JPH0622240Y2 - 携帯用x線回折装置 - Google Patents
携帯用x線回折装置Info
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- JPH0622240Y2 JPH0622240Y2 JP1988012682U JP1268288U JPH0622240Y2 JP H0622240 Y2 JPH0622240 Y2 JP H0622240Y2 JP 1988012682 U JP1988012682 U JP 1988012682U JP 1268288 U JP1268288 U JP 1268288U JP H0622240 Y2 JPH0622240 Y2 JP H0622240Y2
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- tube
- guide frame
- goniometer
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は実構造物等の任意の場所における実働荷重と疲
労の程度を評価するために用いられるX線回折装置に関
するものである。
労の程度を評価するために用いられるX線回折装置に関
するものである。
建屋,生産設備の保全,補修コスト低減のためには、構
造物の実働荷重および疲労進行程度の非破壊的な検出が
簡便な手段で実施できることが必要である。
造物の実働荷重および疲労進行程度の非破壊的な検出が
簡便な手段で実施できることが必要である。
X線回折法においては、金属材料の種類がわかると回折
X線の位置変化、すなわち結晶格子の均一歪量から応力
値が高い精度で求めることができ、材料の形状から実働
荷重が算出される。さらに、回折X線の積分幅から、結
晶格子の不均一歪分布の知見が得られるので疲労進行程
度が評価できる。
X線の位置変化、すなわち結晶格子の均一歪量から応力
値が高い精度で求めることができ、材料の形状から実働
荷重が算出される。さらに、回折X線の積分幅から、結
晶格子の不均一歪分布の知見が得られるので疲労進行程
度が評価できる。
従来より、このようなX線回折装置はゴニオメータ,X
線発生部,計数記録部,自冷式送水部およびマイクロコ
ンピュータで構成されている。
線発生部,計数記録部,自冷式送水部およびマイクロコ
ンピュータで構成されている。
さらに、測定対象物や測定目的に応じて架台を使用して
いる。架台は実験室用と実構造物を対象とするものの二
種類が従来より使用されている。前者は実験室用で試料
を実験室に持ち運び、かつ容易に動かすことが出来る試
料の測定に用いるものである。その架台は一般に4つの
車をもつ台車,支柱,アームおよび主軸機構から構成さ
れている。従来、ゴニオメータは二つの駆動装置を有し
て、架台のアーム先端に吊り下げられ使用されている。
そして、ゴニオメータはアームの架台主軸機構によって
特定方向へ傾斜または揺動するようになっている。ま
た、ゴニオメータには二つの駆動装置がありX線管球と
検出器が走査や揺動する。
いる。架台は実験室用と実構造物を対象とするものの二
種類が従来より使用されている。前者は実験室用で試料
を実験室に持ち運び、かつ容易に動かすことが出来る試
料の測定に用いるものである。その架台は一般に4つの
車をもつ台車,支柱,アームおよび主軸機構から構成さ
れている。従来、ゴニオメータは二つの駆動装置を有し
て、架台のアーム先端に吊り下げられ使用されている。
そして、ゴニオメータはアームの架台主軸機構によって
特定方向へ傾斜または揺動するようになっている。ま
た、ゴニオメータには二つの駆動装置がありX線管球と
検出器が走査や揺動する。
なお、この方式のゴニオメータでは試料の測定位置がX
線照射窓の真下になり、かつ測定面が水平になることが
必要である。
線照射窓の真下になり、かつ測定面が水平になることが
必要である。
そのために、X線管球の特定角度位置において管球と一
体化しているアライメント治具受けに治具を挿入し、試
料測定位置を手動でその治具の真下に一致させている。
さらに、アライメント治具を用いてX線管球と試料間隔
や試料の測定の傾斜を調整する。
体化しているアライメント治具受けに治具を挿入し、試
料測定位置を手動でその治具の真下に一致させている。
さらに、アライメント治具を用いてX線管球と試料間隔
や試料の測定の傾斜を調整する。
すなわち、従来の実験室用装置は手動で試料を動かして
測定位置を決め、その位置に平行ビームを照射する。な
お、台車にはX線発生部,計数記録部,自冷式送水部お
よびマイクロコンピュータなどが乗せられている。
測定位置を決め、その位置に平行ビームを照射する。な
お、台車にはX線発生部,計数記録部,自冷式送水部お
よびマイクロコンピュータなどが乗せられている。
第1図は従来のX線回折装置構成の一例を示す説明図で
ある。架台のアーム1に吊り下げられたゴニオメータ2
は、試料3の上に設置される。自冷式送水装置4が動作
すると水冷ホース5を介してX線管球6に冷却水が供給
され、X線発生装置7は高圧ケーブル8を介して管球に
電力を供給する。その結果、管球から放射されるX線9
はソーラスリット10を通して試料に照射する。11は
試料から放射される回折X線で、フィルター12及び受
光ソーラスリット13を介して、計数管14により検出
される。その際、X線管球6や計数管14は制御器15
の指令に基づいて単独あるいは同時に走査を行う。その
検出信号は増幅器16及び計数装置17を介して演算装
置18に入力され演算される。その結果はプリンタ等の
表示装置19に表示する。
ある。架台のアーム1に吊り下げられたゴニオメータ2
は、試料3の上に設置される。自冷式送水装置4が動作
すると水冷ホース5を介してX線管球6に冷却水が供給
され、X線発生装置7は高圧ケーブル8を介して管球に
電力を供給する。その結果、管球から放射されるX線9
はソーラスリット10を通して試料に照射する。11は
試料から放射される回折X線で、フィルター12及び受
光ソーラスリット13を介して、計数管14により検出
される。その際、X線管球6や計数管14は制御器15
の指令に基づいて単独あるいは同時に走査を行う。その
検出信号は増幅器16及び計数装置17を介して演算装
置18に入力され演算される。その結果はプリンタ等の
表示装置19に表示する。
一方、実構造物を測定対象とする架台は、大きな三脚で
構成されている。すなわち、測定物が大型構造物である
場合にはあらかじめこの三脚の設置場所を決め、粗測定
位置に対する三脚の高さとその傾きを調整し、その後、
実験室用装置と同様のゴニオメータを測定面にぶつける
ことなく三脚に装着し、さらに、そのゴニオメータにア
ライメント治具を取り付けて三脚の高さやその傾きを微
調整していた。通常三脚は数十Kgの重量があり、その形
状からも設置場所に大きな制約があった。また、そのゴ
ニオメータは実験室用を兼用するために重量も数十Kg以
上と重い。さらに、この測定位置の微調整は、実構造物
を動かすことが全く不可能であるため、大型でしかも重
量物の三脚やゴニオメータ等を実構造物上あるいはその
近傍で動かすことになる。この調整は大変な作業であっ
た。しかも、従来装置では架台やゴニオメータ等の構造
から実構造物の任意位置に入射X線ビームを照射するこ
とは不可能であった。
構成されている。すなわち、測定物が大型構造物である
場合にはあらかじめこの三脚の設置場所を決め、粗測定
位置に対する三脚の高さとその傾きを調整し、その後、
実験室用装置と同様のゴニオメータを測定面にぶつける
ことなく三脚に装着し、さらに、そのゴニオメータにア
ライメント治具を取り付けて三脚の高さやその傾きを微
調整していた。通常三脚は数十Kgの重量があり、その形
状からも設置場所に大きな制約があった。また、そのゴ
ニオメータは実験室用を兼用するために重量も数十Kg以
上と重い。さらに、この測定位置の微調整は、実構造物
を動かすことが全く不可能であるため、大型でしかも重
量物の三脚やゴニオメータ等を実構造物上あるいはその
近傍で動かすことになる。この調整は大変な作業であっ
た。しかも、従来装置では架台やゴニオメータ等の構造
から実構造物の任意位置に入射X線ビームを照射するこ
とは不可能であった。
また、従来装置では通常300Wの小型X線管球(X線
源サイズ:4mm×4mm)を用いるので、強度を稼ぐため
に平行ビーム法を採用している。
源サイズ:4mm×4mm)を用いるので、強度を稼ぐため
に平行ビーム法を採用している。
平行ビーム法は、集中ビーム法に比べて光学系の幾何学
的条件の精度が低いので、実構造物からの回折X線積分
幅の精密測定が困難であった。
的条件の精度が低いので、実構造物からの回折X線積分
幅の精密測定が困難であった。
本考案は前記のような従来のX線回折装置における問題
点を解決し、実構造物の任意位置の実働荷重や疲労進行
程度などを簡便に測定できるようにすることを課題とす
る。
点を解決し、実構造物の任意位置の実働荷重や疲労進行
程度などを簡便に測定できるようにすることを課題とす
る。
上記課題を解決するために、本考案では、実構造物にX
線ビームを照射し、該実構造物から放射される回折X線
を受光するようにした角度分散型の携帯用X線回折装置
において:ゴニオメータのガイドフレーム(22)上に
移動可能に取り付けられたX線管球(6)、前記ガイド
フレームの両端にそれぞれ設けられた脚部(40)、前
記X線管球と一体として形成されたガイドレール(2
3)上に移動可能に取り付けられた計数管(14)、前
記X線管球と前記計数管の近傍に設置された交換可能な
スリット(10,13,36,37,38,39)、及
び前記計数管を含む受光スリット部を移動する移動機構
(27,28)を設ける。
線ビームを照射し、該実構造物から放射される回折X線
を受光するようにした角度分散型の携帯用X線回折装置
において:ゴニオメータのガイドフレーム(22)上に
移動可能に取り付けられたX線管球(6)、前記ガイド
フレームの両端にそれぞれ設けられた脚部(40)、前
記X線管球と一体として形成されたガイドレール(2
3)上に移動可能に取り付けられた計数管(14)、前
記X線管球と前記計数管の近傍に設置された交換可能な
スリット(10,13,36,37,38,39)、及
び前記計数管を含む受光スリット部を移動する移動機構
(27,28)を設ける。
なお上記括弧内に示した符号は、後述する実施例中の対
応する要素の符号を参考までに示したものであるが、本
考案の各構成要素は実施例中の具体的な要素のみに限定
されるものではない。
応する要素の符号を参考までに示したものであるが、本
考案の各構成要素は実施例中の具体的な要素のみに限定
されるものではない。
本考案では、ゴニオメータのガイドフレーム(22)は
その両端にそれぞれ設けられた脚部(40)により、両
持ちの梁構造で支持される。このような構造であるた
め、片持ちの梁構造の場合と比べると、重量物の積載に
よってガイドフレームに生じるたわみ量が、大幅に低減
される。従って、重いX線管球や計数管がガイドフレー
ムやガイドレールに沿って移動(走査)する時の、ガイ
ドフレームの形状変化、即ちX線の光路変化が小さく抑
制される。このため、片持ちの梁構造の場合と比べる
と、ガイドフレームやガイドレールに要求される剛性が
小さくなり、その結果、ガイドフレームやガイドレール
は軽量物質(例えばAl合金)を用いて、しかも断面積
を従来より縮小して製作できる。従って、小型(30cm
×10cm×25cm)で軽量(10kg以下)な携帯用X線
回折装置が実現する。
その両端にそれぞれ設けられた脚部(40)により、両
持ちの梁構造で支持される。このような構造であるた
め、片持ちの梁構造の場合と比べると、重量物の積載に
よってガイドフレームに生じるたわみ量が、大幅に低減
される。従って、重いX線管球や計数管がガイドフレー
ムやガイドレールに沿って移動(走査)する時の、ガイ
ドフレームの形状変化、即ちX線の光路変化が小さく抑
制される。このため、片持ちの梁構造の場合と比べる
と、ガイドフレームやガイドレールに要求される剛性が
小さくなり、その結果、ガイドフレームやガイドレール
は軽量物質(例えばAl合金)を用いて、しかも断面積
を従来より縮小して製作できる。従って、小型(30cm
×10cm×25cm)で軽量(10kg以下)な携帯用X線
回折装置が実現する。
また本考案では、交換可能なスリット(10,13,3
6,37,38,39)がX線管球と計数管の近傍に設
置されており、更に、前記計数管を含む受光スリット部
を移動する移動機構が設けられているので、前記スリッ
トを交換し、受光スリット部を移動することによって、
単一のゴニオメータで、擬集中ビーム法と平行ビーム法
の2種類を実施でき、実構造物の精密な回折X線の積分
幅の測定ができる。
6,37,38,39)がX線管球と計数管の近傍に設
置されており、更に、前記計数管を含む受光スリット部
を移動する移動機構が設けられているので、前記スリッ
トを交換し、受光スリット部を移動することによって、
単一のゴニオメータで、擬集中ビーム法と平行ビーム法
の2種類を実施でき、実構造物の精密な回折X線の積分
幅の測定ができる。
以下、本考案の実施例を詳細に説明する。
平面実構造物用ゴニオメータの一実施例を、第2a図,
第2b図及び第2c図に示す。第2a図は正面図、第2
b図は側面図、第2c図は裏面図である。
第2b図及び第2c図に示す。第2a図は正面図、第2
b図は側面図、第2c図は裏面図である。
各図を参照して説明する。このゴニオメータはガイドフ
レーム22の両端に設けた脚部40により実構造物に接
して設置される。ガイドフレーム22は、正面から見る
と第2a図に示すように円弧状に形成されている。この
ガイドフレーム22上に、スキャンニング用ガイドレー
ル23がガイドフレーム22の円周方向に沿って摺動可
能な状態で支持されている。更に、ガイドレール23上
には、ラック24が、ガイドレール23に沿って摺動可
能な状態で支持されている。
レーム22の両端に設けた脚部40により実構造物に接
して設置される。ガイドフレーム22は、正面から見る
と第2a図に示すように円弧状に形成されている。この
ガイドフレーム22上に、スキャンニング用ガイドレー
ル23がガイドフレーム22の円周方向に沿って摺動可
能な状態で支持されている。更に、ガイドレール23上
には、ラック24が、ガイドレール23に沿って摺動可
能な状態で支持されている。
X線管球6は、ホルダ41を介して、ガイドレール23
に固定されている。
に固定されている。
フィルタ12,受光ソーラスリット13および計数管1
4は、保持板27に固定されており、保持板27がラッ
ク24と結合されている。
4は、保持板27に固定されており、保持板27がラッ
ク24と結合されている。
また、ガイドレール23には駆動装置25が取り付けら
れており、駆動装置25の駆動軸に設けたピニオンギヤ
ー26が、ラック24と係合している。従って、駆動装
置25を駆動すると、ピニオンギヤー26が回転し、そ
れと係合するラック24が、ガイドレール23に沿って
相対的に移動する。即ち、保持板27が移動し、それに
伴なってフィルタ12,受光ソーラスリット13および
計数管14も移動する。
れており、駆動装置25の駆動軸に設けたピニオンギヤ
ー26が、ラック24と係合している。従って、駆動装
置25を駆動すると、ピニオンギヤー26が回転し、そ
れと係合するラック24が、ガイドレール23に沿って
相対的に移動する。即ち、保持板27が移動し、それに
伴なってフィルタ12,受光ソーラスリット13および
計数管14も移動する。
また、保持板27のノブ28を回転することにより、保
持板27に固定されたフィルタ12,受光ソーラスリッ
ト13および計数管14は、ガイドフレーム22の軸方
向に移動する。
持板27に固定されたフィルタ12,受光ソーラスリッ
ト13および計数管14は、ガイドフレーム22の軸方
向に移動する。
次に、ビーム角調整機構について説明する。第2c図に
示す取付板29が、ガイドレール23に固定されてお
り、またガイドフレーム22には、その円周方向に沿っ
て複数の穴32が形成されている。取付板29の上方2
箇所の突起部分29a,29bには、調整軸42が係合
している。即ち、突起部分29a及び29bに形成され
たねじ穴に、調整軸42に形成したねじ部42a及び4
2bがそれぞれ螺合している。調整軸42の中央部分4
2cには固定ピン31が係合しており、固定ピン31に
対して調整軸42の回転は可能であるが、固定ピン31
に対して調整軸42はその軸方向には移動できない。固
定ピン31の先端が、ガイドフレーム22に形成された
複数の穴32のいずれかに差し込まれると、ガイドレー
ル23とガイドフレーム22とが、ビーム角調整機構
(29,42,31)を介して結合される。
示す取付板29が、ガイドレール23に固定されてお
り、またガイドフレーム22には、その円周方向に沿っ
て複数の穴32が形成されている。取付板29の上方2
箇所の突起部分29a,29bには、調整軸42が係合
している。即ち、突起部分29a及び29bに形成され
たねじ穴に、調整軸42に形成したねじ部42a及び4
2bがそれぞれ螺合している。調整軸42の中央部分4
2cには固定ピン31が係合しており、固定ピン31に
対して調整軸42の回転は可能であるが、固定ピン31
に対して調整軸42はその軸方向には移動できない。固
定ピン31の先端が、ガイドフレーム22に形成された
複数の穴32のいずれかに差し込まれると、ガイドレー
ル23とガイドフレーム22とが、ビーム角調整機構
(29,42,31)を介して結合される。
固定ピン31を差し込む穴32を変更することによっ
て、ガイドレール23とガイドフレーム22との相対位
置を大まかに調整することができる。また、調整軸42
の両端に設けられたノブ30を操作して調整軸42を回
転させることにより、取付板29の突起部分29a,2
9bとねじ部42a,42bとの係合位置が変わるの
で、固定ピン31の位置、即ちガイドフレーム22に対
して取付板29が移動し、ガイドレール23とガイドフ
レーム22との相対位置が変わる。従って、ノブ30を
回転する操作により、ガイドレール23とガイドフレー
ム22との微妙な位置の調整ができる。
て、ガイドレール23とガイドフレーム22との相対位
置を大まかに調整することができる。また、調整軸42
の両端に設けられたノブ30を操作して調整軸42を回
転させることにより、取付板29の突起部分29a,2
9bとねじ部42a,42bとの係合位置が変わるの
で、固定ピン31の位置、即ちガイドフレーム22に対
して取付板29が移動し、ガイドレール23とガイドフ
レーム22との相対位置が変わる。従って、ノブ30を
回転する操作により、ガイドレール23とガイドフレー
ム22との微妙な位置の調整ができる。
このように、X線管球6はガイドレール23の移動によ
り、また計数管14などはガイドレール23の移動ある
いはラック24の移動により、それぞれガイドフレーム
22の上を移動することができる。
り、また計数管14などはガイドレール23の移動ある
いはラック24の移動により、それぞれガイドフレーム
22の上を移動することができる。
従って、固定ピン31を差し込む穴32の変更、及びノ
ブ30を回転する操作により、X線管球6のガイドフレ
ーム22上の固定位置を変更し、これによって実構造物
3に対するX線ビーム9の入射角度を任意に変えること
ができる。
ブ30を回転する操作により、X線管球6のガイドフレ
ーム22上の固定位置を変更し、これによって実構造物
3に対するX線ビーム9の入射角度を任意に変えること
ができる。
またガイドレール23上での計数管14の位置について
は、駆動装置25の駆動により調整される。駆動装置2
5は、第1図に示すものと同様の制御器15によって制
御される。これにより、任意位置に計数管14を固定で
きるのみならず可動範囲やその速度が任意に選べる。
は、駆動装置25の駆動により調整される。駆動装置2
5は、第1図に示すものと同様の制御器15によって制
御される。これにより、任意位置に計数管14を固定で
きるのみならず可動範囲やその速度が任意に選べる。
第3a図,第3b図の中には治具33を示すが、その治
具の先端が入射X線ビームの実構造物上での照射位置を
示すので、その先端と希望する測定位置とを一致させる
ことにより、任意に測定位置を選択できる。この作業は
軽便化が計られたゴニオメータを手動で動かすことによ
って容易に行える。
具の先端が入射X線ビームの実構造物上での照射位置を
示すので、その先端と希望する測定位置とを一致させる
ことにより、任意に測定位置を選択できる。この作業は
軽便化が計られたゴニオメータを手動で動かすことによ
って容易に行える。
また、治具の長さはX線管球6と実構造物3との間隔を
示すので、位置関係がずれている場合にはレベル調整機
構のノブ34を回して所定レベルに調整する。この治具
33により、実構造物3の任意位置での回折X線の測定
が迅速かつ容易にできる。
示すので、位置関係がずれている場合にはレベル調整機
構のノブ34を回して所定レベルに調整する。この治具
33により、実構造物3の任意位置での回折X線の測定
が迅速かつ容易にできる。
次に、本考案装置は次に述べるように、スリットおよび
受光部の移動機構を設けたので、従来の平行ビーム法の
外、擬集中ビーム法による測定が可能である。
受光部の移動機構を設けたので、従来の平行ビーム法の
外、擬集中ビーム法による測定が可能である。
第4a図,第4b図は本考案装置のゴニオメータの光学
系を示すが、第4a図は擬集中ビーム法のものであり、
X線源35と実構造物3との距離はX線源のサイズ(4
mm×4mm)から133mmとなり、実構造物3と受光スリ
ット38との距離は133mmとなるので、第2a図,第
2b図及び第2c図に示すノブ28を回してその距離を
調整する。この光学系では発散スリット36,37,受
光スリット38,39等も用いる。この擬集中法では平
行ビーム法において困難であった実構造物からの精密な
回折X線積分幅の測定ができる。
系を示すが、第4a図は擬集中ビーム法のものであり、
X線源35と実構造物3との距離はX線源のサイズ(4
mm×4mm)から133mmとなり、実構造物3と受光スリ
ット38との距離は133mmとなるので、第2a図,第
2b図及び第2c図に示すノブ28を回してその距離を
調整する。この光学系では発散スリット36,37,受
光スリット38,39等も用いる。この擬集中法では平
行ビーム法において困難であった実構造物からの精密な
回折X線積分幅の測定ができる。
第4b図は平行ビーム法の光学系を示す。この図では、
X線源35と実構造物3との距離が90mmであるが、特
にその距離は90mmに一致させる必要が無く、平行ビー
ム用の受光部12,13,14が管球6に当たらない程
度にノブ28を回して実構造物に接近することが回折X
線強度的に望ましい。
X線源35と実構造物3との距離が90mmであるが、特
にその距離は90mmに一致させる必要が無く、平行ビー
ム用の受光部12,13,14が管球6に当たらない程
度にノブ28を回して実構造物に接近することが回折X
線強度的に望ましい。
このように本考案装置では一つのゴニオメータで擬集中
法と平行ビーム法とが容易にできる。なおこのゴニオメ
ータは、サイズが30cm×10cm×25cmと極めて小さ
く、その重量も10kg以下と軽く出来るので可搬性や測
定時の調整のしやすさ等に優れている。さらに、ゴニオ
メータがX線発生部,計数部,制御器およびマイクロコ
ンピュータなどから20mまで離れて使用可能であるの
で実構造物の測定位置の選択が容易かつ重量物運搬の苦
労が皆無である。
法と平行ビーム法とが容易にできる。なおこのゴニオメ
ータは、サイズが30cm×10cm×25cmと極めて小さ
く、その重量も10kg以下と軽く出来るので可搬性や測
定時の調整のしやすさ等に優れている。さらに、ゴニオ
メータがX線発生部,計数部,制御器およびマイクロコ
ンピュータなどから20mまで離れて使用可能であるの
で実構造物の測定位置の選択が容易かつ重量物運搬の苦
労が皆無である。
以上で平面脚部について述べてきたが、第5a図,第5
b図,第5c図は各種の実構造物の測定例から、その脚
部を示す。第5a図は実構造物の垂直面,第5b図は球
面,第5c図はR部の脚部を示す。
b図,第5c図は各種の実構造物の測定例から、その脚
部を示す。第5a図は実構造物の垂直面,第5b図は球
面,第5c図はR部の脚部を示す。
このように本考案装置では実構造物の測定位置に適した
脚部と治具をゴニオメータにセットした後、実構造物上
あるいはその近傍でそれを任意に動かして実構造物上の
任意位置に対して任意角度で各種のX線ビーム照射し、
回折X線を測定することができる。
脚部と治具をゴニオメータにセットした後、実構造物上
あるいはその近傍でそれを任意に動かして実構造物上の
任意位置に対して任意角度で各種のX線ビーム照射し、
回折X線を測定することができる。
以上説明したように本考案の携帯用X線回折装置は軽便
化が計られ実構造物の任意位置における実働荷重や疲労
進行程度などが非破壊的に、しかも高い精度で測定出来
る。それゆえに、本考案装置は実構造物疲労破壊の寿命
予知のモニターとして利用できるのでその効果は大き
い。
化が計られ実構造物の任意位置における実働荷重や疲労
進行程度などが非破壊的に、しかも高い精度で測定出来
る。それゆえに、本考案装置は実構造物疲労破壊の寿命
予知のモニターとして利用できるのでその効果は大き
い。
第1図は従来のX線回折装置の説明図、第2a図,第2
b図及び第2c図は、それぞれ本考案の携帯用X線回折
装置に用いられる平面用脚部を備えたゴニオメータの正
面図,側面図及び裏面図、第3a図及び第3b図は、そ
れぞれ調整治具を取り付けたゴニオメータの正面図及び
側面図、第4a図は同じく集中ビーム法の光学系図、第
4b図は平行ビーム法の光学系図、第5a図は垂直面用
架台を備えたゴニオメータの正面図、第5b図は同じく
球面用架台を備えた正面図、第5c図は同じくR部用架
台を備えた正面図である。 1:アーム 3:試料または実構造物、4:自冷式送水装置 5:水冷ホース、6:X線管球 7:X線発生装置、8:高圧ケーブル 9:X線、10:ソーラスリット 11:回折X線、12:フィルター 13:受光ソーラスリット、14:計数管 15:制御器、16:増幅器 17:計数装置、18:演算装置 19:表示装置、20:リード線 21:ケイブル、22:ガイドフレーム 23:ガイドレール、24:ラック 25:駆動装置、26:ピニオンギヤー 27:保持板、28,30,34:ノブ 29:取付板、31:管球固定ピン 32:固定ピン用穴、33:治具 35:X線源、36,37:発散スリット 38,39:受光スリット、40:脚部 41:ホルダ、42:調整軸 29,30,31,32,42:ビーム角調整機構
b図及び第2c図は、それぞれ本考案の携帯用X線回折
装置に用いられる平面用脚部を備えたゴニオメータの正
面図,側面図及び裏面図、第3a図及び第3b図は、そ
れぞれ調整治具を取り付けたゴニオメータの正面図及び
側面図、第4a図は同じく集中ビーム法の光学系図、第
4b図は平行ビーム法の光学系図、第5a図は垂直面用
架台を備えたゴニオメータの正面図、第5b図は同じく
球面用架台を備えた正面図、第5c図は同じくR部用架
台を備えた正面図である。 1:アーム 3:試料または実構造物、4:自冷式送水装置 5:水冷ホース、6:X線管球 7:X線発生装置、8:高圧ケーブル 9:X線、10:ソーラスリット 11:回折X線、12:フィルター 13:受光ソーラスリット、14:計数管 15:制御器、16:増幅器 17:計数装置、18:演算装置 19:表示装置、20:リード線 21:ケイブル、22:ガイドフレーム 23:ガイドレール、24:ラック 25:駆動装置、26:ピニオンギヤー 27:保持板、28,30,34:ノブ 29:取付板、31:管球固定ピン 32:固定ピン用穴、33:治具 35:X線源、36,37:発散スリット 38,39:受光スリット、40:脚部 41:ホルダ、42:調整軸 29,30,31,32,42:ビーム角調整機構
Claims (1)
- 【請求項1】実構造物にX線ビームを照射し、該実構造
物から放射される回折X線を受光するようにした角度分
散型の携帯用X線回折装置において: ゴニオメータのガイドフレーム上に移動可能に取り付け
られたX線管球、前記ガイドフレームの両端にそれぞれ
設けられた脚部、前記X線管球と一体として形成された
ガイドレール上に移動可能に取り付けられた計数管、前
記X線管球と前記計数管の近傍に設置された交換可能な
スリット、及び前記計数管を含む受光スリット部を移動
する移動機構、を設けたことを特徴とする携帯用X線回
折装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988012682U JPH0622240Y2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 携帯用x線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988012682U JPH0622240Y2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 携帯用x線回折装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01117553U JPH01117553U (ja) | 1989-08-08 |
JPH0622240Y2 true JPH0622240Y2 (ja) | 1994-06-08 |
Family
ID=31222341
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988012682U Expired - Lifetime JPH0622240Y2 (ja) | 1988-02-02 | 1988-02-02 | 携帯用x線回折装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0622240Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017110950A (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Ihi検査計測 | 位置決め装置及び位置決め方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2003029798A1 (fr) * | 2001-09-27 | 2003-04-10 | Rigaku Corporation | Instrument de mesure des rayons x, et systeme et procede de mesure et de formation de couches minces |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5425437A (en) * | 1977-07-28 | 1979-02-26 | Suwa Seikosha Kk | Method of charging |
-
1988
- 1988-02-02 JP JP1988012682U patent/JPH0622240Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017110950A (ja) * | 2015-12-14 | 2017-06-22 | 株式会社Ihi検査計測 | 位置決め装置及び位置決め方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH01117553U (ja) | 1989-08-08 |
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