JPH06254326A - プレコート式バグフィルタ装置の運転制御方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】プレコート時に供給薬剤を濾布に有効に付着せ
しめることにより、使用薬剤量を節減するのみでなく、
未反応薬剤排出量の削減を可能にするプレコート式バグ
フィルタ装置の運転制御方法を提供する。 【構成】清浄ガス室と濾過室及びホッパ室からなる複数
の単位集じん機構，，により構成され、濾過作業
を行う前の段階で上記濾過室内に設置された濾布の表面
に予めプレコート層を形成するプレコート式バグフィル
タ装置の運転制御方法であって、複数の単位集じん機構
，，には、これら単位集じん機構に流入する気体
の流量を計測する流量計４５１，４５２，４５３がそれ
ぞれ設けられ、複数個のうち１個の単位集じん機構の濾
布にプレコート層を形成する際において、当該単位集じ
ん機構に流入する気体の流量値が設定量よりも低い場合
には、他の少なくとも１個の単位集じん機構への気体の
流入を阻止する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、気体流からダスト及び
浮遊物質等を分離し、除去または回収するバグフィルタ
装置に関し、特に濾過作業を行う前に濾布の表面にプレ
コート層を形成するプレコート式バグフィルタ装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】現在実用に供されているバグフィルタ装
置の形式のうち、最も多く採用されているものは、濾過
及び酸性有害ガスの中和作用を司る薬剤を排ガスに同伴
させて濾布上に付着せしめ、運転の継続とともに濾布上
に堆積したダスト及び薬剤等から成る粉じん層をパルス
ジェット方式で払い落す形式である。

【０００３】また、濾過室の構造としては、単一室構造
と多室構造の両方があるが、本書ではパルスジェット式
多室構造形排ガス同伴方式を従来技術の代表例として説
明する。

【０００４】図６及び図７は従来のバグフィルタ装置の
概略構成を示す。

【０００５】図６及び図７において、ａはバグフィルタ
装置を構成する単位集じん機構を収納し、相互を区分す
るケーシングであり、それぞれの単位集じん機構は、複
数の濾布ｂを懸架する仕切板ｃによって、下部の濾過室
ｄと上部の清浄ガス室ｅとに２分割されている。

【０００６】清浄ガス室ｅには、図示しない空気圧縮源
に連接される開閉弁を通じて、各濾布ｂ内に圧縮空気を
ジェットパルス状に噴射させるための複数のノズルｆ１
を備えた空気吹込管ｆが配設されている。

【０００７】濾過室ｄの下方は、粉じん収集用のホッパ
室ｈを構成し、その底部には粉じんを排出するための排
出機構ｊが連接されている。

【０００８】ホッパ室ｈの外側面には、図示しない焼却
炉または燃焼炉等で発生したばいじんや酸性有害ガス等
を含む燃焼ガスを導入する主煙道ｋが配設され、主煙道
ｋの途中には、図示しない有害ガス除去装置から輸送さ
れる中和用の薬剤ｍが連続的に供給されており、薬剤ｍ
は燃焼ガスと混合して排ガスｇとなる。

【０００９】排ガスｇは、主煙道ｋから各単位集じん機
構ごとに分岐された分岐導入ダクトｐを介して、各ホッ
パ室ｈに流入し、その間に含有する酸性有害ガスと薬剤
ｍとが中和反応を起こしながら濾過室ｄ内に懸架された
複数の濾布ｂの表面に到達する。

【００１０】後述する払い落し作業終了後の単位集じん
機構は、通気抵抗が低いために連続操業中の他区画より
も大量の排ガスｇが流入し、濾布ｂを通過する際に、そ
の濾過能力により、反応済及び未反応の薬剤ｍが濾過さ
れて表面に付着し、濾過・中和作業の主体となる一部反
応済の薬剤ｍによる薬剤層ｂ１（図７参照）が形成され
る。

【００１１】そして、この後の通ガス中においては、排
ガスｇ中に残存する酸性有害ガスは薬剤層ｂ１内の未反
応薬剤ｍと中和反応を起こすとともに、排ガスｇと共に
飛来するばいじん及び反応済と未反応の薬剤ｍは薬剤層
ｂ１表面に順次堆積して粉じん層ｂ２（図７参照）を形
成する。

【００１２】従って、排ガスｇが該粉じん層ｂ２及び薬
剤層ｂ１を通過する際に、保有するばいじんが捕捉され
るとともに、残存する酸性有害ガスが未反応の薬剤ｍと
接触することにより、効率良く中和反応して清浄ガスｎ
となり、清浄ガス室ｅに排出される。

【００１３】清浄ガスｎは、清浄ガス室ｅの外側面に配
設された分岐排出ダクトｑに挿入された清浄ガス開閉弁
ｒを通り、排出主ダクトｓを経て、図示しない誘引通風
機に吸引されて、図示しない煙突から大気中に放出され
る。

【００１４】この状態で運転を継続すると、飛来し続け
る燃焼ガス中のばいじん及び反応済と未反応の薬剤ｍに
より、粉じん層ｂ２が次第に成長して通気抵抗が増加す
る。そこで、該当する単位集じん機構の清浄ガス開閉弁
ｒを閉鎖して排ガスｇの流入を停止せしめた後、空気吹
込管ｆから圧縮空気をジェット噴射させることにより、
濾布ｂの表面に付着した薬剤層ｂ１と堆積した粉じん層
ｂ２を剥離・落下させる。この後、清浄ガス開閉弁ｒを
再び開放することで排ガスｇの流入を再開させる。

【００１５】この払い落し操作を各単位集じん機構ごと
に順次行うことにより、単位集じん機構の各濾布に付着
・堆積したばいじん及び反応済と未反応の薬剤ｍ等から
なる捕集灰を除去することができる。なお、ホッパ室ｈ
に落下した捕集灰は、排出機構ｊにより、外部に排出す
るようになされている。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】従来の多室構造形排ガ
ス同伴方式バグフィルタ装置の場合は、薬剤層ｂ１を形
成する薬剤ｍは、主煙道ｋまたは図示しない前置反応塔
に一括して供給されている。

【００１７】そこで、上述の如く、通気抵抗が増加した
単位集じん機構の払い落しを行えば、その区画の通気抵
抗が一挙に低下するために、排ガスｇがその区画に集中
的に流入し、大量の薬剤ｍが同伴されるが、薬剤層ｂ１
の成長とともにその区画への排ガス流量が次第に低下し
て同伴薬剤量も自動的に低下する。さらに、排ガス流量
の低下とともに、濾布ｂへの薬剤ｍの付着率が低減し、
過半数の薬剤ｍは未反応のままホッパ室ｈに落下するよ
うになる。

【００１８】一方、薬剤ｍが連続的に供給されているた
めに、薬剤ｍは払い落し直後はその一部が他の区画に、
定常運転時には全部が各区画に供給されるために、薬剤
層ｂ１が形成された以後に供給し続けられる未反応薬剤
ｍは過剰分であり、粉じん層ｂ２の増大を助長すること
になる。

【００１９】従って、通気抵抗の上昇が早くなるために
払い落し間隔が短くなり、前述の落下薬剤の増加と相ま
って未反応薬剤を多量に排出する結果、薬剤費が嵩むだ
けでなく、重金属やダイオキシン類の有害物質を含むた
めに「特別管理廃棄物」に指定されている捕集灰（排出
灰）の量を増加させることになり、後処理費用の増大を
招くことになる。

【００２０】しかも、燃焼状況等により排ガスｇの流入
量が少ない場合でも、構成する単位集じん機構の全てに
通ガスしているために、各濾布ｂ及び周辺の金具等全て
が排ガスｇに常時接触していることになり、運転停止後
の温度低下に起因する結露により、濾布ｂへの一部薬剤
層ｂ１の吸湿固着による払い落とし不全や、周辺金具等
の腐食の影響を全ての単位集じん機構が受けることにな
る。

【００２１】

【課題を解決するための手段】本発明のプレコート式バ
グフィルタ装置の運転制御方法は、清浄ガス室と濾過室
及びホッパ室からなる複数の単位集じん機構により構成
され、濾過作業を行う前の段階で上記濾過室内に設置さ
れた濾布の表面に予めプレコート層を形成するプレコー
ト式バグフィルタ装置の運転制御方法であって、前記複
数の単位集じん機構には、これら単位集じん機構に流入
する気体の流量を計測する計測装置がそれぞれ設けら
れ、複数個のうち１個の単位集じん機構の濾布にプレコ
ート層を形成する際において、当該単位集じん機構に流
入する気体の流量値が設定量よりも低い場合には、他の
少なくとも１個の単位集じん機構への気体の流入を阻止
するものである。

【００２２】また、上述したプレコート式バグフィルタ
装置の運転制御方法において、単位操業期間中の被燃焼
物の質・量により、発生する排ガス量の大要を推測し、
前記複数で構成された各単位集じん機構のうち、各々定
格量乃至定格量を大幅に下回らない程度の排ガス量を流
せるように各単位集じん機構の運転数を選択する。

【００２３】

【作用】１個の単位集じん機構の濾布にプレコート層を
形成する際において、当該単位集じん機構に流入する気
体の流量値が設定量よりも低い場合には、他の少なくと
も１個の単位集じん機構への気体の流入を阻止すること
で、このプレコート層形成時に１個の単位集じん機構へ
設定量以上の気体を流入させ、高速で薬剤を濾布面に付
着させる。

【００２４】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。

【００２５】図１及び図２は、本発明に係るプレコート
式バグフィルタ装置の運転制御方法を実施するプレコー
ト式バグフィルタ装置の概略構成を示し、図３は本装置
の概略フローを示している。なお、図３において各単位
集じん機構を左側から、、とし、必要に応じてこ
れら各単位集じん機構、、に配設された各構成部
材の各符号の後に当該単位集じん機構の番号を付すこと
で、符号を３桁として各構成部材を区別する。

【００２６】図１及び図２において、１はプレコート式
バグフィルタ装置を構成する複数個の単位集じん機構を
収納するケーシングであり、それぞれの単位集じん機構
は、複数の濾布２を懸架する仕切板３によって上部の清
浄ガス室４と下部の気体流入室５に区分されている。

【００２７】前記清浄ガス室４は、気体流入室５に複数
の濾布２を介して連通された空間であり、各清浄ガス室
４は、分岐ダクト４１及び清浄ガス開閉弁４２を介し
て、共通の清浄ガスダクト４３に接続され、図示しない
誘引通風機に連接されている。

【００２８】清浄ガス室４には、複数の濾布２の横１列
に対して、空気吹込管６が１本ずつ配設され、空気吹込
管６は空気開閉弁６１を通じて空気ヘッダ６２に接続さ
れ、図示しない圧縮空気源に連接されている。

【００２９】さらに、空気吹込管６の下部には、複数の
濾布２内に払い落し用圧縮空気を吹込むためのノズル６
３が該濾布２の開口部に対峙して配設されている。これ
ら空気吹込管６、空気開閉弁６１、空気ヘッダ６２、ノ
ズル６３及び圧縮空気源によりダスト払い落し機構を構
成している。

【００３０】前記気体流入室５は、複数の隔壁１１によ
り区画された複数の濾過室５１と各濾過室５１の下方に
連なり同じく区画されたホッパ室５２に分割されてお
り、各ホッパ室５２の下部には、濾布２から剥離・落下
する粉じん等を排出するための各単位集じん機構に共通
のダスト排出機構５３が連接されている。

【００３１】前記複数のホッパ室５２の外側には、主煙
道７が構築されており、この主煙道７から各ホッパ室５
２に至る分岐煙道７１が配管されている。

【００３２】上述した主煙道７と分岐煙道７１とによ
り、含じん気体導入ダクトが構成されており、各ホッパ
室５２には、図示しない焼却炉または燃焼炉で発生した
ばいじんや酸性有害ガス等を含む排ガス８１が流入す
る。

【００３３】また、各ホッパ室５２には薬剤供給口９３
がそれぞれ形成されている。この薬剤供給口９３には薬
剤配管９１から分岐された分岐管９１ａが薬剤供給弁９
２を介して配管されており、図示しない有害ガス除去装
置から薬剤配管９１を通して輸送される消石灰等の中和
用薬剤９が薬剤供給弁９２の開閉によってその供給を制
御されるよう構成されている。これら薬剤配管９１、薬
剤供給弁９２、薬剤供給口９３及び有害ガス除去装置に
より薬剤供給手段が構成されている。

【００３４】また、図３に示すように、清浄ガスダクト
４３には、該清浄ガスダクト４３を通って排出される全
ての清浄ガスの排出量を測定する総ガス流量計４４が設
けられるとともに、各分岐ダクト４１１，４１２，４１
３には、各単位集じん機構ごとの清浄ガスの流量を測定
する流量計４５１，４５２，４５３が各々設けられてい
る。

【００３５】次に、上述のように構成されたプレコート
式バグフィルタ装置により、本発明の運転制御方法を実
施した場合において、濾過作業から払い落し及びプレコ
ート層形成を経て濾過作業再開までの動作について、図
４のフローチャートを参照して説明する。

【００３６】まず、ステップＳ１で、単位操業期間中の
被燃焼物の質・量により、発生する排ガス量の大要を推
測し、複数で構成された各単位集じん機構のうち、各々
定格量乃至定格量を大幅に下回らない程度の排ガス量を
流せるように上記各単位集じん機構の運転数を選択する
（ステップＳ２）。ここで、定格量とは各単位集じん機
構が効率良く濾過作業を行える排ガス量をいう。

【００３７】これは、被焼却物の質及び量は操業期間に
よって変動する場合が多いからで、特に、ごみ焼却炉の
場合、季節的変動が多いうえに、将来のごみ質向上及び
処理量増加を見越して設計・製作される事が重なって、
発生ガス量が定格量の１／２〜２／３になる事が多いた
めである。

【００３８】従って、従来のように、燃焼状況等によ
り、排ガスの流入量が少ない場合にも、構成する単位集
じん機構の全てに通ガスするものでは、各濾布及び周辺
の金具等全てが排ガスに常時接触していることになり、
運転停止後の温度低下に起因する結露により、濾布への
一部の薬剤層の吸湿固着による払い落し不全や周辺金具
等の腐食の影響を、全ての単位集じん機構が受けること
になるが、本例のように通常は単位集じん機構の１／３
程度は休止させ、待機状態とすることで、単位集じん機
構を交替使用することができ、休止中区画の維持管理の
実施と併せて、長期安定操業が可能となるとともに、吸
湿による濾布の払い落し不全や周辺金具等の腐食を防止
することができる。

【００３９】おな、本例では前述した選択の結果、図３
に示す各々３室の単位集じん機構、、が稼働状態
にあるものとする。

【００４０】次に、このように単位集じん機構の運転数
を選択した後、各清浄ガス開閉弁４２１，４２２，４２
３を開放して、含じん気体導入ダクトからの排ガス８１
１，８１２，８１３をホッパ室５２１，５２２，５２３
にそれぞれ流入させる。なお、この際には各濾過室５１
１，５１２，５１３の各濾布２０１，２０２，２０３に
は中和用薬剤９の供給により予めプレコート層２１（図
５参照）が形成されている。

【００４１】そして、上述のように、ホッパ室５２１，
５２２，５２３にそれぞれ流入した排ガス８１１，８１
２，８１３は、上昇して複数の濾布２０１，２０２，２
０３の表面に形成されたプレコート層２１を通過する際
に、保有するばいじんを濾過されるとともに、同じく含
有する酸性有害ガスを中和用薬剤９との中和作用により
除去されて清浄ガス８２１，８２２，８２３となり、清
浄ガス室４０１，４０２，４０３にそれぞれ排出され、
分岐ダクト４１１，４１２，４１３、清浄ガス開閉弁４
２１，４２２，４２３を通過して清浄ガスダクト４３か
ら図示しない誘引通風機を経て図示しない煙突から大気
中に放出される（ステップＳ３）。この際、流量計４５
１，４５２，４５３により分岐ダクト４１１，４１２，
４１３を通過する清浄ガスの流量が測定されるととも
に、総ガス流量計４４により清浄ガスダクト４３を通過
する清浄ガスの総流量が測定される。

【００４２】この濾過作業の継続に伴い、図５に示すよ
うにプレコート層２１の表面には、ばいじんが堆積して
ばいじん層２２が形成されていくため、所定の段階でこ
のばいじん層２２及びプレコート層２１を払い落とす作
業が必要になる。これは、ステップＳ４において各単位
集じん機構のいずれかが払い落としを行わなければなら
い状態か否かを判断する。具体的には、例えば、各単位
集じん機構の濾過室５の濾布２の内部と外部との差圧を
差圧計で計測し、この差圧が設定値を超過したか否かで
判断する。

【００４３】そして、１個の単位集じん機構（例えば図
３における単位集じん機構）において、排ガス８１の
通気抵抗の増加により差圧が設定値を超過した場合に
は、ステップＳ５に進み、他の単位集じん機構，が
払い落とし作業中であるか否かを判断し、他の単位集じ
ん機構，が払い落とし作業中でなければ、ステップ
Ｓ６で単位集じん機構の清浄ガス開閉弁４２２を閉鎖
して、その濾過室５１２内への排ガス８１２の流入をし
ゃ断する。

【００４４】続いて、この濾過室５１２に対応する空気
開閉弁６１２を開放して、図示しない圧縮空気源の圧縮
空気をノズル６３から、上記濾過室５１２内の濾布２０
２内に短時間ジェット噴射させれば、清浄ガス室４０２
内の清浄ガス８２２は、ジェット噴流に誘起された２次
気流となり、噴射空気と共に濾布２０２内に逆流し、ジ
ェット噴流の衝撃波と２次気流の逆流効果により、濾布
２０２表面に付着するプレコート層２１及びばいじん層
２２により成る捕集灰を剥離させることができる。この
噴射を前記単位集じん機構に設けられた濾布２０２群
の全ての列に対して行えば、この単位集じん機構の払
い落し作業が完了する（ステップＳ７）。

【００４５】ここで、上述した払い落し作業の過程を示
すものとして、図２の中央の単位集じん機構において、
左端の濾布２が、排ガス８１の流入が停止されてプレコ
ート層２１及びばいじん層２２から成る捕集灰が付着し
ている状態、中央の濾布２が空気開閉弁６１を開放して
ノズル６３から圧縮空気を噴射して捕集灰を剥離せし
め、粉じんが落下中の状態、右端の濾布２が前記の払い
落し作業が終了した状態を示している。

【００４６】そして、剥離した捕集灰は、ホッパ室５２
の底部に堆積した後、ダスト排出機構５３により外部に
排出される。

【００４７】上記払い落し作業が完了すると、単位集じ
ん機構の清浄ガス開閉弁４２２を開放することで該単
位集じん機構に再び排ガス８１２の流入を開始する
（ステップＳ８）。払い落し作業が完了した状態におけ
る濾布２０２を通過する排ガス８１２の通気抵抗は低下
するため、単位集じん機構へ誘引される排ガス量は払
い落し前より増加する状態となっている。

【００４８】この際、ステップＳ９において、濾布２０
２を通ガスしたガス量を流量計４５２で計測し、ガス量
が設定量以上であるか否かを判断する。設定量は、プレ
コート層形成時に薬剤が効率よく濾布に吸着されるよう
予め設定されている。そして、ガス量が設定量以上であ
ればステップＳ１０に進み、薬剤供給弁９２２を開放し
て、薬剤供給口９３２から中和用薬剤９を一挙に噴射す
れば、高速化された排ガス８１２に同伴されて薬剤９は
上昇し、複数の濾布２０２の表面に吸着され、プレコー
ト層２１を短時間で再形成し、この間の薬剤９の落下率
は極めて少なくなる（ステップＳ１１）。

【００４９】このようにしてプレコート層２１の形成作
業が終われば、薬剤供給弁９２２を閉鎖し、清浄ガス開
閉弁４２２を開放してステップＳ３に戻って通常の濾過
作業に移行する。

【００５０】また、前記ステップＳ９において、ガス量
が設定量を下回っていれば、ステップＳ１２に進み、他
の単位集じん機構，のガス量をも単位集じん機構
のガス量とともに、流量計４５１，４５２，４５３で計
測し、最小のガス量を示す単位集じん機構（例えば単位
集じん機構）の清浄ガス開閉弁４２３を閉鎖する。こ
の結果、払い落しを終わった単位集じん機構の排ガス
流量は増加することになり、この増加によりガス量が設
定量を上回ればステップＳ１０に進み、薬剤供給弁９２
２を開放して、薬剤供給口９３２から中和用薬剤９を一
挙に噴射する。この際、単位集じん機構の清浄ガス開
閉弁４２３を閉鎖していることで、単位集じん機構に
は大量の排ガスが流入しており、この高速化された大量
の排ガス８１２に同伴されて薬剤９は落下することなく
上昇しプレコート層２１を効率良く短時間で再形成す
る。

【００５１】なお、単位集じん機構の清浄ガス開閉弁
４２３を閉鎖してもガス量が設定量を下回っていれば、
単位集じん機構の清浄ガス開閉弁４２１をも閉鎖して
単位集じん機構に流入する排ガス流量をさらに増加さ
せることになる。

【００５２】そして、プレコート層２１の形成作業が終
われば、上述と同様に、薬剤供給弁９２２を閉鎖し、清
浄ガス開閉弁４２２及び４２３を開放してステップＳ３
に帰り、所定のガス流速に戻った通常の濾過作業に移行
する。

【００５３】このような動作が、各単位集じん機構の各
濾過室５１に対して順次行われる。

【００５４】なお、本例では、払い落し作業開始条件を
通気抵抗増大で説明したが、清浄ガス室４または清浄ガ
スダクト４３に排ガス濃度計を設置し、中和作用により
中和用薬剤の反応が終わった事を検出してもよいし、ま
た、通気抵抗増大との組合せで行ってもよい。

【００５５】このように、払い落し作業を、ばいじんの
堆積による通気抵抗増加や薬剤の中和反応完了をもって
行うことで、プレコート層厚を計画的に設定しておけ
ば、反応済薬剤のみを排出することができ、薬剤の効率
的利用が計られるのみでなく、排出する捕集灰の量が削
減できるために、２次公害発生の因となる捕集灰の事後
処理費用が削減できる。

【００５６】また、本例では、１個の単位集じん機構に
おいてプレコート層を形成する際に停止する他の単位集
じん機構は、排ガス量が最小である単位集じん機構とし
たが、これに限らず、任意の単位集じん機構を停止させ
るようにしてもよい。

【００５７】さらに、流量計４５１，４５２，４５３の
取付位置は清浄ガス開閉弁４２１，４２２，４２３の前
でも後でもよい。

【００５８】また、薬剤供給口９２をホッパ室５２に形
成したが、分岐煙道７１の途中部に配設してもよく、排
ガス流入制御用に清浄ガス開閉弁４２を設けたが、分岐
煙道７１中に排ガス開閉ダンパを設けるようにしてもよ
い。

【００５９】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、１
個の単位集じん機構の濾布にプレコート層を形成する際
において、当該単位集じん機構に流入する気体の流量値
が設定量よりも低い場合には、他の少なくとも１個の単
位集じん機構への気体の流入を阻止する方法であるた
め、このプレコート層形成時には１個の単位集じん機構
に設定量以上の気体が流入して高速で薬剤を濾布面に付
着させることができ、薬剤の付着率が向上し、従来のよ
うな未反応薬剤の多量排出を防止することができる。

【００６０】また、操業開始前に発生するガス量に応じ
て使用する単位集じん機構の数を選択しているために、
濾過作業は性能の良い定格値付近で行われるとともに、
粉じん等の濾布への吸湿固着による払い落とし不全や周
辺金具等の腐食の影響範囲を少なくして延命効果を発揮
することができる。さらに、１個の単位集じん機構が故
障時した場合には休止中の単位集じん機構を運転する形
態が常備とれるため、休止中の単位集じん機構の保全の
実施と相まって長期安定運転が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るプレコート式バグフィルタ装置の
運転制御方法を実施するプレコート式バグフィルタ装置
の概略構成を示す側面視の断面図である。

【図２】本発明に係るプレコート式バグフィルタ装置の
運転制御方法を実施するプレコート式バグフィルタ装置
の概略構成を示す正面視と一部破断面を示す合成図であ
る。

【図３】本装置の概略フローを示す図である。

【図４】本発明に係るプレコート式バグフィルタ装置の
運転制御方法を説明するフローチャートである。

【図５】濾布表面における付着・堆積状態を示す拡大図
である。

【図６】従来のバグフィルタ装置の概略構成を示す側面
視の断面図である。

【図７】図６におけるＡ−Ａ断面図である。

【符号の説明】

２ 濾布 ２１ プレコート層 ４ 清浄ガス室 ５１ 濾過室 ５２ ホッパ室 ４５１，４５２，４５３ 流量計

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 清浄ガス室と濾過室及びホッパ室からな
   る複数の単位集じん機構により構成され、濾過作業を行
   う前の段階で上記濾過室内に設置された濾布の表面に予
   めプレコート層を形成するプレコート式バグフィルタ装
   置の運転制御方法であって、 前記複数の単位集じん機構には、これら単位集じん機構
   に流入する気体の流量を計測する計測装置がそれぞれ設
   けられ、複数個のうち１個の単位集じん機構の濾布にプ
   レコート層を形成する際において、当該単位集じん機構
   に流入する気体の流量値が設定量よりも低い場合には、
   他の少なくとも１個の単位集じん機構への気体の流入を
   阻止することを特徴とするプレコート式バグフィルタ装
   置の運転制御方法。
2. 【請求項２】 請求項１記載のプレコート式バグフィル
   タ装置の運転制御方法において、単位操業期間中の被燃
   焼物の質・量により、発生する排ガス量の大要を推測
   し、前記複数で構成された各単位集じん機構のうち、各
   々定格量乃至定格量を大幅に下回らない程度の排ガス量
   を流せるように各単位集じん機構の運転数を選択するこ
   とを特徴とするプレコート式バグフィルタ装置の運転制
   御方法。