JPH06208119A - 電気光学装置 - Google Patents
電気光学装置Info
- Publication number
- JPH06208119A JPH06208119A JP428793A JP428793A JPH06208119A JP H06208119 A JPH06208119 A JP H06208119A JP 428793 A JP428793 A JP 428793A JP 428793 A JP428793 A JP 428793A JP H06208119 A JPH06208119 A JP H06208119A
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- Japan
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- thin film
- optical device
- semiconductor thin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体薄膜素子を用いた電気光学装置におい
て圧着工程における半導体薄膜層の破壊を防止する構造
を提供する。 【構成】 ガラス基板Ｂ５上に接着層６を介して半導体
薄膜回路層７を形成した半導体基板１上にスクリーン印
刷等により弾性体１２を形成し、シール材３を例えば弾
性体１２の外側に形成した。その後、透明電極９を形成
したガラス基板Ａ２とを対向させ加圧し、数秒間放置す
ることにより、弾性体１２が変形し、熱によりシール材
３を硬化させて適当なギャップを得た。その後、真空注
入法により、液晶４を注入し、図２（ｄ）の電気光学装
置を形成した。 【効果】 この発明は、弾性体を挟持する事によりギャ
ップ制御を行うために、シール材中にグラスファイバー
等のギャップ制御材を用いる必要がなく、圧着による半
導体薄膜回路層の破壊を防止する効果がある。
て圧着工程における半導体薄膜層の破壊を防止する構造
を提供する。 【構成】 ガラス基板Ｂ５上に接着層６を介して半導体
薄膜回路層７を形成した半導体基板１上にスクリーン印
刷等により弾性体１２を形成し、シール材３を例えば弾
性体１２の外側に形成した。その後、透明電極９を形成
したガラス基板Ａ２とを対向させ加圧し、数秒間放置す
ることにより、弾性体１２が変形し、熱によりシール材
３を硬化させて適当なギャップを得た。その後、真空注
入法により、液晶４を注入し、図２（ｄ）の電気光学装
置を形成した。 【効果】 この発明は、弾性体を挟持する事によりギャ
ップ制御を行うために、シール材中にグラスファイバー
等のギャップ制御材を用いる必要がなく、圧着による半
導体薄膜回路層の破壊を防止する効果がある。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、主として直視型表示
装置や投影型表示装置に用いられる平板型光弁装置、例
えばアクティブマトリクス液晶表示装置に組み込まれる
電気光学装置に関する。
装置や投影型表示装置に用いられる平板型光弁装置、例
えばアクティブマトリクス液晶表示装置に組み込まれる
電気光学装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の電気光学装置は、図３の平面図に
示すような担体層と接着層と半導体薄膜回路層を有する
半導体基板１とガラス基板Ａ２の間に液晶４を挟持し、
シール材３により、液晶４が密閉してなる構造をとって
いた。但し、配向膜と透明電極、グラスファイバー、液
晶注入口は省略してある。
示すような担体層と接着層と半導体薄膜回路層を有する
半導体基板１とガラス基板Ａ２の間に液晶４を挟持し、
シール材３により、液晶４が密閉してなる構造をとって
いた。但し、配向膜と透明電極、グラスファイバー、液
晶注入口は省略してある。
【０００３】従来の電気光学装置の製造工程は図４に示
すように、ガラス基板Ｂ５上に接着層６を介して半導体
薄膜回路層７を形成した半導体基板１上にスクリーン印
刷等によりグラスファイバー８を混入した接着剤でシー
ル材３を形成し、透明電極９を形成したガラス基板Ａ２
とを対向させ加圧しシール材３を硬化させて、真空注入
法等により液晶４を封入する方法で作製していた。（但
し図４において配向膜は省略してある。）
すように、ガラス基板Ｂ５上に接着層６を介して半導体
薄膜回路層７を形成した半導体基板１上にスクリーン印
刷等によりグラスファイバー８を混入した接着剤でシー
ル材３を形成し、透明電極９を形成したガラス基板Ａ２
とを対向させ加圧しシール材３を硬化させて、真空注入
法等により液晶４を封入する方法で作製していた。（但
し図４において配向膜は省略してある。）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図４に示す従
来の電気光学装置の場合液晶層のギャップを制御するた
めに、シール材３の中にグラスファイバー８等のギャッ
プ制御剤を混入し、加圧する事が不可欠である。図４
（ｂ）に示すように、接着層６の硬度がグラスファイバ
ー８の硬度と比較すると低いために半導体薄膜回路層７
に半導体薄膜回路層凹部１０が生じ、半導体薄膜回路層
は、金属薄膜であるために若干伸びるが、ときには半導
体薄膜回路層に亀裂部１１が発生し、断線等の欠陥が生
じるという課題があった。
来の電気光学装置の場合液晶層のギャップを制御するた
めに、シール材３の中にグラスファイバー８等のギャッ
プ制御剤を混入し、加圧する事が不可欠である。図４
（ｂ）に示すように、接着層６の硬度がグラスファイバ
ー８の硬度と比較すると低いために半導体薄膜回路層７
に半導体薄膜回路層凹部１０が生じ、半導体薄膜回路層
は、金属薄膜であるために若干伸びるが、ときには半導
体薄膜回路層に亀裂部１１が発生し、断線等の欠陥が生
じるという課題があった。
【０００５】本発明の目的は、このような課題を解決す
るため、グラスファイバー等のギャップ制御材を用いず
に、電気光学装置の液晶層のギャップを均一に制御する
ことである。
るため、グラスファイバー等のギャップ制御材を用いず
に、電気光学装置の液晶層のギャップを均一に制御する
ことである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、担体層上に接着層、半導体薄膜回路層を
有する半導体基板と透明電極を有する絶縁性基板との間
に液晶を挟持し、前記半導体層の一部を除いて前記液晶
をシールしてなる電気光学装置において、基板間に面接
触する弾性体を挟持しギャップを制御した。
に、本発明は、担体層上に接着層、半導体薄膜回路層を
有する半導体基板と透明電極を有する絶縁性基板との間
に液晶を挟持し、前記半導体層の一部を除いて前記液晶
をシールしてなる電気光学装置において、基板間に面接
触する弾性体を挟持しギャップを制御した。
【０００７】
【作用】上記のように構成された電気光学装置において
は、弾性体がグラスファイバー等に比べると弾力があ
り、かつ面接触しているために圧力が分散され、半導体
薄膜回路層を破壊することなく基板間を加圧する圧力と
弾性体の弾性定数によって、ギャップを制御し液晶セル
を形成する事が可能である。
は、弾性体がグラスファイバー等に比べると弾力があ
り、かつ面接触しているために圧力が分散され、半導体
薄膜回路層を破壊することなく基板間を加圧する圧力と
弾性体の弾性定数によって、ギャップを制御し液晶セル
を形成する事が可能である。
【０００８】
（実施例１）図１は本発明の電気光学装置の平面図の一
例を示したものであり、図２の製造方法の縦断面図を用
いて以下に説明する（但し、配向膜、透明電極、液晶注
入口は省略してある）。図２（ａ）はガラス基板Ｂ５か
らなる担体層上に接着層６を介して半導体薄膜回路層７
を形成した半導体基板１上にスクリーン印刷等により弾
性体１２を例えば本発明の場合シリコーンを１５μｍの
厚さに形成し、ディスペンサーによりシール材３を弾性
体１２の外側に１５μｍの厚さで形成した。その後、透
明電極９を形成したガラス基板Ａ２である絶縁性基板と
を対向させ、本発明の場合０．５ｋｇ／ｃｍ2 の圧力を
かけて加圧し、数秒間放置した。
例を示したものであり、図２の製造方法の縦断面図を用
いて以下に説明する（但し、配向膜、透明電極、液晶注
入口は省略してある）。図２（ａ）はガラス基板Ｂ５か
らなる担体層上に接着層６を介して半導体薄膜回路層７
を形成した半導体基板１上にスクリーン印刷等により弾
性体１２を例えば本発明の場合シリコーンを１５μｍの
厚さに形成し、ディスペンサーによりシール材３を弾性
体１２の外側に１５μｍの厚さで形成した。その後、透
明電極９を形成したガラス基板Ａ２である絶縁性基板と
を対向させ、本発明の場合０．５ｋｇ／ｃｍ2 の圧力を
かけて加圧し、数秒間放置した。
【０００９】弾性体１２が変形し、熱によりシール材３
を硬化させて約７μｍのギャップを得た。その後、真空
注入法により、液晶４を注入し、半導体薄膜回路層７に
亀裂を生じることなく、図１の平面図及び図２（ｄ）の
縦断面図の電気光学装置を形成した。
を硬化させて約７μｍのギャップを得た。その後、真空
注入法により、液晶４を注入し、半導体薄膜回路層７に
亀裂を生じることなく、図１の平面図及び図２（ｄ）の
縦断面図の電気光学装置を形成した。
【００１０】（実施例２）図５は本発明の電気光学装置
の実施例２を示す平面図であり、半導体基板１とガラス
基板Ａ２との間にシール材３とその外側にフィルム状弾
性体１３を挟持し、液晶４を注入し電気光学装置を形成
した。この結果、実施例１と同様の効果を得ることがで
きた。但し、透明電極、配向膜、液晶注入口は図面が煩
雑になるため省略した。
の実施例２を示す平面図であり、半導体基板１とガラス
基板Ａ２との間にシール材３とその外側にフィルム状弾
性体１３を挟持し、液晶４を注入し電気光学装置を形成
した。この結果、実施例１と同様の効果を得ることがで
きた。但し、透明電極、配向膜、液晶注入口は図面が煩
雑になるため省略した。
【００１１】（実施例３）図６は本発明の電気光学装置
の実施例３を示す平面図である。実施例１，２では、弾
性体をシール材の近傍に配置したが、例えば図６に示す
ように電気光学装置の面内に例えば柱状構造の弾性体１
４を配置するとギャップ精度が向上した。この結果、実
施例１と同様の効果を得ることができた。但し、この場
合は、若干電気光学装置のコントラストが低下する。透
明電極、配向膜、液晶注入口などは図５と同様に省略し
た。
の実施例３を示す平面図である。実施例１，２では、弾
性体をシール材の近傍に配置したが、例えば図６に示す
ように電気光学装置の面内に例えば柱状構造の弾性体１
４を配置するとギャップ精度が向上した。この結果、実
施例１と同様の効果を得ることができた。但し、この場
合は、若干電気光学装置のコントラストが低下する。透
明電極、配向膜、液晶注入口などは図５と同様に省略し
た。
【００１２】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように、担体層
上に接着層、半導体薄膜回路層を有する半導体基板と透
明電極を有する絶縁性基板との間に液晶を挟持し、前記
液晶をシールしてなる電気光学装置において、シール内
にグラスファイバー等のギャップ制御材を用いずに、基
板間に面接触する弾性体を狭持し、弾性体をギャップ制
御に用いることにより、圧着によりシール材中に含まれ
るグラスファイバー等に起因する半導体薄膜回路層の破
壊を起こさずギャップ制御する効果がある。
上に接着層、半導体薄膜回路層を有する半導体基板と透
明電極を有する絶縁性基板との間に液晶を挟持し、前記
液晶をシールしてなる電気光学装置において、シール内
にグラスファイバー等のギャップ制御材を用いずに、基
板間に面接触する弾性体を狭持し、弾性体をギャップ制
御に用いることにより、圧着によりシール材中に含まれ
るグラスファイバー等に起因する半導体薄膜回路層の破
壊を起こさずギャップ制御する効果がある。
【図１】本発明の電気光学装置の平面図を示した説明図
である。
である。
【図２】本発明の電気光学装置の製造工程の縦断面図を
示した説明図である。
示した説明図である。
【図３】従来の電気光学装置の平面図を示した説明図で
ある。
ある。
【図４】従来の電気光学装置の製造工程の縦断面図を示
した説明図である。
した説明図である。
【図５】本発明の実施例２の電気光学装置の平面図を示
した説明図である。
した説明図である。
【図６】本発明の実施例３の電気光学装置の平面図を示
した説明図である。
した説明図である。
１ 半導体基板 ２ ガラス基板Ａ ３ シール材 ４ 液晶 ５ ガラス基板Ｂ ６ 接着層 ７ 半導体薄膜回路層 ８ グラスファイバー ９ 透明電極 １０ 半導体薄膜層凹部 １１ 半導体薄膜層亀裂部 １２ 弾性体 １３ フィルム状弾性体 １４ 柱状弾性体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 邦博 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内 (72)発明者 鷹巣 博昭 東京都江東区亀戸６丁目31番１号 セイコ ー電子工業株式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 担体層上に接着層を介して半導体薄膜回
路層を有する半導体基板と、透明電極を有する絶縁性基
板との間に、液晶を挟持してなる電気光学装置におい
て、 上記両基板のギャップを規制するギャップ制御剤とし
て、少なくとも上記半導体基板に面接触する形状の弾性
剤を用いたことを特徴とする電気光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP428793A JPH06208119A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 電気光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP428793A JPH06208119A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 電気光学装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06208119A true JPH06208119A (ja) | 1994-07-26 |
Family
ID=11580316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP428793A Pending JPH06208119A (ja) | 1993-01-13 | 1993-01-13 | 電気光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06208119A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000045360A1 (fr) * | 1999-01-28 | 2000-08-03 | Seiko Epson Corporation | Panneau electro-optique, affichage de projection, et procede de fabrication associe |
| US6292249B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-09-18 | Philips Electronics North America Corporation | Uniform cell-gap spacing in LCD |
-
1993
- 1993-01-13 JP JP428793A patent/JPH06208119A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6292249B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-09-18 | Philips Electronics North America Corporation | Uniform cell-gap spacing in LCD |
| WO2000045360A1 (fr) * | 1999-01-28 | 2000-08-03 | Seiko Epson Corporation | Panneau electro-optique, affichage de projection, et procede de fabrication associe |
| US6636192B1 (en) | 1999-01-28 | 2003-10-21 | Seiko Epson Corporation | Electrooptic panel, projection display, and method for manufacturing electrooptic panel |
| KR100411678B1 (ko) * | 1999-01-28 | 2003-12-18 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 전기 광학 패널, 투사형 표시 장치 및 전기 광학 패널의제조 방법 |
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