JPH06232003A - コンデンサアレイ - Google Patents

コンデンサアレイ

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JPH06232003A
JPH06232003A JP5013136A JP1313693A JPH06232003A JP H06232003 A JPH06232003 A JP H06232003A JP 5013136 A JP5013136 A JP 5013136A JP 1313693 A JP1313693 A JP 1313693A JP H06232003 A JPH06232003 A JP H06232003A
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JP
Japan
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electrode
ceramic substrate
common electrode
dielectric ceramic
capacitor array
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Application number
JP5013136A
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English (en)
Inventor
Motoharu Fukai
元春 深井
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 誘電体磁器基板31にはスルーホール32が形成
され、その一面には共通電極33が形成され、他面にはス
ルーホール32に接続されたガード電極34が形成されると
共にガード電極34の形成領域以外の部分に個別電極35が
形成され、ガード電極34と共通電極33とはスルーホール
32を介して導通し、個別電極35及びガード電極34にそれ
ぞれリード端子36が固着されているコンデンサアレイ。 【効果】 全てのリード端子36の接続及び曲げ操作が同
一面ででき、量産性が向上し、廉価なコンデンサアレイ
を提供できる。さらにガード電極34の存在で、個別電極
35同士の間の浮遊静電容量が著しく小さくでき、共通電
極33の面積を大きくとれるので、取得静電容量を大きく
できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、誘電体磁器基板に複数
のコンデンサが形成されたコンデンサアレイに関する。
【0002】
【従来の技術】従来のコンデンサアレイとしては、図3
〜図5に示すようなものが知られている。
【0003】 図3(a)は従来のコンデンサアレイ
を示す模式的な正面図であり、図3(b)は図3(a)
におけるZ1 −Z1 線断面図である。このコンデンサア
レイは、対向電極として誘電体磁器基板11aの一面に
複数個の個別電極12aが、他面に共通電極13aが形
成され、これら個別電極12a、共通電極13aにはそ
れぞれリード端子14aがハンダ付けされ、リード端子
14aの一部を除き全体が絶縁樹脂15aにより被覆さ
れた構成となっている。
【0004】 次に、図4(a)は従来の別のコンデ
ンサアレイを示す模式的な正面図であり、図4(b)は
図4(a)におけるZ2 −Z2 線断面図、図4(c)は
図4(a)におけるZ3 −Z3 線断面図である。このコ
ンデンサアレイは、対向電極を構成する共通電極13b
が誘電体磁器基板11b中に埋設され、個別電極12b
は誘電体磁器基板11b表面に形成され、これら個別電
極12b、共通電極13bにはリード端子14bがハン
ダ付けされ、リード端子14bの一部を除き全体が同様
に絶縁樹脂15bにより被覆された構成となっている。
また、個別電極12bは面積の異なったものがあり、こ
のため静電容量の異なるコンデンサが形成されている。
【0005】 図5(a)は、実開平4−74414
号公報に記載された従来のコンデンサアレイを示す斜視
図であり、図5(b)はその背面図である。前記実開平
4−74414号公報に記載されたコンデンサアレイ
は、誘電体磁器基板11cの片面に同じ形状の複数の個
別電極12cが等間隔に並行して形成されるとともに、
複数の歯部16a、16bを有するガード電極16が、
その歯部16bが個別電極12cの間に介在するように
形成されており、他面には共通電極13cが個別電極1
2cに対向して連続的に形成されている。なお、このコ
ンデンサアレイに用いられているリード端子14c、1
4dは誘電体磁器基板11cの両面に接触できるように
誘電体磁器基板11cを挟むような形でハンダ付けされ
ており、個別電極12cに接続されているリード端子1
4cが共通電極13cに接触しないよう、共通電極13
cは誘電体磁器基板11cの上部のみに形成されてい
る。また、共通電極13cとガード電極16とはリード
端子14dによりお互いに導通している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た及び記載の従来のコンデンサアレイは、いずれ
も、リード端子14a、14bの接続部分が同一面上に
ないため、リード端子14a、14bを個別電極12
a、12bや共通電極13a、13bに接続する作業及
びリード端子14a等を曲げて同一面上に並ぶように揃
える作業が煩雑であるという課題があった。
【0007】例えば、上記記載のコンデンサアレイで
は、個別電極12aと共通電極13aとが誘電体磁器基
板11aを挟んで両面に形成されているので、個別電極
12a及び共通電極13aにリード端子14aをハンダ
付けする場合、誘電体磁器基板11aの両面でハンダ付
けする必要があり、例えば個別電極12aにリード端子
14aを接続し終えた後、共通電極13aにリード端子
14aをハンダ付けできる位置に誘電体磁器基板11a
を動かした後、ハンダ付けする必要があった。リード端
子14aの曲げ工程についても同様に2段階の操作を必
要としていた。このため、これら2段階の操作がコンデ
ンサアレイの製造における量産性を阻害する原因となっ
ていた。
【0008】また、上記の及びに記載のコンデンサ
アレイは、誘電体磁器基板11a、11bとして、半導
体化されていない通常の磁器(例えば,BaTiO3セラミッ
ク)が用いられていたため、厚くすると静電容量が低下
してしまい、以下のような課題が発生した。すなわち、
上記記載のコンデンサアレイで、誘電体磁器基板11
aを薄くして取得静電容量を増大させようとすると、誘
電体磁器基板11aの機械的強度が低下し、破損や割れ
が生じやすくなるため、大容量化が困難であった。ま
た、上記記載のコンデンサアレイでは、誘電体磁器基
板11bの機械的強度を上げるため、共通電極13bが
誘電体磁器基板11b中に埋設されているが、このよう
な構成をとると、誘電体磁器基板11bにおけるコンデ
ンサ部分が薄くなるため絶縁抵抗や耐電圧が十分でなか
った。
【0009】上記記載のコンデンサアレイは、誘電体
磁器基板11cにリード端子14c、14dを挟んでハ
ンダ付けするため、リード端子14c、14dを一度に
ハンダ付けでき、上記、記載のコンデンサアレイの
ようなハンダ付けの際の煩雑さはなくなるが、共通電極
13cの面積が小さくなり、また、ガード電極17が形
成されているため個別電極12cの面積も小さくなり、
これらの結果、取得静電容量を大きく取れないという課
題があった。
【0010】本発明は上記課題に鑑みなされたものであ
って、誘電体磁器基板を厚くすることができるために機
械的強度が大きく、かつ絶縁抵抗や耐電圧が高く、また
取得静電容量を大きくとることができ、取得静電容量選
定の自由度も高く、量産性に優れたコンデンサアレイを
提供することを目的としている。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明に係るコンデンサアレイは、誘電体磁器基板に
複数のコンデンサが形成されたコンデンサアレイにおい
て、前記誘電体磁器基板にスルーホールが形成されると
ともに前記誘電体磁器基板の一面には共通電極が形成さ
れ、他面には前記スルーホールに接続されたガード電極
が形成されるとともに該ガード電極の形成領域以外の部
分に個別電極が形成され、前記ガード電極と前記共通電
極とは前記スルーホールを介して導通し、前記個別電極
および前記ガード電極にそれぞれリード端子が固着され
ていることを特徴としている。
【0012】
【作用】上記構成によれば、共通電極に導通したガード
電極が形成されているので、個別電極同士の間の浮遊静
電容量が著しく小さくなる。共通電極の面積を大きくす
ることにより、取得静電容量も大きくなる。さらに、リ
ード端子の曲げ作業が容易となる。
【0013】また上記コンデンサアレイにおいて、誘電
体磁器基板が粒界絶縁型または表面層絶縁型の半導体磁
器基板により構成されている場合は、誘電体磁器基板自
体の誘電率が大きく、コンデンサとして用いられた際、
静電容量を大きく取ることができる。この場合、誘電体
磁器基板を従来より厚くしても、従来と同程度またはそ
れ以上の静電容量を有し、誘電体磁器基板を厚くするこ
とにより、機械的強度、絶縁抵抗、耐電圧が向上する。
【0014】
【実施例】以下、本発明に係るコンデンサアレイの実施
例を図面に基づいて説明する。
【0015】図1(a)は実施例に係るコンデンサアレ
イを示す模式的正面図、図1(b)は図1(a)におけ
るX1 −X1 線断面図、図1(c)は図1(a)におけ
るX2 −X2 線断面図である。
【0016】図1において、誘電体磁器基板31は、粒
界絶縁型または表面層絶縁型半導体磁器基板により構成
され、この誘電体磁器基板31の幅方向一端部近傍には
スルーホール32が形成されている。またこの誘電体磁
器基板31の一面には共通電極33がほぼ全面にわたっ
て形成され、他面にはスルーホール32を含んだ領域に
ガード電極34が形成されるとともに、このガード電極
34が形成された領域以外の部分に個別電極35が複数
個並列して形成されている。ガード電極34は歯部34
aを有しており、歯部34aは各個別電極35の間に介
在するように形成されている。そして、共通電極33と
個別電極35とで対向電極が構成されており、これら対
向電極で挟まれた部分が1個のコンデンサを構成してい
る。さらに、共通電極33とガード電極34とはスルー
ホール32を介して導通され、ガード電極34及び個別
電極35に、例えばハンダ付けで接続されたリード端子
36が同一方向に導出され,必要に応じて曲げ加工が施
されており、誘電体磁器基板31の全体及びリード端子
36の一部が絶縁樹脂37で被覆されている。
【0017】本発明では、誘電体磁器基板31として、
粒界絶縁型または表面層絶縁型の半導体磁器基板が用い
られている。前記粒界絶縁型半導体磁器基板としては、
例えばSrTiO3 系、(Sr,Ca)TiO3 系、
(Sr,Ba)TiO3 系が挙げられ、表面絶縁型半導
体磁器基板としては、例えばSrTiO3 系、(Sr,
Ca)TiO3 系、(Sr,Ba)TiO3 系が挙げら
れるが、以下に、SrTiO3 系の粒界絶縁型半導体磁
器からなる誘電体磁器基板31を用いた場合の該誘電体
磁器基板の製造方法について説明する。
【0018】SrTiO3 系を主成分とする磁器材料を
主原料とし、この主原料100molに対して、原料を
半導体化するための原子価制御剤としてNb25 、Y
23 などのうち少なくとも1種を0.1〜0.5mo
l、磁器の性質の改良や特性の安定化等に寄与する焼結
助剤としてCuO、MnO2 などのうち少なくとも1種
を0.05〜0.4mol程度の割合で配合する。
【0019】これらの原料粉末を混合し、バインダ、
水、分散剤とともに混練した後、これらの混練物を、例
えば押し出し成形法によりシート状に成形する。このシ
ート状の成形体にコンデンサアレイが所定の大きさとな
るようなスリット加工を施し、この後所定の大きさに切
断する。
【0020】次に、切断された成形体を還元雰囲気(H
2 1〜15mol%、N2 99〜85mol%)中にお
いて、最高1400〜1540℃で4〜6時間焼成(1次焼成)
を行ない、半導体化させる。さらに、絶縁化ペースト
(例えばBi23 、CuO、Na2 Oなどの混合物ペ
ースト)を塗布し、1000〜1300℃の空気中で熱処理を行
なう。この熱処理により、成形体の結晶間に粒界絶縁化
成分のイオンが拡散し、結晶粒界が絶縁化される。
【0021】このようにして得られた誘電体磁器基板3
1は、誘電率が約1×105 、磁器層の厚さが600〜
700μm、電極面積が数mm2 、静電容量が1×10
4 pF程度となり、大静電容量化された誘電体磁器基板
となる。また、上記のように、誘電体磁器基板31の厚
さが大きいので、機械的強度に優れ、さらに絶縁抵抗及
び耐電圧にも優れている。
【0022】次に、この誘電体磁器基板31を用いたコ
ンデンサアレイの製造方法を図2に基づいて説明する。
ここで図2(a1 )、(a2 )、(a4 )及び(a5
はそれぞれコンデンサアレイの各製造工程を示す正面
図、図2(a3 )は同工程を示す背面図、図2(b1
〜図2(b5 )はそれぞれ図2(a1 )〜図2(a5
のY1 −Y1 線〜Y5 −Y5 線における断面図である。
【0023】まず誘電体磁器基板31として、例えば矩
形状の基板を用い(図2(a1 )、(b1 )参照)、誘
電体磁器基板31の所定箇所に径が、例えば1mm程度
のスルーホール32を形成する。このスルーホール32
は、誘電体磁器基板31の厚さが0.7〜1.0mmで
あるために、押し出したグリーンシートを金型で打ち抜
く時にピンを用いて同時に打ち抜いて形成することがで
きる(図2(a2 )、(b2 )参照)。
【0024】次に、誘電体磁器基板31の片面にスクリ
ーン印刷等により金属ペーストを塗布し、この後金属ペ
ーストを焼き付けて共通電極33を形成する。この際、
誘電体磁器基板31の一面に一枚の連続した電極として
形成される共通電極33はスルーホール32を含有する
範囲に形成しておく(図2(a3 )、(b3 )参照)。
【0025】次に、他面に同様にして個別電極35とし
て小面積の電極を複数個、その間隔を少し空けるように
形成し、ガード電極34としてスルーホール32を含有
し、ガード電極34の歯部34aが個別電極35の間に
介在するような形状の電極を形成する。。このとき、誘
電体磁器基板31の両面に塗布した金属ペーストをスル
ーホール32の内部まで入り込ませ、ガード電極34と
共通電極33とをスルーホール32を介して導通させ
る。この結果、ガード電極34は共通電極33の端子接
続部となる(図2(a4 )、(a5 )参照)。
【0026】共通電極33、ガード電極34、個別電極
35の材料としては、Ag、Al、ZnまたはNiのう
ち少なくとも1種を含む金属ペーストを用いるが、電気
抵抗率が低く、焼成により酸化しにくいという点から、
Agペーストがもっとも望ましい。スクリーン印刷後の
金属ペーストの焼き付けは600〜800℃の空気中で
行なう。
【0027】さらに、ガード電極34、個別電極35に
同一方向に必要に応じて曲げ加工が施されたリード端子
36をハンダ付けなどにより固着し、リード端子36を
同一方向に導出させる。最後に、これら全体を、例えば
ポリプロピレン等の材料からなる絶縁樹脂37で被覆す
る(図2(a5 )、(b5 )参照)。
【0028】上記した製造方法によりえられたコンデン
サアレイは、誘電体磁器基板31の一面に共通電極33
が形成され、他面に個別電極35とガード電極34が形
成され、さらに誘電体磁器基板31に形成されたスルー
ホール32を介して、ガード電極34と共通電極33と
が導通されることになる。従って、ガード電極34は共
通電極33の端子接続部となり、個別電極35と同一面
側に共通電極33の端子接続部が位置し、すべてのリー
ド端子36の接続及び曲げ操作が同一面でできることと
なる。
【0029】また、共通電極33に導通し、歯部34a
を有するガード電極34が形成されていることにより、
個別電極35同士の浮遊静電容量が著しく小さくなる。
前記浮遊静電容量が存在すると、回路を形成した際に各
コンデンサの間に前記浮遊静電容量を有する他のコンデ
ンサが挿入されたのと同様の効果が生じるため、回路の
誤動作の原因となるが、実施例により製造されたコンデ
ンサアレイを用いた場合、前記浮遊静電容量による誤動
作はほとんど起こらない。前記浮遊静電容量を事実上そ
の影響がなくなる程度まで減少させるためには、歯部3
4aは個別電極35間の距離の1/2以上、個別電極3
5の縦方向の長さの2/3以上であることが好ましい。
【0030】また実施例のコンデンサアレイにおいて
は、誘電体磁器基板31の範囲内で共通電極33の面積
を大きくとることができるので、取得静電容量も大きく
することができる。また共通電極33の面積や誘電体磁
器基板31の厚さを変えること等により、その静電容量
を自由に設定することもできる。
【0031】さらに、誘電体磁器基板31が粒界絶縁型
または表面層絶縁型の半導体磁器で形成されているの
で、誘電体磁器基板31自体の誘電率が大きく、コンデ
ンサとして用いる際、静電容量を大きくとることができ
る。従って、誘電体磁器基板31を従来より厚くしても
静電容量を従来と同程度またはそれ以上にすることがで
き、誘電体磁器基板31を厚くすることにより、機械的
強度、絶縁抵抗、耐電圧を向上させることができる。
【0032】一般に絶縁樹脂37の厚さに比べて誘電体
磁器基板31の厚さは非常に小さいので、コンデンサア
レイ全体の厚さは絶縁樹脂37の厚さによってほぼ決ま
る。したがって、上記のように誘電体磁器基板31の厚
さを大きくしても、コンデンサアレイ全体の厚さにまで
影響を及ぼすようなことはない。
【0033】なお、共通電極33は、必ずしも実施例の
ように一枚ものである必要はなく、2個以上に分かれて
形成されていてもよい。ただし、その場合は、それぞれ
の共通電極33の部分についてスルーホール32とガー
ド電極34とを形成し、このガード電極34にリード端
子36を接続しておく必要がある。また、個別電極35
についても、その個数は限定されず、さらにその面積、
形状についても特に限定されるものではない。
【0034】
【発明の効果】以上詳述したように本発明に係るコンデ
ンサアレイにあっては、誘電体磁器基板に複数のコンデ
ンサが形成されたコンデンサアレイにおいて、前記誘電
体磁器基板にスルーホールが形成されるとともに前記誘
電体磁器基板の一面には共通電極が形成され、他面には
前記スルーホールに接続されたガード電極が形成される
とともに該ガード電極の形成領域以外の部分に個別電極
が形成され、前記ガード電極と前記共通電極とは前記ス
ルーホールを介して導通し、前記個別電極および前記ガ
ード電極にそれぞれリード端子が固着されているので、
前記ガード電極は前記共通電極の端子接続部分となり、
前記個別電極と同一面側に該共通電極の端子接続部分が
位置することとなり、すべてのリード端子の接続及び曲
げ操作が同一面でできることとなり、量産性が向上し、
廉価なコンデンサアレイを提供することができる。
【0035】また、前記共通電極に導通した前記ガード
電極を設けることにより、前記個別電極同志の間の浮遊
静電容量が著しく小さくなる。さらに前記共通電極の面
積を大きくできるので、取得静電容量を大きくすること
ができ、また前記共通電極の面積や誘電体磁器基板の厚
さを変えることにより、その静電容量を自由に設定する
こともできる。
【0036】さらに上記コンデンサアレイにおいて、誘
電体磁器基板が粒界絶縁型または表面層絶縁型の半導体
磁器基板により構成されている場合、誘電体磁器基板自
体の誘電率が大きく、コンデンサとして用いられた際、
静電容量を大きくとることができる。この場合、誘電体
磁器基板を従来より厚くしても静電容量を従来と同程度
またはそれ以上にすることができ、誘電体磁器基板を厚
くすることにより、機械的強度、絶縁抵抗、耐電圧を向
上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の実施例に係るコンデンサアレ
イを示す模式的な正面図、図1(b)は図1(a)にお
けるX1 −X1 線断面図、図1(c)は図1(a)にお
けるX2 −X2 線断面図である。
【図2】(a1 )、(a2 )、(a4 )及び(a5 )は
それぞれコンデンサアレイの各製造工程を示す正面図、
図2(a3 )は同工程を示す背面図、図2(b1 )〜図
2(b5 )はそれぞれ図2(a1 )〜図2(a5 )のY
1 −Y1 線〜Y5 −Y5線における断面図である。
【図3】(a)は従来のコンデンサアレイを示す模式的
な正面図、(b)はZ1 −Z1線断面図である。
【図4】(a)は従来の別のコンデンサアレイを示す模
式的な正面図、(b)は(a)におけるZ2 −Z2 線断
面図、(c)は(a)におけるZ3 −Z3 線断面図であ
る。
【図5】(a)は従来のさらに別のコンデンンサアレイ
を示す斜視図、(b)はその背面図である。
【符号の説明】
31 誘電体磁器基板 32 スルーホール 33 共通電極 34 ガード電極 35 個別電極 36 リード端子

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 誘電体磁器基板に複数のコンデンサが形
    成されたコンデンサアレイにおいて、前記誘電体磁器基
    板にスルーホールが形成されるとともに前記誘電体磁器
    基板の一面には共通電極が形成され、他面には前記スル
    ーホールに接続されたガード電極が形成されるとともに
    該ガード電極の形成領域以外の部分に個別電極が形成さ
    れ、前記ガード電極と前記共通電極とは前記スルーホー
    ルを介して導通し、前記個別電極および前記ガード電極
    にそれぞれリード端子が固着されていることを特徴とす
    るコンデンサアレイ。
JP5013136A 1993-01-29 1993-01-29 コンデンサアレイ Pending JPH06232003A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007194473A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Kyocera Corp コンデンサ
US8199458B2 (en) * 2009-03-19 2012-06-12 Oh Young Joo Surface mounting type high voltage capacitor with array structure

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JP2007194473A (ja) * 2006-01-20 2007-08-02 Kyocera Corp コンデンサ
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