to have a larger gap width W2a, W2b. 4 × S1,3 which is the sum of the areas S1 and S2 of the sealing resin outflow contributing regions at arbitrary locations on the first side of the semiconductor substrate, which are determined by the gap length L1 of the device hole and the gap widths W1a and W1b of the inner leads. × S2, gap length L2 of device hole and gap width W2 of inner lead
a and W2b are equal to the sum of the areas S3 and S4 of the sealing resin outflow contribution regions 6xS3 and 5xS4 on the second side corresponding to the first side of the semiconductor substrate. I am trying to become. That is, the area sum of the sealing resin outflow contributing regions on the first side of the semiconductor substrate and the area sum of the encapsulating resin outflow contributing regions on the second side of the semiconductor substrate are equalized per unit length. ing.

【0036】図4は、本発明におけるインナーリードの
配列と樹脂流出寄与領域(面積)の関係を更に説明する
ための図である。
FIG. 4 is a diagram for further explaining the relationship between the arrangement of the inner leads and the resin outflow contributing region (area) in the present invention.

【0037】第1辺側の1個の樹脂流出寄与領域の面積
S1と、これに対応する第2辺側の4個の樹脂流出寄与
領域の面積4×S2とが等しい場合を示している。これ
らの場合も、半導体基板2の相対する辺において、樹脂
流出の程度は第1辺側と第2辺側とで均等にできること
から、封止樹脂が均等に半導体基板表面とデバイスホー
ルとに充填することができる。
The case where the area S1 of one resin outflow contribution region on the first side and the corresponding area 4 × S2 of four resin outflow contribution regions on the second side are shown. In these cases as well, since the degree of resin outflow can be made uniform on the opposite sides of the semiconductor substrate 2 on the first side and the second side, the sealing resin is evenly filled on the semiconductor substrate surface and the device holes. can do.

【0038】なお、使用する樹脂特性は粘度10ポイズ
以上であり、非ニュートン流体で効果がある。硬化温度
については樹脂によって違いはあるが、低い温度例えば
80℃)よりも、高い温度(例えば、150〜200
℃)で短時間(数分〜10分)で処理するほうがより効
果的であった。
The resin used has a viscosity of 10 poise or more and is effective for non-Newtonian fluids. Although the curing temperature varies depending on the resin, it is higher than the lower temperature (for example, 80 ° C.) (for example, 150 to 200).
It was more effective to carry out the treatment at a high temperature (° C) for a short time (several minutes to 10 minutes).

【0039】[0039]

【発明の効果】(1)半導体素子を保護する樹脂の量
が、その半導体素子各方向共に均一に塗布でき、その結
果、局部的なパターンの露出や一部の辺が極端に厚くな
るような外観不良の撲滅ができた。
(1) The amount of resin that protects a semiconductor element can be applied uniformly in each direction of the semiconductor element, and as a result, a local pattern is exposed or some sides are extremely thick. I was able to eradicate the poor appearance.

【0040】(2)均等に樹脂が流れる事により、均一
な樹脂厚を形成することができ、対クラック性や耐湿性
の向上ができた。
(2) Since the resin flows evenly, a uniform resin thickness can be formed, and the crack resistance and the moisture resistance can be improved.

【0041】(3)各辺に均等な樹脂量を塗布可能にで
き、塗布圧力の調整や描画速度の適正化を行う必要もな
くなり作業時間の短縮ができた。
(3) A uniform resin amount can be applied to each side, and it is not necessary to adjust the application pressure or optimize the drawing speed, and the working time can be shortened.

【0042】(4)封止樹脂の流れの不均等による、不
要な導体パターンの露出及び偏った樹脂の流れ過ぎによ
る封止不良の撲滅ができる。
(4) It is possible to eliminate a defective sealing due to an unnecessary exposure of the conductor pattern due to the nonuniform flow of the sealing resin and an excessive uneven flow of the resin.

【0043】(5)半導体素子を保護する樹脂の量が均
等になり、その結果、耐湿性や熱ストレスに対しても均
等となる。
(5) The amount of resin that protects the semiconductor element is equalized, and as a result, moisture resistance and thermal stress are equalized.

【0044】(6)外観検査の項目を削減でき、処理工
数を低減できる。
(6) The number of appearance inspection items can be reduced, and the number of processing steps can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1a】本発明に基づくテープキャリアパッケージの
断面図である。
FIG. 1a is a cross-sectional view of a tape carrier package according to the present invention.

【図1b】図1aのテープキャリアパッケージの平面図
である。
1b is a plan view of the tape carrier package of FIG. 1a.

【図2a】従来のテープキャリアパッケージの断面図で
ある。
FIG. 2a is a cross-sectional view of a conventional tape carrier package.

【図2b】図2aのテープキャリアパッケージの平面図
である。
2b is a plan view of the tape carrier package of FIG. 2a.

【図3】本発明に基づく別のテープキャリアパッケージ
のの平面図である。
FIG. 3 is a plan view of another tape carrier package according to the present invention.

【図4】本発明におけるインナーリードの配列と樹脂流
出寄与領域(面積)の関係を説明する図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a relationship between an arrangement of inner leads and a resin outflow contributing region (area) in the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11,12,13,14 封止樹脂 2 半導体素子 3,31,32,33,34,35,36 導体パター
ン及びインナーリード 4 テープキャリア 5,51,52,53,54 テープキャリア内に設け
るデバイスホール 6 半導体素子の中心線 7 テープキャリア内に設けるデバイスホールの中心線 L デバイスホールサイズ(間隙長) S 隙間面積 W インナーリード間隙幅
1, 11, 12, 13, 14 Sealing resin 2 Semiconductor element 3, 31, 32, 33, 34, 35, 36 Conductor pattern and inner lead 4 Tape carrier 5, 51, 52, 53, 54 Provided in the tape carrier Device hole 6 Center line of semiconductor element 7 Center line of device hole provided in tape carrier L Device hole size (gap length) S Gap area W Inner lead gap width

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 キャリアテープのデバイスホール内側に
装着された半導体基板の第1辺側に接続される第1辺側
インナーリードの間隙幅が、第1辺側に対応する半導体
基板の第2辺側に接続される第2辺側インナーリードの
間隙幅より大きく形成されたテープキャリアパッケージ
(TCP)半導体装置において、半導体基板の第1辺と
これに対応するデバイスホールの第1辺とにより定まる
第1辺側デバイスホールの間隙長が、半導体基板の第2
辺とこれに対応するデバイスホールの第2辺とにより定
まる第2辺側デバイスホールの間隙長より小さく形成さ
れたことを特徴とするTCP半導体装置。
1. A second side of a semiconductor substrate, wherein a gap width of a first side inner lead connected to a first side of a semiconductor substrate mounted inside a device hole of a carrier tape corresponds to the first side. In a tape carrier package (TCP) semiconductor device formed to be larger than the gap width of the second side inner lead connected to the side, the first side of the semiconductor substrate and the first side of the device hole corresponding to the first side are determined. The gap length of the device hole on the one side is the second of the semiconductor substrate.
A TCP semiconductor device characterized in that it is formed to be smaller than the gap length of the second side device hole defined by the side and the second side of the device hole corresponding thereto.
【請求項2】 キャリアテープのデバイスホール内側に
装着された半導体基板の第1辺側に接続される第1辺側
インナーリードの間隙幅が、第1辺側に対応する半導体
基板の第2辺側に接続される第2辺側インナーリードの
間隙幅より大きく形成されたテープキャリアパッケージ
(TCP)半導体装置において、半導体基板の第1辺及
び半導体基板の第2辺により定まる中心が、デバイスホ
ールの第1辺及び第2辺により定まる中心より、第1辺
側にずらして形成されることにより、第1辺側間隙長と
第2辺側間隙長とを異ならせたことを特徴とするTCP
半導体装置。
2. The second side of the semiconductor substrate, wherein the gap width of the first side inner lead connected to the first side of the semiconductor substrate mounted inside the device hole of the carrier tape corresponds to the first side. In a tape carrier package (TCP) semiconductor device formed to have a larger width than the gap between the inner leads connected to the second side, the center defined by the first side of the semiconductor substrate and the second side of the semiconductor substrate is the device hole. The TCP is characterized in that the first side gap length and the second side gap length are different from each other by being formed so as to be shifted to the first side from the center defined by the first side and the second side.
Semiconductor device.
【請求項3】 キャリアテープのデバイスホール内側に
装着された半導体基板の第1辺側に接続される第1辺側
インナーリードの間隙幅が、第1辺側に対応する半導体
基板の第2辺側に接続される第2辺側インナーリードの
間隙幅より大きく形成されたテープキャリアパッケージ
(TCP)半導体装置において、第1辺側デバイスホー
ルの間隙長と第1辺側インナーリードの間隙幅とにより
定まる第1辺側の封止樹脂流出寄与領域の面積和と、第
2辺側デバイスホールの間隙長と第2辺側インナーリー
ドの間隙幅とにより定まる第2辺側の封止樹脂流出寄与
領域の面積和とがほぼ等しいことを特徴とするTCP半
導体装置。
3. The second side of the semiconductor substrate, in which the gap width of the first side inner leads connected to the first side of the semiconductor substrate mounted inside the device hole of the carrier tape corresponds to the first side. In a tape carrier package (TCP) semiconductor device formed to be larger than the gap width of the second side inner lead connected to the side, depending on the gap length of the first side device hole and the gap width of the first side inner lead. The sealing resin outflow contribution region on the second side, which is determined by the sum of the areas of the sealing resin outflow contribution region on the first side, which is determined, and the gap length of the device holes on the second side and the gap width of the inner leads on the second side. The TCP semiconductor device is characterized in that the sum of the areas is substantially equal.
【請求項4】 デバイスホールの間隙長とインナーリー
ドの間隙幅とにより定まる半導体基板の第1辺側の一つ
の封止樹脂流出寄与領域の面積と、これに対応する半導
体基板の第2辺側の封止樹脂流出寄与領域の面積和とが
ほぼ等しいことを特徴とする請求項1、2又は3のいず
れか一項に記載のTCP半導体装置。
4. The area of one sealing resin outflow contributing region on the first side of the semiconductor substrate, which is determined by the gap length of the device hole and the gap width of the inner lead, and the corresponding second side of the semiconductor substrate. 4. The TCP semiconductor device according to claim 1, 2 or 3, wherein the sum of areas of the sealing resin outflow contribution region of 1) is substantially equal.
【請求項5】 半導体基板の第1辺側の封止樹脂流出寄
与領域の面積和と、半導体基板の第2辺側の封止樹脂流
出寄与領域の面積和とが単位長さ当たりでほぼ等しいこ
とを特徴とする請求項1、2又は3のいずれか一項に記
載のTCP半導体装置。
5. The sum of areas of the sealing resin outflow contributing regions on the first side of the semiconductor substrate and the sum of areas of the sealing resin outflow contributing regions on the second side of the semiconductor substrate are substantially equal per unit length. 4. The TCP semiconductor device according to claim 1, 2, or 3.
【請求項6】 半導体基板を装着するためのデバイスホ
ールの第1辺から装着されるべき半導体基板の第1辺に
延長する第1辺側インナーリードの間隙幅が、第1辺に
対応するデバイスホールの第2辺から半導体基板の第2
辺に延長する第2辺側インナーリードの間隙幅より大き
く形成されたテープキャリアパッケージ(TCP)半導
体装置用キャリアテープにおいて、第1辺側インナーリ
ードの長さが第2辺側インナーリードの長さより短いこ
とを特徴とするTCP半導体装置用キャリアテープ。
6. A device in which a gap width of a first side inner lead extending from a first side of a device hole for mounting a semiconductor substrate to a first side of a semiconductor substrate to be mounted corresponds to the first side. From the second side of the hole to the second side of the semiconductor substrate
In a carrier tape for a tape carrier package (TCP) semiconductor device formed to be larger than the gap width of the second side inner lead extending to the side, the length of the first side inner lead is larger than that of the second side inner lead. Carrier tape for TCP semiconductor device characterized by being short.
【請求項7】 半導体基板を装着するためのデバイスホ
ールの第1辺から装着されるべき半導体基板の第1辺に
延長する第1辺側インナーリードの間隙幅が、第1辺に
対応するデバイスホールの第2辺から半導体基板の第2
辺に延長する第2辺側インナーリードの間隙幅より大き
く形成されたテープキャリアパッケージ(TCP)半導
体装置用キャリアテープにおいて、デバイスホールの第
1辺と半導体基板の第1辺とにより定まる第1辺側デバ
イスホールの間隙長と第1辺側インナーリードの間隙幅
とにより定まる第1辺側の封止樹脂流出寄与領域の面積
和と、デバイスホールの第2辺と半導体基板の第2辺と
により定まる第2辺側デバイスホールの間隙長と、第2
辺側インナーリードの間隙幅とにより定まる第2辺側の
封止樹脂流出寄与領域の面積和とが、ほぼ等しいことを
特徴とするTCP半導体装置用キャリアテープ。
7. A device in which a gap width of a first side inner lead extending from a first side of a device hole for mounting a semiconductor substrate to a first side of a semiconductor substrate to be mounted corresponds to the first side. From the second side of the hole to the second side of the semiconductor substrate
In a carrier tape for a tape carrier package (TCP) semiconductor device, which is formed to be larger than a gap width of a second side inner lead extending to a side, a first side defined by a first side of a device hole and a first side of a semiconductor substrate. The sum of the areas of the sealing resin outflow contribution region on the first side, which is determined by the gap length of the side device hole and the gap width of the inner lead on the first side, and the second side of the device hole and the second side of the semiconductor substrate. The gap length of the device hole on the second side, which is determined,
A carrier tape for a TCP semiconductor device, wherein the sum of areas of the sealing resin outflow contribution region on the second side, which is determined by the gap width of the side inner leads, is substantially equal.
【請求項8】 デバイスホールの間隙長とインナーリー
ドの間隙幅とにより定まる半導体基板の第1辺側の一つ
の封止樹脂流出寄与領域の面積と、これに対応する半導
体基板の第2辺側の封止樹脂流出寄与領域の面積和とが
ほぼ等しいことを特徴とする請求項7記載のTCP半導
体装置用キャリアテープ。
8. The area of one sealing resin outflow contributing region on the first side of the semiconductor substrate, which is determined by the gap length of the device hole and the gap width of the inner lead, and the corresponding second side of the semiconductor substrate. 8. The carrier tape for a TCP semiconductor device according to claim 7, wherein the sum of the areas of the sealing resin outflow contribution region of 1) is substantially equal.
【請求項9】 半導体基板の第1辺側の封止樹脂流出寄
与領域の面積和と、半導体基板の第2辺側の封止樹脂流
出寄与領域の面積和とが単位長さ当たりでほぼ等しいこ
とを特徴とする請求項7記載のTCP半導体装置用キャ
リアテープ。
9. The sum of areas of the sealing resin outflow contributing regions on the first side of the semiconductor substrate and the sum of areas of the sealing resin outflow contributing regions on the second side of the semiconductor substrate are substantially equal per unit length. 8. The carrier tape for TCP semiconductor device according to claim 7, wherein
【請求項10】 キャリアテープデバイスホールの第1
辺と半導体基板の第1辺との間に形成されるべき第1辺
側の封止樹脂流出寄与領域の面積和と、第1辺に相対す
るデバイスホールの第2辺と半導体基板の第2辺との間
に形成されるべき第2辺側の封止樹脂流出寄与領域の面
積和とがほぼ等しくなるように、デバイスホール内側に
よって第1辺側インナーリードと第2辺側インナーリー
ドとを形成する工程、 第1辺側インナーリードと第2辺側インナーリードの先
端部に半導体基板第1表面の電極を接続する工程、 第1辺側、第2辺側の封止樹脂流出寄与領域を介して、
キャリアテープの第1表面側から、キャリアテープの側
面に封止樹脂を供給して半導体基板を樹脂封止する工
程、からなるTCP型半導体装置の製造方法。
10. The first carrier tape device hole
The sum of the areas of the sealing resin outflow contributing regions on the first side to be formed between the side and the first side of the semiconductor substrate, the second side of the device hole facing the first side, and the second side of the semiconductor substrate. The first side inner lead and the second side inner lead are arranged inside the device hole so that the sum of areas of the second side sealing resin outflow contributing region to be formed between the side and the side becomes substantially equal. Forming step, connecting the electrodes on the first surface of the semiconductor substrate to the tip portions of the first side inner leads and the second side inner leads, and forming the sealing resin outflow contributing regions on the first side and the second side. Through,
A method of manufacturing a TCP type semiconductor device, comprising the step of supplying a sealing resin to the side surface of the carrier tape from the first surface side of the carrier tape to seal the semiconductor substrate with the resin.
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