JPH06244170A - 流体流通路制御機構 - Google Patents
流体流通路制御機構Info
- Publication number
- JPH06244170A JPH06244170A JP3058593A JP3058593A JPH06244170A JP H06244170 A JPH06244170 A JP H06244170A JP 3058593 A JP3058593 A JP 3058593A JP 3058593 A JP3058593 A JP 3058593A JP H06244170 A JPH06244170 A JP H06244170A
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- JP
- Japan
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- fluid
- outlet
- opening
- wall
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Abstract
(57)【要約】
【目的】流体の流通路を容易かつ自動的に制御すること
のできる流体流通路制御機構を提供する。 【構成】流体入口1と第1出口2と第2出口3と、内部
に空洞部とを有する流体入出力手段8と、上記空洞部に
配置され、上記流体入口1に対向した領域に流体を流入
するための第1開口部6aと側壁に上記流体を流出する
ための第2開口部6bとを有する移動手段5と、上記第
1開口部6aに対向する上記移動手段5の面と該移動手
段の面に対向する上記入出力手段8の内壁との間に配設
されたスプリング4と、上記流体入出力手段8の内壁の
所定の周囲に固定され、上記移動手段5の外壁との間に
間隙を有さず、しかも上記第1出口2と第2出口3とを
隔離するように配設された隔離手段7aとを備える。
のできる流体流通路制御機構を提供する。 【構成】流体入口1と第1出口2と第2出口3と、内部
に空洞部とを有する流体入出力手段8と、上記空洞部に
配置され、上記流体入口1に対向した領域に流体を流入
するための第1開口部6aと側壁に上記流体を流出する
ための第2開口部6bとを有する移動手段5と、上記第
1開口部6aに対向する上記移動手段5の面と該移動手
段の面に対向する上記入出力手段8の内壁との間に配設
されたスプリング4と、上記流体入出力手段8の内壁の
所定の周囲に固定され、上記移動手段5の外壁との間に
間隙を有さず、しかも上記第1出口2と第2出口3とを
隔離するように配設された隔離手段7aとを備える。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は流体の流通路を制御する
流体流通路制御機構に係り、特に流体の圧力に応じて流
体の流通路を制御することに関するものである。
流体流通路制御機構に係り、特に流体の圧力に応じて流
体の流通路を制御することに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程には、シリコン基
板の酸化あるいは拡散の場合のように半導体製造装置内
に所定の圧力でガスを送り込み、そのガスをシリコン基
板と反応させる工程がある。
板の酸化あるいは拡散の場合のように半導体製造装置内
に所定の圧力でガスを送り込み、そのガスをシリコン基
板と反応させる工程がある。
【0003】図4はシリコン基板の酸化の一つである加
湿酸化を行うための熱酸化装置である。図4に示すよう
に、石英管105内にシリコン基板104が配置されて
おり、石英管105内を加熱するための電気炉106が
石英管105の周りに配設されている。石英管105内
に水素と酸素をそれぞれ送り込むために石英管105の
入口に供給管100,101が配設されている。供給管
100の先端にはノズル102が配設され、所定の圧力
で水素が石英管105内に送り込まれる。石英管105
内に送り込まれた水素を燃焼しながらシリコン基板10
4を酸化する。また水素の燃焼熱によってシリコン基板
104の温度に分布ができないように、石英バッファ1
03が配設されている。
湿酸化を行うための熱酸化装置である。図4に示すよう
に、石英管105内にシリコン基板104が配置されて
おり、石英管105内を加熱するための電気炉106が
石英管105の周りに配設されている。石英管105内
に水素と酸素をそれぞれ送り込むために石英管105の
入口に供給管100,101が配設されている。供給管
100の先端にはノズル102が配設され、所定の圧力
で水素が石英管105内に送り込まれる。石英管105
内に送り込まれた水素を燃焼しながらシリコン基板10
4を酸化する。また水素の燃焼熱によってシリコン基板
104の温度に分布ができないように、石英バッファ1
03が配設されている。
【0004】ところでシリコン基板104表面上に形成
する酸化膜の成長速度を制御したい場合があり、これは
水素ガスの流量を制御することによって実現することが
できる。この水素ガスの流量を制御するには、流量に応
じた最適な口径を有する供給管100およびノズル10
2が必要となる。
する酸化膜の成長速度を制御したい場合があり、これは
水素ガスの流量を制御することによって実現することが
できる。この水素ガスの流量を制御するには、流量に応
じた最適な口径を有する供給管100およびノズル10
2が必要となる。
【0005】図5は水素ガスの流量に応じてその流通路
を制御する機能を備えた従来の熱酸化装置の要部であ
る。図5に示すように、小流量の水素ガス用の供給管1
00と大流量の水素ガス用の供給管100a及び供給管
100,100aの先端にはノズル102,102aが
それぞれ配設されている。供給管100,100aには
それぞれバルブ107,107aが配設されており、水
素ガスの流量に応じて手動によりバルブ107,107
aの開閉を行うことにより水素ガスの流通路の制御を行
う。
を制御する機能を備えた従来の熱酸化装置の要部であ
る。図5に示すように、小流量の水素ガス用の供給管1
00と大流量の水素ガス用の供給管100a及び供給管
100,100aの先端にはノズル102,102aが
それぞれ配設されている。供給管100,100aには
それぞれバルブ107,107aが配設されており、水
素ガスの流量に応じて手動によりバルブ107,107
aの開閉を行うことにより水素ガスの流通路の制御を行
う。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述したように、従
来、ガスの流量に応じてガスの流通路を制御するには供
給管100,100aのそれぞれにバルブ107,10
7aを設けなければならず、そのために設備は大型とな
りコストが高くなり問題となっていた。しかもバルブ1
07,107aの開閉は手動によるために操作が煩雑で
あった。
来、ガスの流量に応じてガスの流通路を制御するには供
給管100,100aのそれぞれにバルブ107,10
7aを設けなければならず、そのために設備は大型とな
りコストが高くなり問題となっていた。しかもバルブ1
07,107aの開閉は手動によるために操作が煩雑で
あった。
【0007】そこで、本発明は流体の流通路を容易にか
つ自動的に制御することのできる流体流通路制御機構を
提供することを目的とする。
つ自動的に制御することのできる流体流通路制御機構を
提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題は本発明によれ
ば、流体入口と該流体の第1出口と第2出口と、内部に
空洞部とを有する流体入出力手段と、前記空洞部に配置
され、前記流体を流入するための第1開口部及び前記流
体を流出するための第2開口部を有し、且つ前記流体の
圧力によりスライドまたは回転可能な移動手段と、前記
流体入出力手段の内壁に固定され、且つ前記第1出口と
第2出口とを隔離するように配設された隔離手段とを備
え、前記第2開口部を、前記流体の圧力差により前記隔
離手段を介して前記第1出口側または第2出口側に位置
させることにより前記流体の流通路を制御することを特
徴とする流体流通路制御機構によって解決される。
ば、流体入口と該流体の第1出口と第2出口と、内部に
空洞部とを有する流体入出力手段と、前記空洞部に配置
され、前記流体を流入するための第1開口部及び前記流
体を流出するための第2開口部を有し、且つ前記流体の
圧力によりスライドまたは回転可能な移動手段と、前記
流体入出力手段の内壁に固定され、且つ前記第1出口と
第2出口とを隔離するように配設された隔離手段とを備
え、前記第2開口部を、前記流体の圧力差により前記隔
離手段を介して前記第1出口側または第2出口側に位置
させることにより前記流体の流通路を制御することを特
徴とする流体流通路制御機構によって解決される。
【0009】また上記課題は、流体入口と該流体の第1
出口と第2出口と、内部に空洞部とを有する流体入出力
手段と、前記空洞部に配置され、前記流体入口に対向し
た領域に流体を流入するための第1開口部と側壁に前記
流体を流出するための第2開口部とを有する移動手段
と、前記第1開口部に対向する前記移動手段の面と該移
動手段の面に対向する前記入出力手段の内壁との間に配
設されたスプリングと、前記流体入出力手段の内壁の所
定の周囲に固定され、前記移動手段の外壁との間に間隙
を有さず、しかも前記第1出口と第2出口とを隔離する
ように配設された隔離手段とを、備えてなることを特徴
とする流体流通路制御機構によって好適に解決される。
出口と第2出口と、内部に空洞部とを有する流体入出力
手段と、前記空洞部に配置され、前記流体入口に対向し
た領域に流体を流入するための第1開口部と側壁に前記
流体を流出するための第2開口部とを有する移動手段
と、前記第1開口部に対向する前記移動手段の面と該移
動手段の面に対向する前記入出力手段の内壁との間に配
設されたスプリングと、前記流体入出力手段の内壁の所
定の周囲に固定され、前記移動手段の外壁との間に間隙
を有さず、しかも前記第1出口と第2出口とを隔離する
ように配設された隔離手段とを、備えてなることを特徴
とする流体流通路制御機構によって好適に解決される。
【0010】
【作用】本発明によれば、図2に示すように流体入出力
手段としての外枠8には流体入口1,第1出口2,第2
出口3が配設され、外枠8は内部が空洞となっており、
この外枠8の内部に、流体入口1に対向した領域に第1
開口部6a,側壁に第2開口部6bが設けられた移動手
段としての可動筒5が配置されている。可動筒5の第1
開口部6aと対向する面とこの面に対向する外枠8の内
壁との間にスプリング4が配設され、また外枠8の内壁
の周囲に固定され、移動手段の外壁との間に間隙を有さ
ず、第1出口2と第2出口3とを隔離するように隔離手
段としてのシール部材7a,7bが配設されている。
手段としての外枠8には流体入口1,第1出口2,第2
出口3が配設され、外枠8は内部が空洞となっており、
この外枠8の内部に、流体入口1に対向した領域に第1
開口部6a,側壁に第2開口部6bが設けられた移動手
段としての可動筒5が配置されている。可動筒5の第1
開口部6aと対向する面とこの面に対向する外枠8の内
壁との間にスプリング4が配設され、また外枠8の内壁
の周囲に固定され、移動手段の外壁との間に間隙を有さ
ず、第1出口2と第2出口3とを隔離するように隔離手
段としてのシール部材7a,7bが配設されている。
【0011】流体入口1から低圧の流体が入ると、この
流体の圧力がスプリング4のバネ力と同等もしくはそれ
以下の場合は可動筒5は移動せず可動筒5に設けられた
第2開口部6bから出た流体は第1出口2から出る。こ
のとき第2出口3はシール部材7aにより隔離されてい
るので流体は第2出口3から出ることはない。
流体の圧力がスプリング4のバネ力と同等もしくはそれ
以下の場合は可動筒5は移動せず可動筒5に設けられた
第2開口部6bから出た流体は第1出口2から出る。こ
のとき第2出口3はシール部材7aにより隔離されてい
るので流体は第2出口3から出ることはない。
【0012】一方、流体入口1から高圧の流体が入ると
流体の圧力がスプリング4を収縮させ、連動して可動筒
5が移動し第2開口部6bがシール部材7aを隔てて第
2出口3側に移動する。従って高圧の流体は第2出口3
から出て、第1出口2から出ることはない。
流体の圧力がスプリング4を収縮させ、連動して可動筒
5が移動し第2開口部6bがシール部材7aを隔てて第
2出口3側に移動する。従って高圧の流体は第2出口3
から出て、第1出口2から出ることはない。
【0013】このように、流体の圧力に応じて流体の流
通路を自動的に制御することができる。
通路を自動的に制御することができる。
【0014】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【0015】図1は本発明に係る熱酸化装置の一実施例
を示す要部構成図である。図1に示すように、石英管1
05に水素ガスを所定の流量で供給するための供給管1
00,100aおよび各先端部にはノズル102,10
2aが配設されている。供給管100は少流量の水素ガ
スを供給するためのものであり、供給管100aは多流
量の水素ガスを供給するためのものである。水素ガスの
流量が少量か多量かに応じて自動的に供給管100か供
給管100aに水素ガスの流通路を切り換えるための流
体流通路制御機構10が配設されている。酸素ガスを供
給するための供給管101が配設されている。石英管1
05内に供給された水素を燃焼させて水を作り、シリコ
ン基板(図示せず)を酸化する。
を示す要部構成図である。図1に示すように、石英管1
05に水素ガスを所定の流量で供給するための供給管1
00,100aおよび各先端部にはノズル102,10
2aが配設されている。供給管100は少流量の水素ガ
スを供給するためのものであり、供給管100aは多流
量の水素ガスを供給するためのものである。水素ガスの
流量が少量か多量かに応じて自動的に供給管100か供
給管100aに水素ガスの流通路を切り換えるための流
体流通路制御機構10が配設されている。酸素ガスを供
給するための供給管101が配設されている。石英管1
05内に供給された水素を燃焼させて水を作り、シリコ
ン基板(図示せず)を酸化する。
【0016】図2は図1に示した流体流通路制御機構1
0の拡大構成図である。図2に示すように外枠8には流
体入口1,第1出口2および第2流体出口3が設けられ
ている。第1出口2は供給管100,第2出口3は供給
管100aにそれぞれ接続されている。外枠8の内部に
は空洞になっており、この内部に可動筒5が配設されて
おり、流体入口1に対向する領域には第1開口部6a,
側壁に複数個の開口部6bが設けられている。スプリン
グ4は、その両端が可動筒5の外壁および外枠8の内壁
に固定されており、水素ガスの流入方向に伸縮し、可動
筒5はA方向に移動可能となる。シール部材7aおよび
7bが対向して外枠8に固定され、可動筒5の外壁との
間にすき間が殆どないように密着して配設されており、
シール部材7aにより第1出口2と第2出口3とが隔離
される。
0の拡大構成図である。図2に示すように外枠8には流
体入口1,第1出口2および第2流体出口3が設けられ
ている。第1出口2は供給管100,第2出口3は供給
管100aにそれぞれ接続されている。外枠8の内部に
は空洞になっており、この内部に可動筒5が配設されて
おり、流体入口1に対向する領域には第1開口部6a,
側壁に複数個の開口部6bが設けられている。スプリン
グ4は、その両端が可動筒5の外壁および外枠8の内壁
に固定されており、水素ガスの流入方向に伸縮し、可動
筒5はA方向に移動可能となる。シール部材7aおよび
7bが対向して外枠8に固定され、可動筒5の外壁との
間にすき間が殆どないように密着して配設されており、
シール部材7aにより第1出口2と第2出口3とが隔離
される。
【0017】次に上記流体流通路制御機構10の動作を
説明する。
説明する。
【0018】図2の可動筒5の位置を初期状態とする。
流体入口1より低圧の水素ガスを流すとき、水素ガスの
圧力がスプリング4のバネ力と同等もしくはそれ以下の
場合は可動筒5は初期状態の位置から動かない。水素ガ
スは流体入口1から供給され、可動筒5には第1開口部
6aより入り、第2開口部6bより外枠8の内部へ出
て、第1出口2より出る。この時第2出口3は第1出口
2とシール部材7aにより隔離されており、第2開口部
6bは第1出口2側のみに位置しているので、水素ガス
が第2出口3から出ることはない。
流体入口1より低圧の水素ガスを流すとき、水素ガスの
圧力がスプリング4のバネ力と同等もしくはそれ以下の
場合は可動筒5は初期状態の位置から動かない。水素ガ
スは流体入口1から供給され、可動筒5には第1開口部
6aより入り、第2開口部6bより外枠8の内部へ出
て、第1出口2より出る。この時第2出口3は第1出口
2とシール部材7aにより隔離されており、第2開口部
6bは第1出口2側のみに位置しているので、水素ガス
が第2出口3から出ることはない。
【0019】図3は流体入口1より高圧の水素ガスを流
した場合の流体流通路制御機構10の状態を示したもの
である。流体入口1より高圧の水素ガスを流した場合、
水素ガスの圧力がスプリング4の初期状態時のバネ力以
上の場合は、図3に示すようにスプリング4は収縮し可
動筒5が水素ガスの流入方向へ移動する。第2開口部6
bがシール部材7aを隔てて第2出口3側のみに位置す
るように移動すると、水素ガスは第2出口3からのみ出
て、第1出口2から出ることはない。
した場合の流体流通路制御機構10の状態を示したもの
である。流体入口1より高圧の水素ガスを流した場合、
水素ガスの圧力がスプリング4の初期状態時のバネ力以
上の場合は、図3に示すようにスプリング4は収縮し可
動筒5が水素ガスの流入方向へ移動する。第2開口部6
bがシール部材7aを隔てて第2出口3側のみに位置す
るように移動すると、水素ガスは第2出口3からのみ出
て、第1出口2から出ることはない。
【0020】従って水素ガスの流量(圧力)に応じて少
流量(低圧力)の場合には、水素ガスは第1出口2に接
続された供給管100を通り、ノズル102から石英管
105に入り、多流量(高圧力)の場合には水素ガスは
第2出口3に接続された供給管100aを通り、ノズル
102aから石英管105に入るので水素ガスの流量に
応じて自動的にその流通路の通路を制御することができ
る。
流量(低圧力)の場合には、水素ガスは第1出口2に接
続された供給管100を通り、ノズル102から石英管
105に入り、多流量(高圧力)の場合には水素ガスは
第2出口3に接続された供給管100aを通り、ノズル
102aから石英管105に入るので水素ガスの流量に
応じて自動的にその流通路の通路を制御することができ
る。
【0021】ガスの流通路をガスの圧力に応じて第1流
体出口2と第2流体出口3とを切り換えるその閾値とな
るガスの圧力はスプリングの弾性力により制御すること
ができる。
体出口2と第2流体出口3とを切り換えるその閾値とな
るガスの圧力はスプリングの弾性力により制御すること
ができる。
【0022】本実施例ではガス(気体)を用いたが、液
体でも勿論可能であり、また可動筒5を回転することに
より可動筒5に設けた開口部を移動させ気体や液体など
の流通路を制御することも可能である。
体でも勿論可能であり、また可動筒5を回転することに
より可動筒5に設けた開口部を移動させ気体や液体など
の流通路を制御することも可能である。
【0023】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば流
体の圧力に応じて流体の流通路の制御を自動的にかつ容
易に実現することができるので、設備費用が安価で、ス
ペースが省スペースで済み、しかもオペレーションフリ
ーとなる。
体の圧力に応じて流体の流通路の制御を自動的にかつ容
易に実現することができるので、設備費用が安価で、ス
ペースが省スペースで済み、しかもオペレーションフリ
ーとなる。
【図1】実施例による熱酸化装置構成図である。
【図2】流体流通路制御機構10構成図である。
【図3】高圧時の流体流通路制御機構10の状態を示す
図である。
図である。
【図4】熱酸化装置を説明するための図である。
【図5】従来例による熱酸化装置構成図である。
1 流体入口 2 第1出口 3 第2出口 4 スプリング 5 可動筒(移動手段) 6a 第1開口部 6b 第2開口部 7a,7b シール部材(隔離手段) 8 外枠 10 流体流通路制御機構 100,100a,101 供給管 102,102a ノズル 103 石英バッファ 104 シリコン基板 105 石英管 106 電気炉 107,107a バルブ
Claims (2)
- 【請求項1】 流体入口と該流体の第1出口と第2出口
と、内部に空洞部とを有する流体入出力手段と、 前記空洞部に配置され、前記流体を流入するための第1
開口部及び前記流体を流出するための第2開口部を有
し、且つ前記流体の圧力によりスライドまたは回転可能
な移動手段と、 前記流体入出力手段の内壁に固定され、且つ前記第1出
口と第2出口とを隔離するように配設された隔離手段と
を備え、 前記第2開口部を、前記流体の圧力差により前記隔離手
段を介して前記第1出口側または第2出口側に位置させ
ることにより前記流体の流通路を制御することを特徴と
する流体流通路制御機構。 - 【請求項2】 流体入口と該流体の第1出口と第2出口
と、内部に空洞部とを有する流体入出力手段と、 前記空洞部に配置され、前記流体入口に対向した領域に
流体を流入するための第1開口部と側壁に前記流体を流
出するための第2開口部とを有する移動手段と、 前記第1開口部に対向する前記移動手段の面と該移動手
段の面に対向する前記入出力手段の内壁との間に配設さ
れたスプリングと、 前記流体入出力手段の内壁の所定の周囲に固定され、前
記移動手段の外壁との間に間隙を有さず、しかも前記第
1出口と第2出口とを隔離するように配設された隔離手
段とを、備えてなることを特徴とする請求項1記載の流
体流通路制御機構。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3058593A JPH06244170A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 流体流通路制御機構 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3058593A JPH06244170A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 流体流通路制御機構 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06244170A true JPH06244170A (ja) | 1994-09-02 |
Family
ID=12307943
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3058593A Pending JPH06244170A (ja) | 1993-02-19 | 1993-02-19 | 流体流通路制御機構 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06244170A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012086723A (ja) * | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Saginomiya Seisakusho Inc | 三方弁および該三方弁を用いた車両用空調装置 |
JP5543608B2 (ja) * | 2010-10-05 | 2014-07-09 | 株式会社ニフコ | 流体分配バルブ並びにこれを備えた流体供給システム及びその制御方法 |
-
1993
- 1993-02-19 JP JP3058593A patent/JPH06244170A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5543608B2 (ja) * | 2010-10-05 | 2014-07-09 | 株式会社ニフコ | 流体分配バルブ並びにこれを備えた流体供給システム及びその制御方法 |
JP2012086723A (ja) * | 2010-10-21 | 2012-05-10 | Saginomiya Seisakusho Inc | 三方弁および該三方弁を用いた車両用空調装置 |
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