JPH0621220A - Wafer pasting apparatus - Google Patents

Wafer pasting apparatus

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Publication number
JPH0621220A
JPH0621220A JP17639592A JP17639592A JPH0621220A JP H0621220 A JPH0621220 A JP H0621220A JP 17639592 A JP17639592 A JP 17639592A JP 17639592 A JP17639592 A JP 17639592A JP H0621220 A JPH0621220 A JP H0621220A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
tape
ring
stage
pressing part
Prior art date
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Pending
Application number
JP17639592A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Seiji Terajima
政治 寺島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
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Publication of JPH0621220A publication Critical patent/JPH0621220A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To perform a pasting operation in a state that air bubbles do not exist at all by a method wherein a pressing part by which a wafer and a ring are pasted is relatively actuated spirally from the center of the wafer toward the outer circumference of the wafer in a process wherein the wafer and the ring are pasted by using a tape. CONSTITUTION:An elastic plate 2 in which a space part connected to a vacuum source is formed is provided between a porous suction-face plate and a rear plate; a vacuum force is made to act on the space part; a wafer 1 is sucker to, and held on, the suction-face plate. Then, a tape 3 together with a ring 22 is set in such a way that its adhesive face is faced with the side of the wafer 1; after that, a gap part 13 between a stage 10 and the elastic plate 2 is pressurized by a pressurization fluid; the wafer 1 is deformed to a spherical shape so as to be upward convex; a pressing part 5 is moved downward and brought into contact with the tape 3. In this state, the stage 10 is turned by a motor 19; the pressing part 5 is moved to the outer circumferential direction by a recltlinear driving source 9. Thereby, the pressing part 5 is relatively moved spirally from the central part of the tape 3 and the tape 3 is pasted on the wafer 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、ウエハをダイシング装
置に於て個別のチップに分離する際にチップが飛散する
ことを防止するためにリング(ハンドリング用の治具)
にテープを用いてウエハを固定する装置に利用できる。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ring (a jig for handling) for preventing chips from scattering when separating a wafer into individual chips in a dicing device.
It can be used for a device for fixing a wafer by using a tape.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のウエハとリングとのテープによる
ウエハ貼付け装置は、以下の三種類の方式の装置が使わ
れている。
2. Description of the Related Art As a conventional wafer sticking device using a tape of a wafer and a ring, the following three types of devices are used.

【0003】ウエハ表面を下に向けて真空吸着し、リン
グをその外周に置き、その上に粘着面を下にしてテープ
を全体を覆うようにして設置し、その上部より円筒形の
ローラを円筒面をウエハにたいして平行にしてテープと
ウエハ及びリングを押しつけて貼付ける方式の装置。ウ
エハ表面を下に向けて真空吸着し、予めテープとリング
を貼付けた状態でウエハ上部に置きローラでテープとウ
エハを押しつけて貼付ける方式、またはローラの代わり
に真空を使って貼付ける方式の装置。
Vacuum suction is performed with the surface of the wafer facing downward, a ring is placed on the outer circumference of the ring, the tape is placed on top of it with the adhesive surface facing down, and a cylindrical roller is placed from the top of the ring. A device in which the surface is parallel to the wafer and the tape, the wafer, and the ring are pressed against each other for attachment. Vacuum suction with the wafer surface facing downward, placing the tape and ring on the top of the wafer with the tape already attached, and pressing the tape and wafer with a roller to attach them, or using a vacuum instead of the roller to attach .

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術には以下に述べる課題がある。ウエハとテープとの貼
付けにおいて、気泡なく貼付けることがこの工程に置い
て重要な品質管理項目である。ウエハとテープとの間に
気泡が発生していると、ウエハをチップに分離するダイ
シング加工時に気泡部分のチップがテープに固定されて
いないため飛び散ってしまう。この為良品チップを紛失
したり、飛散したチップがダイシング装置の砥石に衝突
して砥石を破損させる。砥石が破損した状態で加工する
と、ダイシングの溝周辺にカケが発生したり、溝の深さ
が浅くなりチップ分離が不完全になり、大量の不良が発
生する。またこの不良対策として、ウエハ貼付け後作業
者が貼付け面を検査し、気泡があった場合には、この気
泡を針等を用いて小さな穴をテープにあけて押しだして
いる。
However, the above-mentioned prior art has the following problems. When sticking the wafer and the tape, sticking without air bubbles is an important quality control item in this process. If air bubbles are generated between the wafer and the tape, the chips in the air bubbles are scattered because they are not fixed to the tape during the dicing process for separating the wafer into chips. Therefore, the non-defective chip is lost, or the scattered chips collide with the grindstone of the dicing device and damage the grindstone. If the grindstone is processed in a damaged state, chipping may occur around the dicing groove, or the depth of the groove may become shallow, resulting in incomplete chip separation, resulting in a large number of defects. As a measure against this defect, an operator inspects the bonding surface after bonding the wafer, and if there is a bubble, the bubble is pushed out by making a small hole in the tape using a needle or the like.

【0005】本発明は、以上のような問題点を解決する
ものである。その目的とするところは、ウエハとテープ
とを気泡なく貼付けるウエハ貼付け装置を提供するもの
である。
The present invention solves the above problems. An object of the invention is to provide a wafer sticking device for sticking a wafer and a tape to each other without air bubbles.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】(1)ウエハをリングに
テープを用いて貼付ける工程に於て、ウエハとテープと
を貼付ける押し付け部とが相対的にウエハ中心から螺旋
状にウエハ外周に向かって動作することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] (1) In a step of attaching a wafer to a ring by using a tape, a pressing portion for attaching the wafer and the tape is relatively spirally arranged from the center of the wafer to the outer periphery of the wafer. It is characterized by working toward.

【0007】(2)ウエハを固定するテーブルにおいて
球面状にウエハを凸状になる用に固定することを特徴と
する。
(2) It is characterized in that the wafer is fixed so as to have a spherical convex shape on the table for fixing the wafer.

【0008】(3)使用する粘着テープにおいて全面に
微細な穴があることを特徴とする。
(3) The adhesive tape used is characterized by having fine holes on the entire surface.

【0009】[0009]

【実施例】以下実施例に基づいて本発明を詳しく説明す
る。先ず各部の機能について説明する。図1は本発明の
構成図である。ウエハ1は弾性板2に真空にて固定され
ている。図2はこの弾性板2の断面図を示したものであ
る。
EXAMPLES The present invention will be described in detail based on the following examples. First, the function of each unit will be described. FIG. 1 is a block diagram of the present invention. The wafer 1 is fixed to the elastic plate 2 by vacuum. FIG. 2 shows a sectional view of the elastic plate 2.

【0010】弾性板2は、吸着面板2aと裏面板2bと
スペーサ2cとから構成されている。空間2fは吸着面
板2aと裏面板2b及びスペーサ2cより弾性板2内に
形成された外部と遮断された空間である。真空導入口2
dは外部の真空源より配管にて接続される。吸着面板2
aにはウエハ1を吸着するための吸着口2eがある。ウ
エハ1の吸着は、外部の真空源より真空導入口2d、空
間2f、吸着口2eを介して行なう。ウエハ1を脱着す
るときは前記経路を外部真空源から遮断し、大気圧以上
に戻すことにより吸着力を失う。真空導入経路21は弾
性板2の真空導入口2dに接続して、外部の真空源と配
管A25により接続されている。この弾性板2はステー
ジ10に対して固定リング11にて周囲を挟み込みねじ
等で固定されている。この状態でステージ10と弾性板
2との隙間部13を加圧するとウエハ1は図に示すごと
く球面状に上部に凸状に変形する。
The elastic plate 2 is composed of a suction face plate 2a, a back face plate 2b and a spacer 2c. The space 2f is a space formed inside the elastic plate 2 and shielded from the outside by the suction face plate 2a, the back face plate 2b, and the spacer 2c. Vacuum inlet 2
d is connected by a pipe from an external vacuum source. Adsorption face plate 2
A has an adsorption port 2e for adsorbing the wafer 1. Adsorption of the wafer 1 is performed from an external vacuum source via the vacuum inlet 2d, the space 2f, and the adsorption port 2e. When the wafer 1 is desorbed, the suction force is lost by shutting off the path from the external vacuum source and returning it to atmospheric pressure or higher. The vacuum introduction path 21 is connected to the vacuum introduction port 2d of the elastic plate 2 and is connected to an external vacuum source by a pipe A25. The elastic plate 2 is fixed to the stage 10 with screws or the like by sandwiching the periphery with a fixing ring 11. When pressure is applied to the gap 13 between the stage 10 and the elastic plate 2 in this state, the wafer 1 is deformed into a spherical shape and an upward convex shape as shown in the figure.

【0011】図3は、ステージ10の断面図を示したも
のである。前記の隙間部13の加圧は、ステージ10に
形成されている加圧導入経路12と加圧導入経路12に
接続されている配管B20を介して外部の加圧源に接続
され行なわれる。このステージ10は軸受け部14によ
り支持されている。軸受け部14の下部にはプーリA1
6がステージ10に固定されている。ステージ10回転
用のモータ19は固定板18により装置に固定されてい
る。モータ19の軸端にはプーリB17が固定されてい
る。プーリA16とプーリB17とはベルト15により
回転連結されている。テープ3とリング22はステージ
10上に置かれている。テープ3の粘着面は下方向を向
いている。即ちウエハ1の裏面と貼付くように置かれて
いる。このテープ3には無数に小さな穴4があいてい
る。押し付け部5は軸6を介してスライド部24に固定
されている。スライド部24はレール23に沿って移動
する。軸6はバネ7によりスライド部24に対して上下
方向に可動出来る構造になっている。即ち押し付け部5
の押し付け力の制御をこのバネ7によつて行なうことが
出来るようになっている。スライド部24は連結軸8に
より直線駆動源9に連結している。
FIG. 3 is a sectional view of the stage 10. The pressurization of the gap 13 is performed by being connected to an external pressure source via a pressure introducing path 12 formed in the stage 10 and a pipe B20 connected to the pressure introducing path 12. The stage 10 is supported by the bearing portion 14. A pulley A1 is provided below the bearing portion 14.
6 is fixed to the stage 10. A motor 19 for rotating the stage 10 is fixed to the apparatus by a fixing plate 18. A pulley B17 is fixed to the shaft end of the motor 19. The pulley A16 and the pulley B17 are rotationally connected by the belt 15. The tape 3 and the ring 22 are placed on the stage 10. The adhesive surface of the tape 3 faces downward. That is, it is placed so as to be attached to the back surface of the wafer 1. The tape 3 has innumerable small holes 4. The pressing portion 5 is fixed to the slide portion 24 via the shaft 6. The slide portion 24 moves along the rail 23. The shaft 6 has a structure that can be moved vertically with respect to the slide portion 24 by a spring 7. That is, the pressing portion 5
The spring 7 can be used to control the pressing force of. The slide portion 24 is connected to the linear drive source 9 by the connecting shaft 8.

【0012】さて本発明貼付け装置に於ける一連の作業
の流れを説明する。ウエハ1は弾性板2上に置かれ、吸
着面板2aに真空吸着される。一方テープ3はリング2
2と共に粘着面をウエハ1側にしてセットする。次にス
テージ10の隙間部13を加圧してウエハ1を球面状に
凸状に反らせる。この状態で押し付け部5がテープ3に
接触する。この後、ステージ10をモータ19により回
転させる。ステージ10回転後、押し付け部5は直線駆
動源9により、ウエハ1の中心部よりウエハ1の外周部
まで移動する。この時のウエハ1及びテープ3と押し付
け部5との相対的軌跡は螺旋状となる。押し付け部5が
ウエハ1の外周部に移動後押し付け部5は逆の軌跡でウ
エハ1の中心部に戻り貼付けが終了する。本発明の特徴
である、ウエハ1と押し付け部5との螺旋状の軌跡及び
ウエハ1の球面状の凸状の固定により、ウエハ1の中心
部よりテープ3との貼付けが始まり外周部に向かって進
行する事によりウエハ1とテープ3との間に気泡が発生
しにくくなる。即ちウエハ1とテープ3との間にある気
体は常に貼付けの外部に向かって押し出されるように排
出される為である。ウエハ1の凸状の反りに対して押し
付け部5との間隔の変化に対してはバネ7により予め押
し付け部5を上部に変位させて置くことにより吸収でき
る用になっている。またもしもウエハ1とテープ3との
間に気泡が発生しても、本発明で使うテープ3に構成さ
れている無数の小さな穴4により、押し付け部5がウエ
ハ1とテープ3とを貼付ける時にこの穴4を通じて外部
に押し出す。又押し付け部がウエハ1外周部から再度ウ
エハ1中心に戻ってくる動作により、ウエハ1とテープ
3との間に残っているわずかな気泡もこの穴4により完
全に外部押し出すことが出来る。
Now, the flow of a series of operations in the sticking apparatus of the present invention will be described. The wafer 1 is placed on the elastic plate 2 and is vacuum-sucked by the suction face plate 2a. On the other hand, tape 3 is ring 2
The adhesive surface is set with the wafer 2 on the wafer 1 side. Next, the gap 13 of the stage 10 is pressed to warp the wafer 1 into a spherical convex shape. In this state, the pressing portion 5 contacts the tape 3. Then, the stage 10 is rotated by the motor 19. After the rotation of the stage 10, the pressing unit 5 is moved from the central portion of the wafer 1 to the outer peripheral portion of the wafer 1 by the linear drive source 9. At this time, the relative locus between the wafer 1 and the tape 3 and the pressing portion 5 has a spiral shape. After the pressing portion 5 moves to the outer peripheral portion of the wafer 1, the pressing portion 5 returns to the central portion of the wafer 1 with a reverse trajectory, and the attachment is completed. Due to the spiral locus between the wafer 1 and the pressing portion 5 and the spherical convex fixing of the wafer 1, which are the features of the present invention, the attachment of the tape 3 from the central portion of the wafer 1 starts toward the outer peripheral portion. By proceeding, bubbles are less likely to be generated between the wafer 1 and the tape 3. That is, the gas between the wafer 1 and the tape 3 is always discharged so as to be pushed out toward the outside of the attachment. A change in the distance between the convex warp of the wafer 1 and the pressing portion 5 can be absorbed by previously displacing the pressing portion 5 upward by the spring 7. Even if air bubbles are generated between the wafer 1 and the tape 3, the pressing portion 5 attaches the wafer 1 and the tape 3 to each other by the numerous small holes 4 formed in the tape 3 used in the present invention. It is pushed out through this hole 4. Further, by the operation of the pressing portion returning from the outer peripheral portion of the wafer 1 to the center of the wafer 1 again, even the slight air bubbles remaining between the wafer 1 and the tape 3 can be completely pushed out by the hole 4.

【0013】[0013]

【発明の効果】本発明のウエハ貼付け装置によりウエハ
をテープに張り付ける工程に於て、気泡が全く無い状態
で貼付けることが出来る。この結果、貼付け後に作業者
が気泡の有無の確認、気泡を外に出す作業が無くなる。
またチップ分離を行なうダイシング作業に於て、気泡に
よるチップ飛びが無くなり、砥石の損傷がなくチップ分
離加工が品質的にも安定して行なうことが出来る。これ
らに効果により作業効率の向上と歩留まり向上の大きな
効果がでる。
According to the wafer sticking apparatus of the present invention, in the step of sticking a wafer to a tape, the wafer can be stuck without any bubbles. As a result, there is no need for the operator to confirm the presence or absence of air bubbles and remove the air bubbles after the application.
Further, in the dicing operation for chip separation, chip fly due to bubbles is eliminated, the grindstone is not damaged, and the chip separation process can be stably performed in terms of quality. Due to these effects, work efficiency and yield can be greatly improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の構成図である。FIG. 1 is a configuration diagram of the present invention.

【図2】本発明の弾性板の断面図である。FIG. 2 is a sectional view of an elastic plate of the present invention.

【図3】本発明のステージの断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of the stage of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウエハ 2 弾性板 2a 吸着面板 2b 裏面板 2c スペーサ 2d 真空導入口 2e 吸着口 2f 空間 3 テープ 4 穴 5 押し付け部 6 軸 7 バネ 8 連結軸 9 直線駆動源 10 ステージ 11 固定リング 12 加圧導入経路 13 隙間部 14 軸受け部 15 ベルト 16 プーリA 17 プーリB 18 固定板 19 モータ 20 配管B 21 真空導入経路 22 リング 23 レール 24 スライド部 25 配管A 1 wafer 2 elastic plate 2a suction face plate 2b back plate 2c spacer 2d vacuum inlet 2e suction port 2f space 3 tape 4 hole 5 pressing part 6 axis 7 spring 8 connecting shaft 9 linear drive source 10 stage 11 fixing ring 12 pressure introduction path 13 Gap 14 Bearing 15 Belt 16 Pulley A 17 Pulley B 18 Fixing plate 19 Motor 20 Piping B 21 Vacuum introduction path 22 Ring 23 Rail 24 Slide section 25 Piping A

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ウエハとリングとをテープを用いて貼付
ける工程に於て、ウエハとテープとを貼付ける押し付け
部とが相対的にウエハ中心から螺旋状にウエハ外周に向
かって動作することを特徴とするウエハ張付け装置。
1. A step of attaching a wafer and a ring using a tape, wherein a pressing portion for attaching the wafer and the tape is moved relative to the wafer center in a spiral shape toward the outer periphery of the wafer. Characteristic wafer sticking device.
【請求項2】 ウエハを固定するテーブルにおいて球面
状にウエハを凸状になる用に固定することを特徴とする
ウエハ貼付け装置。
2. A wafer sticking device, wherein a wafer is fixed so that the wafer has a spherical convex shape on a table for fixing the wafer.
【請求項3】 請求項1記載のテープにおいて全面に微
細な穴があることを特徴とするウエハ貼付け装置。
3. The wafer sticking device according to claim 1, wherein the tape has fine holes all over its surface.
JP17639592A 1992-07-03 1992-07-03 Wafer pasting apparatus Pending JPH0621220A (en)

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