JPH06214098A - 化学除染装置 - Google Patents
化学除染装置Info
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- JPH06214098A JPH06214098A JP710593A JP710593A JPH06214098A JP H06214098 A JPH06214098 A JP H06214098A JP 710593 A JP710593 A JP 710593A JP 710593 A JP710593 A JP 710593A JP H06214098 A JPH06214098 A JP H06214098A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 必要最小限の化学除染剤を使用して廃棄物の
発生量を抑え、かつ従来の化学除染装置に比べ、高い除
染効果が得られる容器内面の化学除染装置を提供するこ
とを目的とする。 【構成】 本発明に係る化学除染装置は、回転ノズル２
を有する除染液噴射手段とバッファタンク９を有する除
染液回収手段と、循環ポンプ１０，ヒータ１１及び脱塩
塔１３を有する除染液循環手段と、除染液供給タンク１
４及び除染液注入ポンプ１５を有する除染剤調製手段と
処理設備３４に接続するドレンライン３１とから構成さ
れている。
発生量を抑え、かつ従来の化学除染装置に比べ、高い除
染効果が得られる容器内面の化学除染装置を提供するこ
とを目的とする。 【構成】 本発明に係る化学除染装置は、回転ノズル２
を有する除染液噴射手段とバッファタンク９を有する除
染液回収手段と、循環ポンプ１０，ヒータ１１及び脱塩
塔１３を有する除染液循環手段と、除染液供給タンク１
４及び除染液注入ポンプ１５を有する除染剤調製手段と
処理設備３４に接続するドレンライン３１とから構成さ
れている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は放射能汚染された容器内
面を除染する化学除染装置に関する。
面を除染する化学除染装置に関する。
【０００２】一般に、原子力発電所で発生した金属製汚
染物の除染方法として化学除染法が知られている。この
化学除染法は金属製汚染物表面の酸化物を化学薬品によ
り溶解除去する方法であり、ジェット洗浄やブラシ洗浄
等の機械的除染方法に比較して高い除染効果が得られる
という特長がある。しかし、除染対象物が容器等のよう
に除染対象表面積に比較して容積が大きくなる場合には
必要化学除染剤量に比べて大量の化学除染剤（以下除染
剤という）を使用しなければならなかった。このため、
容器内面にポリ容器等のスペーサを投入して除染剤量を
低減することが考えられた。
染物の除染方法として化学除染法が知られている。この
化学除染法は金属製汚染物表面の酸化物を化学薬品によ
り溶解除去する方法であり、ジェット洗浄やブラシ洗浄
等の機械的除染方法に比較して高い除染効果が得られる
という特長がある。しかし、除染対象物が容器等のよう
に除染対象表面積に比較して容積が大きくなる場合には
必要化学除染剤量に比べて大量の化学除染剤（以下除染
剤という）を使用しなければならなかった。このため、
容器内面にポリ容器等のスペーサを投入して除染剤量を
低減することが考えられた。
【０００３】この種の化学除染方法の一例としては、特
開昭５４ー４７１００号公報に示されるように除染対象
容器内に、予めスペーサを設置した後、水を張り、その
後除染剤を投入して化学除染液（以下除染液という）を
調製し、この除染液をポンプを用いて除染対象容器から
ヒータを介して再び除染対象容器に循環させることによ
って除染する方法があった。
開昭５４ー４７１００号公報に示されるように除染対象
容器内に、予めスペーサを設置した後、水を張り、その
後除染剤を投入して化学除染液（以下除染液という）を
調製し、この除染液をポンプを用いて除染対象容器から
ヒータを介して再び除染対象容器に循環させることによ
って除染する方法があった。
【０００４】以下、図２を参照して化学除染方法の上述
した従来例を説明する。図２は従来の化学除染方法を実
施する場合の系統構成の一例である。図２において、除
染対象容器４０内には、除染を行うためにスペーサ４１
が設置されている。この除染対象容器４０には、空気供
給設備３５から供給される空気によって駆動するエアポ
ンプ４５を用いて、除染剤が除染剤タンク４６から注入
ライン５３を介して投入される。一方、除染対象容器４
０にはポンプ４２、ヒータ４３を介して循環ライン５１
の一端が接続されており、再び除染対象容器４０の上方
に導かれている。そして、この循環ライン５１にはヒー
タ４３の上流側及び下流側に弁４７，４８が配設されて
いる。また、この循環ライン５１はポンプ４２の下流側
で、かつ弁４７の上流側にて脱塩ライン５２へ分岐して
いる。この脱塩ライン５２には途中に脱塩塔４４及び、
この脱塩塔４４の上流側及び下流側に弁４９，５０が配
設されており、他端は弁４８の下流側にて再び循環ライ
ン５１に合流している。さらに、除染対象容器４０の底
部にはドレンライン５４が設けられ、弁５５を介して処
理設備３４に導かれている。
した従来例を説明する。図２は従来の化学除染方法を実
施する場合の系統構成の一例である。図２において、除
染対象容器４０内には、除染を行うためにスペーサ４１
が設置されている。この除染対象容器４０には、空気供
給設備３５から供給される空気によって駆動するエアポ
ンプ４５を用いて、除染剤が除染剤タンク４６から注入
ライン５３を介して投入される。一方、除染対象容器４
０にはポンプ４２、ヒータ４３を介して循環ライン５１
の一端が接続されており、再び除染対象容器４０の上方
に導かれている。そして、この循環ライン５１にはヒー
タ４３の上流側及び下流側に弁４７，４８が配設されて
いる。また、この循環ライン５１はポンプ４２の下流側
で、かつ弁４７の上流側にて脱塩ライン５２へ分岐して
いる。この脱塩ライン５２には途中に脱塩塔４４及び、
この脱塩塔４４の上流側及び下流側に弁４９，５０が配
設されており、他端は弁４８の下流側にて再び循環ライ
ン５１に合流している。さらに、除染対象容器４０の底
部にはドレンライン５４が設けられ、弁５５を介して処
理設備３４に導かれている。
【０００５】このように構成された系統において、除染
対象容器４０内に張られた水は、ヒータ４３を用いて加
温され、ポンプ４２によって循環ライン５１を循環す
る。除染対象容器４０内の水温が所定の温度となった
後、除染剤をエアポンプ４５によって除染対象容器４０
内に注入する。除染対象容器４０内には予めスペーサ４
１が収容されているため、除染剤の注入量はスペーサ４
１が無い場合に比べて少なくて済む。除染対象容器４０
内で調製された除染液をポンプ４２で循環ライン５１を
介して循環させ、ヒータ４３によって除染液を所定の温
度に保ちながら除染対象容器４０の内面を除染する。除
染後、除染液は弁５５を開としてドレンライン５４を介
して処理設備３４へ移送され処理される。また、残留除
染液は、脱塩ラインに配設された弁４９，５０を開とし
て脱塩塔４４にて処理される。この化学除染方法を用い
て除染作業を行えば、除染剤の使用量が少量で済み、よ
って、廃液量が低減される。
対象容器４０内に張られた水は、ヒータ４３を用いて加
温され、ポンプ４２によって循環ライン５１を循環す
る。除染対象容器４０内の水温が所定の温度となった
後、除染剤をエアポンプ４５によって除染対象容器４０
内に注入する。除染対象容器４０内には予めスペーサ４
１が収容されているため、除染剤の注入量はスペーサ４
１が無い場合に比べて少なくて済む。除染対象容器４０
内で調製された除染液をポンプ４２で循環ライン５１を
介して循環させ、ヒータ４３によって除染液を所定の温
度に保ちながら除染対象容器４０の内面を除染する。除
染後、除染液は弁５５を開としてドレンライン５４を介
して処理設備３４へ移送され処理される。また、残留除
染液は、脱塩ラインに配設された弁４９，５０を開とし
て脱塩塔４４にて処理される。この化学除染方法を用い
て除染作業を行えば、除染剤の使用量が少量で済み、よ
って、廃液量が低減される。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来の化学除染
方法においては、除染剤の使用量が少量で済み、廃液量
が低減されるが、大量のスペーサが二次廃棄物として発
生していた。
方法においては、除染剤の使用量が少量で済み、廃液量
が低減されるが、大量のスペーサが二次廃棄物として発
生していた。
【０００７】本発明は係る従来の事情に対処してなされ
たものであり、その目的は、必要最小限の除染剤を使用
して廃棄物の発生量を抑え、かつ従来の化学除染装置に
比べ、高い除染効果が得られる容器内面の化学除染装置
を提供するものである。
たものであり、その目的は、必要最小限の除染剤を使用
して廃棄物の発生量を抑え、かつ従来の化学除染装置に
比べ、高い除染効果が得られる容器内面の化学除染装置
を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明では除染液を貯留するバッファ
タンクと、このバッファタンクに接続され除染液を圧送
する高圧ポンプを配設した噴射ホースと、この噴射ホー
スの他端に接続され除染対象容器内で除染液を噴射する
回転ノズルと、前記噴射ホースを巻回するホースリール
とから成る除染液噴射手段を有することを特徴とする化
学除染装置を提供する。
め、請求項１記載の発明では除染液を貯留するバッファ
タンクと、このバッファタンクに接続され除染液を圧送
する高圧ポンプを配設した噴射ホースと、この噴射ホー
スの他端に接続され除染対象容器内で除染液を噴射する
回転ノズルと、前記噴射ホースを巻回するホースリール
とから成る除染液噴射手段を有することを特徴とする化
学除染装置を提供する。
【０００９】また、請求項２記載の発明では、前記回転
ノズルから噴射された除染液を吸引する吸引ノズルと、
この吸引ノズルを一端に接続し他端を排水ポンプを介し
てバッファタンクに接続した回収ホースと、この回収ホ
ースを巻回するホースリールとから成る除染液回収手段
を有する化学除染装置を提供する。
ノズルから噴射された除染液を吸引する吸引ノズルと、
この吸引ノズルを一端に接続し他端を排水ポンプを介し
てバッファタンクに接続した回収ホースと、この回収ホ
ースを巻回するホースリールとから成る除染液回収手段
を有する化学除染装置を提供する。
【００１０】そして、請求項３記載の発明では、バッフ
ァタンクに循環ポンプを介してヒータが配設された除染
循環ラインを有することを特徴とする化学除染装置を提
供し、請求項４記載の発明では、バッファタンクに循環
ポンプを介して脱塩塔が配設された脱塩ラインを有する
ことを特徴とする化学除染装置を提供する。
ァタンクに循環ポンプを介してヒータが配設された除染
循環ラインを有することを特徴とする化学除染装置を提
供し、請求項４記載の発明では、バッファタンクに循環
ポンプを介して脱塩塔が配設された脱塩ラインを有する
ことを特徴とする化学除染装置を提供する。
【００１１】さらに、請求項５記載の発明では除染液を
調製し貯蔵する除染液供給タンクと、除染液を注入する
除染液注入ポンプと、この除染液注入ポンプの下流側に
配設される弁と、これらを途中に設けて連結し、端部を
除染液供給タンクに接続し、他端をバッファタンクに接
続する除染液注入ラインと、この除染液注入ラインの除
染液注入ポンプと除染液注入ポンプの下流側に配設され
る弁の間において合流し、他端を弁を介して除染液供給
タンクへ接続する調製循環ラインと、補給水供給設備か
ら弁を介して他端を除染液供給タンクに接続し、この弁
の上流側にて分岐し、弁を介して前記除染液注入ポンプ
の下流側に配設される弁の下流側に合流する補給水注入
ラインとを有する除染剤調製手段をバッファタンクに接
続して成ることを特徴とする化学除染装置を提供するも
のである。
調製し貯蔵する除染液供給タンクと、除染液を注入する
除染液注入ポンプと、この除染液注入ポンプの下流側に
配設される弁と、これらを途中に設けて連結し、端部を
除染液供給タンクに接続し、他端をバッファタンクに接
続する除染液注入ラインと、この除染液注入ラインの除
染液注入ポンプと除染液注入ポンプの下流側に配設され
る弁の間において合流し、他端を弁を介して除染液供給
タンクへ接続する調製循環ラインと、補給水供給設備か
ら弁を介して他端を除染液供給タンクに接続し、この弁
の上流側にて分岐し、弁を介して前記除染液注入ポンプ
の下流側に配設される弁の下流側に合流する補給水注入
ラインとを有する除染剤調製手段をバッファタンクに接
続して成ることを特徴とする化学除染装置を提供するも
のである。
【００１２】
【作用】上記構成の化学除染装置においては、請求項１
記載の発明では、ホースリールによって位置調整が可能
な回転ノズルを用いて、除染対象容器内面に均一に除染
液を高圧噴射することができ、化学除染と高圧ジェット
洗浄の相乗の除染効果を得ることができる。
記載の発明では、ホースリールによって位置調整が可能
な回転ノズルを用いて、除染対象容器内面に均一に除染
液を高圧噴射することができ、化学除染と高圧ジェット
洗浄の相乗の除染効果を得ることができる。
【００１３】そして、請求項２記載の発明では、ホース
リールによって位置調整が可能な吸引ノズルを用いて回
転ノズルから噴射された除染液をバッファタンクに回収
することができ、除染液を循環させて再使用することか
ら、必要以上に除染剤を使用する必要がない。
リールによって位置調整が可能な吸引ノズルを用いて回
転ノズルから噴射された除染液をバッファタンクに回収
することができ、除染液を循環させて再使用することか
ら、必要以上に除染剤を使用する必要がない。
【００１４】また、請求項３記載の発明では、バッファ
タンク内の除染液の濃度を所定の温度に保つことを可能
とし、請求項４記載の発明では、除染後、除染対象容器
内に残留している残留除染液を回収することができる。
さらに、請求項５記載の発明では除染液を調製し、バッ
ファタンクへ供給することが可能である。
タンク内の除染液の濃度を所定の温度に保つことを可能
とし、請求項４記載の発明では、除染後、除染対象容器
内に残留している残留除染液を回収することができる。
さらに、請求項５記載の発明では除染液を調製し、バッ
ファタンクへ供給することが可能である。
【００１５】
【実施例】以下に本発明の化学除染装置に係る第一の実
施例を図１に基づき説明する。
施例を図１に基づき説明する。
【００１６】図１は本発明の化学除染装置に係る第一の
実施例の構成図である。図１において、化学除染装置は
除染液を貯留するバッファタンク９と、このバッファタ
ンク９に接続され、除染液Ａを圧送する高圧ポンプ１２
を配設した噴射ホース２５を有している。この噴射ホー
ス２５には他端に、除染対象容器１内で除染液Ａを噴射
する回転ノズル２が接続され、噴射ホース２５をモータ
６によって巻回するホースリール４によってこの回転ノ
ズル２の位置調整が行われる。また、これらのバッファ
タンク９，噴射ホース２５，回転ノズル２及びホースリ
ール４とで化学除染装置の除染液噴射手段を構成してい
る。
実施例の構成図である。図１において、化学除染装置は
除染液を貯留するバッファタンク９と、このバッファタ
ンク９に接続され、除染液Ａを圧送する高圧ポンプ１２
を配設した噴射ホース２５を有している。この噴射ホー
ス２５には他端に、除染対象容器１内で除染液Ａを噴射
する回転ノズル２が接続され、噴射ホース２５をモータ
６によって巻回するホースリール４によってこの回転ノ
ズル２の位置調整が行われる。また、これらのバッファ
タンク９，噴射ホース２５，回転ノズル２及びホースリ
ール４とで化学除染装置の除染液噴射手段を構成してい
る。
【００１７】この除染液噴射手段によって噴射された除
染液Ａは、吸引ノズル３と、この吸引ノズル３を一端に
接続し、排水ポンプ８を介してバッファタンク９に接続
した回収ホース２６と、この回収ホース２６をモータ７
によって巻回するホースリール５とを有する除染液回収
手段によって回収される。回収された除染液は、高圧ポ
ンプ１２を介して再び除染対象容器１内に噴射される。
染液Ａは、吸引ノズル３と、この吸引ノズル３を一端に
接続し、排水ポンプ８を介してバッファタンク９に接続
した回収ホース２６と、この回収ホース２６をモータ７
によって巻回するホースリール５とを有する除染液回収
手段によって回収される。回収された除染液は、高圧ポ
ンプ１２を介して再び除染対象容器１内に噴射される。
【００１８】また、バッファタンク９は循環ポンプ１
０，ヒータ１１及び弁１６，１７から構成される除染循
環ライン２７を有している。そして、除染循環ライン２
７は弁１６の上流側でかつ循環ポンプ１０の下流側にお
いて脱塩塔１３と弁１８，１９を有する脱塩ライン３２
へ分岐し、この脱塩ライン３２は弁１７の下流側にて除
染循環ライン２７に接続している。また、除染循環ライ
ン２７は循環ポンプ１０の上流側にて分岐し、弁２４を
介して処理設備３４に接続するドレンライン３１を有し
ている。
０，ヒータ１１及び弁１６，１７から構成される除染循
環ライン２７を有している。そして、除染循環ライン２
７は弁１６の上流側でかつ循環ポンプ１０の下流側にお
いて脱塩塔１３と弁１８，１９を有する脱塩ライン３２
へ分岐し、この脱塩ライン３２は弁１７の下流側にて除
染循環ライン２７に接続している。また、除染循環ライ
ン２７は循環ポンプ１０の上流側にて分岐し、弁２４を
介して処理設備３４に接続するドレンライン３１を有し
ている。
【００１９】さらに、バッファタンク９には除染液Ａを
供給するために弁２１，除染液注入ポンプ１５を介し、
除染液Ａを調製し貯蔵する除染液供給タンク１４に接続
する除染液注入ライン２８が接続されている。この除染
液注入ライン２８には、弁２０を介して除染液供給タン
ク１４へ接続され、除染液注入ポンプ１５の下流側でか
つ弁２１の上流側において合流する調製循環ライン２９
が設けられている。また、除染液供給タンク１４には補
給水供給設備３３から補給水を供給する補給水注入ライ
ン３０ａが、弁２２を介して接続される。さらに、この
補給水注入ライン３０ａの弁２２の上流側にて分岐し、
直接バッファタンク９へ補給水を供給可能とするために
設けられる補給水注入ライン３０ｂが、弁２３を介して
除染液注入ライン２８に設置される弁２１の下流側にて
合流する。このように構成された化学除染装置におい
て、除染対象容器１の内面を除染する場合について説明
する。
供給するために弁２１，除染液注入ポンプ１５を介し、
除染液Ａを調製し貯蔵する除染液供給タンク１４に接続
する除染液注入ライン２８が接続されている。この除染
液注入ライン２８には、弁２０を介して除染液供給タン
ク１４へ接続され、除染液注入ポンプ１５の下流側でか
つ弁２１の上流側において合流する調製循環ライン２９
が設けられている。また、除染液供給タンク１４には補
給水供給設備３３から補給水を供給する補給水注入ライ
ン３０ａが、弁２２を介して接続される。さらに、この
補給水注入ライン３０ａの弁２２の上流側にて分岐し、
直接バッファタンク９へ補給水を供給可能とするために
設けられる補給水注入ライン３０ｂが、弁２３を介して
除染液注入ライン２８に設置される弁２１の下流側にて
合流する。このように構成された化学除染装置におい
て、除染対象容器１の内面を除染する場合について説明
する。
【００２０】まず、補給水供給設備３３から、弁２２を
開として除染液供給タンク１４に所定の水量となるまで
水を供給する。水の供給後、除染液注入ライン２８に配
設された弁２１を閉止したまま、調製循環ライン２９に
配設された弁２０を開とする。そして、除染液注入ポン
プ１５によって除染液供給タンク１４内の水を調製循環
ライン２９を介して循環させながら、化学除染剤を投入
し所定の濃度となるように調製する。
開として除染液供給タンク１４に所定の水量となるまで
水を供給する。水の供給後、除染液注入ライン２８に配
設された弁２１を閉止したまま、調製循環ライン２９に
配設された弁２０を開とする。そして、除染液注入ポン
プ１５によって除染液供給タンク１４内の水を調製循環
ライン２９を介して循環させながら、化学除染剤を投入
し所定の濃度となるように調製する。
【００２１】つぎに、補給水供給設備３３からバッファ
タンク９に所定の水量となるまで補給水注入ライン３０
ｂを介して水を供給する。この時、弁２２は閉止してお
く。水の供給後、除染循環ライン２７の弁１６，１７を
開とし、脱塩ライン３２の弁１８，１９を閉止して、循
環ポンプ１０によって水を循環させながら、ヒータ１１
によって加温し、所定の温度となるように調節する。バ
ッファタンク９内の水温が所定の温度となった後、除染
液注入ライン２８の弁２１を開として除染液Ａをバッフ
ァタンク９内に注入する。バッファタンク９内の除染液
Ａの濃度が均一になるまで除染循環ライン２７を用いて
循環させ、均一となったら除染循環ライン２７に配設さ
れた高圧ポンプ１２を起動させる。除染液Ａはバッファ
タンク９から高圧ポンプ１２を介して噴射ホース２５の
端部に接続された回転ノズル２から噴射される。除染液
Ａを噴射している間、噴射ホース２５がモータ６によっ
て駆動されるホースリール４によって昇降するため、回
転ノズル２は除染対象容器１内面全体を均一に高圧噴射
して除染することが可能である。
タンク９に所定の水量となるまで補給水注入ライン３０
ｂを介して水を供給する。この時、弁２２は閉止してお
く。水の供給後、除染循環ライン２７の弁１６，１７を
開とし、脱塩ライン３２の弁１８，１９を閉止して、循
環ポンプ１０によって水を循環させながら、ヒータ１１
によって加温し、所定の温度となるように調節する。バ
ッファタンク９内の水温が所定の温度となった後、除染
液注入ライン２８の弁２１を開として除染液Ａをバッフ
ァタンク９内に注入する。バッファタンク９内の除染液
Ａの濃度が均一になるまで除染循環ライン２７を用いて
循環させ、均一となったら除染循環ライン２７に配設さ
れた高圧ポンプ１２を起動させる。除染液Ａはバッファ
タンク９から高圧ポンプ１２を介して噴射ホース２５の
端部に接続された回転ノズル２から噴射される。除染液
Ａを噴射している間、噴射ホース２５がモータ６によっ
て駆動されるホースリール４によって昇降するため、回
転ノズル２は除染対象容器１内面全体を均一に高圧噴射
して除染することが可能である。
【００２２】除染液Ａは除染対象容器１底部に溜まる
が、その液位が所定の液位まで上昇した場合には排水ポ
ンプ８を起動し、吸引ノズル３によって除染液Ａを吸引
しバッファタンク９へ回収する。その際、吸引ノズル３
はモータ７によって駆動するホースリール５によって回
収ホース２６を巻回することによってその位置を調整す
ることが可能である。
が、その液位が所定の液位まで上昇した場合には排水ポ
ンプ８を起動し、吸引ノズル３によって除染液Ａを吸引
しバッファタンク９へ回収する。その際、吸引ノズル３
はモータ７によって駆動するホースリール５によって回
収ホース２６を巻回することによってその位置を調整す
ることが可能である。
【００２３】バッファタンク９へ回収された除染液Ａは
バッファタンク９内の除染液Ａと混合され再び高圧ポン
プ１２によって回転ノズル２より除染対象容器１内に噴
射される。除染が終了したら、除染液Ａはバッファタン
ク９へ移送され、さらにドレンライン３１の弁２４を開
としてドレンライン３１を介して処理設備３４に移送さ
れる。除染液Ａの移送終了後、ドレンライン３１の弁２
４を閉とし補給水注入ライン３０ｂの弁２３を開として
補給水供給設備３３から水を注入し、バッファタンク９
の水張りを行う。水張りの終了後、高圧ポンプ１２及び
排水ポンプ８を運転し、除染対象容器１内に残留してい
る除染液Ａを回転ノズル２から水を噴射することによっ
て洗い流しバッファタンク９に移送する。同時に、弁１
８，１９を開として循環ポンプ１０を起動し、脱塩塔１
３を用いてバッファタンク９内の残留除染液を回収す
る。
バッファタンク９内の除染液Ａと混合され再び高圧ポン
プ１２によって回転ノズル２より除染対象容器１内に噴
射される。除染が終了したら、除染液Ａはバッファタン
ク９へ移送され、さらにドレンライン３１の弁２４を開
としてドレンライン３１を介して処理設備３４に移送さ
れる。除染液Ａの移送終了後、ドレンライン３１の弁２
４を閉とし補給水注入ライン３０ｂの弁２３を開として
補給水供給設備３３から水を注入し、バッファタンク９
の水張りを行う。水張りの終了後、高圧ポンプ１２及び
排水ポンプ８を運転し、除染対象容器１内に残留してい
る除染液Ａを回転ノズル２から水を噴射することによっ
て洗い流しバッファタンク９に移送する。同時に、弁１
８，１９を開として循環ポンプ１０を起動し、脱塩塔１
３を用いてバッファタンク９内の残留除染液を回収す
る。
【００２４】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の化学除染
装置においては回転ノズル及び高圧ポンプを配設する噴
射ホースを用いて除染対象容器内面に均一に除染液を高
圧噴射することができ、化学除染と高圧ジェット洗浄の
相乗効果が得られる。また、回収ノズルによって除染液
を回収し、循環させる場合には再使用が可能であること
から、必要以上の除染液を使用する必要がない。さら
に、除染液の調製，保温，処理及び除染後の残留除染液
の回収を可能とし、除染液以外の放射性廃棄物が発生せ
ず、放射性廃棄物の発生量を低減することが可能であ
る。
装置においては回転ノズル及び高圧ポンプを配設する噴
射ホースを用いて除染対象容器内面に均一に除染液を高
圧噴射することができ、化学除染と高圧ジェット洗浄の
相乗効果が得られる。また、回収ノズルによって除染液
を回収し、循環させる場合には再使用が可能であること
から、必要以上の除染液を使用する必要がない。さら
に、除染液の調製，保温，処理及び除染後の残留除染液
の回収を可能とし、除染液以外の放射性廃棄物が発生せ
ず、放射性廃棄物の発生量を低減することが可能であ
る。
【図１】本発明に係る化学除染装置の第一の実施例の構
成図。
成図。
【図２】化学除染方法の従来例を示す系統構成図。
１…除染対象容器 ２…回転ノズル ３…吸引ノズル ４…ホースリール ５…ホースリール ６…モータ ７…モータ ８…排水ポンプ ９…バッファタンク １０…循環ポンプ １１…ヒータ １２…高圧ポンプ １３…脱塩塔 １３…脱塩塔 １４…除染液供給タンク １５…除染液注入
ポンプ １６…弁 １７…弁 １８…弁 １９…弁 ２０…弁 ２１…弁 ２２…弁 ２３…弁 ２４…弁 ２５…噴射ホース ２６…回収ホース ２７…除染循環ラ
イン ２８…除染液注入ライン ２９…調製循環ラ
イン ３０ａ，３０ｂ…補給水注入ライン ３１…ドレンライ
ン ３２…脱塩ライン ３３…補給水供給
設備 ３４…処理設備
ポンプ １６…弁 １７…弁 １８…弁 １９…弁 ２０…弁 ２１…弁 ２２…弁 ２３…弁 ２４…弁 ２５…噴射ホース ２６…回収ホース ２７…除染循環ラ
イン ２８…除染液注入ライン ２９…調製循環ラ
イン ３０ａ，３０ｂ…補給水注入ライン ３１…ドレンライ
ン ３２…脱塩ライン ３３…補給水供給
設備 ３４…処理設備
Claims (5)
- 【請求項１】 除染液を貯留するバッファタンクと、こ
のバッファタンクに接続され除染液を圧送する高圧ポン
プを配設した噴射ホースと、この噴射ホースの他端に接
続され除染対象容器内で除染液を噴射する回転ノズル
と、前記噴射ホースを巻回するホースリールとから成る
除染液噴射手段を有することを特徴とする化学除染装
置。 - 【請求項２】 前記回転ノズルから噴射された除染液を
吸引する吸引ノズルと、この吸引ノズルを一端に接続し
他端を排水ポンプを介して前記バッファタンクに接続し
た回収ホースと、この回収ホースを巻回するホースリー
ルとから成る除染液回収手段を有することを特徴とする
請求項１記載の化学除染装置。 - 【請求項３】 前記バッファタンクには循環ポンプを介
してヒータが配設された除染循環ラインを有することを
特徴とする請求項１記載の化学除染装置。 - 【請求項４】 前記バッファタンクには循環ポンプを介
して脱塩塔が配設された脱塩ラインを有することを特徴
とする請求項１記載の化学除染装置。 - 【請求項５】 除染液を調製し貯蔵する除染液供給タン
クと、除染液を注入する除染液注入ポンプと、この除染
液注入ポンプの下流側に配設される弁と、これらを途中
に設けて連結し端部を除染液供給タンクに接続し他端を
バッファタンクに接続する除染液注入ラインと、この除
染液注入ラインの除染液注入ポンプと前記除染液注入ポ
ンプの下流側に配設される弁の間において合流し他端を
弁を介して除染液供給タンクへ接続する調製循環ライン
と、補給水供給設備から弁を介して他端を除染液供給タ
ンクに接続しこの弁の上流側にて分岐し弁を介して前記
除染液注入ポンプの下流側に配設される弁の下流側に合
流する補給水注入ラインとを有する除染剤調製手段を請
求項１記載のバッファタンクに接続して成ることを特徴
とする化学除染装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP710593A JPH06214098A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | 化学除染装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP710593A JPH06214098A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | 化学除染装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06214098A true JPH06214098A (ja) | 1994-08-05 |
Family
ID=11656814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP710593A Pending JPH06214098A (ja) | 1993-01-20 | 1993-01-20 | 化学除染装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06214098A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5324485A (en) * | 1992-08-12 | 1994-06-28 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Microwave applicator for in-drum processing of radioactive waste slurry |
| CN107767982A (zh) * | 2017-10-25 | 2018-03-06 | 沈阳中科腐蚀控制工程技术有限公司 | 一种核电设施一回路放射性污染在线去污设备和方法 |
-
1993
- 1993-01-20 JP JP710593A patent/JPH06214098A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5324485A (en) * | 1992-08-12 | 1994-06-28 | Martin Marietta Energy Systems, Inc. | Microwave applicator for in-drum processing of radioactive waste slurry |
| CN107767982A (zh) * | 2017-10-25 | 2018-03-06 | 沈阳中科腐蚀控制工程技术有限公司 | 一种核电设施一回路放射性污染在线去污设备和方法 |
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