JPH0621196A - 減圧処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ２つの連続処理、又はそのいずれか一方の処
理を選択的に実施でき、省スペース化を図った減圧処理
装置を提供すること。 【構成】 矩形エリアの２つのコーナー部に、第１の処
理室４０，第２の処理室４２が配置される。第１，第２
の処理室４０，４２には、第１，第３の開閉装置５０，
５４を介して、第１，第２のロードロック室４４，４６
が連結される。各ロードロック室４４，４６には、大気
との間に第２，第４の開閉装置５２，５６が連結され
る。処理室４０，４２の間には、各処理室４０，４２と
の間に第５，第６の開閉装置６０，６２を介して第３の
ロードロック室４８が配置される。第３のロードロック
室４８は、大気との間に第７の開閉装置５４を有する。
各部屋４０〜４８の平面的配置として、コ字形の形状を
呈している。このコ字形の中心領域、すなわち、第２，
第４及び第７の開閉装置に囲まれた大気空間には、被処
理体を一時的に載置する載置台が配置される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、２つの減圧処理を連続
的に、あるいはそのいずれか一方を択一的に行なうこと
のできる減圧処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えばエッチング，アッシング，成膜等
の処理を減圧下で行なう減圧処理装置としては、処理室
へ被処理体を搬入出する際に、大気との遮断を行なって
歩留まりの向上を図るために、処理室の両側にロードロ
ック室を設けるものが知られている。

【０００３】さらに、複数の異なる処理を連続的に行な
う場合には、複数の処理室間にそれぞれロードロック室
を設けて直列的に配列するとともに、両端部にもそれぞ
れロードロック室を設けたいわゆるインライン方式の減
圧処理装置が知られている。

【０００４】連続処理を行なう他の方式として、円筒状
のロードロック室の周囲に、放射方向に沿って複数の処
理室を配列するものが知られている。この方式は、いわ
ゆるマルチチャンバー方式と称せられる。

【０００５】なお、上記の各方式において、処理室とロ
ードロック室とは開閉装置例えばゲートバルブを介して
連結される。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】１つの処理室の前後に
ロードロック室を備えた装置では、連続処理を行なうた
めにこの種の装置を２台購入しなければならない。２台
の装置を購入した場合、各装置にて共通する構成を１つ
で兼用することができず、価格および配置スペースの面
で不合理である。

【０００７】一方、いわゆるインライン方式の減圧処理
装置では、その装置に備えられた処理室の数だけ必ず処
理を行なわなければならない。すなわち、ある場合の処
理に限り、一種の処理だけで大気に搬出することが不可
能だからである。従って、この種のインライン装置は、
その装置に備えられた処理室の数だけ処理を行なうタイ
プの専用機とならざるを得ない。

【０００８】一方、マルチチャンバー方式では、円筒型
の１つのロードロック室に対して、複数の処理室が並列
配置されている。従って、シーケンス制御の変更によ
り、その装置に備えられた複数の処理室のうちの１つま
たは２つのみを選択的に用いて処理を行なうことが可能
である。しかしながら、通常この種のマルチチャンバー
装置は、１つの円筒型ロードロック室に対して、４つま
たはそれ以上の処理装置を配置するのが通常である。こ
のため、円筒型ロードロック室の容積はかなり大きくな
る。このような装置にて、１つまたは２つの処理のみを
行なう場合、大容量のロードロック室内を排気するのに
時間がかかり、処理のスルプットが大幅に低下してしま
う。逆に２つの処理室のみを連結してマルチチャンバー
装置を構成すると、設置スペースの点で無駄が多い。

【０００９】そこで、本発明の目的とするところは、連
続する２つの処理、あるいはそのいずれか一方の処理の
みを選択的に行なうことができ、しかも、単位面積当た
りの価格の高いクリーンルーム内での設置スペースを最
少限に止めることのできる減圧処理装置を提供すること
にある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、減圧下で被処
理体に対して第１の処理を行う第１の処理室と、減圧下
で被処理体に対して第２の処理を行う第２の処理室と、
前記第１の処理室に第１の開閉装置を介して連結され、
かつ、大気との間に第２の開閉装置を有する第１のロー
ドロック室と、前記第２の処理室に第３の開閉装置を介
して連結され、かつ、大気との間に第４の開閉装置を有
する第２のロードロック室と、前記第１，第２の処理室
の間に配置され、前記第１，第２の処理室にそれぞれ第
５，第６の開閉装置を介して連結され、かつ、大気との
間に第７の開閉装置を有する第３のロードロック室と、
を有することを特徴とする。

【００１１】好ましくは、前記第１の処理室，第３のロ
ードロック室及び前記第２の処理室が一直線上に連結配
置され、前記第１のロードロック室及び前記第２のロー
ドロック室は、それぞれ前記第１，第２の処理室に対し
て連結される方向が前記直線と直交する方向であり、各
室の平面的配置がコ字形とすることができる。この場合
において、第２，第４及び第７の開閉装置に囲まれた大
気空間には、被処理体を一時的に載置する載置台を設け
ることができる。

【００１２】本発明によれば、さらに各ロードロック室
に対して被処理体の搬入出を行なうための載置台および
搬送手段を減圧チャンバー内に配置している。さらに、
被処理体を収容する容器の周囲雰囲気を減圧雰囲気とす
る第４のロードロック室を設けることが好ましい。

【００１３】

【作用】本発明装置によれば、下記の３種類の搬送方式
を選択的に採用できる。

【００１４】（１）ロード動作→第１のロードロック室
→第１の処理室→第３のロードロック室→第２の処理室
→第２のロードロック室→アンロード動作 （２）ロード動作→第１のロードロック室→第１の処理
室→第３のロードロック室→アンロード動作 （３）ロード動作→第３のロードロック室→第２の処理
室→第２のロードロック室→アンロード動作 シーケンス等の変更により、（１）のシーケンスを逆向
きに行なうことも可能である。

【００１５】載置台および搬送手段を減圧チャンバー内
に配置し、さらに被処理体用容器を第４のロードロック
室内に配置すれば、（１）〜（３）のいずれの搬送方式
においても、ロード動作およびアンロード動作の一部又
は全部を減圧雰囲気で行なうことができる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明を減圧処理装置に適用した一実
施例について、図面を参照して具体的に説明する。

【００１７】図１に示すように、本実施例にかかる減圧
処理装置は、被処理体例えば半導体ウエハ２０を収納す
るための収納部１０、収納部１０からウエハ２０を搬出
入するための搬送部１２、搬送部１２より送られてきた
ウエハ２０の位置合わせを行うアライメント部１４、ア
ライメント部１４で位置合わせされたウエハ２０に対し
て減圧下で処理を行う処理部１６及びこの処理部１６に
ガス及び電源を供給するガス・電源系ユニット１８より
構成される。

【００１８】まず、収納部１０、搬送部１２、アライメ
ント部１４の構成について説明する。収納部１０は、例
えば２５枚の半導体ウエハを所定間隔で載置するための
ウエハカセット２２が複数個（第１図では２個）収納可
能となっており、収納されたウエハカッセト２２は、そ
れぞれに対応するカセット載置台２４に載置されてい
る。この場合に各ウエハカッセトは、その中に搭載され
たウエハが水平になるように載置される。これらカセッ
ト載置台２４は、それぞれ独立した昇降機構（図示せ
ず）により上下動が可能である。

【００１９】搬送部１２には、収納部１０、アライメン
ト部１４及び処理部１６との間でウエハ２０の搬送を行
う、多関節ロボット３０が設けられている。この多関節
ロボット３０は、ウエハを保持するための機能、例えば
真空吸着機構（図示せず）を備えた搬送アーム３１及び
その他の駆動アーム（図示せず）を順次連設させて構成
されている。

【００２０】アライメント部１４には、ウエハ２０を所
定の位置に吸着保持し、回転移動、上下動、及び水平移
動が可能な駆動機構を有するバキュームチャック３２が
設けられている。

【００２１】またウエハチャック３２の外側には、ウエ
ハ外周緑検出用センサ、例えば透過型センサ（図示せ
ず）が設けられている。このセンサの検出信号と上記し
た駆動機構により、ウエハ２０を予め決められた位置に
アライメントすること、例えば、オリエンテーションフ
ラットの位置合わせをすることができる。

【００２２】次に処理部１６の構成について図１を用い
て説明する。

【００２３】処理部１６は、減圧下でウエハ２０の処理
を行うための第１の処理室４０、第２の処理室４２と、
それぞれの処理室に連結され、それぞれの処理室と大気
との遮断を行うことを目的とする第１のロードロック室
４４、第２のロードロック室４６と、それぞれの処理室
の間に配置され、それぞれの処理室を連結している第３
のロードロック室４８と、ウエハを一時的に載置するた
めの受け渡しステージ４９とから構成される。

【００２４】処理室４０，４２は、所望雰囲気の減圧下
で、ウエハ２０を、各種の処理例えばエッチング、アッ
シング、成膜等の処理を行うためのものである。なお、
処理室４０，４２には、真空排気機構例えばロータリポ
ンプ等（図示せず）が接続されており、さらに不活性ガ
ス例えばＮ₂ ガスが導入可能なパージ機能（図示せず）
が設けられている。

【００２５】ロードロック室４４、４６、４８は気密状
態を保ちながらウエハ２０を搬送可能とするもので、こ
れによりウエハ２０の処理室４０、４２に対する搬出入
の際に、処理室４０、４２内を所望の雰囲気に保持して
おくことができる。この場合において、第１のロードロ
ック室４４と第２のロードロック室４６は、それぞれ第
１の処理室４０と大気との間、及び第２の処理室４２と
大気との間の遮断を行うものである。また第３のロード
ロック室４８は、第１の処理室４０と第２の処理室４２
との間、第１の処理室４０と大気の間、及び第２の処理
室４２と大気との間の遮断を行うものである。このよう
なロードロック室としては、例えばＵＳＰ４、４３３、
９５１に開示されたものを用いることができる。

【００２６】第１のロードロック室４４は、第１の開閉
装置５０、第２の開閉装置５２、及び搬送アーム７０を
有する。第２のロードロック室４６は、第３の開閉装置
５４、第４の開閉装置５６及び搬送アーム７２を有す
る。また第３のロードロック室４８は第５の開閉装置６
０、第６の開閉装置６２、第７の開閉装置６４及び搬送
アーム７４を有する。

【００２７】これらの開閉装置は、ウエハ２０を搬出入
する場合に開き、気密状態を保持する場合に閉じるとい
う開閉機能を有する。またこれらの開閉装置は、例えば
ゲートバルブで構成できるが、ゲートバルブに関して
は、例えばＵＳＰ４，６３２，６２４に開示されてい
る。

【００２８】搬送アーム７０は、受け渡しステージ４
９、第１のロードロック室４４、第１の処理室４０との
間でウエハ２０の搬送を行うものである。搬送アーム７
２は、受け渡しステージ４９、第２のロードロック室４
６、第２の処理室４２との間でウエハ２０の搬送を行う
ものである。また搬送アーム７４は、受け渡しステージ
４９、第３のロードロック室４８、第１の処理室４０、
第２の処理室４２との間でウエハ２０の搬送を行うもの
である。

【００２９】なお、ロードロック室４４，４６，４８に
は、真空排気機構例えばロータリポンプ等（図示せず）
が接続されており、さらに不活性ガス例えばＮ₂ ガスが
導入可能なパージ機能（図示せず）が設けられている。

【００３０】受け渡しステージ４９には、ウエハ２０を
搬出入する際に、ウエハ２０を一時的に載置するための
載置台７６が設けられている。また載置台７６は、駆動
機構（図示せず）により上下動が可能である。

【００３１】図１に示すように第１の処理室４０、第３
のロードロック室４８及び第２の処理室４２は一直線に
連結配置されている。そしてこの直線に対して垂直の方
向に、第１の処理室４０に対して第１のロードロック室
４４が、第２の処理室４２に対して第２のロードロック
室４６が連結配置されている。これにより、各室はコの
字形に平面配置されることになる。さらに、受け渡しス
テージ４９を構成する載置台７６は、ロードロック室４
４，４６，４８に囲まれた位置に配置される。

【００３２】このような配置構成にすることにより、ま
ず、各室及び載置台７６を最密に配置することが可能と
なる。これにより単位面積当たりの価格の高いクリーン
ルーム内での、減圧処理装置の設置スペースを最少限に
止めることができるという大きな利点が生じる。この点
例えば、１つの処理室の前後にロードロック室を備えた
装置を２台使用した場合、また２つの処理室のみを連結
したマルチチャンバー装置を使用した場合に比べて、設
置スペースの面で有利であることは明らかである。

【００３３】また、このような配置構成にすることによ
り、図１に示すように第１の処理室４０及び第２の処理
室４２を、処理部１６の２つのコーナーに配置すること
ができる。処理室４０，４２は、ウエハ２０を処理する
ための例えばプラズマ装置等を具備するため、収納部、
搬送部等の他のユニットに比べ、保守等のメインテナン
スが最も必要なユニットである。従ってこのような配置
構成にすることにより、例えば処理室等よりも背が高い
ガス・電源系ユニット１８に邪魔されることなく、保守
等のメインテナンスを安全かつ容易に行うことが可能に
なる。従って本実施例にかかる減圧処理装置は、安全
性、保守性の面で、他の装置に比べ大変有利なものとな
る。

【００３４】さらに、このような配置構成にすることに
より、ウエハの搬送の際に、載置台７６からロードロッ
ク室４４，４６，４８へのアクセス距離及びロードロッ
ク室４４，４６，４８から対応した処理室４０，４２へ
のアクセス距離が最短となり、スループットの面で大変
有利である。

【００３５】この点例えば、マルチチャンバー装置で
は、ロードロック室が１基しかないため必然的にロード
ロック室の容積が大きくなり、これにより、載置台から
ロードロック室、ロードロック室から処理室へのアクセ
スが長くなり、さらに室内を排気するために長時間を要
するようになるため、本実施例にかかる減圧処理装置に
比べて、大幅にスループットが劣ることになる。

【００３６】次に本実施例に係る減圧処理装置の動作に
ついて、図２を参照して説明する。なお初期状態では、
開閉装置５０，５２，５４，５６，６０，６２，６４は
全て閉じた状態になっている。

【００３７】まず、オペレータはロボットハンドによ
り、カセット載置台２４にウエハカセット２２を載置す
る。この場合ウエハカセット２２には例えば２５枚のウ
エハ２０を搭載しておく。そしてカセット載置台の下に
設けられた昇降機能によりロードしようとするウエハ２
０を所定の位置に設定する。この状態で多関節ロボット
３０に設けられたアーム３１を、処理しようとするウエ
ハの下に挿入し、次いでカセット載置台２４をわずかに
下降させ、ウエハ２０をアーム３１に真空吸着させる。

【００３８】次に図２の矢印に示すように、アーム３
１により、収納部１０からバキュームチャック３２にウ
エハ２０を搬出する。ここでウエハ２０の中心合せとオ
リエンテーションフラットの位置合わせを行う。

【００３９】次に矢印に示すように、アーム３１によ
り、バキュームチャック３２から載置台７６にウエハ２
０を搬出する。この際、第１のロードロック室４４をＮ
₂ パージし、ロードロック室内を大気圧状態または大気
圧より僅かに陽圧状態にしておく。このようにするの
は、第２の開閉装置５２を開く際に、ロードロック室内
の大気による汚染を防止するためである。その後第２の
開閉装置５２を開き、矢印に示すように、搬送アーム
７０により、ウエハ２０を載置台７６から第１のロード
ロック室４４の所定の位置に搬入する。

【００４０】次に第２の開閉装置５２を閉じて、第１の
ロードロック室４４と第１の処理室４０を、ほぼ同じ気
圧、例えば５０〜５００Ｔｏｒｒになるように真空引き
する。ほぼ同じ気圧にする理由は、第１の開閉装置５０
を開いた際に、気体の急激な流れこみにより室内の壁に
付着したちり，ほこりなどの不純物が飛散し、ウエハを
汚染することを防止するためである。

【００４１】次に第１の開閉装置を開き、矢印に示す
ように、搬送アーム７０によりウエハ２０を第１のロー
ドロック室４４から第１の処理室４０へ搬出し、その後
第１の開閉装置５０を閉じる。

【００４２】例えば第１の処理室４０でエッチング処理
を行う場合、処理室内を例えば１０^-4Ｔｏｒｒ程度まで
真空引きした後、エッチング等の処理を行う。

【００４３】第３のロードロック室４８を設けたのは主
に、クロスコンタミネーションつまり不純物混合を防止
するためである。．例えば第１の処理室４０でエッチン
グ処理を行うためにＣｌ₂ を使用し、第２の処理室４２
でアッシング処理を行うためにオゾンを使用した場合、
Ｃｌ₂ とオゾンのクロスコンタミネーションが生じる
と、ウエハの歩留り等に悪影響を与えるため、主にこれ
を防ぐため第３のロードロック室４８が設けられた。な
お、ここでアッシングとは、例えばオゾン雰囲気で加熱
することで、エッチング後残ったレジスト膜を灰化させ
ることによりレジスト膜の除去を行うことをいう。

【００４４】上記したクロスコンタミネーションによる
悪影響を防止するため、まず第１の処理室４０を、第３
のロードロック室４８とほぼ同じ気圧例えば５００Ｔｏ
ｒｒ程度までＮ₂ パージした後、第５の開閉装置６０を
開く。次に矢印に示すように、搬送アーム７４によ
り、ウエハ２０を第１の処理室４０から第３のロードロ
ック室４８に搬入し、第５の開閉装置６０を閉じる。そ
の後第３のロードロック室４８と第２の処理室４２の気
圧がほぼ同じになるように調整するか、この際望ましく
は、両室の気圧を例えば５０Ｔｏｒｒ程度まで真空引き
すれば、上記したクロスコンタミネーションによる悪影
響を更に取除くことができる。

【００４５】次に第６の開閉装置６２を開き矢印に示
すように、搬送アーム７４により、ウエハ２０を第３の
ロードロック質４８から第２の処理室４２に搬出し、第
６の開閉装置６２を閉じる。その後第２の処理室を真空
引きにより例えば１０^-3Ｔｏｒｒとし、例えばアッシン
グ処理を行う。

【００４６】次に第２の処理室４２をＮ₂ パージし、第
２のロードロック室４６とほぼ同じ気圧例えば５０〜５
００Ｔｏｒｒとした後、第３の開閉装置５４を開き、矢
印に示すようにウエハ２０を搬送アーム７２により搬
出し、第３の開閉装置５４を閉じる。

【００４７】次に第２のロードロック室４６をＮ₂ パー
ジし、大気圧状態または大気圧より僅かに陽圧状態にし
た後、第４の開閉装置５６を開き、矢印に示すように
ウエハ２０を搬送アーム７２により搬出し、第４の開閉
装置５６を閉じる。

【００４８】最後に、矢印に示すようにウエハ２０を
多関節ロボット３０のアーム３１により、ウエハカセッ
ト内のウエハ２０を取り出した元の位置に戻す。

【００４９】このように本実施例で処理を行なう場合、
大気による汚染、気体の急激な流入によるちり，ほこり
などの不純物の飛散、クロスコンタミネーションによる
悪影響を最少限におさえることができ、ウエハの歩留ま
り等に好影響を与える。そして、それにもかかわらずウ
エハ処理のスループットをおとすことがないという大き
な利点をもつ。この点マルチチャンバー装置では、ロー
ドロック室の容積が大きいため、上述したような悪影響
を本実施例と同程度におさえようとすれば必然的にスル
ープットが悪化するという点で、非常に劣っている。

【００５０】以上、本実施例を使用して、第１の処理室
４０での処理後、第２の処理室４２で処理を行う場合の
動作について図１，図２を用いて説明した。

【００５１】次に本実施例を別の使用方法で使用した場
合の動作について図３，図４，図５を用いて説明する。

【００５２】図３に第１の処理室４０でのみ処理を行う
場合の動作について示す。この場合の手順は、図３に示
すように→→→→→→の手順で行われ、
各ユニットでの動作は、上記した図１，図２で説明した
動作と同じであり、ただひとつ第７の開閉装置６４を開
閉する点が異なっている。

【００５３】図４に第２の処理室４２でのみ処理を行う
場合の動作について示す。また図５に、図２の場合では
逆に、第２の処理室４２での処理後、第１の処理室４０
での処理を行う場合の動作について示す。

【００５４】このように本実施例では、第７の開閉装置
６４を付加することにより、図２，３，４，５の４モー
ドの動作が可能となり、さらに第１の処理室４０と第２
の処理室４２のプロセス条件及び処理方法を別個異なる
ものとすることにより、バラエティーに富んだ汎用性の
高い減圧処理装置を実現できるという利点をもつ。

【００５５】例えば図２の動作モードにおいて、上記実
施例のように異種の処理装置を設けるものに限らず、同
種の装置例えば処理室４０，４２をプロセス条件が異な
るエッチング装置として構成することもできる。このよ
うにすると、例えば第１の処理室４０でのエッチングに
より生じたイオンダメージ層、つまり微細な凹凸を、第
２の処理室４２でのパワーの低いエッチングにより平滑
化することが可能になる。

【００５６】次に例えば図３，図４の動作モードにおい
て、第１の処理室４０と第２の処理室４２のプロセス条
件を別個異なるように設定しておく。このようにすれ
ば、例えばあるプロセス条件でウエハ処理を行なった
後、異なった条件のウエハ処理を行う必要がある場合、
プロセス条件を大幅に変更することなく対処できるよう
になる。従って１台のプロセス装置で幅の広いプロセス
条件を設定することが可能になり、これにより汎用性が
大変高まる。

【００５７】また図２に示された動作モードにより、一
度、第１の処理室４０を強いエッチング条件に、第２の
処理室４２を弱いエッチング条件に設定した後、逆に、
弱いエッチングにより表面層を除去してから強いエッチ
ングを行う必要が生じた場合、図５に示された動作モー
ドにより対処できることになる。

【００５８】なお処理室４０，４２で行う処理は、エッ
チング、アッシングなどの処理にとどまらず、少なくと
も減圧下で行う処理は全て含まれることになる。例えば
ＣＶＤを使ったパッシベーション膜の成膜処理におい
て、異なった材質、異なった成膜条件のパッシベーショ
ン膜を２層形成することが知られているが、本実施例に
よれば簡単にこれに対処できることになる。

【００５９】以上述べてきたように本実施例によれば、
２つの連続した処理を行うことのみならず、そのうちの
一方の処理のみを行うこと、また、連続した２つの処理
を逆の順序で行うこと、さらに処理室におけるプロセス
条件、処理方法を別個に設定することにより、幅の広い
汎用性の高い減圧処理装置を比較的簡単なシークエンス
制御により実現できることになる。

【００６０】そして、このような高い汎用性をもつにも
かかわらず、単位面積当りの価格の高いクリーンルーム
内での減圧処理装置のスペースを最少限に止めることが
でき、保守性にもすぐれている。さらに搬送アームのア
クセス距離が短いこと、ロードロック室の容積を小さく
することができることにより、処理のスループットを速
くすることができるとともに、大気による汚染、気体の
急激な流れによるちり、ほこりなどの汚染物質の飛散、
クロスコンタミネーションなどを処理のスループットを
おとすことなく効果的に防止することができ、クリーン
度の高い減圧処理装置を実現することができる。

【００６１】次に本実施例の変形例について図６を用い
て説明する。

【００６２】この実施例と図１に示した実施例の相違点
は、開閉装置５２，５６の設置に位置及び多関節ロボッ
ト３０の両側にアライメント部１４を構成するバキュー
ムチャック３２が設置されていることにある。この場合
バキュームチャック３２はアライメントの役割のみなら
ず、受け渡しステージ４７における載置台７６の役割を
もつことになる。従って図２，図３，図４，図５におけ
るの動作を簡略化でき、直接バキュームチャック
３２からロードロック室４４，４６にウエハ２０を搬入
することが可能となり、スループットの点で有利にな
る。

【００６３】図７は本発明のさらに他の態様に係る減圧
処理装置を示す概略構成図である。この装置は、受け渡
しステージ４９，搬送部１２，アライメント部１４を減
圧可能なチャンバ１００内に設け、さらにウエハカセッ
ト２２が第４のロードロック室１１０内に設けられてい
る。減圧チャンバ１００と第４のロードロック室１１０
とは第８の開閉装置１１２を介して連結され、第４のロ
ードロック室１１０は第９の開閉装置１１４を介して大
気と遮断されている。このような構成によれば、ウエハ
カセット２２が第９の開閉装置１１４を介して第４のロ
ードロック室１１０内に搬入された後には、減圧雰囲気
中でウエハの一連の処理を行うことができ、大気による
汚染，気体の急激な流れによるちり，ほこりなどの汚染
物質の飛散，クロスコンタミネーションなどを一層少な
くすることができる。

【００６４】なお、上記各実施例ではバキュームチャッ
ク３２においてウエハのアライメントを行うようにした
が、載置台７６にチャック機能および位置合わせ機能を
もたせて、図１，図７のウエハチャック３２を省略する
こともできる。

【００６５】また、処理室４０，４２で行う処理は、エ
ッチング，アッシングなどの処理にとどまらず、少なく
とも減圧下で行う処理は全て含まれることになる。例え
ばＣＶＤを使ったパッシベーション膜の成膜などの処理
において、異なった材質，異なった成膜条件のパッシベ
ーション膜を２層形成することが知られているが、本発
明によれば２つの処理室により簡単にこれに対処できる
ことになる。

【００６６】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、２
つの連続的処理、あるいはそのいずれか一方の処理を選
択的に行なうことができ、かつ、クリーンルーム内の配
置スペースを最少限に抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を適用した実施例装置の平面図である。

【図２】図１の装置において、２つの処理を連続的に行
なう場合の搬送手順を示す概略説明図である。

【図３】図１の装置において、第１の処理室での処理の
みを行なう場合の搬送手順を示す概略説明図である。

【図４】図１の装置において、第２の処理室のみで処理
を行なう場合の搬送手順を示す概略説明図である。

【図５】図１の装置において、図２とは逆の手順にて２
つの連続処理を行なう場合の搬送手順を示す概略説明図
である。

【図６】多関節ロボットの両側にアライメント部を設け
た本発明の変形例を示す概略平面図である。

【図７】載置台および搬送手段を減圧チャンバー内に配
置した本発明の変形例を示す概略平面図である。

【符号の説明】

２２ 被処理体用容器 ４０ 第１の処理室 ４２ 第２の処理室 ４４ 第１のロードロック室 ４６ 第２のロードロック室 ４８ 第３のロードロック室 ４９ 受け渡しステージ ５０ 第１の開閉装置 ５２ 第２の開閉装置 ５４ 第３の開閉装置 ５６ 第４の開閉装置 ６０ 第５の開閉装置 ６２ 第６の開閉装置 ６４ 第７の開閉装置 ７０，７２，７４ 搬送アーム ７６ 載置台 １００ 減圧チャンバー １１０ 第４のロードロック室 １１２ 第８の開閉装置 １１４ 第９の開閉装置

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 減圧下で被処理体に対して第１の処理を
   行う第１の処理室と、 減圧下で被処理体に対して第２の処理を行う第２の処理
   室と、 前記第１の処理室に第１の開閉装置を介して連結され、
   かつ、大気との間に第２の開閉装置を有する第１のロー
   ドロック室と、 前記第２の処理室に第３の開閉装置を介して連結され、
   かつ、大気との間に第４の開閉装置を有する第２のロー
   ドロック室と、 前記第１，第２の処理室の間に配置され、前記第１，第
   ２の処理室にそれぞれ第５，第６の開閉装置を介して連
   結され、かつ、大気との間に第７の開閉装置を有する第
   ３のロードロック室と、 を有することを特徴とする減圧処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１において、 前記第１の処理室，第３のロードロック室及び前記第２
   の処理室が一直線上に連結配置され、前記第１のロード
   ロック室及び前記第２のロードロック室は、それぞれ前
   記第１，第２の処理室に対して連結される方向が前記直
   線と直交する方向であり、各室の平面的配置がコ字形と
   されたことを特徴とする減圧処理装置。
3. 【請求項３】 請求項２において、 第２，第４及び第７の開閉装置に囲まれた大気空間に
   は、被処理体を一時的に載置する載置台が配置されたこ
   とを特徴とする減圧処理装置。
4. 【請求項４】 被処理体を収容する容器と、 前記容器より搬出され、あるいは前記容器に搬入される
   前記被処理体を一時的に載置する載置台と、 前記容器と載置台との間で前記被処理体を搬送する搬送
   手段と、 前記載置台および前記搬送手段の周囲雰囲気を減圧雰囲
   気とする減圧チャンバーと、 減圧下で前記被処理体に対して第１の処理を行う第１の
   処理室と、 減圧下で前記被処理体に対して第２の処理を行う第２の
   処理室と、 前記第１の処理室に第１の開閉装置を介して連結され、
   かつ、前記減圧チャンバーとの間に第２の開閉装置を有
   する第１のロードロック室と、 前記第２の処理室に第３の開閉装置を介して連結され、
   かつ、前記減圧チャンバーとの間に第４の開閉装置を有
   する第２のロードロック室と、 前記第１，第２の処理室の間に配置され、前記第１，第
   ２の処理室にそれぞれ第５，第６の開閉装置を介して連
   結され、かつ、前記減圧チャンバーとの間に第７の開閉
   装置を有する第３のロードロック室と、 を有することを特徴とする減圧処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４において、 前記容器の周囲雰囲気を減圧雰囲気とする第４のロード
   ロック室を設け、この第４のロードロック室と前記減圧
   チャンバーとの間に第８の開閉装置を設け、かつ、前記
   第４のロードロック室と大気との間に第９の開閉装置を
   設けたことを特徴とする減圧処理装置。