JP2000079369A - 処理液供給装置及びこの処理液供給装置に用いられる流路開閉弁装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液供給配管内を流通する処理液に対して
切れ目なく温度調節を行うことのできる処理液供給装置
を提供する。 【解決手段】 被処理基板３に対して処理液を供給する
処理液供給装置であって、処理液タンク７と、上流端が
この処理液タンク７に接続され、下流端から前記被処理
基板３に対して処理液（現像液）を吐出する現像液供給
配管８と、この現像液供給配管８の下流側に設けられ、
この現像液供給配管８を開閉する流路開閉弁装置１０と
を有し、前記現像液供給配管８の前記流路開閉弁装置１
０を含む下流側部分を、この流路開閉弁装置１０を貫い
て連続的に外側を前記現像液供給配管８とし内側を温度
調節を行うための温調水を流す温調水供給配管１８とす
る二重管構造とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
ＬＣＤ基板等の被処理基板に現像液やレジスト液等の処
理液を供給する処理液供給装置に関し、特に、処理液を
所望の温度に温度調節した状態で被処理基板上に供給で
きる処理液供給装置及びこのような処理液供給装置に用
いられる流路開閉弁装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造工程のうちフォトリソフグラ
フィ工程には、現像液やレジスト液等の処理液をウエハ
表面に供給する工程がある。近年、半導体回路パターン
の精細化及び高集積化が進む中、これら処理液の温度管
理を非常に高い精度で行う必要が生じている。

【０００３】このため、従来の現像液供給装置において
は、例えば図１に示すような構造が採用されている。

【０００４】この図に１００で示すのは、上流端側が現
像液供給源１０１に接続され、下流端側が現像装置の供
給ノズル１０２に接続されてなる現像液供給配管であ
る。現像液供給源１０１内の現像液は、ポンプ１０３に
よって送出され現像液供給配管１００内を流通し、まず
温度調節装置１０４内に通される。この温度調節装置１
０４は、図に１０５で示す温度調節用水を現像液供給配
管の周囲に流通させることで現像液を所望の温度に制御
する。

【０００５】この温度調節装置１０４を通過した現像液
は、流路開閉弁装置１０６で流路の開閉がなされること
によってその吐出量が制御される。そして所望量の現像
液が前記ノズル１０２を通して半導体ウエハ上に向けて
吐出される。さらに、この現像液供給装置は、例えば、
前記温度調節装置１０４から取り出した温度調節用水１
０７をノズル１０２近傍の現像液供給配管１００の周囲
に流通させることで現像液の温度を最終的に制御するよ
うにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな現像液供給装置においては、前記温度調節装置１０
４と供給ノズル１０２との間に前記流路開閉弁装置１０
６が存在し、かつこの流路開閉弁装置１０６の部分で適
切な温度調節がなされていない。このため、外乱の影響
を受けやすく、現像液の温度が容易に変動する恐れがあ
る。

【０００７】このような問題を解決するため、前記流路
開閉弁装置として、例えば、特開平６−２０１０６５号
公報に開示されたような温度調節回路付き処理液弁を用
いることが考えられる。この公報に開示された薬液弁
は、ボディの内部に設けられた薬液流路の近くに、温度
調節用水の流路（温度調節回路）を設けることで薬液弁
の内部でも薬液液の温度調節を行えるように構成したも
のである。

【０００８】この薬液弁のボディには、前記温度調節回
路内に温度調節用水（温調水）を供給するための温調水
入口と、温調水を吐出するための温調水出口とが設けら
れており、これら温調水入口及び出口は、前記処理液の
入力ポート及び出口ポートと干渉しないようにボディの
側面に設けられている。

【０００９】しかしながら、このような薬液弁を前記流
路開閉弁装置１０６として採用したとしても、現像液の
温度調節を切れ目なく行なうことはできない。

【００１０】すなわち、上述した薬液弁を前記の流路開
閉弁装置１０６として採用した構成では、図１に点線で
示すような配管を付け加えることによって流路開閉弁装
置１０６内でも現像液の温度調節が可能であるが、前記
温度調節装置１０４とこの流路開閉弁装置１０６との間
の部分Ａ、及び流路開閉弁装置１０６と供給ノズル１０
２との間の部分Ｂに、依然として温度調節の行えない部
分（未温調部分）が存在することになる。

【００１１】この問題を解決するための手段として前記
温度調節装置１０４、流路開閉弁装置１０６、及び供給
ノズル１０２の各装置を互いに近接させることが考えら
れるが、前記各装置の設置位置や現像液供給配管１００
の取り回しを考えると一定の限界がある。また、現像液
供給配管１００と流路開閉弁装置１０６の入力ポート及
び出力ポートを例えば図に１０９、１１０で示すナット
等により接続する必要があるため、工具を挿入するため
のスペースが必要であり、各装置を互いに離間させてお
く必要がある。

【００１２】また、図１において、１１１で示した各部
品は温調水１０５、１０７を導入・導出するための温調
マニホールドである。上記の構成によれば、このような
温調マニホールド１１１を多数設ける必要があるから配
管構成が複雑化し、装置全体が大型化する恐れがある。

【００１３】さらに、前述したような薬液弁を採用する
構成では、前記現像液供給配管１００の接続部分とは別
に、ボディ側面に設けられた温調水入口及び出口に図１
に点線で示すような温調水の配管を接続する必要があ
る。このため、配管を取り回しが複雑化し、装置が大型
化する恐れがある。

【００１４】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであり、その主たる目的は、処理液供給配管内
を流通する処理液に対して切れ目なく温度調節を行うこ
とのできる処理液供給装置を提供することにある。

【００１５】また、この発明の更なる別の目的は、処理
液の温度調節を行なう処理液供給装置において、温調水
供給配管の構造を簡略化することにある。

【００１６】

【課題を解決するための手段】この発明の第１の観点に
よれば、被処理基板（３）に対して処理液を供給する処
理液供給装置であって、処理液供給源（７）と、上流端
がこの処理液供給源（７）に接続され、下流端から前記
被処理基板（３）に対して処理液を吐出する処理液供給
配管（８）と、この処理液供給配管（８）の下流側に設
けられ、この処理液供給配管（８）を開閉する流路開閉
弁装置（１０）と、前記処理液供給配管（８）の前記流
路開閉弁装置（１０）を含む下流側部分に、この流路開
閉弁装置（１０）を貫いて連続的に配置され、前記処理
液供給配管（８）内の処理液の温度調節を行うための温
度調節媒体（ＴＷ）とを有するものが提供される。

【００１７】このような構成によれば、流路開閉弁装置
を有する処理液供給配管の下流側において、処理液の温
度調節を切れ目のなく行うことができる。また、温度調
節用媒体（温調液）を分岐させるためのマニホールドの
数を少なくすることができるから構成が簡略化し、装置
がコンパクトになる。

【００１８】この処理液供給装置は、半導体製造装置の
現像装置やレジスト塗布装置等に設けられることが好ま
しく、この場合、半導体装置の品質向上に多大に寄与す
る。

【００１９】１の実施形態によれば、前記温度調節部材
は、所定の温度に制御された温調液（ＴＷ）であること
が好ましく、前記処理液供給配管（８）の周囲には、こ
の温調液が流れる温調液配管（１８）が設けられ、前記
流路開閉弁装置（１０）には、前記処理液が流れる処理
液流路（４２）と、前記温調液が流れる温調液流路（４
３）とが設けられ、これらの流路はぞれぞれ処理液供給
配管（８）及び前記温調液配管（１８）に接続されてい
る。

【００２０】このような構成によれば、内管部を処理液
供給配管とし外管部を温調液配管とする二重管を用いる
ことができる。

【００２１】１の実施形態によれば、この装置は、前記
処理液供給配管（８）の上流側に設けられ、前記温調液
配管（１８）に前記温調流を導入する上流側マニホール
ド（２５）と、前記処理液供給配管（８）の下流側に設
けられ、前記温調液配管（１８）から、この温調液配管
（１８）及び前記流路開閉弁装置（１０）の温調液流路
（４３）を通過した温調液を取り出す下流側マニホール
ド（１６）とを有する。

【００２２】１の実施形態によれば、この装置は、前記
処理液供給配管（８）の下流側に設けられ、前記温調液
配管（１８）に前記温調液を導入する下流側マニホール
ド（１６）と、前記処理液供給配管（８）の上流側に設
けられ、前記温調液配管（１８）から、この温調液配管
（１８）及び前記流路開閉弁装置（１０）の温調液流路
（４３）を通過した温調液を取り出す上流側マニホール
ド（２５）とを有する。

【００２３】１の実施形態によれば、前記処理液供給配
管（８）は一対設けられ、一方の前記処理液供給配管
（８、１３）の上流側に設けられ、この処理液供給配管
に設けられた前記温調液配管（１８）に前記温調液を導
入する第１の上流側マニホールド（２５、２７）と、前
記一方の処理液供給配管（８、１３）の下流側に設けら
れ、この処理液供給配管に設けられた前記温調用配管
（１８）から、この温調用配管（１８）及び前記流路開
閉弁装置（１０）の温調液流路（４３）を通過した温調
液を取り出すと共に、この温調液を、前記他方の処理液
供給配管（８、１４）の下流側からこの処理液供給配管
に設けられた前記温調液配管（１８）に導入する下流側
マニホールド（１６）と、前記他方の処理液供給配管
（８、１４）の上流側に設けられ、この処理液供給配管
に設けられた前記温調液配管（１８）から、この温調液
配管（１８）及び前記流路開閉弁装置（１０）の温調液
流路（４３）を通過した温調液を取り出す第２の上流側
マニホールド（２５、２９）とを有する。

【００２４】このような構成によれば、一対の二重管を
用い、一方の二重管から供給した温調液を、他方の二重
管側から回収することができるから、温調液の配管系統
を簡略化することができる。また、処理液供給管の下流
端の直前まで温度調整を行うことができるから、精度の
高い温度制御を行える。なお、一対の二重管を複数組設
けてもよい。

【００２５】この場合、前記一対の処理液供給配管
（８）の下流端にはノズル（１５、５９、６０）が取付
けられており、前記下流側マニホールド（１６）はこの
ノズル１５、５９、６０）を保持するノズル保持ユニッ
ト（４）と一体化されていても良い。

【００２６】また、前記ノズルユニット（４）は、前記
処理液供給管（８）の下流端が接続された液溜部（５
８）とこの液溜部から処理基板側に延出された複数本の
ノズル（５９）とを有するものであっても良い。

【００２７】更なる別の１の実施形態によれば、前記流
路開閉弁装置（１０）は、前記処理液流路（４２）と処
理液配管（８）とを接続する第１の接続部材（５３、７
０）と、この第１の接続部材（５３、７０）を覆い、前
記温調液流路（４３）と温調液配管（１８）とを接続す
る第２の接続部材（５４）とを有する。

【００２８】この発明の第２の観点によれば、流路開閉
弁装置であって、本体（４１）と、この本体（４１）に
設けられ、一端開口と他端開口を有し、処理液が流通す
る処理液流路（４２）と、前記本体（４１）に設けら
れ、前記処理液流路（４２）を開閉する開閉弁（４５）
と、前記本体（４１）に設けられ、前記処理液流路（４
１）の一端開口及び他端開口と同じ方向に開口する一端
開口及び他端開口を有し、前記処理液流路（４２）内を
流通する処理液を温調するための温調液が流通する温調
液流路（４３）とを有するものが提供される。

【００２９】このような構成によれば、一端開口と他端
開口においても、処理液の切れ目のない温調を行うこと
ができる。

【００３０】この開閉弁装置においては、前記処理液流
路（４２）の一端開口は、温調液流路（４３）の一端開
口内で開口し、前記処理液流路（４２）の他端開口は、
温調液流路（４３）の他端開口内で開口することが好ま
しい。

【００３１】この場合、前記処理液流路（４２）と配管
（８）とを接続する第１の接続部材（５３、７０）と、
この第１の接続部材（５３、７０）を覆い、前記温調液
流路（４３）と配管（１８）とを接続する第２の接続部
材（５４）とを有するようにしても良い。

【００３２】

【発明の実施の形態】次にこの発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。この発明の処理液供給装置は、例
えば、半導体製造装置に設けられる現像装置やレジスト
塗布装置に、温度調節されてなる現像液やレジスト液等
の処理液を供給するための装置である。この実施形態で
は、現像装置に現像液を供給する装置を例にとって説明
する。

【００３３】（基本構成）図２は、半導体製造装置に設
けられた現像装置１と、この現像装置１に接続された現
像液供給装置２（この発明の処理液供給装置）とを示し
た概略構成図である。

【００３４】現像装置１は、現像液（処理液）を図２に
３で示す半導体ウエハ（被処理基板）の表面に供給する
ためのノズルユニット４と、前記半導体ウエハ３を吸着
保持し回転駆動するスピンチャック機構５とを有する。
このスピンチャック機構５は、半導体ウエハ３を回転さ
せることで、この半導体ウエハ３上に供給された現像液
を拡散させ、半導体ウエハ３の全面に亘って供給する機
能を有する。

【００３５】一方、現像液供給装置２は、現像液を貯留
する一対の現像液タンク７（処理液供給源）と、この現
像液タンク７から延出され最終的に前記現像装置１のノ
ズルユニット４に接続される一対の現像液供給配管８と
を有する。この現像液供給配管８には、現像液を送出す
るためのポンプ９と、現像液の送出タイミングを制御す
る開閉弁装置１０（エアオペレーションバルブ）とが設
けられている。開閉弁装置１０を動作させるためのエア
源１１及び前記ポンプ９は、図に１２で示す制御装置に
接続されており、この制御装置１２からの指令に基いて
所定量の現像液を所定のタイミングで供給することがで
きるようになっている。

【００３６】この実施形態の主な特徴は、このような現
像液供給システムにおいて、前記開閉弁装置１０を含む
前記一対の現像液供給配管８の下流側を全長に亘ってそ
れぞれ第１、第２の二重管１３、１４で構成し、その内
管部を前記現像液供給配管８、外管部を温度調節用水
（以下「温調水ＴＷ」という）の配管１８とした点であ
る。

【００３７】以下、まず現像装置１の構成を簡単に説明
した後、現像液供給装置２についての説明を行うことと
する。

【００３８】（現像装置）現像装置１は、前述したよう
に、ノズルユニット４とスピンチャック機構５を有し、
これらを図示しないチャンバ内に保持している。このチ
ャンバには、図示しない給排気システムが接続されてお
り、所定の処理雰囲気に保たれる。そして、処理対象と
なる半導体ウエハ３は、図示しないウエハ搬送アームに
よってこのチャンバ内に挿入され、前記スピンチャック
機構５上に受け渡されるようになっている。

【００３９】前記ノズルユニット４は、前記ウエハ３上
にレジストを供給するための一対の現像液供給ノズル１
５と、この供給ノズル１５を保持するホルダ１６と、こ
のホルダ１６をＸＹＺ方向に位置決め駆動するＸＹＺ駆
動機構１７とを有する。

【００４０】前記現像液供給ノズル１５はその吐出口を
前記半導体ウエハ３に対向させた状態で前記ホルダ１６
の下面に固定されている。そして、前記ホルダ１６は、
前記処理液供給装置から延出された現像液供給配管８を
前記ノズル１５に対して同軸に連結した状態で保持する
ようになっている。

【００４１】このノズルユニット４は、前記ＸＹＺ駆動
機構１７が作動することで、前記供給ノズル１５を前記
半導体ウエハ３の所望の位置に対向位置決めする。この
ことに基づいて、前記現像液供給装置２は、適宜に制御
された量の現像液を所定のタイミングで送り出し、前記
供給ノズル１５から半導体ウエハ３上に供給させる。

【００４２】一方、前記スピンチャック機構５は、図に
１９で示す真空装置を作動させることで前記半導体ウエ
ハ３を吸着保持すると共に、回転駆動機構２０を作動さ
せることによってこの半導体ウエハ３を所定の速度で回
転駆動する。このことで、半導体ウエハ３の表面に供給
された現像液は回転遠心力により拡散し、このウエハ３
の全面に供給される。

【００４３】また、このスピンチャック機構５は、カッ
プ２２内に保持されており、前記半導体ウエハ３の縁部
からはみ出した余剰の現像液はこのカップ２２により受
け止められ飛散することが防止される。また、このカッ
プ２２の底部には排気管２３が取り付けられており、余
剰の現像液はこの排気管２３を通じて図示しないタンク
内に捕捉されるように構成されている。

【００４４】（処理液供給装置）次に、前記ノズルユニ
ット４に接続された現像液供給装置２（処理液供給装
置）について詳しく説明する。

【００４５】前述したように、この実施形態は、前記一
対の現像液供給配管８の前記開閉弁装置１０を含む下流
側を、この現像液供給配管８を内管部とし、前記温調水
（ＴＷ）配管１８を外管部とする二重管構造（１３，１
４）としたことを特徴とするものである。

【００４６】すなわち、各現像液供給配管８の中途部に
はマニホールド２５が取り付けられており、このマニホ
ールド２５と前記供給ノズルユニット４のホルダ１６と
の間には、前記一対の現像液供給配管８をそれぞれ内管
部とする第１、第２の二重管１３、１４が装着されてい
る。

【００４７】このマニホールド２５は、上流側から導入
された一対の現像液供給配管８をそれぞれ前記第１、第
２の二重管１３、１４の内管部に連結する。また、この
マニホールド２５には、熱交換器２６（温調水供給機
構）に接続される温調水ＴＷの入口ポート２７及び温調
水駆動装置２８（温調水供給機構）に接続される温調水
ＴＷの出口ポート２９が形成されており、前記入口ポー
ト２７は第１の二重管１３の外管部に連結され、前記出
口ポート２９は第２の二重管１４の外管部Ｂに連結され
ている。このマニホールド２５と二重管１３、１４との
連結は固定具３１、３２によってなされている。

【００４８】また、前記ノズルユニット４のホルダ１６
内には、前記第１の二重管１３の外管部と第２の二重管
１４の外管部同士を連結するための連結通路３３が形成
されている。このホルダ１６と第１、第２の二重管１
３、１４の連結は固定具３５、３６によってなされるよ
うになっている。

【００４９】したがって、前記温調水供給配管１８は、
前記マニホールド２５の入口ポート２７から前記第１の
二重管１３の外管部に入り、前記ホルダ１６内の連結通
路３３で折り返して第２の二重管１４の外管部を戻り、
前記マニホールド２５の出口ポート２９から取り出され
るように構成されている。

【００５０】なお、前記ホルダ１６には、半導体ウエハ
３の表面に供給される現像液の液温を測定するための温
度センサ３８が取り付けられており、この温度センサ３
８の出力は前記制御装置１２に入力される。この制御装
置１２は、この温度センサ３８の出力に基いて前記熱交
換器２６を制御し、前記温調水供給配管１８に導入する
温調水ＴＷの温度を適宜に制御するようになっている。

【００５１】さらに、この現像液供給装置２において
は、前記マニホールド２５の下流側に配置された開閉弁
装置１０も、前記第１、第２の二重管１３，１４と同軸
に接続できるように構成されている。以下、この開閉弁
装置１０の構成を図３を参照して説明する。

【００５２】この図３に示す開閉弁装置１０は、第１の
二重管１３に接続されるものである。第２の二重管１４
に接続される開閉弁装置１０については、これと同様の
構成を有するものであるから、その図示及び説明は省略
する。

【００５３】この開閉弁装置１０は、上流側及び下流側
に接続部４０（下流側は図示を省略）が設けられたボデ
ィ４１を有する。このボディ４１内には、現像液流路４
２と温調水流路４３が平行に設けられている。また、現
像液流路４２の中途部は、例えば、コ字状に形成され、
この部分を開閉する弁体４５が配設されている。

【００５４】この弁体４５は、図に４６で示すロッドを
介してピストン４７に接続されている。このピストン４
７は、前記ボディ４１に形成されたシリンダ４８内で、
前記弁体４５の開閉方向に移動自在に保持され、かつ図
に５０で示すスプリングによって上記弁体４５（現像液
流路４２）を閉じる方向に付勢されている。

【００５５】また、前記シリンダ４８の下端側にはエア
供給路５１が設けられている。このエア供給路５１は、
図２に１１で示したエア源に接続されている。したがっ
て、このエア源１１を作動させ前記ピストン４７の下側
に加圧エアを供給することで、このピストン４７介して
前記弁体４５を開駆動できるようになっている。

【００５６】一方、前記現像液流路４２及び温調水流路
４３の両端は、前記接続部４０の端面に開放している。
このうち、現像液流路４２は、図に５３で示すナット状
の第１の接続部材を介して前記第１の二重管１３の内管
部Ａ（現像液供給配管８）に同軸的に接続されている。
温調水流路４３は、前記第１の接続部材５３を覆うカッ
プ状の第２の接続部材５４を介して前記第１の二重管１
３の外管部Ｂ（温調水供給配管１８）に連通するように
構成されている。

【００５７】この開閉弁装置１０と第１の二重管１３と
の接続は次のようにして行なう。

【００５８】まず、この開閉弁装置１０と第１の二重管
１３を分離させた状態で保持する。そして、最初に、こ
の第１の二重管１３の外管部Ｂに、前記第２の接続部材
５４を固定具５５によって固定する。次に、この二重管
１３はテフロン樹脂などの可とう性部材で構成されてい
るから、外管部Ｂを変形させ、内管部Ａの先端を前記接
続部材５４の開放側から前記開閉弁装置１０側に引き出
す。そして、この状態でこの内管部Ａと前記接続部４０
（現像液流路４２）とを前記第１の接続部材５３を用い
て連結する。ついで、前記外管部Ｂの変形を復元させ、
前記カップ状の第２の接続部材５４を前記第１の接続部
材５３及び前記接続部４０に被せるようにして前記ボデ
ィ４１に結合させる。この第２の接続部材５４の内周面
には、Ｏリング等のシール部材５７が嵌め込まれてお
り、この第２の接続部材５４と前記接続部４０の外周面
との間を液密にシールするように構成されている。

【００５９】次いで、下流側の接続についても同様に行
なうようにするが、上流側と同じであるのでその説明及
び図示は省略する。

【００６０】このような構成の開閉弁装置１０によれ
ば、前記第１の二重管１３に同軸的に接続することがで
き、しかも、この開閉弁装置１０内においても、現像液
の温度調節を継続的に行うことができる。

【００６１】（作用効果）次に、以上説明した構成を有
する現像液供給装置による作用を説明する。前記構成に
よれば、温調水ＴＷは、第１の二重管１３から入り第２
の二重管１４から抜き出される間に、各二重管１３、１
４の内管内を流通する現像液と熱交換を行い、この現像
液の液温を例えば２３±０．２℃に制御する。この温度
制御は、前記温度センサ３８と熱交換器２６とを用いた
フィードバック制御により行われる。

【００６２】なお、第１の二重管１３内を流通する「行
き」の温調水ＴＷと、第２の二重管１４内を流通する
「戻り」温調水ＴＷとの間には一定の温度差が生じるこ
とになるが、途中にマニホールドやフランジ等の介在物
が少ないことからその影響は非常に小さく押さえられ
る。

【００６３】実施例としては、前記第１、第２の二重管
１３、１４の外管としてΦ１２×Φ１７（ｍｍ）チュー
ブを、内管としてΦ６．３５×Φ４．３５（ｍｍ）チュ
ーブを用いた。また、前記二重管１３、１４は全長に亘
って同じ材質で形成されていても良いが、開閉弁装置１
０の下流側と上流側とで異なる材質としても良い。この
実施例では、ノズルユニット４から開閉弁装置１０まで
の配管長は約１ｍであり、かつこの部分は可動部である
ことから、可とう性の高いフッ素樹脂性チューブで構成
した。また、開閉弁装置１０から前記マニホールド２５
までの配管長は約３ｍと長くしかも可動部ではないの
で、経済性を考え、オレフィン系のネット入りホースで
構成するようにした。また、場所に応じて材質、例えば
断熱性の材質を選択利用することで温度調節性能を向上
させることも可能である。

【００６４】以上説明した構成によれば、以下の効果を
得ることができる。第１に、開閉弁装置１０を含む現像
液供給配管８の下流側を全長に亘って二重管構造とし、
切れ目のない温調水供給配管１８を現像液供給配管８の
外側に配設するようにしたから、外乱の影響を受けずら
く、高精度に安定した温度調節が可能になる。

【００６５】第２に、温調水供給配管１８に切れ目がな
いことから、温調水を出し入れするためのマニホールド
（分岐管）の数を少なくすることができ、構成を簡略化
することができる。また、製品コストの低減を図ること
ができると共にメンテナンス性の向上にも寄与する。

【００６６】第３に、開閉弁装置１０を二重管１３、１
４に対して同軸に接続することができる構成としたか
ら、この部分においても、現像液の温度調節を中断する
ことなく継続的に行うことができる。

【００６７】第４に、一対の二重管１２、１４を１組と
して構成しノズルユニット４内で温調水ＴＷが折り返す
構成とすることにより、この二重管１３、１４の上流端
側から温調水ＴＷを出し入れすることができる。このた
め、温調水供給配管の取り回し性が向上する。

【００６８】なお、この発明は上記一実施形態に限定さ
れるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で種々
変形可能である。

【００６９】例えば、前記一実施形態では、前記ノズル
ユニット４は、現像液供給配管８の下流端が直接ノズル
１５に接続されているもの（ストレートノズルユニッ
ト）であったが、図４Ａに示すようなシャワーノズルユ
ニット５６であっても良い。

【００７０】このシャワーノズルユニット５６は、現像
液供給配管８の下流端が接続される液溜部５８と、この
液溜部５８から延出された多数本のノズル５９とを有す
る。このようなシャワーノズルユニット５６の場合、異
なる現像液供給配管８を通して供給される現像液を前記
液溜部５８内で混合することができるから、温度の均一
化を行なえる効果がある。

【００７１】また、ノズルユニット４として、図４Ｂに
示すように、前記現像液供給配管８にスプレーノズル６
０を取り付けてなるスプレーノズルユニットを採用する
ようにしても良い。

【００７２】さらに、処理液供給装置をレジスト塗布装
置に適用する場合には、前記開閉弁装置１０の下流側に
サックバック弁装置を設けてもよい。このサックバック
弁装置は、前記レジスト供給管の下流端からの空気の吸
い込みを防止するための特殊弁装置である。このサック
バック弁装置も、前記開閉弁装置と同様に、前記第１、
第２の二重管１３，１４と同軸的に取り付けられるよう
に構成すればこの発明の効果を妨げることはない。

【００７３】また、前記開閉弁装置１０は、図３に示し
た構成に限定されるものではない。例えば図５に示すよ
うなものであっても良い。なお、図３と同一の構成要素
には同一符号を付してその説明は省略する。

【００７４】すなわち、前記一実施形態では、ボディ４
１の接続部４０に前記第１の二重管１３の内管部Ａをナ
ット状の第１の接続部材５３によって固定していたが、
これに限定されるものではなく、図５に示すようなスペ
ーサ７０によって固定するようにしても良い。

【００７５】すなわち、このスペーサ７０は、二重のリ
ング状に形成されており、外側のリング７０ａを第２の
接続部材５４の内面に嵌め込むと共に、内側のリング７
０ｂで前記二重管１３の内管部Ａを前記接続部４０に押
し付けて固定するように構成されている。また、このス
ペーサ７０は二重リング状に形成されているから、二重
管１３の外管部Ｂで構成される温調水供給配管１８から
流入した温調水ＴＷの流れを妨げることなく、この開閉
弁装置１０の流路４３に連続的に案内することができ
る。

【００７６】このような構成によれば、ナット状の締結
具を用いなくてもワンタッチで配管接続が行えるから組
立時の作業性が向上する。

【００７７】さらに、前記一実施形態では、一対の二重
管１３、１４を１組だけ設けているが、図６に示すよう
に複数組設けるようにしてもよい。この場合、すべての
温調水供給配管１８を直列に連結し、温調水ＴＷを図に
実線矢印で示すように流通させるようにしても良い。な
お、図６においては、図４Ａと同様にシャワーノズルを
採用しているが、ストレートノズルであっても良い。

【００７８】また、常に一対の二重管１３、１４を用い
る必要はなく、図７に示すように１本の二重管１３で構
成してもよい。この場合には、前記ホルダ１６に温調水
ＴＷの出口ポート７２を設けるようにすればよい。

【００７９】また、前記一実施形態では、温調媒体とし
て温調水ＴＷを用いているが、処理液の温度調節を行え
る媒体であれば、例えば電熱線ヒータであっても良い。
この場合には、図８に示すように、前記現像液供給配管
８の前記開閉弁装置１０を含む下流側部分の全長に亘っ
て電熱線ヒータ７３を巻き付けるようにすれば良い。こ
の場合、前記電熱線ヒータ７３は電源７４に接続されて
おり、この電源７４は制御部１２によって制御されるよ
うになっている。この制御部１２は、前記ホルダ１６に
取り付けられた温度センサ３８で検知した温度情報に基
づいて前記電熱線ヒータ７３を所望の温度に制御するよ
うになっている。

【００８０】このように、電熱線ヒータ７３を使用する
ようにすれば、前記現像液供給配管８中を流通する現像
液の液温をより細かに制御することが可能になる。ま
た、ヒータ７３の温度を現像液吐出のオンオフタイミン
グ（流路開閉弁装置１０の開閉）にあわせて制御するこ
とが好ましい。すなわち、吐出時は現像液が配管内を移
動するので、非吐出時と比較してヒータ７３の能力を上
げる必要がある。

【００８１】さらに、上記一実施形態では、前記現像液
供給配管８を内管部Ａとし温調水供給配管１８を外管部
Ｂとする二重管１３、１４を採用しているが、これとは
逆に、前記現像液供給配管８を外管部Ｂとし温調水供給
配管１８を外管部Ｂとする二重管を採用しても良い。

【００８２】この場合には、流路開閉弁として図９に示
したものを用い、ノズルユニット１６’として図１０に
示した構造のものを用いることが好ましい。図９に示す
流路開閉弁では、接続ポートの部分で、現像液流路４２
の内部に温調水流路４３が開口するように構成されてい
る。したがって、先ず、温調水流路４３を二重管の温調
水供給配管１８に接続してから、現像液流路４２を現像
液供給配管８に接続する必要がある。

【００８３】また、前記実施形態では、二重管を用いる
ようにしていたが、これに限定されるものではなく、例
えば三重管であっても良い。この場合、最も内側の管と
外側の管に温調水を流通させ、その間の管内に現像液を
流通させるようにすれば、現像液の液温制御をより良好
に行うことが可能になる。なお、このような構成の場
合、前記開閉弁装置１０も当然三重管構造とする。

【００８４】さらに、二重管や三重管を用いるのではな
く、温調水供給配管と現像液配管を単に接触させて用い
るようにしても良い。このような場合、流路開閉弁装置
１０’は、図１２に示すように構成するようにすればよ
い。この例では、温調水流路４３のポート４３ａ、４３
ｂと現像液流路４２のポート４２ａ、４２ｂが並列に設
けられており、温調水流路４３はこの開閉弁装置１０’
の本体４３をそのまま貫通し、現像液流路４２の中途部
には弁体４５が配置されている。このような構成によっ
ても、現像液の温度制御を切れ目なく行うことができ
る。

【００８５】さらに、前述したように、この処理液供給
装置は、現像液供給装置に限定されるものではなく、レ
ジスト塗布装置にレジスト液を供給するレジスト液供給
装置に適用されるものであってもよい。また、レジスト
塗布装置と現像装置とを上下に積み上げて構成される半
導体製造装置の場合、前記現像液供給装置２の温調水供
給配管１８と現像液供給装置の温調水供給配管を直列に
接続し、１系統として構成するようにしてもよい。

【００８６】また、その他、この発明の要旨を変更しな
い範囲で種々変形することができることは言うまでもな
い。

【００８７】

【発明の効果】以上述べたように、この発明によれば、
処理液供給配管内を流通する処理液に対して切れ目なく
温度調節を行うことのできる処理液供給装置を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、従来の処理液供給装置を示す概略構成
図。

【図２】図２は、この発明の一実施形態を示す概略構成
図。

【図３】図３は、流路開閉弁装置を示す一部断面を有す
る正面図。

【図４】図４は、他のノズルユニットを示す一部断面を
有する概略構成図。

【図５】図５は、流路開閉弁装置の別の例を示す一部断
面を有する正面図。

【図６】図６は、他のノズルユニットを示す一部断面を
有する概略構成図。

【図７】図７は、この発明の他の実施形態を示す概略構
成図。

【図８】図８は、この発明の他の実施形態を示す概略構
成図。

【図９】図９は、流路開閉弁装置の別の例を示す一部断
面を有する正面図。

【図１０】図１０は、他のノズルユニットを示す一部断
面を有する概略構成図。

【図１１】図１１は、流路開閉弁装置の別の例を示す縦
断面図及び横断面図。

【符号の説明】

Ａ…部分 １…現像装置 ２…現像液供給装置 ３…半導体ウエハ ４…ノズルユニット ５…スピンチャック機構 ７…現像液タンク ８…現像液供給配管 ９…ポンプ １０…流路開閉弁装置 １１…エア源 １２…制御装置 １３…第１の二重管 １４…第２の二重管 １５…現像液供給ノズル １６…ノズルユニット １７…ＸＹＺ駆動機構 １８…温調水供給配管 ２０…回転駆動機構 ２２…カップ ２３…排気管 ２５…マニホールド ２６…熱交換器 ２７…入口ポート ２８…温調水駆動装置 ２９…出口ポート ３１、３２…固定具 ３３…連結通路 ３５、３６…固定具 ３８…温度センサ ４０…接続部 ４１…ボディ ４２…現像液流路 ４２ａ、４２ｂ…ポート ４３…温調水流路 ４３ａ．４３ｂ…ポート ４５…弁体 ４７…ピストン ４８…シリンダ ５１…エア供給路 ５３…第１の接続部材 ５４…第２の接続部材 ５５…固定具 ５６…シャワーノズルユニット ５７…シール部材 ５８…液溜部 ５９…ノズル ６０…スプレーノズル ７０…スペーサ ７０ａ…リング ７０ｂ…リング ７２…出口ポート ７３…電熱線ヒータ ７４…電源 １００…現像液供給配管 １０１…現像液供給源 １０２…供給ノズル １０３…ポンプ １０４…温度調節装置 １０５、１０７…温調水 １０６…流路開閉弁装置 １０７…温度調節用水 １１１…温調マニホールド

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理基板に対して処理液を供給する処
   理液供給装置であって、 処理液供給源と、 上流端がこの処理液供給源に接続され、下流端から前記
   被処理基板に対して処理液を吐出する処理液供給配管
   と、 この処理液供給配管の下流側に設けられ、この処理液供
   給配管を開閉する流路開閉弁装置と、 前記処理液供給配管の前記流路開閉弁装置を含む下流側
   部分に、この流路開閉弁装置を貫いて連続的に配置さ
   れ、前記処理液供給配管内の処理液の温度調節を行うた
   めの温度調節媒体とを有することを特徴とする処理液供
   給装置。
2. 【請求項２】 請求項１の処理液供給装置において、 前記温度調節部材は、所定の温度に制御された温調液で
   あり、 前記処理液供給配管の周囲には、この温調液が流れる温
   調液配管が設けられ、 前記流路開閉弁装置には、前記処理液が流れる処理液流
   路と、前記温調液が流れる温調液流路とが設けられ、こ
   れらの流路はぞれぞれ処理液供給配管及び前記温調液配
   管に接続されていることを特徴とする処理液供給装置。
3. 【請求項３】 請求項２の処理液供給装置において、 この装置は、 前記処理液供給配管の上流側に設けられ、前記温調液配
   管に前記温調流を導入する上流側マニホールドと、 前記処理液供給配管の下流側に設けられ、前記温調液配
   管から、この温調液配管及び前記流路開閉弁装置の温調
   液流路を通過した温調液を取り出す下流側マニホールド
   とを有することを特徴とする処理液供給装置。
4. 【請求項４】 請求項２の処理液供給装置において、 この装置は、 前記処理液供給配管の下流側に設けられ、前記温調液配
   管に前記温調液を導入する下流側マニホールドと、 前記処理液供給配管の上流側に設けられ、前記温調液配
   管から、この温調液配管及び前記流路開閉弁装置の温調
   液流路を通過した温調液を取り出す上流側マニホールド
   とを有することを特徴とする処理液供給装置。
5. 【請求項５】 請求項２の処理液供給装置において、 前記処理液供給配管は一対設けられ、 一方の前記処理液供給配管の上流側に設けられ、この処
   理液供給配管に設けられた前記温調液配管に前記温調液
   を導入する第１の上流側マニホールドと、 前記一方の処理液供給配管の下流側に設けられ、この処
   理液供給配管に設けられた前記温調用配管から、この温
   調用配管及び前記流路開閉弁装置の温調液流路を通過し
   た温調液を取り出すと共に、この温調液を、前記他方の
   処理液供給配管の下流側からこの処理液供給配管に設け
   られた前記温調液配管に導入する下流側マニホールド
   と、 前記他方の処理液供給配管の上流側に設けられ、この処
   理液供給配管に設けられた前記温調液配管から、この温
   調液配管及び前記流路開閉弁装置の温調液流路を通過し
   た温調液を取り出す第２の上流側マニホールドとを有す
   ることを特徴とする処理液供給装置。
6. 【請求項６】 請求項５の処理液供給装置において、 前記一対の処理液供給配管の下流端にはノズルが取付け
   られており、 前記下流側マニホールドはこのノズルを保持するノズル
   保持ユニットと一体化されていることを特徴とする処理
   液供給装置。
7. 【請求項７】 請求項６の処理液供給装置において、 前記ノズルユニットは、 前記処理液供給管の下流端が接続された液溜部とこの液
   溜部から処理基板側に延出された複数本のノズルとを有
   するものであることを特徴とする処理液供給装置。
8. 【請求項８】 請求項２の処理液供給装置において、 前記流路開閉弁装置は、 前記処理液流路と処理液配管とを接続する第１の接続部
   材と、 この第１の接続部材を覆い、前記温調液流路と温調液配
   管とを接続する第２の接続部材とを有することを特徴と
   する処理液供給装置。
9. 【請求項９】 請求項１の処理液供給装置において、 前記温度調節部材は、所定の温度に制御された温調液で
   あり、 前記処理液供給配管の内部には、この温調液が流れる温
   調液配管が設けられ、前記流路開閉弁装置には、前記処
   理液が流れる処理液流路と、前記温調液が流れる温調液
   流路とが設けられ、これらの流路はぞれぞれ処理液供給
   配管及び前記温調液配管に接続されていることを特徴と
   する処理液供給装置。
10. 【請求項１０】 流路開閉弁装置であって、 本体と、 この本体に設けられ、一端開口と他端開口を有し、処理
    液が流通する処理液流路と、 前記本体に設けられ、前記処理液流路を開閉する開閉弁
    と、 前記本体に設けられ、前記処理液流路の一端開口及び他
    端開口と同じ方向に開口する一端開口及び他端開口を有
    し、前記処理液流路内を流通する処理液を温調するため
    の温調液が流通する温調液流路とを有することを特徴と
    する開閉弁装置。
11. 【請求項１１】 請求項１０の開閉弁装置において、 前記温調液流路の一端開口は、処理液流路の一端開口内
    で開口し、 前記温調液流路の他端開口は、処理液流路の他端開口内
    で開口することを特徴とする開閉弁装置。
12. 【請求項１２】 請求項１１の開閉弁装置において、 前記処理液流路と配管とを接続する第１の接続部材と、 この第１の接続部材を覆い、前記温調液流路と配管とを
    接続する第２の接続部材とを有することを特徴とする開
    閉弁装置。
13. 【請求項１３】 請求項１０の開閉弁装置において、 前記処理液流路の一端開口は、温調液流路の一端開口内
    で開口し、 前記処理液流路の他端開口は、温調液流路の他端開口内
    で開口することを特徴とする開閉弁装置。