JPH06211997A - 層エレメントおよびその製造方法 - Google Patents
層エレメントおよびその製造方法Info
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- JPH06211997A JPH06211997A JP19456293A JP19456293A JPH06211997A JP H06211997 A JPH06211997 A JP H06211997A JP 19456293 A JP19456293 A JP 19456293A JP 19456293 A JP19456293 A JP 19456293A JP H06211997 A JPH06211997 A JP H06211997A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 LB層のフレレン含有量を増加し、そしてそ
のような層系の熱安定性を向上させる方法を提供する。 【構成】 フレレンと両親媒性化合物との混合物を水面
に広げ、ラングミュア−ブロジェット法によって基材へ
移す、層エレメントの製造方法であって、重合体化合物
である両親媒性化合物を用いることを含む上記の方法お
よびこのようにして得た層エレメントを特徴とする。
のような層系の熱安定性を向上させる方法を提供する。 【構成】 フレレンと両親媒性化合物との混合物を水面
に広げ、ラングミュア−ブロジェット法によって基材へ
移す、層エレメントの製造方法であって、重合体化合物
である両親媒性化合物を用いることを含む上記の方法お
よびこのようにして得た層エレメントを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、両親媒性分子および1
種のフレレンの少なくとも1つの規則的に配列された単
分子層を含む層エレメント、およびラングミュア−ブロ
ジェット移動法を用いてこの層エレメントを製造する方
法に関する。
種のフレレンの少なくとも1つの規則的に配列された単
分子層を含む層エレメント、およびラングミュア−ブロ
ジェット移動法を用いてこの層エレメントを製造する方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】上記の方法はヨーロッパ特許出願公開第
0 432 619号および米国特許第4,772,8
56号に記載されている。
0 432 619号および米国特許第4,772,8
56号に記載されている。
【0003】C60フレレンが水/空気界面上に硬質膜を
形成することはすでに知られている。これらの膜を通例
のようにラングミュア−ブロジェット法で垂直に浸した
物質に移すことは不可能である。少なくとも一部が多層
のものが水面に形成されるようである。フレレンLB膜
の移動特性は、フレレンを両親媒性化合物であるイコサ
ン酸と混合することによって改良される(タカヨシ ナ
カムラ等、Langmuir 1992、第8巻、第1
号)。都合の悪いことには、オメガトリコセン酸を用い
たイン−ハウス試験によると、単分子層に混合すること
ができるフレレンの量は約50重量%に限られ、このよ
うにして製造された膜の熱安定性は低い。電子系が強く
非局在化しているため、フレレンは共役重合体と同様な
非線形光学特性を示す。それらは高いχ(3)値を有
し、そのためそれらは光学振動数を3倍にする装置に理
想的なほど適したものとなる。フレレン含有LB層の場
合、フレレン含有量が高いほど適したものとなる。これ
らをより広範囲に用いるものにする場合、層が一定の最
低熱安定度を有する必要がある。
形成することはすでに知られている。これらの膜を通例
のようにラングミュア−ブロジェット法で垂直に浸した
物質に移すことは不可能である。少なくとも一部が多層
のものが水面に形成されるようである。フレレンLB膜
の移動特性は、フレレンを両親媒性化合物であるイコサ
ン酸と混合することによって改良される(タカヨシ ナ
カムラ等、Langmuir 1992、第8巻、第1
号)。都合の悪いことには、オメガトリコセン酸を用い
たイン−ハウス試験によると、単分子層に混合すること
ができるフレレンの量は約50重量%に限られ、このよ
うにして製造された膜の熱安定性は低い。電子系が強く
非局在化しているため、フレレンは共役重合体と同様な
非線形光学特性を示す。それらは高いχ(3)値を有
し、そのためそれらは光学振動数を3倍にする装置に理
想的なほど適したものとなる。フレレン含有LB層の場
合、フレレン含有量が高いほど適したものとなる。これ
らをより広範囲に用いるものにする場合、層が一定の最
低熱安定度を有する必要がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従って、LB層のフレ
レン含有量を増加し、そしてそのような層系の熱安定性
を向上させる方法を提供することが本発明の目的であ
る。
レン含有量を増加し、そしてそのような層系の熱安定性
を向上させる方法を提供することが本発明の目的であ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】フレレンと両親媒性化合
物との混合物を水面に広げ、ラングミュア−ブロジェッ
ト法によって基材へ移す層エレメントの製法をこのたび
見いだした。この方法では、使用する両親媒性化合物は
重合体化合物、例えばポリグルタミン酸エステルおよび
トリメチルシリルセルロースである。使用する両親媒性
ポリメタクリル酸誘導体は式I
物との混合物を水面に広げ、ラングミュア−ブロジェッ
ト法によって基材へ移す層エレメントの製法をこのたび
見いだした。この方法では、使用する両親媒性化合物は
重合体化合物、例えばポリグルタミン酸エステルおよび
トリメチルシリルセルロースである。使用する両親媒性
ポリメタクリル酸誘導体は式I
【化2】 (式中、kは0ないし10の整数であり、R2はC1−C
24アルキル基であり、R3はC8−C24アルキル基であ
り、但し、基R2およびR3は異なる数の炭素原子を含
む)の単量体メタクリル酸エステルから誘導されるのが
好ましい。使用するのが好ましいフレレンと両親媒性重
合体との混合物は少なくとも10重量%、特に少なくと
も40重量%のフレレンを含有するのが好ましい。式I
から誘導した重合体の場合、55−70重量%のフレレ
ンを、両親媒性重合体とフレレンとの混合物の製造に用
いるのが好ましく、そのため、層エレメントの単分子層
も少なくとも一部は55−70重量%のフレレンを含有
する(残部は重合体両親媒性化合物)。使用するフレレ
ンは化合物C60および/または化合物C70である。
24アルキル基であり、R3はC8−C24アルキル基であ
り、但し、基R2およびR3は異なる数の炭素原子を含
む)の単量体メタクリル酸エステルから誘導されるのが
好ましい。使用するのが好ましいフレレンと両親媒性重
合体との混合物は少なくとも10重量%、特に少なくと
も40重量%のフレレンを含有するのが好ましい。式I
から誘導した重合体の場合、55−70重量%のフレレ
ンを、両親媒性重合体とフレレンとの混合物の製造に用
いるのが好ましく、そのため、層エレメントの単分子層
も少なくとも一部は55−70重量%のフレレンを含有
する(残部は重合体両親媒性化合物)。使用するフレレ
ンは化合物C60および/または化合物C70である。
【0006】本発明はさらに、層エレメントのための自
由基材上の、フレレン含有両親媒性分子の少なくとも1
つの規則的に配列された単分子層を含む層エレメントに
関する。層エレメントの単分子層の組成は、その製造に
使用したフレレンと重合体両親媒性化合物との混合物の
組成と同じである。本発明の層エレメントの特徴は、両
親媒性分子が重合体化合物、特にポリメタクリル酸エス
テル誘導体、好ましくはIの重合によって形成された重
合体であることである。そのフレレン含有量が少なくと
も50%であると、層エレメントは光学振動数を3倍に
するのに適している。フレレン濃度を増加させると、χ
(3)の増加は直線的増加以上となる。光学的用途の場
合、高いχ(3)が好ましい。適当な層エレメントは少
なくとも2つのフレレン含有単分子層を受け入れるのが
好ましい。少なくとも50のフレレン含有層、特に10
0−200のそのような層であると好ましい。適した基
材はどのような固体のものでもよく、好ましくは寸法安
定性の、各種材料で製造された基体が好ましい。基材と
して働く基体は、例えば、透明なまたは透明ではない、
導電体または絶縁体である。基板は疎水性でも親水性で
もよい。LB層を施す基板表面は撥水性になっていても
よい。被覆する基体表面は、薄い配列層の形成を妨げな
いようにできるだけ純粋でなければならない。特に、被
覆する基体表面上に表面活性剤が存在すると、層の形成
を損なうことになる。LB膜を施す前に、基材として働
く基体の被覆表面上に、例えば膜の基体への接着を向上
させるために中間層を施すことができる。
由基材上の、フレレン含有両親媒性分子の少なくとも1
つの規則的に配列された単分子層を含む層エレメントに
関する。層エレメントの単分子層の組成は、その製造に
使用したフレレンと重合体両親媒性化合物との混合物の
組成と同じである。本発明の層エレメントの特徴は、両
親媒性分子が重合体化合物、特にポリメタクリル酸エス
テル誘導体、好ましくはIの重合によって形成された重
合体であることである。そのフレレン含有量が少なくと
も50%であると、層エレメントは光学振動数を3倍に
するのに適している。フレレン濃度を増加させると、χ
(3)の増加は直線的増加以上となる。光学的用途の場
合、高いχ(3)が好ましい。適当な層エレメントは少
なくとも2つのフレレン含有単分子層を受け入れるのが
好ましい。少なくとも50のフレレン含有層、特に10
0−200のそのような層であると好ましい。適した基
材はどのような固体のものでもよく、好ましくは寸法安
定性の、各種材料で製造された基体が好ましい。基材と
して働く基体は、例えば、透明なまたは透明ではない、
導電体または絶縁体である。基板は疎水性でも親水性で
もよい。LB層を施す基板表面は撥水性になっていても
よい。被覆する基体表面は、薄い配列層の形成を妨げな
いようにできるだけ純粋でなければならない。特に、被
覆する基体表面上に表面活性剤が存在すると、層の形成
を損なうことになる。LB膜を施す前に、基材として働
く基体の被覆表面上に、例えば膜の基体への接着を向上
させるために中間層を施すことができる。
【0007】基体に用いることができる材料の例は、
金、白金、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、クロ
ム、ニオブ、タンタル、チタン、鋼等のような金属であ
る。基体に適した他の材料はプラスチック、例えばポリ
エチレンテレフタレートまたはポリブチレンテレフタレ
ートのようなポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレ
ンまたはポリプロピレンである。
金、白金、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、クロ
ム、ニオブ、タンタル、チタン、鋼等のような金属であ
る。基体に適した他の材料はプラスチック、例えばポリ
エチレンテレフタレートまたはポリブチレンテレフタレ
ートのようなポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化
ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリエチレ
ンまたはポリプロピレンである。
【0008】同様に、半導体、例えば珪素またはゲルマ
ニウム、ガラス、二酸化珪素、セラミック材料またはセ
ルロース生成物も基体に適した材料である。必要なら
ば、ガラスまたは他の親水性の表面をそれ自体公知の方
法で、例えばアルキルシランまたはヘキサメチルジシラ
ザンと反応させることによって、撥水性にしてもよい。
基体材料の選択は主に、本発明の膜から製造された層エ
レメントの使用目的によって決められる。光学エレメン
トの場合、透明で光透過性の物質を基材として用いるの
が通例である。本発明の層エレメントを例えば電気工学
または電気化学プロセスに用いる場合、基体として働く
材料は特に金属または、例えばプラスチックシート上
の、金属フィルムのような導電性材料である。
ニウム、ガラス、二酸化珪素、セラミック材料またはセ
ルロース生成物も基体に適した材料である。必要なら
ば、ガラスまたは他の親水性の表面をそれ自体公知の方
法で、例えばアルキルシランまたはヘキサメチルジシラ
ザンと反応させることによって、撥水性にしてもよい。
基体材料の選択は主に、本発明の膜から製造された層エ
レメントの使用目的によって決められる。光学エレメン
トの場合、透明で光透過性の物質を基材として用いるの
が通例である。本発明の層エレメントを例えば電気工学
または電気化学プロセスに用いる場合、基体として働く
材料は特に金属または、例えばプラスチックシート上
の、金属フィルムのような導電性材料である。
【0009】本発明の膜用基材として働く物質は使用目
的によってどのような好ましい形であってもよい。例え
ば、フィルム、シート、プレート、テープの形またはま
た円筒形でもよく、あるいは他の好ましい形から選択し
てもよい。一般に、それらの基材は平らな基体、例えば
フィルム、シート、プレート、テープ等である。被覆す
る基体表面は、LB膜の製造の場合通例そうであるよう
に、滑らかであるのが好ましい。平らな基体の場合、本
発明の膜は基体表面の片方または両方に施すことができ
る。
的によってどのような好ましい形であってもよい。例え
ば、フィルム、シート、プレート、テープの形またはま
た円筒形でもよく、あるいは他の好ましい形から選択し
てもよい。一般に、それらの基材は平らな基体、例えば
フィルム、シート、プレート、テープ等である。被覆す
る基体表面は、LB膜の製造の場合通例そうであるよう
に、滑らかであるのが好ましい。平らな基体の場合、本
発明の膜は基体表面の片方または両方に施すことができ
る。
【0010】ラングミュア−ブロジェット法の特徴は、
水に不溶性の分子(主に両親媒性単量体/重合体物質)
を溶液(濃度:1mg/ml)から水面に広げることで
ある。溶媒を蒸発させ;配列した2次元膜を圧縮するこ
とによりつくる。基体(例えば、珪素)を水/空気の界
面を通して連続的に浸すことによって、約2−6nmの
厚み増分で定められた厚さの多層を形成することが可能
である。
水に不溶性の分子(主に両親媒性単量体/重合体物質)
を溶液(濃度:1mg/ml)から水面に広げることで
ある。溶媒を蒸発させ;配列した2次元膜を圧縮するこ
とによりつくる。基体(例えば、珪素)を水/空気の界
面を通して連続的に浸すことによって、約2−6nmの
厚み増分で定められた厚さの多層を形成することが可能
である。
【0011】従来の低分子量両親媒性化合物、例えばオ
メガ−トリコセン酸またはアラキン酸と較べて、使用し
た重合体両親媒性化合物は、改良された移動性、より低
い欠陥密度および高い熱安定性を有する膜をもたらす。
メガ−トリコセン酸またはアラキン酸と較べて、使用し
た重合体両親媒性化合物は、改良された移動性、より低
い欠陥密度および高い熱安定性を有する膜をもたらす。
【0012】フレレン/重合体混合層は特に、LB法に
通例のY被覆によって基体に移動させることができる。
通例のY被覆によって基体に移動させることができる。
【0013】本発明の層エレメントが光透過性基材を含
んでいる場合、フレレン層中の光透過は光の流れの増加
と共に減少するので、これらは光学リミッターとして適
している。
んでいる場合、フレレン層中の光透過は光の流れの増加
と共に減少するので、これらは光学リミッターとして適
している。
【0014】本発明の層エレメントが導電性基材(例え
ば、基材上に蒸着させたITO層)を含む場合、これら
発光ダイオードの製造に用いることができる。最上層に
カバー電極を取り付け、そして基材と電極との間に電圧
を加えた後、フレレン含有層を電圧発光させることがで
きる。
ば、基材上に蒸着させたITO層)を含む場合、これら
発光ダイオードの製造に用いることができる。最上層に
カバー電極を取り付け、そして基材と電極との間に電圧
を加えた後、フレレン含有層を電圧発光させることがで
きる。
【0015】本発明を以下の実施例によって説明する。
【0016】
実施例1 まず、kが0であり、R2がn−オクタデシル基および
R3がエチル基である式Iの単量体を合成した。これか
ら単独重合によって以下の式(II)の重合体を得た。
R3がエチル基である式Iの単量体を合成した。これか
ら単独重合によって以下の式(II)の重合体を得た。
【0017】
【化3】 図1は、II−フレレン重量比が3:1(”2”)および
1:1(”3”)のIIおよびフレレン(75重量%のC
60、25重量%のC70)の混合物の等温線を示す図であ
る。等温線1は純粋な化合物IIのものであり、等温線4
は純粋なフレレンのものである。等温線の形は、フレレ
ン含有量が減少すると共に重合体(II)の影響が大きく
なることをはっきりと示している。
1:1(”3”)のIIおよびフレレン(75重量%のC
60、25重量%のC70)の混合物の等温線を示す図であ
る。等温線1は純粋な化合物IIのものであり、等温線4
は純粋なフレレンのものである。等温線の形は、フレレ
ン含有量が減少すると共に重合体(II)の影響が大きく
なることをはっきりと示している。
【0018】実施例2 図2は、重合体II50重量%およびフレレン50重量%
を含む移動層の混合膜の様々な層厚みの場合の吸収スペ
クトルを示す図である。層の厚みは40nm、100n
mおよび200nmであり、これは20、50および1
00単分子層に相当する。
を含む移動層の混合膜の様々な層厚みの場合の吸収スペ
クトルを示す図である。層の厚みは40nm、100n
mおよび200nmであり、これは20、50および1
00単分子層に相当する。
【0019】厚さの増加に伴う吸収の増加は、単層膜の
被覆の品質の目安となる。340、265および220
nmにおけるUVの3つのバンド全ての吸収と膜の厚さ
との間の直線関係は十分に満たされている。このことか
ら、再現性のある被覆を行うことができ、そしてLB膜
のフレレン分子の微視的環境は単分子層の数の増加に伴
って変化せずそのままであることが分かる。
被覆の品質の目安となる。340、265および220
nmにおけるUVの3つのバンド全ての吸収と膜の厚さ
との間の直線関係は十分に満たされている。このことか
ら、再現性のある被覆を行うことができ、そしてLB膜
のフレレン分子の微視的環境は単分子層の数の増加に伴
って変化せずそのままであることが分かる。
【0020】図3は、フレレン濃度がそれぞれ異なる5
0の単分子層を含む混合膜の吸収スペクトルを示す。
0の単分子層を含む混合膜の吸収スペクトルを示す。
【0021】フレレン含有量の増加に伴う吸収の増加は
直線的な増加以上である。これは、フレレン含有量の増
加に伴う単分子層の厚さの増加によるものである。
直線的な増加以上である。これは、フレレン含有量の増
加に伴う単分子層の厚さの増加によるものである。
【0022】図5は、小角X線散乱の測定から判定した
フレレン濃度を関数とした層の厚さの増加を示す。
フレレン濃度を関数とした層の厚さの増加を示す。
【0023】実施例3 移動層中のフレレン濃度が0、10、30、50および
70重量%の試料について、振動数を3倍にする測定を
行った。残部は重合体IIからなっていた。実施例1から
のフレレン混合物を用いた。バックミンスターフレレン
(buckminsterfullerene)のよう
な中心対称材料では、誘導重合は以下の式で説明され
る: P=ε0χ(3)E3 (式中、χ(3)は3次非線形磁化率であり、Eはレーザ
ーパルスに用いた電界であり、ε0は電界定数であ
る)。3次非線形磁化率を測定するための装置の実験構
成は、例えばP.N.プラサッド、D.J.ウイリアム
スのIntroduction to Nonline
ar Optical Effects inMole
cules and Polymers、ジョン ウイ
リー、1991、p.202から当業者には公知であ
る。
70重量%の試料について、振動数を3倍にする測定を
行った。残部は重合体IIからなっていた。実施例1から
のフレレン混合物を用いた。バックミンスターフレレン
(buckminsterfullerene)のよう
な中心対称材料では、誘導重合は以下の式で説明され
る: P=ε0χ(3)E3 (式中、χ(3)は3次非線形磁化率であり、Eはレーザ
ーパルスに用いた電界であり、ε0は電界定数であ
る)。3次非線形磁化率を測定するための装置の実験構
成は、例えばP.N.プラサッド、D.J.ウイリアム
スのIntroduction to Nonline
ar Optical Effects inMole
cules and Polymers、ジョン ウイ
リー、1991、p.202から当業者には公知であ
る。
【0024】調和信号を、ビーム軸に対する試料の回転
角の関数として伝送モードに記録した。平行基準ブラン
チ(reference branch)をレーザー強
度のパルス間の変動の補正に用いた。調和強度の目盛り
付けは、膜のない石英ガラス基板を測定することによっ
て行う。
角の関数として伝送モードに記録した。平行基準ブラン
チ(reference branch)をレーザー強
度のパルス間の変動の補正に用いた。調和強度の目盛り
付けは、膜のない石英ガラス基板を測定することによっ
て行う。
【0025】非線形光学磁化率を正確に測定するため
に、基本および調和振動数での屈折率を知らなければな
らない。層の厚さは小角X線散乱によって測定した。そ
れはフレレン含有量の増加に伴って増加する(図5参
照)。1,064nmおよび154nmでの屈折率は直
接測定するのが難しいので、クラマース−クローニッヒ
分析を実施した。屈折率が、例えば楕円偏向測定で63
3nmにおける、振動数で測定することができる限り、
この方法では屈折率を吸収スペクトルから突き止めるこ
とができる(残部:重合体II)。図4は、χ(3)率がフ
レレン含有物上の3光子共鳴によって変わることを示し
ている。
に、基本および調和振動数での屈折率を知らなければな
らない。層の厚さは小角X線散乱によって測定した。そ
れはフレレン含有量の増加に伴って増加する(図5参
照)。1,064nmおよび154nmでの屈折率は直
接測定するのが難しいので、クラマース−クローニッヒ
分析を実施した。屈折率が、例えば楕円偏向測定で63
3nmにおける、振動数で測定することができる限り、
この方法では屈折率を吸収スペクトルから突き止めるこ
とができる(残部:重合体II)。図4は、χ(3)率がフ
レレン含有物上の3光子共鳴によって変わることを示し
ている。
【0026】χ(3)率には約10%の誤差があり、これ
は誤差限界の範囲内で理論的に予想される曲線の形に一
致する直線上にある。100重量%へ外挿すると、純粋
なフレレン層のχ(3)値に対して2×10-10esuが得
られる。
は誤差限界の範囲内で理論的に予想される曲線の形に一
致する直線上にある。100重量%へ外挿すると、純粋
なフレレン層のχ(3)値に対して2×10-10esuが得
られる。
【図1】II−フレレン重量比が3:1(”2”)および
1:1(”3”)のIIおよびフレレン(75重量%のC
60、25重量%のC70)の混合物の等温線を示すグラフ
である。
1:1(”3”)のIIおよびフレレン(75重量%のC
60、25重量%のC70)の混合物の等温線を示すグラフ
である。
【図2】重合体II50重量%およびフレレン50重量%
を含む移動層の混合膜の様々な層厚みの場合の吸収スペ
クトルを示すグラフである。
を含む移動層の混合膜の様々な層厚みの場合の吸収スペ
クトルを示すグラフである。
【図3】フレレン濃度がそれぞれ異なる50の単分子層
を含む混合膜の吸収スペクトルを示すグラフである。
を含む混合膜の吸収スペクトルを示すグラフである。
【図4】χ(3)率がフレレン含有物上の3光子共鳴によ
って変わることを示すグラフである。
って変わることを示すグラフである。
【図5】小角X線散乱の測定から判定したフレレン濃度
を関数とした層の厚さの増加を示すグラフである。
を関数とした層の厚さの増加を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス−ウルリッヒ・テア・メーア ドイツ連邦共和国デー−6000 フランクフ ルト・アム・マイン 50,フックスホール 80
Claims (11)
- 【請求項1】 フレレンと両親媒性化合物との混合物を
水面に広げ、ラングミュア−ブロジェット法によって基
材へ移す層エレメントの製造方法であって、重合体化合
物である両親媒性化合物を用いることを含む、上記の方
法。 - 【請求項2】 重合体化合物がポリメタクリル酸エステ
ル誘導体である、請求項1の方法。 - 【請求項3】 ポリメタクリル酸エステル誘導体が式I 【化1】 (式中、kは0ないし10の整数であり、R2はC1−C
24アルキル基であり、R3はC8−C24アルキル基であ
り、但し、基R2およびR3は異なる数の炭素原子を含
む)の単量体から誘導される、請求項2の方法。 - 【請求項4】 少なくとも40重量%のフレレンを含む
混合物を用いる、請求項1の方法。 - 【請求項5】 使用する両親媒性化合物が式Iの単量体
から誘導したポリメタクリル酸エステル誘導体であり、
そして混合物が55−70重量%のフレレンを含む、請
求項3の方法。 - 【請求項6】 固体基材上にフレレン含有両親媒性分子
の少なくとも1つの規則的に配列された単分子層を含む
層エレメントであって、両親媒性分子が重合体化合物、
特にポリメタクリル酸エステル誘導体である上記の層エ
レメント。 - 【請求項7】 請求項6の層エレメントの、光学振動数
を3倍にするための用途。 - 【請求項8】 請求項6の層エレメントの光学リミッタ
ーへの用途。 - 【請求項9】 請求項6の層エレメントの発光ダイオー
ドへの用途。 - 【請求項10】 フレレンと両親媒性化合物との混合物
を揮発性有機溶剤に溶解し、溶液を水面に広げ、有機溶
剤を蒸発させて、水面上に膜を残し、固体基材を水面を
通して水に浸しおよび/または水から取り出すことによ
って、膜を固体基材上に圧縮しそして移す、請求項1の
方法。 - 【請求項11】 規則的に配列された各単分子層の厚さ
が2−6nmである、請求項6の層エレメント。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924225962 DE4225962A1 (de) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | Schichtelement und Verfahren seiner Herstellung |
DE4225962:2 | 1992-08-06 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06211997A true JPH06211997A (ja) | 1994-08-02 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19456293A Pending JPH06211997A (ja) | 1992-08-06 | 1993-08-05 | 層エレメントおよびその製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0582221A1 (ja) |
JP (1) | JPH06211997A (ja) |
KR (1) | KR940003975A (ja) |
BR (1) | BR9303225A (ja) |
DE (1) | DE4225962A1 (ja) |
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GB9402581D0 (en) * | 1994-02-10 | 1994-04-06 | British Tech Group | Membrane with anti-viral properties |
US6495195B2 (en) * | 1997-02-14 | 2002-12-17 | Arcturus Engineering, Inc. | Broadband absorbing film for laser capture microdissection |
US6171652B1 (en) * | 1998-05-26 | 2001-01-09 | Brij P. Singh | Method for modifying surfaces with ultra thin films |
JP2003520943A (ja) * | 1999-04-09 | 2003-07-08 | オーバーン・ユニバーシティ | 単層の形成方法およびその使用 |
AU2482701A (en) * | 1999-07-26 | 2001-02-13 | Trustees Of The University Of Pennsylvania, The | Single-walled nanotubes having filled lumens and methods for producing the same |
US7036914B1 (en) | 1999-07-30 | 2006-05-02 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Fluid ejection device with fire cells |
US6887703B2 (en) | 2000-02-16 | 2005-05-03 | Arturus Bioscience, Inc. | Transfer film for laser microcapture |
US7138238B2 (en) * | 2001-02-06 | 2006-11-21 | Auburn University | Ligand sensor devices and uses thereof |
US6621970B2 (en) * | 2001-03-28 | 2003-09-16 | Alcatel | UV-curable optical fiber coating composition including fullerenes |
CN1164486C (zh) * | 2002-04-12 | 2004-09-01 | 上海交通大学 | 操纵碳纳米管选择性取向排布于基底表面的方法 |
US20070122622A1 (en) * | 2002-04-23 | 2007-05-31 | Freedman Philip D | Electronic module with thermal dissipating surface |
CA2604886A1 (en) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Drexel University | Functional nanoparticle filled carbon nanotubes and methods of their production |
CN111748173A (zh) * | 2020-06-18 | 2020-10-09 | 浙江亚迪纳新材料科技股份有限公司 | 低密度高拉伸三聚氰胺泡沫塑料的制备工艺 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3731606A1 (de) * | 1987-09-19 | 1989-03-30 | Hoechst Ag | Film aus mindestens einer monomolekularen schicht |
US5166307A (en) * | 1988-09-07 | 1992-11-24 | Hoechst Aktiengesellschaft | Polyamide and film made from at least one monomolecular layer of a polyamide |
DE3940712A1 (de) * | 1989-12-09 | 1991-06-13 | Hoechst Ag | Schichtelement und verfahren zu seiner herstellung |
US5172278A (en) * | 1991-10-24 | 1992-12-15 | Hughes Aircraft Company | Buckminsterfullerenes for optical limiters |
US5338571A (en) * | 1993-02-10 | 1994-08-16 | Northwestern University | Method of forming self-assembled, mono- and multi-layer fullerene film and coated substrates produced thereby |
-
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- 1992-08-06 DE DE19924225962 patent/DE4225962A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-07-29 EP EP19930112158 patent/EP0582221A1/de not_active Withdrawn
- 1993-07-30 BR BR9303225A patent/BR9303225A/pt not_active Application Discontinuation
- 1993-08-05 JP JP19456293A patent/JPH06211997A/ja active Pending
- 1993-08-06 KR KR1019930015232A patent/KR940003975A/ko not_active Application Discontinuation
-
1995
- 1995-05-24 US US08/449,239 patent/US5580612A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-05-25 US US08/450,394 patent/US5654092A/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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KR940003975A (ko) | 1994-03-14 |
DE4225962A1 (de) | 1994-02-10 |
BR9303225A (pt) | 1994-03-08 |
EP0582221A1 (de) | 1994-02-09 |
US5580612A (en) | 1996-12-03 |
US5654092A (en) | 1997-08-05 |
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