JPH06208923A - 磁性多層膜 - Google Patents
磁性多層膜Info
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- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
- H01F10/32—Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
- H01F10/324—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer
- H01F10/3254—Exchange coupling of magnetic film pairs via a very thin non-magnetic spacer, e.g. by exchange with conduction electrons of the spacer the spacer being semiconducting or insulating, e.g. for spin tunnel junction [STJ]
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Abstract
ーダンスおよび抵抗が低い点を解決し、高インピーダン
ス,高抵抗を示す磁性多層膜を提供すること。 【構成】 基板3上にシート状磁性体1とシート状非磁
性絶縁体2とを交互に積層した磁性多層膜において、磁
性体1の厚さは、表皮深さの10分の1〜10倍の厚さ
であり、かつ非磁性絶縁体の厚さは、磁性体1間の電気
的絶縁を保ち得る厚さ以上である磁性多層膜。
Description
料に関する。
(f)−j・μr″(f)で表され、μr′は実効的な
比透磁率,μr″は損失に対応する。ここでj=(−
1)1/2,fは周波数である。磁性材料を用いたノイズ
フィルタは磁性材料の損失によるノイズ抑制効果を利用
したものである。ノイズフィルタとしては、インピーダ
ンスおよび抵抗が大きいことが要求されるため、ノイズ
フィルタ用磁性材料としては、|μr|およびμr″が
大きいことが必要となる。電磁環境問題では、特にテレ
ビの放送周波数にあたる30〜300MHzのノイズが
問題視されており、この周波数帯で優れたノイズ抑制効
果を持つフィルタの実現が望まれている。従来材料であ
るMn−Znフェライト{μr′(0)=1500}に
おける比透磁率の周波数特性、およびインピーダンスの
周波数特性を図8,図9に示す(上遠野準之助:「電磁
環境工学情報」p.152、H4.6.30発行、号
外、ミマツデータシステム)。図8においては横軸に周
波数、縦軸に比透磁率をとっており、図9においては横
軸に周波数、縦軸にインピーダンスをとってある。|Z
|はインピーダンス、Rは抵抗、XL はリアクタンスで
あり、材料特性値(Ω/m)で表示した。従来材料で
は、μr′(0)が小さく、また周波数の上昇に伴いμ
r′,μr″が減少するため、|Z|,Rはさほど高い
値にはならない。そのため、十分なノイズ抑制効果を得
るには、磁性材料の体積を大きくする必要があり、部品
サイズが大型化するという問題がある。
改善するために提案されたもので、その目的は、従来の
ノイズフィルタ用磁性材料においてインピーダンスおよ
び抵抗が低い点を解決した、高インピーダンス,高抵抗
性を示す磁性多層膜を提供することにある。
め、本発明は基板上に、シート状磁性体と、同じくシー
ト状非磁性絶縁体とを交互に積層してなる磁性多層膜に
おいて、前記磁性体の厚さが表皮深さの10分の1から
10倍の厚さであり、かつ前記非磁性絶縁体の厚さが前
記磁性体間の電気的絶縁を保ち得る厚さ以上であること
を最も主要な特徴とする。ここに表皮深さδは δ={2ρm/(2πf・μr’・μ0 )}1/2 (2) ここで、ρmは磁性体の抵抗率、fは周波数、μ0 は真
空の透磁率である。従来の材料とは、材料構成および構
造が異なるものである。
0分の1から10倍とすることによって、渦電流損失に
よるノイズ抑制効果を最大限に利用することができる。
は本発明の磁性多層膜の実施例を示す図であって、基板
3上に、シート状磁性体1と、同じくシート状非磁性絶
縁体2とが交互に積層した多層膜構造を成している。磁
性体の厚さは表皮深さの10分の1から10倍の厚さ
に、一方、非磁性絶縁体の厚さは磁性体間の電気的絶縁
を保ち得る厚さ以上に設定されている。
率(μr′,μr″)のtm/δ依存性を示す。図2に
おいて、横軸にtm/δをとり、縦軸に比透磁率をとっ
てある。磁性体としてはμr′(0)=5000,抵抗
率(ρm)=120μΩcmを持つCoZr非晶質合金
を使用した。tmは磁性体厚さ、δは表皮深さである。
δはρm,真空の透磁率μ0 を用いて、 δ=〔2ρm/{2πfμr′(0)μ0 }〕1/2 (1) で表される。μr′,μr″はいずれもμr′(0)で
規格化してある。μr″はtm/δが0.1から10の
範囲で渦電流損失により大きな値となる。このことか
ら、tmをδの10分の1から10倍程度の厚さに設定
することにより、大きなノイズ抑制効果が得られること
がわかる。
などによって磁性体層間に電流が流れ、磁性体層厚は上
記の設定値より見かけ上厚くなり、十分なノイズ抑制効
果を得ることができなくなる。そのため、非磁性絶縁体
の厚さは磁性体間の電気的絶縁を保ち得る厚さ以上に設
定する必要がある。非磁性絶縁体としてSiO2 を使用
した場合の実験結果を以下に示す。図3は比透磁率の周
波数特性を示したものであり、磁性体としては50nm
厚のNiFe合金を使用した。この周波数範囲において
表皮深さδは0.16〜1.6μmであり、NiFe層
厚に比べ十分厚い。従って、SiO2 層がNiFe層間
の電気的絶縁を保っていれば、NiFeの強磁性共鳴周
波数650MHz付近まで、μr′は一定、μr″は低
い値となるはずである。SiO2 層厚5nmでは、30
MHz付近からμr′の低下、μr″の急増が生じ、電
気的絶縁が不完全となっていることがわかる。一方、S
iO2 層厚50nmでは、強磁性共鳴周波数650MH
z付近までμr′は一定、μr″の増加は抑えられ、電
気的絶縁はほぼ保たれていることがわかる。SiO2 層
厚100nmでは絶縁効果は一層、確実となる。以上、
非磁性絶縁体としてSiO2 を使用した場合には、層厚
を数十nm以上とすることにより、磁性体間の電気的絶
縁をほぼ完全に保ち得ることがわかる。
0,ρm=120μΩcmを持つCoZrNb非晶質合
金を、非磁性絶縁体としてSiO2 を使用した磁性多層
膜における実験結果を示す。表皮深さδは30〜300
MHzで0.4〜1.4μmである。SiO2 層厚とし
ては、磁性体間の電気的絶縁を保ち得る厚さ0.1μm
に設定した。CoZrNb層厚tmとして、δ/10≦
tm≦10δを満たす2μmに設定した場合の比透磁率
の周波数特性、およびインピーダンスの周波数特性を図
4,図5に示す。図4においては横軸に周波数、縦軸に
比透磁率をとり、図5においては横軸に周波数、縦軸に
インピーダンスをとってある。図8,図9の従来材料に
おける値と比較すると、μr′(0)の値が大きく、ま
た周波数の上昇に伴うμr′,μr″の減少も緩やかで
ある。そのため、30〜300MHzで|μr|,μ
r″が大きな値をとり、|Z|,Rも大きな値となる。
この例では、従来材料に比較し、一桁程度大きな|Z|
の値が得られている。tmをδ/10≦tm≦10δの
範囲外である0.04μm,14μmとして場合のイン
ピーダンスの周波数特性を各々図6,図7に示す。図6
および図7は、いずれも横軸に周波数、縦軸にインピー
ダンスをとってある。tm=0.04μmでは|Z|は
大きいがRが小さく、一方、tm=14μmでは|Z
|,Rとも小さな値となって、ともに十分なノイズ抑制
効果が期待できない。
をベースとした合金系磁性体を、一方、非磁性絶縁体と
しては、SiO2 ,AlN,Al2 O3 ,BN,Ti
N,SiCを各々使用しても上記と同様の効果を得るこ
とができる。以上、本発明による磁性多層膜では、従来
材料に比べ、高インピーダンス,高抵抗性を示すという
改善があった。
多層膜は、電磁環境問題において問題視されている数十
MHzから数百MHzの周波数帯域において、インピー
ダンスおよび抵抗が高く、ノイズ抑制効果に優れるとい
う利点がある。従って、本磁性多層膜は、ノイズフィル
タ用磁性材料として有用である。
存性を示す図である。
数特性を示す図である。
m)多層膜における比透磁率の周波数特性を示す図であ
る。
m)多層膜におけるインピーダンスの周波数特性を示す
図である。
1μm)多層膜におけるインピーダンスの周波数特性を
示す図である。
m)多層膜におけるインピーダンスの周波数特性を示す
図である。
透磁率の周波数特性を示す図である。
ンピーダンスの周波数特性を示す図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 基板上に、シート状磁性体と、同じくシ
ート状非磁性絶縁体とを交互に積層してなる磁性多層膜
において、前記磁性体の厚さが表皮深さの10分の1か
ら10倍の厚さであり、かつ前記非磁性絶縁体の厚さが
前記磁性体間の電気的絶縁を保ち得る厚さ以上であるこ
とを特徴とする磁性多層膜。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5019267A JP2668014B2 (ja) | 1993-01-11 | 1993-01-11 | 磁性多層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5019267A JP2668014B2 (ja) | 1993-01-11 | 1993-01-11 | 磁性多層膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06208923A true JPH06208923A (ja) | 1994-07-26 |
JP2668014B2 JP2668014B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=11994673
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5019267A Expired - Lifetime JP2668014B2 (ja) | 1993-01-11 | 1993-01-11 | 磁性多層膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2668014B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5248092A (en) * | 1975-10-15 | 1977-04-16 | Hitachi Ltd | Method of wire connection between a flat cable and a connector |
JPS6187477U (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-07 |
-
1993
- 1993-01-11 JP JP5019267A patent/JP2668014B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5248092A (en) * | 1975-10-15 | 1977-04-16 | Hitachi Ltd | Method of wire connection between a flat cable and a connector |
JPS6187477U (ja) * | 1984-11-13 | 1986-06-07 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2668014B2 (ja) | 1997-10-27 |
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