JPH06239810A - 3,5−ジフルオロアニリンの製造方法 - Google Patents
3,5−ジフルオロアニリンの製造方法Info
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- JPH06239810A JPH06239810A JP5158193A JP5158193A JPH06239810A JP H06239810 A JPH06239810 A JP H06239810A JP 5158193 A JP5158193 A JP 5158193A JP 5158193 A JP5158193 A JP 5158193A JP H06239810 A JPH06239810 A JP H06239810A
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- Japan
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- difluoroaniline
- reaction
- difluorobenzonitrile
- difluorobenzamide
- pentafluorobenzonitrile
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】入手容易な原料を用い、少ない工程で3,5−
ジフルオロアニリンを製造する。 【構成】ペンタフルオロベンゾニトリルを水素化金属錯
体と反応せしめて3,5−ジフルオロベンゾニトリルと
し、つぎに加水分解反応により3,5−ジフルロベンズ
アミドとし、つぎにホフマン反応せしめることによる
3,5−ジフルオロアニリンの製造方法。
ジフルオロアニリンを製造する。 【構成】ペンタフルオロベンゾニトリルを水素化金属錯
体と反応せしめて3,5−ジフルオロベンゾニトリルと
し、つぎに加水分解反応により3,5−ジフルロベンズ
アミドとし、つぎにホフマン反応せしめることによる
3,5−ジフルオロアニリンの製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は医薬、農薬及び染料の中
間体として重要な3, 5−ジフルオロアニリンの新規な
製造方法に関するものである。
間体として重要な3, 5−ジフルオロアニリンの新規な
製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】3,5−ジフルオロアニリンの製造方法
の公知例としては、2,4−ジフルオロアニリンのアセ
チル化、ニトロ化、加水分解、ジアゾ分解、還元の5工
程を経て製造する方法(J.Am.Chem.So
c.,73,153,1951)、1,3,5−トリク
ロロ−2,4,6−トリフルオロベンゼンをアミノ化し
た後、ヨウ化水素酸/赤リン系の試薬で脱塩素化して製
造する方法(日本化学雑誌87,1089,1966、
特公昭42−13094号)、1,3−ジフルオロベン
ゼンを出発原料として、ハロゲン化、ニトロ化、還元お
よび脱ハロゲン化工程を経て製造する方法(特開平4−
178355号)を挙げることができる。
の公知例としては、2,4−ジフルオロアニリンのアセ
チル化、ニトロ化、加水分解、ジアゾ分解、還元の5工
程を経て製造する方法(J.Am.Chem.So
c.,73,153,1951)、1,3,5−トリク
ロロ−2,4,6−トリフルオロベンゼンをアミノ化し
た後、ヨウ化水素酸/赤リン系の試薬で脱塩素化して製
造する方法(日本化学雑誌87,1089,1966、
特公昭42−13094号)、1,3−ジフルオロベン
ゼンを出発原料として、ハロゲン化、ニトロ化、還元お
よび脱ハロゲン化工程を経て製造する方法(特開平4−
178355号)を挙げることができる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】2,4−ジフルオロア
ニリンを出発物質として用いる方法は、工程が長く複雑
であり、かつ、原料が高価であるため工業的に有利な方
法とはいい難い。1,3,5−トリクロロ−2,4,6
−トリフルオロベンゼンを出発物質とする方法は、原料
の1,3,5−トリクロロ−2,4,6−トリフルオロ
ベンゼンが、安全性に問題のあるヘキサクロロベンゼン
より合成されることや、原料合成時のフッ素化の選択率
が低いこと、さらに脱塩素化反応の際に高価なヨウ化水
素酸や、取扱い上、廃液処理上に問題のある赤リンを使
用するなどの問題がある。1,3−ジフルオロベンゼン
を出発物質とする方法は、原料の入手が困難であるとい
う問題を有する。
ニリンを出発物質として用いる方法は、工程が長く複雑
であり、かつ、原料が高価であるため工業的に有利な方
法とはいい難い。1,3,5−トリクロロ−2,4,6
−トリフルオロベンゼンを出発物質とする方法は、原料
の1,3,5−トリクロロ−2,4,6−トリフルオロ
ベンゼンが、安全性に問題のあるヘキサクロロベンゼン
より合成されることや、原料合成時のフッ素化の選択率
が低いこと、さらに脱塩素化反応の際に高価なヨウ化水
素酸や、取扱い上、廃液処理上に問題のある赤リンを使
用するなどの問題がある。1,3−ジフルオロベンゼン
を出発物質とする方法は、原料の入手が困難であるとい
う問題を有する。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の従来の
技術が有する欠点を解消し、入手容易な原料を用い、工
業的に有利な方法で3,5−ジフルオロアニリンを製造
する方法を提供するものである。すなわち、ペンタフル
オロベンゾニトリルを水素化金属錯体と反応せしめて
3,5−ジフルオロベンゾニトリルとし、つぎに該3,
5−ジフルオロベンゾニトリルを加水分解反応せしめて
3,5−ジフルオロベンズアミドとし、さらに該3,5
−ジフルオロベンズアミドをホフマン反応せしめること
を特徴とする3,5−ジフルオロアニリンの製造方法で
ある。
技術が有する欠点を解消し、入手容易な原料を用い、工
業的に有利な方法で3,5−ジフルオロアニリンを製造
する方法を提供するものである。すなわち、ペンタフル
オロベンゾニトリルを水素化金属錯体と反応せしめて
3,5−ジフルオロベンゾニトリルとし、つぎに該3,
5−ジフルオロベンゾニトリルを加水分解反応せしめて
3,5−ジフルオロベンズアミドとし、さらに該3,5
−ジフルオロベンズアミドをホフマン反応せしめること
を特徴とする3,5−ジフルオロアニリンの製造方法で
ある。
【0005】本発明の出発物質であるペンタフルオロベ
ンゾニトリルは市販されており、容易に入手できる化合
物である。
ンゾニトリルは市販されており、容易に入手できる化合
物である。
【0006】本発明の第一工程の反応で使用する水素化
金属錯体としては、特に限定されることなく公知ないし
は周知のものなどが例示され得る。例えばNaBH4 、
NaBH(OCH3 )3 、NaBH3 CN、LiBH
(C2 H5 )3 、LiBH3 CN、KBH[OCH(C
H3 )2 ]3 、Zn(BH4 )2 等が挙げられ、特にN
aBH4 が好ましい。水素化金属錯体の使用量はペンタ
フルオロベンゾニトリル1モルに対して約0.5〜15
モル、好ましくは1.5〜4モルがよい。
金属錯体としては、特に限定されることなく公知ないし
は周知のものなどが例示され得る。例えばNaBH4 、
NaBH(OCH3 )3 、NaBH3 CN、LiBH
(C2 H5 )3 、LiBH3 CN、KBH[OCH(C
H3 )2 ]3 、Zn(BH4 )2 等が挙げられ、特にN
aBH4 が好ましい。水素化金属錯体の使用量はペンタ
フルオロベンゾニトリル1モルに対して約0.5〜15
モル、好ましくは1.5〜4モルがよい。
【0007】上記第一工程の反応は通常溶媒中で行なわ
れることが望ましい。この場合の溶媒としては特に限定
されるものではないが、原料を溶解するものが望まし
い。例えばメタノール、エタノール、エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドなどが挙げられ、特にN,N−ジ
メチルホルムアミドが好ましい。溶媒の使用量はペンタ
フルオロベンゾニトリル1重量部に対して約2〜30重
量部が好ましい。
れることが望ましい。この場合の溶媒としては特に限定
されるものではないが、原料を溶解するものが望まし
い。例えばメタノール、エタノール、エチルエーテル、
テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルアセトアミドなどが挙げられ、特にN,N−ジ
メチルホルムアミドが好ましい。溶媒の使用量はペンタ
フルオロベンゾニトリル1重量部に対して約2〜30重
量部が好ましい。
【0008】水素化金属錯体との反応温度は−40〜5
0℃、反応時間は2〜12時間の範囲で実施できる。
0℃、反応時間は2〜12時間の範囲で実施できる。
【0009】第二工程の加水分解反応は通常酸を用いて
行なわれることが望ましい。酸の例としては、塩酸、硫
酸などの鉱酸や、ポリリン酸、ギ酸、TiCl4 、BF
3 等のルイス酸を挙げることができるが、好ましい例と
しては、硫酸を挙げることができる。硫酸を用いる場合
に硫酸の濃度は特に限定されるものではないが、96%
以上の濃硫酸を用いることが好ましい。加水分解反応は
通常室温〜150℃の範囲で実施できる。反応時間は通
常0.5〜10時間の範囲が好ましい。
行なわれることが望ましい。酸の例としては、塩酸、硫
酸などの鉱酸や、ポリリン酸、ギ酸、TiCl4 、BF
3 等のルイス酸を挙げることができるが、好ましい例と
しては、硫酸を挙げることができる。硫酸を用いる場合
に硫酸の濃度は特に限定されるものではないが、96%
以上の濃硫酸を用いることが好ましい。加水分解反応は
通常室温〜150℃の範囲で実施できる。反応時間は通
常0.5〜10時間の範囲が好ましい。
【0010】第三工程のホフマン反応は、通常のホフマ
ン反応の操作、条件等で実施できる。例えば次亜塩素酸
アルカリあるいは次亜臭素酸アルカリ等に作用させるこ
とにより実施できる。具体例としては、3,5−ジフル
オロベンズアミドを次亜塩素酸アルカリまたは次亜臭素
酸アルカリの水溶液中に導入し、60〜90℃の範囲の
温度に加温することにより行われる。反応溶媒としてメ
タノール、エタノール等のアルコールを用いてもよい。
以下、本発明の実施例について、さらに、具体的に説明
する。
ン反応の操作、条件等で実施できる。例えば次亜塩素酸
アルカリあるいは次亜臭素酸アルカリ等に作用させるこ
とにより実施できる。具体例としては、3,5−ジフル
オロベンズアミドを次亜塩素酸アルカリまたは次亜臭素
酸アルカリの水溶液中に導入し、60〜90℃の範囲の
温度に加温することにより行われる。反応溶媒としてメ
タノール、エタノール等のアルコールを用いてもよい。
以下、本発明の実施例について、さらに、具体的に説明
する。
【0011】
[例1]3,5−ジフルオロベンゾニトリルの製造 撹拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロートをつけた
100mlの4つ口フラスコに、NaBH4 の6.1g
(0.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミ
ドの20mlを仕込み、滴下ロートを用いてペンタフル
オロベンゾニトリル10g(0.052mol)のN,
N−ジメチルホルムアミド(20ml)溶液を−10℃
でゆっくりと滴下した。その後、室温で5時間撹拌し
た。反応溶液を塩化メチレンで抽出し、水洗後、溶媒を
減圧下で留去した。残液を減圧下に蒸留することによ
り、3,5−ジフルオロベンゾニトリル3.0g(収率
42%)を得た。
100mlの4つ口フラスコに、NaBH4 の6.1g
(0.16mol)およびN,N−ジメチルホルムアミ
ドの20mlを仕込み、滴下ロートを用いてペンタフル
オロベンゾニトリル10g(0.052mol)のN,
N−ジメチルホルムアミド(20ml)溶液を−10℃
でゆっくりと滴下した。その後、室温で5時間撹拌し
た。反応溶液を塩化メチレンで抽出し、水洗後、溶媒を
減圧下で留去した。残液を減圧下に蒸留することによ
り、3,5−ジフルオロベンゾニトリル3.0g(収率
42%)を得た。
【0012】[例2]3,5−ジフルオロベンゾニトリ
ルの製造 撹拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロートをつけた
100mlの4つ口フラスコに、NaBH3 CNの1
0.1g(0.16mol)およびN,N−ジメチルホ
ルムアミドの20mlを仕込み、滴下ロートを用いてペ
ンタフルオロベンゾニトリル10g(0.052mo
l)のN,N−ジメチルホルムアミド(20ml)溶液
を0℃でゆっくりと滴下した。その後、室温で4時間撹
拌した。反応溶液を塩化メチレンで抽出し、水洗後、溶
媒を減圧下で留去した。残液を減圧下に蒸留することに
より、3,5−ジフルオロベンゾニトリル2.5g(収
率34%)を得た。
ルの製造 撹拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロートをつけた
100mlの4つ口フラスコに、NaBH3 CNの1
0.1g(0.16mol)およびN,N−ジメチルホ
ルムアミドの20mlを仕込み、滴下ロートを用いてペ
ンタフルオロベンゾニトリル10g(0.052mo
l)のN,N−ジメチルホルムアミド(20ml)溶液
を0℃でゆっくりと滴下した。その後、室温で4時間撹
拌した。反応溶液を塩化メチレンで抽出し、水洗後、溶
媒を減圧下で留去した。残液を減圧下に蒸留することに
より、3,5−ジフルオロベンゾニトリル2.5g(収
率34%)を得た。
【0013】[例3]3,5−ジフルオロベンズアミド
の製造 撹拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロートをつけた
100mlの4つ口フラスコに、例1または例2で得ら
れる3,5−ジフルオロベンゾニトリルの20g(0.
144mol)と96%濃硫酸(90ml)の溶液を調
製した。この溶液を110〜120℃に保ち、4時間撹
拌した。冷却後、反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧下で酢酸エチルを留去することにより、3,
5−ジフルオロベンズアミド17.2g(収率76%)
を得た。
の製造 撹拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロートをつけた
100mlの4つ口フラスコに、例1または例2で得ら
れる3,5−ジフルオロベンゾニトリルの20g(0.
144mol)と96%濃硫酸(90ml)の溶液を調
製した。この溶液を110〜120℃に保ち、4時間撹
拌した。冷却後、反応溶液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧下で酢酸エチルを留去することにより、3,
5−ジフルオロベンズアミド17.2g(収率76%)
を得た。
【0014】[例4]3,5−ジフルオロアニリンの製
造 撹拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロートをつけた
100mlの4つ口フラスコに、水酸化ナトリウム9.
6g(0.24mol)および水50mlを入れ、水酸
化ナトリウムが溶けた後、寒剤浴で充分冷やした。つぎ
に、この水溶液を激しく撹拌しながら、臭素3.96m
l(0.077mol)をゆっくり加えた。つぎに例3
で得られる3,5−ジフルオロベンズアミド10g
(0.063mol)を加え、この混合物を0℃で30
分間激しく撹拌した。さらに、70〜75℃に保ち、2
時間撹拌した。反応溶液を冷却した後、塩化メチレンで
抽出した。塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に塩化メチレンを留去した。残液
を減圧下で蒸留することにより、3,5−ジフルオロア
ニリン6.8g(収率84%)を得た。
造 撹拌器、還流冷却器、温度計および滴下ロートをつけた
100mlの4つ口フラスコに、水酸化ナトリウム9.
6g(0.24mol)および水50mlを入れ、水酸
化ナトリウムが溶けた後、寒剤浴で充分冷やした。つぎ
に、この水溶液を激しく撹拌しながら、臭素3.96m
l(0.077mol)をゆっくり加えた。つぎに例3
で得られる3,5−ジフルオロベンズアミド10g
(0.063mol)を加え、この混合物を0℃で30
分間激しく撹拌した。さらに、70〜75℃に保ち、2
時間撹拌した。反応溶液を冷却した後、塩化メチレンで
抽出した。塩化メチレン層を水洗し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に塩化メチレンを留去した。残液
を減圧下で蒸留することにより、3,5−ジフルオロア
ニリン6.8g(収率84%)を得た。
【0015】
【発明の効果】本発明方法は従来法に比べ、入手容易な
原料から、安全かつ少ない工程で効率的に3,5−ジフ
ルオロアニリンを得ることができる。
原料から、安全かつ少ない工程で効率的に3,5−ジフ
ルオロアニリンを得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項1】ペンタフルオロベンゾニトリルを水素化金
属錯体と反応せしめて3,5−ジフルオロベンゾニトリ
ルとし、つぎに該3,5−ジフルオロベンゾニトリルを
加水分解反応せしめて3,5−ジフルオロベンズアミド
とし、さらに該3,5−ジフルオロベンズアミドをホフ
マン反応せしめることを特徴とする3,5−ジフルオロ
アニリンの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5158193A JPH06239810A (ja) | 1993-02-17 | 1993-02-17 | 3,5−ジフルオロアニリンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5158193A JPH06239810A (ja) | 1993-02-17 | 1993-02-17 | 3,5−ジフルオロアニリンの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06239810A true JPH06239810A (ja) | 1994-08-30 |
Family
ID=12890910
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5158193A Pending JPH06239810A (ja) | 1993-02-17 | 1993-02-17 | 3,5−ジフルオロアニリンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06239810A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7741426B2 (en) | 2003-06-23 | 2010-06-22 | Nippon Shokubai Co., Ltd | Method for production of fluorinated phenylenediamine |
-
1993
- 1993-02-17 JP JP5158193A patent/JPH06239810A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7741426B2 (en) | 2003-06-23 | 2010-06-22 | Nippon Shokubai Co., Ltd | Method for production of fluorinated phenylenediamine |
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