JPH0624113B2 - 高周波誘導結合プラズマ・質量分析計 - Google Patents
高周波誘導結合プラズマ・質量分析計Info
- Publication number
- JPH0624113B2 JPH0624113B2 JP61243923A JP24392386A JPH0624113B2 JP H0624113 B2 JPH0624113 B2 JP H0624113B2 JP 61243923 A JP61243923 A JP 61243923A JP 24392386 A JP24392386 A JP 24392386A JP H0624113 B2 JPH0624113 B2 JP H0624113B2
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- JP
- Japan
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- plasma
- high frequency
- inductively coupled
- mass spectrometer
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Description
【発明の詳細な説明】 ＜産業上の利用分野＞ 本発明は、高周波誘導結合プラズマと質量分析計を結合
させてなる高周波誘導結合プラズマ・質量分析計(Induc
tively Coupled Plasma-Mass Spectometer 、以下「ICP
- MS」と略す）に関する。
させてなる高周波誘導結合プラズマ・質量分析計(Induc
tively Coupled Plasma-Mass Spectometer 、以下「ICP
- MS」と略す）に関する。
＜従来の技術＞ ICP - MSは、高周波誘導結合プラズマを用いて試料を励
起させ、生じたイオンを、例えばノズルやスキマーから
なるインターフェイスを介して質量分析計に導いて、特
定質量のイオンを電気的に検出し、該イオン量を精密に
測定することによって、上記試料中の被測定元素等を分
析するように構成されている。第３図はこのようなICP
- MSの従来例要部構成説明図であり、図中、１は例え
ば、最外室1a、外室1b、および内室1cを有する三重管構
造のプラズマトーチ、２は該トーチ１に巻回された高周
波誘導コイル、３は該コイル２にコンデンサC1，C2を介
して高周波電流を供給する高周波電源、４は高周波誘導
結合プラズマ、５はノズル、６はスキマーである。この
図において、コイル２の中に上記高周波電流が流される
と該コイル２の周囲に高周波磁界が形成される。この高
周波磁界の近傍でプラズマトーチ１内のアルゴンガス中
に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の作
用で瞬時にプラズマ４が生じると共に、該プラズマが一
定の高周波電位を有するようになる。一方、上記プラズ
マ４と高周波誘導コイル２は容量的に結合されており、
該プラズマ４が高周波電位を有している。これに対し、
ノズル５やスキマー６は、通常、アース接続されて接地
電位を有しているため、ノズル５やスキマー６の先端と
プラズマ４との間に放電が生ずるようになる。また、プ
ラズマ４からスキマー６内に引き出されるイオンは、こ
のような放電等の影響により、上記プラズマ４内で得ら
れるイオン特性が失われたものとなり究極的にICP - MS
の分析精度を著しく低下させるようになる。このような
分析精度の低下を防ぐため、上記プラズマ４とコイル２
の間にシールドを入れる工夫もなされていた。
起させ、生じたイオンを、例えばノズルやスキマーから
なるインターフェイスを介して質量分析計に導いて、特
定質量のイオンを電気的に検出し、該イオン量を精密に
測定することによって、上記試料中の被測定元素等を分
析するように構成されている。第３図はこのようなICP
- MSの従来例要部構成説明図であり、図中、１は例え
ば、最外室1a、外室1b、および内室1cを有する三重管構
造のプラズマトーチ、２は該トーチ１に巻回された高周
波誘導コイル、３は該コイル２にコンデンサC1，C2を介
して高周波電流を供給する高周波電源、４は高周波誘導
結合プラズマ、５はノズル、６はスキマーである。この
図において、コイル２の中に上記高周波電流が流される
と該コイル２の周囲に高周波磁界が形成される。この高
周波磁界の近傍でプラズマトーチ１内のアルゴンガス中
に電子かイオンが植え付けられると、該高周波磁界の作
用で瞬時にプラズマ４が生じると共に、該プラズマが一
定の高周波電位を有するようになる。一方、上記プラズ
マ４と高周波誘導コイル２は容量的に結合されており、
該プラズマ４が高周波電位を有している。これに対し、
ノズル５やスキマー６は、通常、アース接続されて接地
電位を有しているため、ノズル５やスキマー６の先端と
プラズマ４との間に放電が生ずるようになる。また、プ
ラズマ４からスキマー６内に引き出されるイオンは、こ
のような放電等の影響により、上記プラズマ４内で得ら
れるイオン特性が失われたものとなり究極的にICP - MS
の分析精度を著しく低下させるようになる。このような
分析精度の低下を防ぐため、上記プラズマ４とコイル２
の間にシールドを入れる工夫もなされていた。
＜発明が解決しようとする問題点＞ 然し乍ら、上記従来例においては、プラズマ４とコイル
２の間に配設されるシールドを厳重にすればする程上記
プラズマ４が生じなくなるという大きな欠点があった。
２の間に配設されるシールドを厳重にすればする程上記
プラズマ４が生じなくなるという大きな欠点があった。
本発明はかかる従来例の欠点に鑑みてなされたものであ
り、その目的は、プラズマ４とコイル２の間に配設され
るシールドを厳重にし且つプラズマ４を正常に維持でき
るようなICP - MSを提供することにある。
り、その目的は、プラズマ４とコイル２の間に配設され
るシールドを厳重にし且つプラズマ４を正常に維持でき
るようなICP - MSを提供することにある。
＜問題点を解決するための手段＞ 上述のような問題点を解決する本発明の特徴は、ICP -
MSにおいて、高周波誘導結合プラズマを生じさせてのち
シールド板をプラズマトーチの方向へスライドさせ、ア
ーク防止管とプラズマトーチで形成される間隙内にシー
ルドを挿設するように構成したことにある。
MSにおいて、高周波誘導結合プラズマを生じさせてのち
シールド板をプラズマトーチの方向へスライドさせ、ア
ーク防止管とプラズマトーチで形成される間隙内にシー
ルドを挿設するように構成したことにある。
＜実施例＞ 以下、本発明について図を用いて詳しく説明する。第１
図は本発明実施例の要部を分解した構成斜視図であり、
図中、第３図と同一記号は同一意味をもたせて使用しこ
こでの重複説明は省略する。また、７は例えば石英管で
なりアーク放電が生ずるのを防止するアーク防止管、８
はプラズマトーチ１の外側に挿設されるシールド、９は
シールド８の底部８′が例えばネジ止め等で固着された
シールド板である。第１図において、アーク防止管７が
コイル２にあらかじめ装設されて固定される。その後、
コイル２に高周波電流が流され該コイルの周囲に高周波
磁界が形成される。この高周波磁界の近傍でプラズマト
ーチ１内のアルゴンガス中に電子かイオンが植えつけら
れると、該高周波磁界の作用で瞬時にプラズマ４が生じ
る。この状態で、シールド板９をプラズマトーチ１の方
向へスライドさせ、アーク防止管７（即ち、コイル２）
とプラズマトーチ１で形成される間隙内にシールド２が
挿入される。このようにすることにより、プラズマトー
チ１の外側にシールド２が挿設される。また、シールド
２が堅牢であるにも拘らずプラズマ４は消えない。従っ
て、第１図に示すような要部構成を有するICP - MSはシ
ールド８が厳重で且つプラズマ４を正常に維持できるよ
うになる。
図は本発明実施例の要部を分解した構成斜視図であり、
図中、第３図と同一記号は同一意味をもたせて使用しこ
こでの重複説明は省略する。また、７は例えば石英管で
なりアーク放電が生ずるのを防止するアーク防止管、８
はプラズマトーチ１の外側に挿設されるシールド、９は
シールド８の底部８′が例えばネジ止め等で固着された
シールド板である。第１図において、アーク防止管７が
コイル２にあらかじめ装設されて固定される。その後、
コイル２に高周波電流が流され該コイルの周囲に高周波
磁界が形成される。この高周波磁界の近傍でプラズマト
ーチ１内のアルゴンガス中に電子かイオンが植えつけら
れると、該高周波磁界の作用で瞬時にプラズマ４が生じ
る。この状態で、シールド板９をプラズマトーチ１の方
向へスライドさせ、アーク防止管７（即ち、コイル２）
とプラズマトーチ１で形成される間隙内にシールド２が
挿入される。このようにすることにより、プラズマトー
チ１の外側にシールド２が挿設される。また、シールド
２が堅牢であるにも拘らずプラズマ４は消えない。従っ
て、第１図に示すような要部構成を有するICP - MSはシ
ールド８が厳重で且つプラズマ４を正常に維持できるよ
うになる。
第２図は本発明実施例の全体的な構成説明図であり、図
中、第１図や第３図と同一記号は同一意味をもたせて使
用しここでの重複説明は省略する。また、10a はアルゴ
ンガス供給源、10b はガス調節器、１１は試料を貯留す
る槽、１２は試料を霧化してエアロゾル試料にするネブ
ライザ、１３は高周波電源３を含む駆動部、１４はプラ
ズマトーチを収納する筐体、１５はフォアチャンバー１
６内を例えば１torr．まで吸引して排気する真空ポン
プ、１７はセンターチャンバー１８内を例えば1
0-4torr．まで吸引して排気する真空ポンプ、19は例え
ば四重極マスフィルタでなる質量分析計検出器、２０は
リアチャンバー２１内を吸引して排気する真空ポンプ、
２２は二次電子増倍管、２３は演算処理部（例えばマイ
クロコンピュータ）である。このような構成からなる本
発明の実施例において、プラズマトーチ１の最外室1aお
よび1bには、ガス調節器10b を介してガス供給源10a か
らアルゴンガスが供給される。また、内室1cにはネブラ
イザ１２からアルゴンガス（上記ガス調節器10b を介し
て供給されるもの）によってエアロゾル試料が搬入され
る。一方、コイル2 には駆動部１３内の高周波電源３に
よって高周波エネルギーが供給され、該コイルの周囲に
高周波磁界（図示せず）が形成されている。このため、
上記高周波磁界の作用でプラズマ４が生ずる。このプラ
ズマ４内のイオンはノズル５を介してスキマー６内に引
き出され、その後、質量分析計検出器１９によって特定
質量のイオンが検出される。該検出信号は二次電子増倍
管２２で増幅されてのち演算処理部２３に送出され、最
終的に試料中の被測定元素分析値等を与えるようにな
る。
中、第１図や第３図と同一記号は同一意味をもたせて使
用しここでの重複説明は省略する。また、10a はアルゴ
ンガス供給源、10b はガス調節器、１１は試料を貯留す
る槽、１２は試料を霧化してエアロゾル試料にするネブ
ライザ、１３は高周波電源３を含む駆動部、１４はプラ
ズマトーチを収納する筐体、１５はフォアチャンバー１
６内を例えば１torr．まで吸引して排気する真空ポン
プ、１７はセンターチャンバー１８内を例えば1
0-4torr．まで吸引して排気する真空ポンプ、19は例え
ば四重極マスフィルタでなる質量分析計検出器、２０は
リアチャンバー２１内を吸引して排気する真空ポンプ、
２２は二次電子増倍管、２３は演算処理部（例えばマイ
クロコンピュータ）である。このような構成からなる本
発明の実施例において、プラズマトーチ１の最外室1aお
よび1bには、ガス調節器10b を介してガス供給源10a か
らアルゴンガスが供給される。また、内室1cにはネブラ
イザ１２からアルゴンガス（上記ガス調節器10b を介し
て供給されるもの）によってエアロゾル試料が搬入され
る。一方、コイル2 には駆動部１３内の高周波電源３に
よって高周波エネルギーが供給され、該コイルの周囲に
高周波磁界（図示せず）が形成されている。このため、
上記高周波磁界の作用でプラズマ４が生ずる。このプラ
ズマ４内のイオンはノズル５を介してスキマー６内に引
き出され、その後、質量分析計検出器１９によって特定
質量のイオンが検出される。該検出信号は二次電子増倍
管２２で増幅されてのち演算処理部２３に送出され、最
終的に試料中の被測定元素分析値等を与えるようにな
る。
＜発明の効果＞ 以上詳しく説明したような本発明によれば、プラズマ４
とコイル２の間に配設されるシールドを厳重にし且つプ
ラズマ４を正常に維持できるようなICP - MSが実現す
る。
とコイル２の間に配設されるシールドを厳重にし且つプ
ラズマ４を正常に維持できるようなICP - MSが実現す
る。
第１図は本発明実施例の要部構成斜視図、第２図は本発
明実施例の全体的な構成説明図、第３図は従来例の要部
構成説明図である。 １……プラズマトーチ、２……高周波誘導コイル、 ３……高周波電源、４……高周波誘導結合プラズマ、 ７……アーク防止管、８……シールド、９……シールド
板。
明実施例の全体的な構成説明図、第３図は従来例の要部
構成説明図である。 １……プラズマトーチ、２……高周波誘導コイル、 ３……高周波電源、４……高周波誘導結合プラズマ、 ７……アーク防止管、８……シールド、９……シールド
板。
Claims (2)
- 【請求項１】高周波誘導コイルに高周波エネルギーを供
給し高周波磁界を形成して高周波誘導結合プラズマを生
じさせ、該プラズマを用いて試料を励起してイオンを生
じさせ、該イオンをインターフェイスを介して質量分析
計に導いて検出し、前記試料中の被測定元素を分析する
分析計において、前記コイルにあらかじめ装設され前記
インターフェイス先端部と前記プラズマの間に生ずるア
ーク放電を防止するアーク防止管と、前記プラズマを生
じさせるプラズマトーチの外側に挿設されるシールド
と、該シールドの底部が固着されたシールド板とを具備
し、前記プラズマを生じさせてのち前記シールド板を前
記プラズマトーチの方向へスライドさせ、前記アーク防
止管とプラズマトーチで形成される間隙内に前記シール
ドを挿設するように構成したことを特徴とする高周波誘
導結合プラズマ・質量分析計。 - 【請求項２】前記インターフェイスはノズルとスキマー
からなる特許請求範囲第(1)項記載の高周波誘導結合プ
ラズマ・質量分析計。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61243923A JPH0624113B2 (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析計 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61243923A JPH0624113B2 (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6398948A JPS6398948A (ja) | 1988-04-30 |
| JPH0624113B2 true JPH0624113B2 (ja) | 1994-03-30 |
Family
ID=17111031
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61243923A Expired - Fee Related JPH0624113B2 (ja) | 1986-10-14 | 1986-10-14 | 高周波誘導結合プラズマ・質量分析計 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0624113B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02148648A (ja) * | 1988-11-30 | 1990-06-07 | Yokogawa Electric Corp | 高周波誘導結合プラズマ質量分析計 |
| JPH0316656U (ja) * | 1989-06-30 | 1991-02-19 |
-
1986
- 1986-10-14 JP JP61243923A patent/JPH0624113B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6398948A (ja) | 1988-04-30 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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