JPH06247897A - 光学活性なフェノキシカルボン酸誘導体の製造方法 - Google Patents
光学活性なフェノキシカルボン酸誘導体の製造方法Info
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- JPH06247897A JPH06247897A JP3800693A JP3800693A JPH06247897A JP H06247897 A JPH06247897 A JP H06247897A JP 3800693 A JP3800693 A JP 3800693A JP 3800693 A JP3800693 A JP 3800693A JP H06247897 A JPH06247897 A JP H06247897A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】次の反応式によるフェノキシカルボン酸誘導体
のＲ−光学異性体の製造方法。 〔Ｒ１は−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＣＯＯＲ２（Ｒ２はア
ルキル基である）、Ｒ３はＣｌ、Ｂｒ、メタンスルホニ
ルオキシ基等であり、Ｒ４はアルキル基を表す。〕 【効果】本方法を用いることにより最終物質であるオキ
シム誘導体の収率よく、効率的な製造が可能となる。
のＲ−光学異性体の製造方法。 〔Ｒ１は−ＣＨＯ、−ＣＮ又は−ＣＯＯＲ２（Ｒ２はア
ルキル基である）、Ｒ３はＣｌ、Ｂｒ、メタンスルホニ
ルオキシ基等であり、Ｒ４はアルキル基を表す。〕 【効果】本方法を用いることにより最終物質であるオキ
シム誘導体の収率よく、効率的な製造が可能となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学活性体の製造方法に
関するものである。更に詳しくは、本発明は広葉雑草お
よび／または細葉雑草に対して優れた除草活性を有する
光学活性な化合物の製造、あるいはその重要な中間体と
なる光学活性な化合物の製造方法に関するものである。
関するものである。更に詳しくは、本発明は広葉雑草お
よび／または細葉雑草に対して優れた除草活性を有する
光学活性な化合物の製造、あるいはその重要な中間体と
なる光学活性な化合物の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】α―フェノキシプロピオン酸誘導体のあ
るものは除草活性を有することが知られている（例えば
米国特許第４，２７０，９４８号、第４，３０９，５６
２号、第４，３１４，０６９号、第３，９５４，４４２
号、特開昭５２―１２５６２６号および特開昭５２―１
５８２号参照）。また、α―フェノキシプロピオン酸誘
導体のあるものは、そのどちらか一方の光学異性体（特
にＲ―光学異性体）が除草活性が強いことが知られてい
る（例えば、日本農薬学会誌、１０巻、６９頁、１９８
５年、あるいは日本農薬学会誌、１０巻、７５頁、１９
８５年参照）。一方、α―フェノキシプロピオン酸のＲ
―光学異性体の製造方法としては、例えばピリジルオキ
シフェノールとα―ブロムプロピオン酸のＳ―光学異性
体とを反応させる方法（ＥＰＡ―３８９０）が知られて
いるが、現実的に得られるＲ―光学異性体の含有量は７
０〜９０％である。またｐ―ピリジルオキシフェノール
あるいはｐ―フェノキシフェノールに（Ｓ）―（−）―
乳酸あるいはそのエステル体のアルキルスルホネートま
たはアリルスルホネートを反応せしめて、ｐ―ピリジル
オキシフェノキシプロピオン酸誘導体あるいはｐ―フェ
ノキシフェノキシプロピオン酸誘導体のＲ―光学異性体
を製造する方法（米国特許第４，５３２，３２８号）あ
るいは４―（６―クロロ―２―キノキサリルオキシ）フ
ェノールと（Ｓ）―（−）―乳酸エチルのｐ―トルエン
スルホネートを反応させ、２―［４―（６―クロロ―２
―キノキサリルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸エチ
ルエステルのＲ―光学異性体を製造する方法（日本農薬
学会誌、１０巻、６９頁、１９８５年）などが公知であ
る。これらはいずれも原料であるフェノール誘導体のパ
ラ位にフェノキシ基、ピリジルオキシ基あるいはキノキ
サリルオキシ基が置換している場合の例であって、式
（Ｉ）で表される化合物のように、オルト位に各種の置
換基を有し、かつメタ位にフェノキシ基を有するフェノ
ール類を用いて目的とする式（III ）の光学異性体を製
造するものではない。
るものは除草活性を有することが知られている（例えば
米国特許第４，２７０，９４８号、第４，３０９，５６
２号、第４，３１４，０６９号、第３，９５４，４４２
号、特開昭５２―１２５６２６号および特開昭５２―１
５８２号参照）。また、α―フェノキシプロピオン酸誘
導体のあるものは、そのどちらか一方の光学異性体（特
にＲ―光学異性体）が除草活性が強いことが知られてい
る（例えば、日本農薬学会誌、１０巻、６９頁、１９８
５年、あるいは日本農薬学会誌、１０巻、７５頁、１９
８５年参照）。一方、α―フェノキシプロピオン酸のＲ
―光学異性体の製造方法としては、例えばピリジルオキ
シフェノールとα―ブロムプロピオン酸のＳ―光学異性
体とを反応させる方法（ＥＰＡ―３８９０）が知られて
いるが、現実的に得られるＲ―光学異性体の含有量は７
０〜９０％である。またｐ―ピリジルオキシフェノール
あるいはｐ―フェノキシフェノールに（Ｓ）―（−）―
乳酸あるいはそのエステル体のアルキルスルホネートま
たはアリルスルホネートを反応せしめて、ｐ―ピリジル
オキシフェノキシプロピオン酸誘導体あるいはｐ―フェ
ノキシフェノキシプロピオン酸誘導体のＲ―光学異性体
を製造する方法（米国特許第４，５３２，３２８号）あ
るいは４―（６―クロロ―２―キノキサリルオキシ）フ
ェノールと（Ｓ）―（−）―乳酸エチルのｐ―トルエン
スルホネートを反応させ、２―［４―（６―クロロ―２
―キノキサリルオキシ）フェノキシ］プロピオン酸エチ
ルエステルのＲ―光学異性体を製造する方法（日本農薬
学会誌、１０巻、６９頁、１９８５年）などが公知であ
る。これらはいずれも原料であるフェノール誘導体のパ
ラ位にフェノキシ基、ピリジルオキシ基あるいはキノキ
サリルオキシ基が置換している場合の例であって、式
（Ｉ）で表される化合物のように、オルト位に各種の置
換基を有し、かつメタ位にフェノキシ基を有するフェノ
ール類を用いて目的とする式（III ）の光学異性体を製
造するものではない。
【０００３】更に、いずれの場合も、本発明の如き化合
物については用いる溶媒により、反応性や選択性が異な
ってくることについては何も明らかにしていないし、示
唆もしていない。
物については用いる溶媒により、反応性や選択性が異な
ってくることについては何も明らかにしていないし、示
唆もしていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、上記式
（Ｉ）および（II）で表される化合物を用いて目的とす
る式（III ）の光学異性体を製造する方法を鋭意検討し
た結果、溶媒として、ジメチルスルホキサイド（以下Ｄ
ＭＳＯと略す）やＮ―メチルピロリドン（以下ＮＭＰと
略す）を用いると、反応温度を低くしたり、反応時間を
短縮でき、その結果目的とする式（III ）の光学異性体
を高収率かつ高選択率で合成できることを見出し、本発
明に到達したものである。
（Ｉ）および（II）で表される化合物を用いて目的とす
る式（III ）の光学異性体を製造する方法を鋭意検討し
た結果、溶媒として、ジメチルスルホキサイド（以下Ｄ
ＭＳＯと略す）やＮ―メチルピロリドン（以下ＮＭＰと
略す）を用いると、反応温度を低くしたり、反応時間を
短縮でき、その結果目的とする式（III ）の光学異性体
を高収率かつ高選択率で合成できることを見出し、本発
明に到達したものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記式（Ｉ）
記式（Ｉ）
【０００６】
【化４】
【０００７】［ここで、Ｒ1 は―ＣＨＯ、―ＣＮ又は―
ＣＯＯＲ2 （Ｒ2 は炭素数１〜５のアルキル基である）
を表す。］で表される化合物と下記式（II）
ＣＯＯＲ2 （Ｒ2 は炭素数１〜５のアルキル基である）
を表す。］で表される化合物と下記式（II）
【０００８】
【化５】
【０００９】［ここで、Ｒ3 は塩素原子、臭素原子、メ
タンスルホニルオキシ基又はパラトルエンスルホニルオ
キシ基であり、Ｒ4 は炭素数１〜５のアルキル基を表
す。］で表される化合物のＳ―光学異性体とを、酸受容
体の存在下、ジメチルスルホキサイドあるいはＮ―メチ
ルピロリドンを溶媒として反応させることを特徴とする
下記式（III ）
タンスルホニルオキシ基又はパラトルエンスルホニルオ
キシ基であり、Ｒ4 は炭素数１〜５のアルキル基を表
す。］で表される化合物のＳ―光学異性体とを、酸受容
体の存在下、ジメチルスルホキサイドあるいはＮ―メチ
ルピロリドンを溶媒として反応させることを特徴とする
下記式（III ）
【００１０】
【化６】
【００１１】［ここで、Ｒ1 およびＲ4 は式（Ｉ）およ
び（II）の定義に同じである。］で表されるフェノキシ
カルボン酸誘導体のＲ―光学異性体の製造方法である。
び（II）の定義に同じである。］で表されるフェノキシ
カルボン酸誘導体のＲ―光学異性体の製造方法である。
【００１２】以下、本発明について詳細に説明する。
【００１３】上記式（Ｉ）で表される化合物において、
Ｒ1 は―ＣＨＯ、―ＣＮ又は―ＣＯＯＲ2 であり、Ｒ2
は炭素数１〜５のアルキル基である。ここで、炭素数１
〜５のアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であって
もよく、例えばメチル、エチル、ｎ―プロピル、ｉｓｏ
―プロピル、ｎ―ブチル、ｓｅｃ―ブチル、ｉｓｏ―ブ
チル、ｔ―ブチル、ｎ―ペンチル等である。
Ｒ1 は―ＣＨＯ、―ＣＮ又は―ＣＯＯＲ2 であり、Ｒ2
は炭素数１〜５のアルキル基である。ここで、炭素数１
〜５のアルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であって
もよく、例えばメチル、エチル、ｎ―プロピル、ｉｓｏ
―プロピル、ｎ―ブチル、ｓｅｃ―ブチル、ｉｓｏ―ブ
チル、ｔ―ブチル、ｎ―ペンチル等である。
【００１４】上記式（II）で表される化合物において、
Ｒ3 は塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基
あるいはパラトルエンスルホニルオキシ基であり、Ｒ4
は炭素数１〜５のアルキル基である。炭素数１〜５のア
ルキル基としては上記式（Ｉ）の具体例と同様のものが
挙げられる。
Ｒ3 は塩素原子、臭素原子、メタンスルホニルオキシ基
あるいはパラトルエンスルホニルオキシ基であり、Ｒ4
は炭素数１〜５のアルキル基である。炭素数１〜５のア
ルキル基としては上記式（Ｉ）の具体例と同様のものが
挙げられる。
【００１５】式（II）の化合物の立体配置は目的とする
式（III ）の化合物の立体配置に依存しており、式（II
I ）の化合物がＲ―光学異性体であるので式（II）の化
合物はＳ―光学異性体を用いる。
式（III ）の化合物の立体配置に依存しており、式（II
I ）の化合物がＲ―光学異性体であるので式（II）の化
合物はＳ―光学異性体を用いる。
【００１６】本発明において用いられる酸受容体として
は、一般的に塩基が用いられる。その具体例としては、
苛性ソーダ、苛性カリ、水酸化リチウム等の苛性アルカ
リ、アンモニア、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム等の有機酸のアルカリ金属塩等が挙げられ
る。
は、一般的に塩基が用いられる。その具体例としては、
苛性ソーダ、苛性カリ、水酸化リチウム等の苛性アルカ
リ、アンモニア、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、酢酸ナトリウム、
酢酸カリウム等の有機酸のアルカリ金属塩等が挙げられ
る。
【００１７】これらの酸受容体は、式（Ｉ）の化合物に
対して、１モル当量〜１０モル当量、好ましくは１モル
当量〜５モル当量が使用される。
対して、１モル当量〜１０モル当量、好ましくは１モル
当量〜５モル当量が使用される。
【００１８】これらの酸受容体のうち、炭酸カリウムが
特に好ましく、またその形状は微細なものが好まれ、そ
の使用量は、１モル当量〜３モル当量が好ましい。使用
量が１モル当量以下では使用原料が完全に転化されず、
また多すぎると式（III ）の化合物の収率が低下する。
また酸受容体の使用量が多すぎても少なすぎてもラセミ
化の割合が増加し、得られる式（III ）の化合物中のＲ
―光学異性体の割合が低下する傾向がある。すなわち、
選択性が低下する。
特に好ましく、またその形状は微細なものが好まれ、そ
の使用量は、１モル当量〜３モル当量が好ましい。使用
量が１モル当量以下では使用原料が完全に転化されず、
また多すぎると式（III ）の化合物の収率が低下する。
また酸受容体の使用量が多すぎても少なすぎてもラセミ
化の割合が増加し、得られる式（III ）の化合物中のＲ
―光学異性体の割合が低下する傾向がある。すなわち、
選択性が低下する。
【００１９】本発明において、上記説明した化合物およ
び酸受容体を反応せしめるに際し、ジメチルスルホキサ
イド（ＤＭＳＯ）あるいはＮ―メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）を溶媒として用いる。この場合それ以外の溶媒、例
えばアセトニトリルなどを用いる場合よりも、低温で、
あるいは短時間で反応を完結させることができる。その
結果、同じ反応試剤を用いる場合、得られる式（III ）
の化合物中のＲ―光学異性体の割合が良くなったり、反
応時間短縮によるコスト低減ができる。
び酸受容体を反応せしめるに際し、ジメチルスルホキサ
イド（ＤＭＳＯ）あるいはＮ―メチルピロリドン（ＮＭ
Ｐ）を溶媒として用いる。この場合それ以外の溶媒、例
えばアセトニトリルなどを用いる場合よりも、低温で、
あるいは短時間で反応を完結させることができる。その
結果、同じ反応試剤を用いる場合、得られる式（III ）
の化合物中のＲ―光学異性体の割合が良くなったり、反
応時間短縮によるコスト低減ができる。
【００２０】これらの溶媒は、脱水された溶媒を用いる
ことも好ましい。
ことも好ましい。
【００２１】更に、式（Ｉ）の化合物は１〜９０重量
％、好ましくは５〜５０重量％の温度で使用される。
％、好ましくは５〜５０重量％の温度で使用される。
【００２２】反応温度は室温〜１５０℃、好ましくは室
温〜１００℃で行われる。反応時間は、反応温度、溶
媒、酸受容体の種類によって異なるが、１０分〜１０時
間、好ましくは３０分〜８時間の範囲が好ましい。反応
時間は反応温度、溶媒、酸受容体を適当に選ぶことによ
り、調節することができる。
温〜１００℃で行われる。反応時間は、反応温度、溶
媒、酸受容体の種類によって異なるが、１０分〜１０時
間、好ましくは３０分〜８時間の範囲が好ましい。反応
時間は反応温度、溶媒、酸受容体を適当に選ぶことによ
り、調節することができる。
【００２３】本発明の製造方法によって製造される光学
活性なフェノキシカルボン酸誘導体を除草剤あるいはそ
の中間原料として用いる場合は、そのＲ―光学異性体が
有用である場合が多く、従ってこの場合式（II）の化合
物はＳ―光学異性体を用いる。
活性なフェノキシカルボン酸誘導体を除草剤あるいはそ
の中間原料として用いる場合は、そのＲ―光学異性体が
有用である場合が多く、従ってこの場合式（II）の化合
物はＳ―光学異性体を用いる。
【００２４】また、式（II）の化合物と式（Ｉ）の化合
物の使用比率は一般に式（II）の化合物が式（Ｉ）の化
合物に対して等モル倍〜１０モル倍、好ましくは等モル
倍〜５モル倍の範囲で用いられる。
物の使用比率は一般に式（II）の化合物が式（Ｉ）の化
合物に対して等モル倍〜１０モル倍、好ましくは等モル
倍〜５モル倍の範囲で用いられる。
【００２５】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、オルト位に
Ｒ1 で表される基を有し、メタ位にフェノキシ基を有す
る化合物を用いて、式（III ）で表される光学異性体を
製造することができる。本発明の製造方法によって製造
される光学活性なフェノキシカルボン酸誘導体には、広
葉雑草および／または細葉雑草に対して優れた除草活性
を有するオキシム誘導体（ＰＣＴ／ＷＯ９０／０１８７
４号参照）の中間体が含まれ、本発明方法を用いること
により、最終物質であるオキシム誘導体を収率よく、効
率的に製造することが可能となる。
Ｒ1 で表される基を有し、メタ位にフェノキシ基を有す
る化合物を用いて、式（III ）で表される光学異性体を
製造することができる。本発明の製造方法によって製造
される光学活性なフェノキシカルボン酸誘導体には、広
葉雑草および／または細葉雑草に対して優れた除草活性
を有するオキシム誘導体（ＰＣＴ／ＷＯ９０／０１８７
４号参照）の中間体が含まれ、本発明方法を用いること
により、最終物質であるオキシム誘導体を収率よく、効
率的に製造することが可能となる。
【００２６】また、あるものは、それ自体で除草剤とし
て用いることができる（特願昭６３―４９８６６号、特
願平２―１４９８６５号参照）。
て用いることができる（特願昭６３―４９８６６号、特
願平２―１４９８６５号参照）。
【００２７】以下、実施例をあげて本発明を詳述する。
【００２８】
【実施例１】２―ヒドロキシ―４―（２―クロロ―４―
トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズアルデヒド０．
０２モル、（Ｓ）―２―クロルプロピオン酸メチル０．
０２２モルをモレキュラーシーブスで乾燥したＤＭＳＯ
（含水率６０ｐｐｍ）１５ｍｌに溶解させ、これに無水
炭酸カリウム０．０１５モルを加え、８０℃にて１．５
時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、水中に加え、
塩酸で酸性（ｐＨ＝４付近）にし、酢酸エチルで抽出し
た。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル
を減圧下で除去した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによりベンゼンを展開液として分離
精製した。使用した式（Ｉ）の化合物は回収されなかっ
た。得られた式（III ）の化合物の赤外吸収スペクトル
および核磁気共鳴スペクトルを表２に記載した。また、
この精製物を以下に記載した分析条件―（１）を用い
て、液体クロマトグラフィーにより分析し、Ｒ―光学異
性体の含有量を求めた。
トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズアルデヒド０．
０２モル、（Ｓ）―２―クロルプロピオン酸メチル０．
０２２モルをモレキュラーシーブスで乾燥したＤＭＳＯ
（含水率６０ｐｐｍ）１５ｍｌに溶解させ、これに無水
炭酸カリウム０．０１５モルを加え、８０℃にて１．５
時間攪拌した。その後、室温まで冷却し、水中に加え、
塩酸で酸性（ｐＨ＝４付近）にし、酢酸エチルで抽出し
た。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチル
を減圧下で除去した。得られた残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによりベンゼンを展開液として分離
精製した。使用した式（Ｉ）の化合物は回収されなかっ
た。得られた式（III ）の化合物の赤外吸収スペクトル
および核磁気共鳴スペクトルを表２に記載した。また、
この精製物を以下に記載した分析条件―（１）を用い
て、液体クロマトグラフィーにより分析し、Ｒ―光学異
性体の含有量を求めた。
【００２９】その結果や、得られた式（III ）の化合物
の収率などを表１にまとめて記載した。
の収率などを表１にまとめて記載した。
【００３０】
【実施例２〜１１】表１記載の式（Ｉ）の化合物や式
（II）の化合物を原料として、実施例１と同じモル数を
用い、表１記載の溶媒、反応温度、反応時間を用い、あ
とは実施例１と同様にして反応、後処理、精製および分
析した。但し、分析条件は得られた式（III ）の化合物
により異なる。得られた式（III ）の化合物の赤外吸収
スペクトルおよび核磁気共鳴スペクトルを表２に記載す
ると共に、その液体クロマトグラフィー分析によるＲ―
光学異性体の含有量や収率を表１にまとめて記載した。
また、実施例２、実施例７および実施例１０で得られた
式（III ）の化合物の比旋光度をＴＨＦ溶媒で測定した
結果を表３にまとめた。
（II）の化合物を原料として、実施例１と同じモル数を
用い、表１記載の溶媒、反応温度、反応時間を用い、あ
とは実施例１と同様にして反応、後処理、精製および分
析した。但し、分析条件は得られた式（III ）の化合物
により異なる。得られた式（III ）の化合物の赤外吸収
スペクトルおよび核磁気共鳴スペクトルを表２に記載す
ると共に、その液体クロマトグラフィー分析によるＲ―
光学異性体の含有量や収率を表１にまとめて記載した。
また、実施例２、実施例７および実施例１０で得られた
式（III ）の化合物の比旋光度をＴＨＦ溶媒で測定した
結果を表３にまとめた。
【００３１】
【実施例１２】無水炭酸カリウムの使用量を０．０１１
モルとする他は実施例１と同様にして、表１記載の条件
で反応し、後処理、精製および分析を行なった。結果を
表２に記載した。
モルとする他は実施例１と同様にして、表１記載の条件
で反応し、後処理、精製および分析を行なった。結果を
表２に記載した。
【００３２】
【実施例１３】無水炭酸カリウムの使用量を０．０２モ
ルとする他は実施例１と同様にして、表１記載の条件で
反応し、後処理、精製および分析を行なった。結果を表
２に記載した。
ルとする他は実施例１と同様にして、表１記載の条件で
反応し、後処理、精製および分析を行なった。結果を表
２に記載した。
【００３３】
【比較例１】２―ヒドロキシ―４―（２―クロロ―４―
トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズアルデヒド０．
０２モル、（Ｓ）―０―メタンスルホニル乳酸メチル
０．０２モルをモレキュラーシーブスで乾燥したアセト
ニトリル１００ｍｌに溶解させ、これに無水炭酸カリウ
ム０．０２モルを加え、１２時間攪拌還流させた。その
後室温まで冷却し、３００ｍｌの酢酸エチルを加え、水
１００ｍｌを加えてからよく攪拌しながら塩酸で酸性
（ｐＨ＝４付近）にした。有機相を分離し、更に１回水
洗した。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エ
チルを減圧下で除去した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより、ベンゼンを展開液とし
て分離精製した。未反応の２―ヒドロキシ―４―（２―
クロロ―４―トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズア
ルデヒド０．００１モルを回収すると共に式（III ）の
化合物０．０１８モルを得た。結果を表２に記載した。
トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズアルデヒド０．
０２モル、（Ｓ）―０―メタンスルホニル乳酸メチル
０．０２モルをモレキュラーシーブスで乾燥したアセト
ニトリル１００ｍｌに溶解させ、これに無水炭酸カリウ
ム０．０２モルを加え、１２時間攪拌還流させた。その
後室温まで冷却し、３００ｍｌの酢酸エチルを加え、水
１００ｍｌを加えてからよく攪拌しながら塩酸で酸性
（ｐＨ＝４付近）にした。有機相を分離し、更に１回水
洗した。有機相を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エ
チルを減圧下で除去した。得られた残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーにより、ベンゼンを展開液とし
て分離精製した。未反応の２―ヒドロキシ―４―（２―
クロロ―４―トリフルオロメチルフェノキシ）ベンズア
ルデヒド０．００１モルを回収すると共に式（III ）の
化合物０．０１８モルを得た。結果を表２に記載した。
【００３４】以上の実施例および比較例において、液体
クロマトグラフィーによる分析条件は下記の条件で行な
った。
クロマトグラフィーによる分析条件は下記の条件で行な
った。
【００３５】分析条件（１）； 装置 ；島津液体クロマトグラフィーＬＣ―６Ａ型 カラム；ダイセル社製 ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ―ＯＧ
（４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液；イソプロパノール／ｎ―ヘキサン＝１５／８
５：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 温度 ；２５℃ 検出 ；ＵＶ（２６０ｎｍ） 分析条件（２）； 装置 ；島津液体クロマトグラフィーＬＣ―６Ａ型 カラム；ダイセル社製 ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ―ＯＧ
（４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液；イソプロパノール／ｎ―ヘキサン＝１０／９
０：０．８ｍｌ／ｍｉｎ 温度 ；２５℃ 検出 ；ＵＶ（２６０ｎｍ）
（４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液；イソプロパノール／ｎ―ヘキサン＝１５／８
５：１．０ｍｌ／ｍｉｎ 温度 ；２５℃ 検出 ；ＵＶ（２６０ｎｍ） 分析条件（２）； 装置 ；島津液体クロマトグラフィーＬＣ―６Ａ型 カラム；ダイセル社製 ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ―ＯＧ
（４．６φ×２５０ｍｍ） 溶離液；イソプロパノール／ｎ―ヘキサン＝１０／９
０：０．８ｍｌ／ｍｉｎ 温度 ；２５℃ 検出 ；ＵＶ（２６０ｎｍ）
【００３６】
【表１】
【００３７】
【表２】
【００３８】
【表３】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/734 Ｚ 9279−4Ｈ 69/92 9279−4Ｈ 253/30 255/54 9357−4Ｈ
Claims (1)
- 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 ［ここで、Ｒ1 は―ＣＨＯ、―ＣＮ又は―ＣＯＯＲ
2 （Ｒ2 は炭素数１〜５のアルキル基である）を表
す。］で表される化合物と下記式（II） 【化２】 ［ここで、Ｒ3 は塩素原子、臭素原子、メタンスルホニ
ルオキシ基又はパラトルエンスルホニルオキシ基であ
り、Ｒ4 は炭素数１〜５のアルキル基を表す。］で表さ
れる化合物のＳ―光学異性体とを、酸受容体の存在下、
ジメチルスルホキサイドあるいはＮ―メチルピロリドン
を溶媒として反応させることを特徴とする下記式（III
） 【化３】 ［ここで、Ｒ1 およびＲ4 は式（Ｉ）および（II）の定
義に同じである。］で表されるフェノキシカルボン酸誘
導体のＲ―光学異性体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3800693A JPH06247897A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 光学活性なフェノキシカルボン酸誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3800693A JPH06247897A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 光学活性なフェノキシカルボン酸誘導体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06247897A true JPH06247897A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=12513493
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3800693A Pending JPH06247897A (ja) | 1993-02-26 | 1993-02-26 | 光学活性なフェノキシカルボン酸誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06247897A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004002925A3 (en) * | 2002-06-26 | 2004-06-24 | Korea Res Inst Chem Tech | Process for preparing (r)-aryloxypropionic acid ester derivatives |
| CN113201649A (zh) * | 2020-09-18 | 2021-08-03 | 厦门钨业股份有限公司 | 一种苯氧羧酸类固相萃取剂、其制备方法及应用 |
-
1993
- 1993-02-26 JP JP3800693A patent/JPH06247897A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004002925A3 (en) * | 2002-06-26 | 2004-06-24 | Korea Res Inst Chem Tech | Process for preparing (r)-aryloxypropionic acid ester derivatives |
| CN113201649A (zh) * | 2020-09-18 | 2021-08-03 | 厦门钨业股份有限公司 | 一种苯氧羧酸类固相萃取剂、其制备方法及应用 |
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