JPH06263897A - 含フッ素高分子成形体の撥水性向上方法 - Google Patents

含フッ素高分子成形体の撥水性向上方法

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JPH06263897A
JPH06263897A JP196894A JP196894A JPH06263897A JP H06263897 A JPH06263897 A JP H06263897A JP 196894 A JP196894 A JP 196894A JP 196894 A JP196894 A JP 196894A JP H06263897 A JPH06263897 A JP H06263897A
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JP
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water repellency
molding
treatment
fluorine gas
roughened
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JP196894A
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English (en)
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Yukinori Saiki
幸則 斉木
Mina Ichikawa
美奈 市川
Masaatsu Shimomura
正篤 下村
Masahiro Ono
雅宏 小野
Nobuatsu Watanabe
信淳 渡辺
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Taiheiyo Cement Corp
A&A Material Corp
Original Assignee
Ask Corp
Onoda Cement Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 含フッ素高分子成形体の表面を粗し、次いで
当該表面にフッ素ガスを接触させる含フッ素高分子成形
体の撥水性向上方法。 【効果】 得られた含フッ素高分子成形体は、例えば従
来知られているポリテトラフルオロエチレンの接触角よ
りも更に高い値を示し、最高値は155°に達し、撥水
性が顕著に向上する。また表面に摩擦による負荷を加え
ても接触角の値はほとんど変化が無く、耐久性を有する
ため、かかる特性を必要とする自動車ワイパーなどの種
々の用途に好適に用いられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は含フッ素高分子成形体の
撥水性を向上させる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】含フッ素高分子は、耐薬品性、低摩擦
性、難燃性、耐熱性等から広く産業上のあらゆる分野に
利用されている。ところで、半導体産業の分野において
は、フロンによる洗浄が一般的であったが、環境問題よ
りフロンに代えて超純水による洗浄が行われるようにな
ってきている。そのため、半導体製造工程で冶具や部
品、装置類に撥水性の良好なポリテトラフルオロエチレ
ン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビ
ニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキ
サフルオロプロピレン共重合体等の含フッ素高分子材料
が利用されている。しかし、これらの含フッ素高分子材
料の撥水性の指標である水との接触角は110°程度で
あり、水切れが悪く乾燥工程が必要であるという問題が
ある。
【0003】一般的に高分子固体表面の撥水性に関して
は、その化学組成、結晶状態が同じであっても表面の粗
さが変わることにより大きく変化することが知られてい
る〔R.N.Wenzel:Ind.Eng.Che
m.,28,988(1936)〕。また、高分子表面
の撥水性を向上させる試みとしては、例えば(1)パー
フルオロアルキル基を持つポリマーをマトリックスと
し、疎水性充填剤を分散する方法〔大石不二夫ら、「表
面」28,988(1990)〕、(2)ポリテトラフ
ルオロエチレンオリゴマー粒子をメッキ液に分散させて
共析メッキする方法〔特開平4−285199号公報〕
等が知られている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
(1)、(2)の方法では、疎水性充填剤やポリテトラ
フルオロエチレンオリゴマー粒子がマトリックスから剥
離するため撥水性能が低下するという欠点があり、充分
満足すべきものではなかった。
【0005】従って、本発明の目的は含フッ素高分子成
形体の撥水性を更に向上させる方法を提供することにあ
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは含フッ素高
分子成形体の撥水性を更に向上すべく鋭意検討を重ねた
結果、含フッ素高分子成形体表面を粗す操作をした後、
当該表面にフッ素ガスを接触せしめれば従来にない優れ
た撥水性と耐久性とを兼ね備えた含フッ素高分子成形体
が得られることを見出し本発明を完成するに至った。
【0007】すなわち、本発明は含フッ素高分子成形体
の表面を粗し、次いで当該表面にフッ素ガスを接触させ
ることを特徴とする含フッ素高分子成形体の撥水性向上
方法、及び当該方法により得られた表面撥水性を向上し
た含フッ素高分子成形体である。
【0008】本発明方法に使用される含フッ素高分子成
形体は、含フッ素高分子の成形体であれば特に制限され
ない。ここで、含フッ素高分子としては、例えばポリテ
トラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエ
チレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体
(PFA)、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロ
プロピレン共重合体(FEP)、ポリクロロトリフルオ
ロエチレン(PCTFE)、テトラフルオロエチレン−
エチレン共重合体(ETFE)、クロロトリフルオロエ
チレン−エチレン共重合体(ECTFE)、ポリフッ化
ビニリデン(PVdF)、ポリフッ化ビニル(PVF)
等が挙げられる。
【0009】かかる含フッ素高分子の成形体としては、
フィルム、シートその他各種形状の成形品が挙げられ、
キャスティング法、溶融押出法、射出成形法、ロートモ
ールド法、ブローモールド法、カレンダー法、延伸法、
圧縮成形法等従来公知の成形手段により製造することが
できる。これらの成形体を製造するにあたって、各種配
合剤、添加剤、加工助剤等を配合することは何ら差し支
えない。
【0010】本発明においては前記含フッ素高分子成形
体表面を粗すが、当該表面を粗す手段としては機械的処
理、電気的処理等が挙げられる。このうち、機械的処理
としては、ワイヤーブラシ、ベルトサンダー、ショット
ブラスト等による処理が挙げられ、電気的処理としては
低温プラズマ法によるスパッタリング等が挙げられる。
【0011】これらの表面粗し手段により、含フッ素高
分子成形体表面の分子鎖が切断されるとともに表面に凹
凸ができる。この表面の凹凸の大きさは一概に規定でき
ないがJIS B 0601「表面粗さの定義と表示」
の方法により示せば、機械的処理の場合はRa(中心線
平均粗さ)は0.1〜50μm、好ましくは0.2〜1
5μmである。0.1μm未満では機械的に分子鎖を切
断することは困難であり、フッ素化による充分な撥水性
の向上はみられない。また、50μmを超えると水滴が
凹部に入り込み撥水性の向上効果は少なくなる。一方、
電気的処理の場合、表面の凹凸が細かくても分子鎖が切
断されるためRa(中心線平均粗さ)は0.1μm以
上、好ましくは0.2〜2.0μmである。0.1μm
未満では、フッ素化による撥水性の向上はみられず、ま
た3.0μm以上とするのは困難である。また、PTF
Eの様な高融点の含フッ素高分子成形体はワイヤーホイ
ールブラシ、ベルトサンダーで分子切断が容易にできる
が、ポリテトラフルオロエチレン−エチレン共重合体の
様な融点の低い含フッ素高分子成形体では、ワイヤーホ
イールブラシでは摩擦熱により表面が溶融してしまうお
それがあるので、ショットブラストを用いるのが好まし
い。
【0012】次いで、このようにして含フッ素高分子成
形体の表面を粗したものをフッ素ガスと接触せしめる。
フッ素ガスは、単独で又は窒素、アルゴン等の不活性ガ
スと混合しても用いることができる。不活性ガスとの混
合で用いる際の不活性ガス濃度は10〜90%が好まし
い。フッ素化の温度は、含フッ素高分子成形体の種類に
より異なるが、100〜300℃、特に150〜250
℃が好ましい。また、フッ素ガス濃度と接触時間とは、
相互に密接に関係があり、高濃度であれば短時間で充分
であり、低濃度の場合には長時間を要する。また、フッ
素ガス処理容器中への含フッ素高分子成形体の充填量が
少なければ短時間、低濃度で充分であり、充填量が多け
れば長時間、高濃度を要する。例えばフッ素ガス濃度は
10〜500torr、接触時間は10分〜1時間が好
ましい。
【0013】より具体的には、表面粗し終了後の含フッ
素高分子成形体を気密容器に入れ、空気を除去してフッ
素ガス又はフッ素ガスと不活性ガスとの混合ガスを導入
することにより実施される。
【0014】本発明方法においては、表面粗し操作によ
り含フッ素高分子成形体の表面には、前記の如く凹凸が
形成するとともに分子鎖が切断されることにより不安定
な末端基が生成する。この不安定な末端基は重合の時に
生成した末端基とは異なり、機械的、電気的処理により
生成したラジカルと空気中の酸素が反応したパーオキシ
ラジカルと考えることができる。図1のaはPTFEシ
ートをワイヤーホイールブラシで粗し、フッ素ガス接触
処理しなかったもの、bはPTFEシートをワイヤーホ
イールブラシで粗し、フッ素ガス接触処理したもののX
線光電子分光法(ESCA)で測定したC1sのスペクト
ルを、図2のaはPTFEシートをワイヤーホイールブ
ラシで粗し、フッ素ガス接触処理したもの、bはPTF
Eシートをワイヤーホイールブラシで粗し、フッ素ガス
接触処理しなかったもののESCAで測定たO1sのスペ
クトルを示すものである。図1のa、bのC1sスペクト
ルでは293.3eVに−CF2−基のピークがある
が、aではこれよりも低エネルギー側の288.9eV
にピークが観察され、図2のaのO1sスペクトルには5
35eVにピークが観察されたことから、表面にパーオ
キシラジカルが生成しているものと推察される。このパ
ーオキシラジカルは、フッ素ガスと接触することにより
−CF3基に変化する。このことは図1のbで288.
9eVの所にピークがなく、図2のbで535eVの所
にピークがないことからも理解できる。
【0015】
【作用及び発明の効果】本発明方法により、表面の分子
鎖を切断しフッ素化した含フッ素高分子成形体は、表面
に凹凸があるため液体との付着力が小さくなり、かつ、
表面に生成した末端基がフッ素化され、−CF2−基よ
りも低表面エネルギー基である−CF3基が実質的に生
成していると考えられる。これらの相乗効果により高い
撥水性を示す。また、疎水性充填剤を複合化した場合と
は異なり、表面を粗し微細な凹凸をつけているのできわ
めて高い耐久性を示す。本発明により得られた含フッ素
高分子成形体は、従来知られているPTFEの接触角よ
りも更に高い値を示し、最高値は155°に達する。か
つ、表面に摩擦による負荷を加えても接触角の値には変
化が無く撥水性を持続し耐久性を有するため、かかる特
性を必要とする種々の用途に好適に用いられる。
【0016】
【実施例】次に、実施例と比較例により本発明を具体的
に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるもの
ではない。
【0017】実施例1 下記に示した表面粗し方法1、2、3又は4によって表
面を粗したPTFEシートをJIS B 0601に則
り、表面粗さ形状測定機サーコム300B(東京精密社
製)で測定したところ、1、2、3、4でRaはそれぞ
れ5.6μm、0.3μm、7.7μm、3.1μmで
あった。1×3cmの長方形に切り、外径2インチ、長さ
600mmの円柱状ニッケル製反応器に入れ、この容器内
を0.2torrに減圧後、フッ素ガスを100tor
rまで導入し、外部加熱により温度を変え10分間フッ
素ガス接触処理した。処理後容器内のフッ素ガスを除去
後、窒素ガスで大気圧にして取り出し、撥水性の程度を
水に対する接触角を測定することにより求めた。その結
果を図3に示す。なお、図3の(5)は表面粗しをほど
こさなかったものであり、Raは0.09μmであっ
た。
【0018】(表面粗し方法) 1・・・PTFEシート(200×200×0.5mm)
を、♯30の鉄粉を用いショットブラスト機〔日本ブラ
ストマシン社製〕で噴射空気圧3kg/cm2で表面粗しを
行った後、強酸で洗浄して表面に残っている鉄粉を溶解
除去した。 2・・・PTFEシート(100×100×0.5mm)
をプラズマ発生装置内にセットし装置内を10-4tor
rまで減圧にした後アルゴンガスを導入し、アルゴンガ
ス流通下で0.03torrに調整保持し、13.56
MHz、400Wの高周波電力を与えて低温プラズマを
発生させ50秒間処理した。 3・・・PTFEシート(100×100×0.5mm)
をステンレス(SUS304)線ワイヤーホイールブラ
シで回転数2000rpm、シートとブラシ先端が接して
からブラシ先端を1.0mm深さになるように押し付けて
固定し縦方向、横方向に粗した。 4・・・PTFEシート(100×100×0.5mm)
を菊川鉄鋼所社製ベルトサンダー(M648)を用いて
表面粗しを行った。なおベルトは♯240ベルトを用い
た。
【0019】(接触角測定方法)接触角測定は、接触角
測定機(協和界面化学社製、CA−S150型)を用い
て行った。測定は、マイクロシリンジからマイクロヘッ
ドで径を1mmに統一した蒸留水の水滴を試料表面に滴下
し、平衡接触角を読みとった。接触角の値は10個の測
定結果の平均値により決定した。
【0020】図3から次のことが認められる。 (1)20〜300℃の温度でフッ素ガス接触処理する
と、1、2、3、4の方法で表面を粗したものは、表面
を粗してないもの5に比べ、いずれも接触角が大になる
こと。また1、2、3、4の順で接触角が大になるこ
と。 (2)表面を粗してない5は、温度によって接触角の変
化が少ないが、1、2、3、4の方法で表面を粗したも
のは20℃から100℃位までは温度が変っても接触角
の変化は余り見られないものの、100℃付近から接触
角は増大し、200℃前後で最大となり、その後の温度
では接触角が減小する傾向を示している。以上のことか
ら、表面を粗したものをフッ素ガスで接触処理すれば接
触角が大きくなり、撥水性が向上することが分る。
【0021】実施例2、3及び比較例1、2 PFAシート、ETFEシート(いずれも200×20
0×0.5mm)を実施例1の表面粗し方法1で表面粗し
た後、実施例1と同じ大きさのサンプルを実施例1と同
じ装置を用い、温度200℃、フッ素ガス濃度400t
orr、接触時間60分の条件でフッ素ガス接触処理を
行った。その結果を表1に示す。比較例としてPFA、
ETFEの表面粗しを施していないシートをフッ素ガス
接触処理した結果を表1に示す。表1から明らかなよう
に、表面粗しを施していないシートはフッ素ガスで処理
すると接触角は若干大きくなるものの、表面を粗したも
のは実施例1の1の方法で表面を粗したPTFEシート
以上の接触角を示した。
【0022】
【表1】
【0023】実施例4(耐久性試験) PTFEシートを実施例1の3の方法で表面を粗し、実
施例1の装置を用い、温度200℃、フッ素ガス濃度1
00torr、接触時間10分でフッ素ガス接触処理し
たものを、自動車用ワイパーを用いて500往復の摩擦
試験を行った後、接触角を測定したところ149°であ
った。また同様に処理したサンプルに1l/minの流速
で水道水を24時間かけつづけた後、接触角を測定した
ところ、150°であり、試験前とほとんど接触角の変
化がなかった。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、PTFEシートをワイヤーホイールブ
ラシで粗し、フッ素ガス接触処理しなかったもの
(a)、フッ素ガス接触処理したもの(b)のESCA
で測定したC1sのスペクトルを示す。
【図2】図2は、PTFEシートをワイヤーホイールブ
ラシで粗し、フッ素ガス接触処理しなかったもの
(a)、フッ素ガス接触処理したもの(b)の、ESC
Aで測定したO1sのスペクトルを示す。
【図3】図3は、実施例1において、PTFEシートを
種々の表面粗し方法で粗したものを温度を変えてフッ素
ガス接触処理したときの接触角を示す図である。図中の
1はショットブラスト、2は低温プラズマ法によるスパ
ッタリング、3はワイヤーホイールブラシ、4はベルト
サンダーにより表面を粗したことを示し、5は表面粗し
処理を施さなかったことを示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 下村 正篤 東京都八王子市南陽台2−6−8 (72)発明者 小野 雅宏 埼玉県川口市大字赤井488 (72)発明者 渡辺 信淳 京都府長岡京市うぐいす台136

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 含フッ素高分子成形体の表面を粗し、次
    いで当該表面にフッ素ガスを接触させることを特徴とす
    る含フッ素高分子成形体の撥水性向上方法。
  2. 【請求項2】 表面を粗す手段が、機械的処理又は電気
    的処理によるものである請求項1記載の含フッ素高分子
    成形体の撥水性向上方法。
  3. 【請求項3】 含フッ素高分子成形体の表面を粗し、次
    いで当該表面にフッ素ガスを接触させることにより得ら
    れた表面撥水性を向上した含フッ素高分子成形体。
JP196894A 1993-01-18 1994-01-13 含フッ素高分子成形体の撥水性向上方法 Pending JPH06263897A (ja)

Priority Applications (1)

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JP196894A JPH06263897A (ja) 1993-01-18 1994-01-13 含フッ素高分子成形体の撥水性向上方法

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JP592693 1993-01-18
JP5-5926 1993-01-18
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001079337A1 (fr) * 2000-04-19 2001-10-25 Daikin Industries, Ltd. Objet moule de fluoroelastomere a excellente capacite de demoulage, et son procede de production
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