JPH06207065A - 光散乱ポリスチロール成形材料、及びそれからなる成形体 - Google Patents
光散乱ポリスチロール成形材料、及びそれからなる成形体Info
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- JPH06207065A JPH06207065A JP5236018A JP23601893A JPH06207065A JP H06207065 A JPH06207065 A JP H06207065A JP 5236018 A JP5236018 A JP 5236018A JP 23601893 A JP23601893 A JP 23601893A JP H06207065 A JPH06207065 A JP H06207065A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L25/00—Compositions of, homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by an aromatic carbocyclic ring; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L25/02—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/14—Polymer mixtures characterised by other features containing polymeric additives characterised by shape
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- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光散乱ポリスチロール成形材料に関する。
【構成】 これは、スチロール及び／又は置換されたス
チロール少なくとも５０重量部から形成されたポリマー
マトリックス相ＭＰ４０〜９９．９重量％及び散乱体Ｓ
Ｋ０．１〜６０重量％からなる。 【効果】 この光散乱成形材料から製造された成形体、
例えばランプ又はスクリーンは、同時に高い光透過率
で、光を散乱する。
チロール少なくとも５０重量部から形成されたポリマー
マトリックス相ＭＰ４０〜９９．９重量％及び散乱体Ｓ
Ｋ０．１〜６０重量％からなる。 【効果】 この光散乱成形材料から製造された成形体、
例えばランプ又はスクリーンは、同時に高い光透過率
で、光を散乱する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、メタクリレート−コポ
リマーからなる、貯蔵した架橋粒子を有する光散乱ポリ
スチロール成形材料、及びこの成形材料から製造した成
形体に関する。
リマーからなる、貯蔵した架橋粒子を有する光散乱ポリ
スチロール成形材料、及びこの成形材料から製造した成
形体に関する。
【０００２】
【従来の技術】拡散散乱成形部材の製造に使用されるポ
リマー材料を混濁するために、一般的に、無機顔料、例
えば二酸化チタン、硫酸バリウム又はケイ酸を使用す
る。十分な濃度の、かつ相当する平均粒径並びに相当す
る屈折率を有するこの顔料を使用する場合に、透過光に
おいて良好な拡散作用が観察されるが、しかしながら光
透過性は著しく減少する。無機顔料のその他の欠点は、
重合の間の沈降であり、それにより、成形部材中の顔料
濃度が不均一になり、このことは、ポリマー材料の物理
学的特徴の明らかな損害をもたらす。
リマー材料を混濁するために、一般的に、無機顔料、例
えば二酸化チタン、硫酸バリウム又はケイ酸を使用す
る。十分な濃度の、かつ相当する平均粒径並びに相当す
る屈折率を有するこの顔料を使用する場合に、透過光に
おいて良好な拡散作用が観察されるが、しかしながら光
透過性は著しく減少する。無機顔料のその他の欠点は、
重合の間の沈降であり、それにより、成形部材中の顔料
濃度が不均一になり、このことは、ポリマー材料の物理
学的特徴の明らかな損害をもたらす。
【０００３】従って、無機顔料を、ポリマーマトリック
スに対してより高い屈折率差を有する寸法安定性ポリマ
ー粒子に代替するように移行された。
スに対してより高い屈折率差を有する寸法安定性ポリマ
ー粒子に代替するように移行された。
【０００４】米国特許（ＵＳ）第４４６４５１３号明細
書は、例えば、粒径３５〜５００μｍを有する架橋ポリ
マー粒子を約３０重量％までの配分で含有する、混濁し
たポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）−成形材料を記載してい
る。
書は、例えば、粒径３５〜５００μｍを有する架橋ポリ
マー粒子を約３０重量％までの配分で含有する、混濁し
たポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）−成形材料を記載してい
る。
【０００５】ポリマー粒子は、ビニル芳香族化合物、ア
ルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、場合に
より、更にモノエチレン性不飽和モノマー、並びに二重
結合少なくとも２個を有する架橋モノマーからなる。米
国特許（ＵＳ）第４４６４５１３号明細書による散乱粒
子は、他の熱可塑性成形材料にも使用することができ
る。
ルキルアクリレート、アルキルメタクリレート、場合に
より、更にモノエチレン性不飽和モノマー、並びに二重
結合少なくとも２個を有する架橋モノマーからなる。米
国特許（ＵＳ）第４４６４５１３号明細書による散乱粒
子は、他の熱可塑性成形材料にも使用することができ
る。
【０００６】米国特許（ＵＳ）第４５９４３６３号明細
書（欧州特許（ＥＰ−Ａ）第１８８３２５号明細書）中
には、２相式の核−外皮−構造を有する散乱粒子が記載
されていて、その際、核及び外皮は、酸基を有するモノ
マーを含有している。拡散した散乱粒子を、揮発性塩基
を用いて膨化させ、これを蒸発乾固させると、散乱粒子
中に空洞が残る。この散乱粒子は、無機顔料の代用とし
て、分散染料及び熱硬化性ラック系で使用される。
書（欧州特許（ＥＰ−Ａ）第１８８３２５号明細書）中
には、２相式の核−外皮−構造を有する散乱粒子が記載
されていて、その際、核及び外皮は、酸基を有するモノ
マーを含有している。拡散した散乱粒子を、揮発性塩基
を用いて膨化させ、これを蒸発乾固させると、散乱粒子
中に空洞が残る。この散乱粒子は、無機顔料の代用とし
て、分散染料及び熱硬化性ラック系で使用される。
【０００７】欧州特許（ＥＰ−Ａ）第３４２２８３号明
細書は、粒径２〜１５μｍ及び多相構造を有する球形の
散乱粒子を記載していて、その際、散乱粒子は、４０重
量％までの配分で、熱可塑性ポリマーマトリックス相中
に存在していてよい。散乱粒子及びマトリックス相の屈
折率は、最少で０．００３単位、最大で０．２単位異な
っている。散乱粒子は、アクリレート及びメタクリレー
トから形成され、マトリックス相は、より高い屈折率を
有するポリマー、例えばＰＶＣ又はポリスチロールから
形成されているのが有利である。
細書は、粒径２〜１５μｍ及び多相構造を有する球形の
散乱粒子を記載していて、その際、散乱粒子は、４０重
量％までの配分で、熱可塑性ポリマーマトリックス相中
に存在していてよい。散乱粒子及びマトリックス相の屈
折率は、最少で０．００３単位、最大で０．２単位異な
っている。散乱粒子は、アクリレート及びメタクリレー
トから形成され、マトリックス相は、より高い屈折率を
有するポリマー、例えばＰＶＣ又はポリスチロールから
形成されているのが有利である。
【０００８】特開昭６１−１５９４４０号公報中には、
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のための散乱粒
子が記載されていて、これは、ＰＭＭＡ中に３０重量％
までの配分で存在してよく、かつその粒径は３０〜３０
０μｍである。散乱粒子は、ビニル芳香族化合物、アル
キルアクリレート、アルキルメタクリレート並びに架橋
コモノマーからなるコポリマーから形成されている。
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）のための散乱粒
子が記載されていて、これは、ＰＭＭＡ中に３０重量％
までの配分で存在してよく、かつその粒径は３０〜３０
０μｍである。散乱粒子は、ビニル芳香族化合物、アル
キルアクリレート、アルキルメタクリレート並びに架橋
コモノマーからなるコポリマーから形成されている。
【０００９】ドイツ国特許出願公開（ＤＥ−ＯＳ）第３
５２８１６５号明細書（＝米国特許第４８７６３１１号
明細書）は、粒径２０〜５０μｍを有するポリマーマト
リックスに対して３〜３０重量％の配分で、架橋したポ
リマーパールを含有する、混濁したプラスチック成分に
関する。散乱粒子として使用するポリマーパールは、芳
香族化合物含有モノマー又はハロゲン含有モノマーか
ら、前記のモノマーと共重合可能なビニルモノマーか
ら、架橋モノマーから、及び場合により強い極性のモノ
マーから形成される。その屈折率が、散乱粒子の屈折率
と、少なくとも０．０２単位異なるべきポリマーマトリ
ックスとしては、特に、アクリル樹脂がこれに該当す
る。
５２８１６５号明細書（＝米国特許第４８７６３１１号
明細書）は、粒径２０〜５０μｍを有するポリマーマト
リックスに対して３〜３０重量％の配分で、架橋したポ
リマーパールを含有する、混濁したプラスチック成分に
関する。散乱粒子として使用するポリマーパールは、芳
香族化合物含有モノマー又はハロゲン含有モノマーか
ら、前記のモノマーと共重合可能なビニルモノマーか
ら、架橋モノマーから、及び場合により強い極性のモノ
マーから形成される。その屈折率が、散乱粒子の屈折率
と、少なくとも０．０２単位異なるべきポリマーマトリ
ックスとしては、特に、アクリル樹脂がこれに該当す
る。
【００１０】メチルメタクリレート、ブチル（メタ）ア
クリレート並びに架橋剤、例えばアリルメタクリレート
からのコポリマーからなる、メタクリル樹脂のための散
乱粒子は、特開昭５７−１４６５０号公報中に記載され
ている。
クリレート並びに架橋剤、例えばアリルメタクリレート
からのコポリマーからなる、メタクリル樹脂のための散
乱粒子は、特開昭５７−１４６５０号公報中に記載され
ている。
【００１１】ドイツ国特許（ＤＥ−ＰＳ）第２１４６６
０７号明細書（米国特許３９９２４８６号、同第４００
０２１６号明細書）は、透明から不透明までのポリマー
混合物を記載していて、これは、可溶性の架橋されてい
ないポリマーの連続相からなり、（メタ）アクリル酸エ
ステル、スチロール、塩化ビニル又は酢酸ビニルの重合
により製造され、その中に、アクリル−又はメタクリル
酸エステル又はスチロールの群からなるモノエチレン性
不飽和モノマー少なくとも１種８７〜９９．９９重量％
並びに多重結合不飽和モノマー少なくとも１種０．０１
〜３重量％及び極性モノマー０〜１０重量％からなる架
橋したポリマー粒子が分散されている。散乱粒子は、実
質的には球形であり、かつ粒径０．５〜３０μｍを有す
る。
０７号明細書（米国特許３９９２４８６号、同第４００
０２１６号明細書）は、透明から不透明までのポリマー
混合物を記載していて、これは、可溶性の架橋されてい
ないポリマーの連続相からなり、（メタ）アクリル酸エ
ステル、スチロール、塩化ビニル又は酢酸ビニルの重合
により製造され、その中に、アクリル−又はメタクリル
酸エステル又はスチロールの群からなるモノエチレン性
不飽和モノマー少なくとも１種８７〜９９．９９重量％
並びに多重結合不飽和モノマー少なくとも１種０．０１
〜３重量％及び極性モノマー０〜１０重量％からなる架
橋したポリマー粒子が分散されている。散乱粒子は、実
質的には球形であり、かつ粒径０．５〜３０μｍを有す
る。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】技術水準の解決法は、
散乱体を含有する成形材料、殊にポリスチロール成形材
料の加工の際に、やはり完全には満足できない。しばし
ば、散乱体含有成形材料の熱可塑的加工の際に、殊に押
出しの際に、散乱粒子の凝集が生じ、かつこれにより、
この成形材料から形成される成形部材における光の散乱
に、局所的に不均一が生じる。
散乱体を含有する成形材料、殊にポリスチロール成形材
料の加工の際に、やはり完全には満足できない。しばし
ば、散乱体含有成形材料の熱可塑的加工の際に、殊に押
出しの際に、散乱粒子の凝集が生じ、かつこれにより、
この成形材料から形成される成形部材における光の散乱
に、局所的に不均一が生じる。
【００１３】
ｐ１）メチルメタクリレート及び／又はエチルメタクリ
レート２０〜８９．５重量％、 ｐ２）式Ｉ：
レート２０〜８９．５重量％、 ｐ２）式Ｉ：
【００１４】
【化２】
【００１５】［式中、Ｒ1は炭素原子３〜２４個を有す
るアルキル基を表わす］のモノマー少なくとも１個１０
〜８０重量％及び ｐ３）エチレン性不飽和のラジカル重合可能な基２個以
上を有する架橋モノマー少なくとも１個０．５〜１０重
量％、及び場合により ｐ４） ｐ１）、ｐ２）、ｐ３）とラジカル重合可能な
更なるエチレン性不飽和モノマー０〜１０重量％（ここ
で、モノマーｐ１）、ｐ２）、ｐ３）及びｐ４）は１０
０重量％まで補充する）から形成されたコポリマーＣＰ
からなる散乱体ＳＫは、スチロール及び／又は置換され
たスチロール少なくとも５０重量％から形成されたマト
リックス相ＭＰ（ここで、マトリックス相ＭＰは、１０
℃より低いガラス転位温度を有する粘着相成分ＺＰを含
有していてよい）中に、有利な方法で、溶融混合で、均
一に分散可能であり、かつ更なる熱可塑的加工におい
て、均一に分散されたままであることが分かった。散乱
体ＳＫの平均粒径は０．５〜１５０μｍであり、その
際、散乱体ＳＫ分は、光散乱ポリスチロール成形材料に
対して０．１〜６０重量部になる。
るアルキル基を表わす］のモノマー少なくとも１個１０
〜８０重量％及び ｐ３）エチレン性不飽和のラジカル重合可能な基２個以
上を有する架橋モノマー少なくとも１個０．５〜１０重
量％、及び場合により ｐ４） ｐ１）、ｐ２）、ｐ３）とラジカル重合可能な
更なるエチレン性不飽和モノマー０〜１０重量％（ここ
で、モノマーｐ１）、ｐ２）、ｐ３）及びｐ４）は１０
０重量％まで補充する）から形成されたコポリマーＣＰ
からなる散乱体ＳＫは、スチロール及び／又は置換され
たスチロール少なくとも５０重量％から形成されたマト
リックス相ＭＰ（ここで、マトリックス相ＭＰは、１０
℃より低いガラス転位温度を有する粘着相成分ＺＰを含
有していてよい）中に、有利な方法で、溶融混合で、均
一に分散可能であり、かつ更なる熱可塑的加工におい
て、均一に分散されたままであることが分かった。散乱
体ＳＫの平均粒径は０．５〜１５０μｍであり、その
際、散乱体ＳＫ分は、光散乱ポリスチロール成形材料に
対して０．１〜６０重量部になる。
【００１６】本発明の他の１態様において、マトリック
ス相ＭＰ中へ加える前に、散乱体ＳＫに、ポリマー流動
剤ＦＭを、ＳＫに対して５〜９５重量部の配分で混入
し、その際、ＦＭは、 ｆ１）メチルメタクリレート及び／又はエチルメタクリ
レート２０〜９０重量％ ｆ２）少なくとも１種の式Ｉのモノマー１０〜８０重量
％、並びに場合により ｆ３）ｆ１）及びｆ２）とラジカル共重合可能な更なる
エチレン性不飽和モノマー０〜１０重量％（ここで、モ
ノマーｆ１）、ｆ２）及びｆ３）を１００重量％まで補
充する）から形成される。
ス相ＭＰ中へ加える前に、散乱体ＳＫに、ポリマー流動
剤ＦＭを、ＳＫに対して５〜９５重量部の配分で混入
し、その際、ＦＭは、 ｆ１）メチルメタクリレート及び／又はエチルメタクリ
レート２０〜９０重量％ ｆ２）少なくとも１種の式Ｉのモノマー１０〜８０重量
％、並びに場合により ｆ３）ｆ１）及びｆ２）とラジカル共重合可能な更なる
エチレン性不飽和モノマー０〜１０重量％（ここで、モ
ノマーｆ１）、ｆ２）及びｆ３）を１００重量％まで補
充する）から形成される。
【００１７】散乱体ＳＫ コポリマーＣＰを形成するモノマー単位ｐ１）、ｐ
２）、ｐ３）及び場合によりｐ４）の配分は、１００重
量％まで補充する。
２）、ｐ３）及び場合によりｐ４）の配分は、１００重
量％まで補充する。
【００１８】コポリマーＣＰから形成された散乱体ＳＫ
は、平均粒径０．５〜１５０μｍ、有利には１〜１０μ
ｍ、特に有利には１〜５μｍを有するラテックス粒子か
らなる。その製造は、欧州特許（ＵＳ）第４２６８５４
９号明細書中に記載されている。コポリマーＣＰから形
成されたラテックス粒子（＝散乱体ＳＫ）が球形である
場合は有利である。これらは、有利には、いわゆる種晶
ラテックス(Saatlatex)法により製造され、かつ例え
ば、個々の粒子が溶融しない条件下での噴霧乾燥により
乾燥されて、粉末になる。
は、平均粒径０．５〜１５０μｍ、有利には１〜１０μ
ｍ、特に有利には１〜５μｍを有するラテックス粒子か
らなる。その製造は、欧州特許（ＵＳ）第４２６８５４
９号明細書中に記載されている。コポリマーＣＰから形
成されたラテックス粒子（＝散乱体ＳＫ）が球形である
場合は有利である。これらは、有利には、いわゆる種晶
ラテックス(Saatlatex)法により製造され、かつ例え
ば、個々の粒子が溶融しない条件下での噴霧乾燥により
乾燥されて、粉末になる。
【００１９】散乱体ＳＫを形成するコポリマーＣＰの屈
折率及びマトリックスポリマーＭＰの屈折率は、必要な
散乱作用を得るために、ここでは、少なくとも０．０２
単位異なっているべきである。
折率及びマトリックスポリマーＭＰの屈折率は、必要な
散乱作用を得るために、ここでは、少なくとも０．０２
単位異なっているべきである。
【００２０】モノマーｐ２）は、式Ｉによるメタクリル
酸エステルであり、式中、Ｒ1は、例えばｎ−プロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチ
ル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、
ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−エイコシル
並びに獣脂脂肪族アルコールのアルキル基を表わしう
る。同様に、Ｒ1は、場合により置換されたシクロアル
キル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、３，
３，５−トリメチル−シクロヘキシル又はシクロオクチ
ルを表わしうる。
酸エステルであり、式中、Ｒ1は、例えばｎ−プロピ
ル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチ
ル、アミル、ｎ−ヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチ
ル、２−エチルヘキシル、ｎ−デシル、ｎ−ドデシル、
ｎ−テトラデシル、ｎ−ヘキサデシル、ｎ−エイコシル
並びに獣脂脂肪族アルコールのアルキル基を表わしう
る。同様に、Ｒ1は、場合により置換されたシクロアル
キル基、例えばシクロペンチル、シクロヘキシル、３，
３，５−トリメチル−シクロヘキシル又はシクロオクチ
ルを表わしうる。
【００２１】架橋モノマーｐ３）は、例えば次のもので
あってよい；ジオールの（メタ）アクリルエステル、例
えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート又は
１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；ビニ
ル−又はアリル基２個を有する芳香族化合物、例えばジ
ビニルベンゾール又はジアリルフタレート；又はエチレ
ン性不飽和のラジカル重合可能な基２個を有する他の架
橋剤、例えばアリルメタクリレート又はグラフト架橋
剤、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、
ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノール
−Ａ−ジ（メタ）アクリレート又はＮ−メチルジ（メ
タ）アクリルアミド。３個以上の不飽和ラジカル重合可
能な基を有する架橋剤ｐ３）として、例えばトリアリル
シアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート並びにペンタエリトリットテトラ（メタ）ア
クリレートが挙げられる。このための、他の例は、米国
特許（ＵＳ−ＰＳ）第４５１３１１８号明細書中に記載
されている。
あってよい；ジオールの（メタ）アクリルエステル、例
えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート又は
１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート；ビニ
ル−又はアリル基２個を有する芳香族化合物、例えばジ
ビニルベンゾール又はジアリルフタレート；又はエチレ
ン性不飽和のラジカル重合可能な基２個を有する他の架
橋剤、例えばアリルメタクリレート又はグラフト架橋
剤、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、
ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノール
−Ａ−ジ（メタ）アクリレート又はＮ−メチルジ（メ
タ）アクリルアミド。３個以上の不飽和ラジカル重合可
能な基を有する架橋剤ｐ３）として、例えばトリアリル
シアヌレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート並びにペンタエリトリットテトラ（メタ）ア
クリレートが挙げられる。このための、他の例は、米国
特許（ＵＳ−ＰＳ）第４５１３１１８号明細書中に記載
されている。
【００２２】コポリマーＣＰ中に０〜１０重量％の量で
存在していてよいコモノマーｐ４）は、例えば式ＩＩ：
存在していてよいコモノマーｐ４）は、例えば式ＩＩ：
【００２３】
【化３】
【００２４】［式中、Ｒ2は、水素又はメチルを表わ
し、かつＱは、ＣＯＯＲ3を表わし、ここで、Ｒ3は、水
素又は１価のカチオン、特にアルカリ金属−又はアンモ
ニウムカチオンを表わすか、又はＲ3は、特に、置換基
として、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は特にＣ1〜
Ｃ3−アルキル基を含有するアミノアルキル基を有する
アルキル基を表わし、Ｒ2＝Ｈであるために、Ｒ3は、有
利にはＣ1〜Ｃ24−アルキルである］のモノマーであ
る。
し、かつＱは、ＣＯＯＲ3を表わし、ここで、Ｒ3は、水
素又は１価のカチオン、特にアルカリ金属−又はアンモ
ニウムカチオンを表わすか、又はＲ3は、特に、置換基
として、アルコキシ基、ヒドロキシ基、又は特にＣ1〜
Ｃ3−アルキル基を含有するアミノアルキル基を有する
アルキル基を表わし、Ｒ2＝Ｈであるために、Ｒ3は、有
利にはＣ1〜Ｃ24−アルキルである］のモノマーであ
る。
【００２５】コモノマーｐ４）は、例えば次のものであ
る：（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸の塩、例
えばナトリウム−又はアンモニウムメタクリレート、
（メタ）アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル、例
えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート又は２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）
アクリル酸のアルコキシアルキルエステル、例えば２−
ブトキシエチル（メタ）アクリレート又は２−メトキシ
エチル（メタ）アクリレート、並びに（メタ）アクリル
酸のアミノアルキルエステル、例えば２−ジメチルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート、２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジル−４−（メタ）アクリレート又は３
−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート。
る：（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸の塩、例
えばナトリウム−又はアンモニウムメタクリレート、
（メタ）アクリル酸のヒドロキシアルキルエステル、例
えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート又は２
−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）
アクリル酸のアルコキシアルキルエステル、例えば２−
ブトキシエチル（メタ）アクリレート又は２−メトキシ
エチル（メタ）アクリレート、並びに（メタ）アクリル
酸のアミノアルキルエステル、例えば２−ジメチルアミ
ノエチル（メタ）アクリレート、２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジル−４−（メタ）アクリレート又は３
−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート。
【００２６】有利なコモノマーｐ４は、アクリル酸のＣ
1〜Ｃ24−エステル、例えばメチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート及びスチロール及び一般的にＣ1〜Ｃ3
−アルキル置換されたその誘導体、例えばα−メチルス
チロール、ｐ−メチルスチロール、ｍ−メチルスチロー
ルである。
1〜Ｃ24−エステル、例えばメチルアクリレート、エチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート及びスチロール及び一般的にＣ1〜Ｃ3
−アルキル置換されたその誘導体、例えばα−メチルス
チロール、ｐ−メチルスチロール、ｍ−メチルスチロー
ルである。
【００２７】コポリマーＣＰは、メチルメタクリレート
（モノマーｐ１）及び低級アルキルメタクリレート（モ
ノマーｐ２）、例えばイソブチル−又はｎ−ブチルメタ
クリレートからの、重量比３：１〜１：３の混合物９０
〜９９．５重量％、並びに架橋モノマーｐ３）０．５〜
１０重量％から形成されているのが殊に有利である。
（モノマーｐ１）及び低級アルキルメタクリレート（モ
ノマーｐ２）、例えばイソブチル−又はｎ−ブチルメタ
クリレートからの、重量比３：１〜１：３の混合物９０
〜９９．５重量％、並びに架橋モノマーｐ３）０．５〜
１０重量％から形成されているのが殊に有利である。
【００２８】ポリマー流動剤ＦＭ ポリマー流動剤ＦＭは、自体公知の方法で、モノマーｆ
１）、ｆ２）及び場合によりｆ３）から、ラジカル重合
又は基転位(Gruppentransfer)重合により形成される
（H.Rauch-Puntigam,Th.Voelker,Acryl-und Methacrylv
erbindungen,Springer-Verlag,ハイデルベルク,1967:Ho
uben-Weyl,第４版、XIV/1巻,1010頁以降、Thieme-Verla
g,1961参照）。ＦＭの重合は、塊状、懸濁液、エマルジ
ョン又は溶液の形で実施することができる。ラジカル重
合において、特に、開始剤、例えばペルオキシド−化合
物、殊に有機ペルオキシド、例えばジベンゾイルペルオ
キシド又はラウロイルペルオキシド、アゾ化合物、例え
ばアゾジイソブチロニトリル、又はレドックス−開始剤
を、モノマー分に対して０．０１〜５重量％の量で使用
する。重合を開始するラジカルは、高エネルギー照射に
よっても得られる。重合調節剤としては、例えば、モノ
マー分に対して０．１〜５重量％の量の慣例の硫黄化合
物、例えばメルカプト化合物がこれに該当する。
１）、ｆ２）及び場合によりｆ３）から、ラジカル重合
又は基転位(Gruppentransfer)重合により形成される
（H.Rauch-Puntigam,Th.Voelker,Acryl-und Methacrylv
erbindungen,Springer-Verlag,ハイデルベルク,1967:Ho
uben-Weyl,第４版、XIV/1巻,1010頁以降、Thieme-Verla
g,1961参照）。ＦＭの重合は、塊状、懸濁液、エマルジ
ョン又は溶液の形で実施することができる。ラジカル重
合において、特に、開始剤、例えばペルオキシド−化合
物、殊に有機ペルオキシド、例えばジベンゾイルペルオ
キシド又はラウロイルペルオキシド、アゾ化合物、例え
ばアゾジイソブチロニトリル、又はレドックス−開始剤
を、モノマー分に対して０．０１〜５重量％の量で使用
する。重合を開始するラジカルは、高エネルギー照射に
よっても得られる。重合調節剤としては、例えば、モノ
マー分に対して０．１〜５重量％の量の慣例の硫黄化合
物、例えばメルカプト化合物がこれに該当する。
【００２９】一般的に、平均分子量Ｍｗは、２×１０3
〜１０6ダルトン、特に１０4〜２×１０5ダルトンであ
った（例えば、ゲル透過クロマトグラフィーにより測
定：このために、例えば、マーク（H.F.Mark.）等、エ
ンサイクロペディア・オブ・ポリマー・サイエンス・ア
ンド・エンジニアリング（Encyclopedia of Polymer Sc
ience and Engineering,2rd.Ed.Vol.10，１〜１９頁、
J.Wiley 1987）参照）。ポリマー流動剤ＭＬの不均一性
Ｕ（＝ＭＷ／Ｍｎ−１）は、一般的に、０．１〜２の範
囲内にある。
〜１０6ダルトン、特に１０4〜２×１０5ダルトンであ
った（例えば、ゲル透過クロマトグラフィーにより測
定：このために、例えば、マーク（H.F.Mark.）等、エ
ンサイクロペディア・オブ・ポリマー・サイエンス・ア
ンド・エンジニアリング（Encyclopedia of Polymer Sc
ience and Engineering,2rd.Ed.Vol.10，１〜１９頁、
J.Wiley 1987）参照）。ポリマー流動剤ＭＬの不均一性
Ｕ（＝ＭＷ／Ｍｎ−１）は、一般的に、０．１〜２の範
囲内にある。
【００３０】特に、ポリマー流動剤ＦＭは、モノマー単
位ｆ１）を２０〜９０重量％及び式Ｉ［式中、Ｒ1は、
炭素原子３〜２４個、特に炭素原子４〜１８個を有する
アルキル基を表わす］のモノマー単位ｆ２）を１０〜８
０重量％含有する。更に、Ｒ1中の炭素原子の数が増加
するにつれ、次の流動剤ＦＭにおけるモノマーｆ２）の
相対的配分が減少するという決まりを守ることは有利で
ある。すなわち、これらのモノマーの相対的配分は、Ｒ
1中の炭素原子の数に対して逆の挙動を示す。
位ｆ１）を２０〜９０重量％及び式Ｉ［式中、Ｒ1は、
炭素原子３〜２４個、特に炭素原子４〜１８個を有する
アルキル基を表わす］のモノマー単位ｆ２）を１０〜８
０重量％含有する。更に、Ｒ1中の炭素原子の数が増加
するにつれ、次の流動剤ＦＭにおけるモノマーｆ２）の
相対的配分が減少するという決まりを守ることは有利で
ある。すなわち、これらのモノマーの相対的配分は、Ｒ
1中の炭素原子の数に対して逆の挙動を示す。
【００３１】本発明により、良好に使用可能なポリマー
流動剤ＦＭは、例えば、メチルメタクリレート５０重量
％／ブチルメタクリレート５０重量％の組成を有してい
てよい。同様に、例えば、メチルメタクリレート７０重
量％及びｎ−デシルメタクリレート３０重量％からなる
流動剤ＦＭを使用することもできる。ここでの観察は、
モノマー成分ｆ１）のメチル−もしくはエチル−置換基
と、モノマー成分ｆ２）の置換基Ｒ1との間に、炭素原
子≧２個、有利には≧３個の差があるべきであることを
示している。このようにして製造されたポリマー流動剤
ＦＭは、１５０〜２５０℃で、スチロール含有マトリッ
クスポリマーＭＰと同様に高い流動性を有する。
流動剤ＦＭは、例えば、メチルメタクリレート５０重量
％／ブチルメタクリレート５０重量％の組成を有してい
てよい。同様に、例えば、メチルメタクリレート７０重
量％及びｎ−デシルメタクリレート３０重量％からなる
流動剤ＦＭを使用することもできる。ここでの観察は、
モノマー成分ｆ１）のメチル−もしくはエチル−置換基
と、モノマー成分ｆ２）の置換基Ｒ1との間に、炭素原
子≧２個、有利には≧３個の差があるべきであることを
示している。このようにして製造されたポリマー流動剤
ＦＭは、１５０〜２５０℃で、スチロール含有マトリッ
クスポリマーＭＰと同様に高い流動性を有する。
【００３２】流動剤ＦＭは、マトリックスポリマーＭＰ
と相容性のポリマー混合物ＰＭを形成し、その特徴付け
は、一般に認められた基準により行なわれる（このため
に、Kirk-Othmer,Encyclopedia of Chemical Technolog
y,3rd.Ed.,Vol.18,457〜460頁、J.Wiley,1982;J.Brandr
up,E.H.Immergut,Polymer Handbook,2nd.Ed.III/211,Wi
ley Interscience,1975参照）。相容性のポリマー混合
物ＰＭにおいては、屈折率及び双方のポリマー成分ＦＭ
及びＭＰのガラス転位温度の間にある固有のガラス転位
温度が認められる。相容性に関する他の指標として、Ｌ
ＣＳＴ(Lower Critical Solution Temperature)の発生
を引合いに出すことができるが、その存在は、加温時
に、その時までに、異なる相中に澄明な透明混合物が生
じ、かつ光学的に濁ることに起因し、このことは、元の
ポリマー混合物が、固有の、熱力学的に平衡である相か
らなることを明らかに証明する（このために、例えば、
D.R.Paul,Polymer Blends&Mixtures,1〜3頁、Martinus
Nijhoff Publishers,Dordrecht,Boston,1985参照）。
と相容性のポリマー混合物ＰＭを形成し、その特徴付け
は、一般に認められた基準により行なわれる（このため
に、Kirk-Othmer,Encyclopedia of Chemical Technolog
y,3rd.Ed.,Vol.18,457〜460頁、J.Wiley,1982;J.Brandr
up,E.H.Immergut,Polymer Handbook,2nd.Ed.III/211,Wi
ley Interscience,1975参照）。相容性のポリマー混合
物ＰＭにおいては、屈折率及び双方のポリマー成分ＦＭ
及びＭＰのガラス転位温度の間にある固有のガラス転位
温度が認められる。相容性に関する他の指標として、Ｌ
ＣＳＴ(Lower Critical Solution Temperature)の発生
を引合いに出すことができるが、その存在は、加温時
に、その時までに、異なる相中に澄明な透明混合物が生
じ、かつ光学的に濁ることに起因し、このことは、元の
ポリマー混合物が、固有の、熱力学的に平衡である相か
らなることを明らかに証明する（このために、例えば、
D.R.Paul,Polymer Blends&Mixtures,1〜3頁、Martinus
Nijhoff Publishers,Dordrecht,Boston,1985参照）。
【００３３】他の実施態様において、ポリスチロールを
基礎とする流動剤を使用する。この場合、比較的易流動
性のポリスチロール成形材料から由来する。
基礎とする流動剤を使用する。この場合、比較的易流動
性のポリスチロール成形材料から由来する。
【００３４】マトリックスポリマーＭＰ マトリックスポリマーＭＰは、モノマー単位としてのス
チロール及び／又は置換されたスチロール少なくとも５
０重量％、有利には少なくとも７５重量％、殊に有利に
は少なくとも９０重量％から形成される。
チロール及び／又は置換されたスチロール少なくとも５
０重量％、有利には少なくとも７５重量％、殊に有利に
は少なくとも９０重量％から形成される。
【００３５】マトリックスポリマーＭＰは、自体公知の
方法で、前記モノマーの重合により製造される（R.View
eg,G.Aumiller,Kunststoff-Handbuch,Band V,Polystyro
l,Curt Hanser,1959;Ullmanns Enzyklopaedie der Tech
n.Chemie,第4版,19巻,265頁、Verlag Chemie,1980;Houb
en-Weyl,第4版. XIV/1巻,753頁以降、Georg Thieme,1961
参照）。スチロールもしくは置換されたスチロールは、
カチオン、アニオン、ラジカル又は配位重合することが
できるが、特にラジカル重合する。その際、重合は、熱
的に又は特に、例えば、ポリマー流動剤ＦＭの製造にお
いて挙げたラジカル開始剤の添加により、実施すること
ができる。重合開始剤の選択により、全温度範囲で、十
分な重合速度を確実にすることができる。マトリックス
ポリマーＭＰの平均分子量Ｍｗ（Ｍｗの測定に関しては
前記参照）は、１０4〜１０6ダルトン、特に、５×１０
4〜５×１０5ダルトン、殊に有利には１０5〜３．５×
１０5ダルトンである。
方法で、前記モノマーの重合により製造される（R.View
eg,G.Aumiller,Kunststoff-Handbuch,Band V,Polystyro
l,Curt Hanser,1959;Ullmanns Enzyklopaedie der Tech
n.Chemie,第4版,19巻,265頁、Verlag Chemie,1980;Houb
en-Weyl,第4版. XIV/1巻,753頁以降、Georg Thieme,1961
参照）。スチロールもしくは置換されたスチロールは、
カチオン、アニオン、ラジカル又は配位重合することが
できるが、特にラジカル重合する。その際、重合は、熱
的に又は特に、例えば、ポリマー流動剤ＦＭの製造にお
いて挙げたラジカル開始剤の添加により、実施すること
ができる。重合開始剤の選択により、全温度範囲で、十
分な重合速度を確実にすることができる。マトリックス
ポリマーＭＰの平均分子量Ｍｗ（Ｍｗの測定に関しては
前記参照）は、１０4〜１０6ダルトン、特に、５×１０
4〜５×１０5ダルトン、殊に有利には１０5〜３．５×
１０5ダルトンである。
【００３６】場合により、ポリマーマトリックス相ＭＰ
は、ポリマー粘着相ＺＰを、３０重量％までの配分で含
有していてよく、その際、ポリマー粘着相ＺＰを形成す
る粒子は、０．０１〜２０μｍの粒径を有し、かつＭＰ
中に微細に分散されている。粘着相ＺＰを形成するポリ
マーは、ガラス転位温度Ｔｇ＜１０℃、有利には＜−１
０℃を有し、かつ通常「エラストマー及びゴム」の概念
下にまとめられる。粘着相ＺＰを形成する、場合により
架橋されたポリマーは、例えばポリシロキサン、エチレ
ン−ビニルアセテート−コポリマー、ポリアクリレー
ト、有利にはポリオレフィン並びに殊に有利にはポリジ
エンである。このような変性されたマトリックス相ポリ
マーＭＰの製造は公知であり、かつ例えば、塊状−、懸
濁−又は乳化重合により行なう（Kirk-Othmer、前記、1
7巻,470,471頁;21巻,811〜816頁、J.Wiley 1982,1983参
照）。
は、ポリマー粘着相ＺＰを、３０重量％までの配分で含
有していてよく、その際、ポリマー粘着相ＺＰを形成す
る粒子は、０．０１〜２０μｍの粒径を有し、かつＭＰ
中に微細に分散されている。粘着相ＺＰを形成するポリ
マーは、ガラス転位温度Ｔｇ＜１０℃、有利には＜−１
０℃を有し、かつ通常「エラストマー及びゴム」の概念
下にまとめられる。粘着相ＺＰを形成する、場合により
架橋されたポリマーは、例えばポリシロキサン、エチレ
ン−ビニルアセテート−コポリマー、ポリアクリレー
ト、有利にはポリオレフィン並びに殊に有利にはポリジ
エンである。このような変性されたマトリックス相ポリ
マーＭＰの製造は公知であり、かつ例えば、塊状−、懸
濁−又は乳化重合により行なう（Kirk-Othmer、前記、1
7巻,470,471頁;21巻,811〜816頁、J.Wiley 1982,1983参
照）。
【００３７】マトリックス相ＭＰ、散乱体ＳＫ及び場合
による流動剤ＦＭからなる光散乱成形材料の製造 粉末形で存在し、コポリマーＣＰから形成された散乱体
ＳＫを、例えば粉末形又は顆粒形で存在していてよいマ
トリックスポリマーＭＰ及び場合による流動剤ＦＭと、
先ず、ゆっくりと作動する混同装置、例えばドラム−(T
rommel-)、フープ(Roehnrad)又は二室−すき刃ミキサー
(Doppelkammer-Pflufscharmischer)の使用下に前混合す
る。ゆっくりと作動する混合装置は、一般的に、相境界
を相殺しない機械的混合の原因となる（Ullmanns Enzyk
lopaedie der Techn.Chemie,第4版.2巻,282〜311頁,Ver
lag Chemie,1980）。
による流動剤ＦＭからなる光散乱成形材料の製造 粉末形で存在し、コポリマーＣＰから形成された散乱体
ＳＫを、例えば粉末形又は顆粒形で存在していてよいマ
トリックスポリマーＭＰ及び場合による流動剤ＦＭと、
先ず、ゆっくりと作動する混同装置、例えばドラム−(T
rommel-)、フープ(Roehnrad)又は二室−すき刃ミキサー
(Doppelkammer-Pflufscharmischer)の使用下に前混合す
る。ゆっくりと作動する混合装置は、一般的に、相境界
を相殺しない機械的混合の原因となる（Ullmanns Enzyk
lopaedie der Techn.Chemie,第4版.2巻,282〜311頁,Ver
lag Chemie,1980）。
【００３８】一般的に、先ず、いわゆる「マスターバッ
チ」、散乱体ＳＫ及びマトリックス相ＭＰからの混合物
又は散乱体ＳＫ及び流動剤ＦＭからの混合物を、ＳＫ：
ＭＰもしくはＳＫ：ＦＭ３：１〜１：５の混合比で製造
する。引き続き、マスターバッチの熱可塑的後処理を、
前記混合成分の溶融物の形での均一混合により、加熱可
能な混合装置の使用下に、このために適当な温度、例え
ば１５０〜３００℃で、練和機又は特に押出機、例えば
１本スクリュー−又は複数スクリュー押出機又は場合に
より振動スクリュー及びシーア・ピン(Scherstift)を有
する押出機（例えばバスコ(Bussco)−練和機）中で行な
う。この方法を用いて、一般的に、２〜５ｍｍの粒径を
有する、等粒度顆粒が製造される。顆粒は、その中に貯
蔵された寸法安定性散乱体ＳＫを有する、ＭＰ又はＦＭ
から形成された熱可塑性成分からなる。一定の場合に、
熱可塑性成分は、マトリックスポリマーＭＰ及び流動剤
ＦＭの、混合比１０：１〜１：１０での混合からなる。
チ」、散乱体ＳＫ及びマトリックス相ＭＰからの混合物
又は散乱体ＳＫ及び流動剤ＦＭからの混合物を、ＳＫ：
ＭＰもしくはＳＫ：ＦＭ３：１〜１：５の混合比で製造
する。引き続き、マスターバッチの熱可塑的後処理を、
前記混合成分の溶融物の形での均一混合により、加熱可
能な混合装置の使用下に、このために適当な温度、例え
ば１５０〜３００℃で、練和機又は特に押出機、例えば
１本スクリュー−又は複数スクリュー押出機又は場合に
より振動スクリュー及びシーア・ピン(Scherstift)を有
する押出機（例えばバスコ(Bussco)−練和機）中で行な
う。この方法を用いて、一般的に、２〜５ｍｍの粒径を
有する、等粒度顆粒が製造される。顆粒は、その中に貯
蔵された寸法安定性散乱体ＳＫを有する、ＭＰ又はＦＭ
から形成された熱可塑性成分からなる。一定の場合に、
熱可塑性成分は、マトリックスポリマーＭＰ及び流動剤
ＦＭの、混合比１０：１〜１：１０での混合からなる。
【００３９】第２の加工工程で、「マスターバッチ」−
顆粒を、前記のようなマトリックス相ＭＰの顆粒と、機
械的及び熱可塑的に、マスターバッチ：ＭＰの混合比
１：３〜１：１００、有利には１：５〜１：５０で混合
する。得られた光散乱成形材料を、熱可塑的加工工程に
より造粒する。これは、例えば、射出成形又は押出しに
よる、成形体又はプレートへの更なる加工に使用され
る。
顆粒を、前記のようなマトリックス相ＭＰの顆粒と、機
械的及び熱可塑的に、マスターバッチ：ＭＰの混合比
１：３〜１：１００、有利には１：５〜１：５０で混合
する。得られた光散乱成形材料を、熱可塑的加工工程に
より造粒する。これは、例えば、射出成形又は押出しに
よる、成形体又はプレートへの更なる加工に使用され
る。
【００４０】マトリックス相ＭＰ、散乱体ＳＫ及び場合
による流動剤ＦＭからなる本発明の光散乱成形材料は、
一般的に、更に、光遮断剤、例えばＵＶ−吸収剤、安定
剤、例えばラジカル捕捉剤、並びに滑剤及び離型剤を含
有する。（適当な化合物の選択は、R.Graechter,Tasche
nbuch der Kunststoffadditive,３版、1989、Hanser Ver
lagに記載されている）。ＵＶ−吸収剤の使用は、特に
重要である。ＵＶ−吸収剤は、一般的に、０．０１〜２
重量％の配分で、光散乱成形材料中に含有される。例え
ばベンズトリアゾール型のＵＶ−吸収剤は、マスターバ
ッチ中に、予め、高い濃度、例えば０．１〜１０重量
％、有利には０．５〜５重量％で加えるのが有利であ
る。殊に有利な実施態様において、マスターバッチは、
ＵＶ−吸収剤、例えばチヌビン（登録商標）Ｐ(Ciba Ge
igy)を、マスターバッチ中に含有される散乱体ＳＫ分に
対して、１〜２０重量％含有する。
による流動剤ＦＭからなる本発明の光散乱成形材料は、
一般的に、更に、光遮断剤、例えばＵＶ−吸収剤、安定
剤、例えばラジカル捕捉剤、並びに滑剤及び離型剤を含
有する。（適当な化合物の選択は、R.Graechter,Tasche
nbuch der Kunststoffadditive,３版、1989、Hanser Ver
lagに記載されている）。ＵＶ−吸収剤の使用は、特に
重要である。ＵＶ−吸収剤は、一般的に、０．０１〜２
重量％の配分で、光散乱成形材料中に含有される。例え
ばベンズトリアゾール型のＵＶ−吸収剤は、マスターバ
ッチ中に、予め、高い濃度、例えば０．１〜１０重量
％、有利には０．５〜５重量％で加えるのが有利であ
る。殊に有利な実施態様において、マスターバッチは、
ＵＶ−吸収剤、例えばチヌビン（登録商標）Ｐ(Ciba Ge
igy)を、マスターバッチ中に含有される散乱体ＳＫ分に
対して、１〜２０重量％含有する。
【００４１】本発明の光散乱成形材料の特徴 使用した散乱体ＳＫの量に応じて、半透明から不透明の
光散乱成形材料を製造することができる。
光散乱成形材料を製造することができる。
【００４２】マスターバッチを製造することにより、一
般的に、粉末状の散乱体ＳＫを、ダスト不含で、ポリマ
ーマトリックス相ＭＰ中に加えることができる。ポリマ
ー流動剤ＦＭの非常に良好な流動性に基づき、ＳＫ及び
ＦＭからなるマスターバッチ中の散乱体ＳＫの配分を、
非常に高く選択することができる。
般的に、粉末状の散乱体ＳＫを、ダスト不含で、ポリマ
ーマトリックス相ＭＰ中に加えることができる。ポリマ
ー流動剤ＦＭの非常に良好な流動性に基づき、ＳＫ及び
ＦＭからなるマスターバッチ中の散乱体ＳＫの配分を、
非常に高く選択することができる。
【００４３】非常に微細粉末の散乱体ＳＫは、ポリマー
マトリックスＭＰ中に、意外にも、非常に均一に分配さ
れる。その際、例えば高濃度の無機充填剤において、局
所凝集（いわゆる「雲り形成(Wolkenbildung)」）も沈
殿も生じない。良好な散乱作用において（すなわち例え
ば、光源は、本発明の光散乱成形材料を用いて製造され
た成形体の表面上に映し出されない）、全光線透過率
は、技術水準の成形材料に対して、明らかに改良され
る。
マトリックスＭＰ中に、意外にも、非常に均一に分配さ
れる。その際、例えば高濃度の無機充填剤において、局
所凝集（いわゆる「雲り形成(Wolkenbildung)」）も沈
殿も生じない。良好な散乱作用において（すなわち例え
ば、光源は、本発明の光散乱成形材料を用いて製造され
た成形体の表面上に映し出されない）、全光線透過率
は、技術水準の成形材料に対して、明らかに改良され
る。
【００４４】散乱体ＳＫは、押出しの温度−及び剪断条
件下で、その形状を維持し、その際、光散乱作用に必要
な、マトリックス相ＭＰ及び散乱体ＳＫとの間の屈折率
の跳躍(Sprung)が維持される。このことは、散乱体の均
一な分配を保証する、マトリックスポリマーＭＰと架橋
されていない散乱体−コポリマーＣＰとの相容性が、散
乱体ＳＫ／マトリックスポリマーＭＰ相境界の屈折率の
連続的な移行を予想させていたので、いっそう意外であ
る。
件下で、その形状を維持し、その際、光散乱作用に必要
な、マトリックス相ＭＰ及び散乱体ＳＫとの間の屈折率
の跳躍(Sprung)が維持される。このことは、散乱体の均
一な分配を保証する、マトリックスポリマーＭＰと架橋
されていない散乱体−コポリマーＣＰとの相容性が、散
乱体ＳＫ／マトリックスポリマーＭＰ相境界の屈折率の
連続的な移行を予想させていたので、いっそう意外であ
る。
【００４５】本発明の光散乱成形材料から製造された成
形体、例えばランプ又はスクリーンは、特に、同時に高
い光透過率で、光を散乱する。これらは、減少させた光
効率、更に減少させた熱発生で、部屋もしくは映写シス
テムの最大照明を可能にする。
形体、例えばランプ又はスクリーンは、特に、同時に高
い光透過率で、光を散乱する。これらは、減少させた光
効率、更に減少させた熱発生で、部屋もしくは映写シス
テムの最大照明を可能にする。
【００４６】一般的に、光散乱ポリスチロール成形材料
は、有利には、コポリマーＣＰからの散乱体ＳＫを０．
２〜５．０重量％含有する。しかしながら、前記したよ
うに、一般的に先ず、高配分の散乱体材料ＳＫ（例えば
５〜６０重量％、有利には１０〜５０重量％、殊に有利
には２０〜４０重量％）を有するマスターバッチを製造
する。次いで、マトリックスポリマーを用いて、光散乱
体の成形材料中の散乱体ＳＫの得ようとする含有率まで
希釈する。殊に有利な１態様において、一般的に必要な
ＵＶ−吸収剤も、一般的に１〜１０重量％の配分で、マ
スターバッチに予め加える。
は、有利には、コポリマーＣＰからの散乱体ＳＫを０．
２〜５．０重量％含有する。しかしながら、前記したよ
うに、一般的に先ず、高配分の散乱体材料ＳＫ（例えば
５〜６０重量％、有利には１０〜５０重量％、殊に有利
には２０〜４０重量％）を有するマスターバッチを製造
する。次いで、マトリックスポリマーを用いて、光散乱
体の成形材料中の散乱体ＳＫの得ようとする含有率まで
希釈する。殊に有利な１態様において、一般的に必要な
ＵＶ−吸収剤も、一般的に１〜１０重量％の配分で、マ
スターバッチに予め加える。
【００４７】
【実施例】次の例で本発明を詳述する。
【００４８】例１ 散乱体ＳＫの製造 撹拌器、外部冷却機及び流入器を有する重合容器中に、
完全脱塩水１２００重量部を装入し、かつ８０℃まで加
熱した。引き続き、ペルオキソ二硫酸アンモニウム６重
量部及びメチルメタクリレート４７．５重量％、イソブ
チルメタクリレート４７．５重量％及びグリコールジメ
タクレート５重量％からなる混合物Ｍ５重量部を加え
た。５分後に、１時間かかって、混合物Ｍを更に２９５
重量％滴加した。流入の終了後に、８０℃で１時間撹拌
し、次いで、冷却し、かつＶＡ−漉し布を介して濾別し
た。得られた分散液Ｉは、凝集不含であり、かつ固体含
有率２０％を有した。平均粒径は、約０．６５μｍであ
った。
完全脱塩水１２００重量部を装入し、かつ８０℃まで加
熱した。引き続き、ペルオキソ二硫酸アンモニウム６重
量部及びメチルメタクリレート４７．５重量％、イソブ
チルメタクリレート４７．５重量％及びグリコールジメ
タクレート５重量％からなる混合物Ｍ５重量部を加え
た。５分後に、１時間かかって、混合物Ｍを更に２９５
重量％滴加した。流入の終了後に、８０℃で１時間撹拌
し、次いで、冷却し、かつＶＡ−漉し布を介して濾別し
た。得られた分散液Ｉは、凝集不含であり、かつ固体含
有率２０％を有した。平均粒径は、約０．６５μｍであ
った。
【００４９】第２工程で、重合容器中に、完全脱塩水２
８０重量部及び前記分散液Ｉ５．５重量部を装入し、か
つ８０℃まで加熱した。引き続き、ペルオキソ二硫酸ア
ンモニウム０．１８重量部、及びメチルメタクリレート
２１５重量部、イソブチルメタクリレート２１５重量
部、グリコールジメタクリレート２３重量部、完全脱塩
水８００重量部、ラウリル硫酸ナトリウム０．６８重量
部及びペルオキソ二硫酸アンモニウム１．６重量部から
なるエマルジョンを４時間にわたって滴加した。流入終
了後に１時間、及びペルオキシ二硫酸アンモニウム０．
４５重量部の添加後に更に１時間、８０℃で最終重合し
た。得られた分散液は凝集不含であり、かつ固体含有率
３０％を有した。部分的又は完全に、大き過ぎる粒子が
ゆるく凝集しうるラテックス粒子の平均粒径は、約２．
５μｍであった。コポリマーＣＰの屈折率は、ポリマー
構成要素の増加から、Ｊ．ブランドラップ、Ｅ．Ｈ．イ
ンマーグート、ポリマー・ハンドブック（J.Brandrup,
E.H.Immergut,Polymer Handbook,第3版,VI/451、Wiley I
ntersciece,New York）により、ｎD 20＝１．４８５と計
算された。
８０重量部及び前記分散液Ｉ５．５重量部を装入し、か
つ８０℃まで加熱した。引き続き、ペルオキソ二硫酸ア
ンモニウム０．１８重量部、及びメチルメタクリレート
２１５重量部、イソブチルメタクリレート２１５重量
部、グリコールジメタクリレート２３重量部、完全脱塩
水８００重量部、ラウリル硫酸ナトリウム０．６８重量
部及びペルオキソ二硫酸アンモニウム１．６重量部から
なるエマルジョンを４時間にわたって滴加した。流入終
了後に１時間、及びペルオキシ二硫酸アンモニウム０．
４５重量部の添加後に更に１時間、８０℃で最終重合し
た。得られた分散液は凝集不含であり、かつ固体含有率
３０％を有した。部分的又は完全に、大き過ぎる粒子が
ゆるく凝集しうるラテックス粒子の平均粒径は、約２．
５μｍであった。コポリマーＣＰの屈折率は、ポリマー
構成要素の増加から、Ｊ．ブランドラップ、Ｅ．Ｈ．イ
ンマーグート、ポリマー・ハンドブック（J.Brandrup,
E.H.Immergut,Polymer Handbook,第3版,VI/451、Wiley I
ntersciece,New York）により、ｎD 20＝１．４８５と計
算された。
【００５０】例２： ポリマー流動剤ＦＭの製造 メチルメタクリレート５０００ｇ及びブチルメタクレー
ト５０００ｇを混合し、調節剤としてドデシルメルカプ
タン１００ｇ及び開始剤としてｔ−ブチルペルオキシネ
オデシノエート１５ｇ及びｔ−ブチルペルオキシ−２−
エチルヘキサノエート５ｇを加え、ホスタファン（登録
商標；Hostaphan）−袋（ヘキスト(Hoechst)ＡＧの登録
商標）中に充填し、かつ４５℃で２４時間、その後、８
０℃で１０時間重合する。
ト５０００ｇを混合し、調節剤としてドデシルメルカプ
タン１００ｇ及び開始剤としてｔ−ブチルペルオキシネ
オデシノエート１５ｇ及びｔ−ブチルペルオキシ−２−
エチルヘキサノエート５ｇを加え、ホスタファン（登録
商標；Hostaphan）−袋（ヘキスト(Hoechst)ＡＧの登録
商標）中に充填し、かつ４５℃で２４時間、その後、８
０℃で１０時間重合する。
【００５１】ガラス様澄明プラスチックブロックが得ら
れ、これを磨砕し、かつ押出機中で脱気し、かつ造粒す
る。得られたプラスチック顆粒は、Ｊ−値：Ｊ＝２５ｍ
ｌ／ｇを有する。
れ、これを磨砕し、かつ押出機中で脱気し、かつ造粒す
る。得られたプラスチック顆粒は、Ｊ−値：Ｊ＝２５ｍ
ｌ／ｇを有する。
【００５２】例３ ＳＫ及びＭＰからなるマスターバッチＭＢ１の製造 噴霧乾燥した例１によるエマルジョンポリマー（ＳＫ）
５０重量部及びポリスチロール（ＭＰ）５０重量部（ベ
スチロン（登録商標；Vestyron）１１４、ヒュルス(Hue
ls)社）を、溶融練和機中で、２００℃で、３０回転／
分で混合した。均一溶融物が得られた（回転モーメン
ト：５Ｎｍ）。こうして製造されたマスターバッチを、
更に加工する前に、細かい粉末に磨砕した。
５０重量部及びポリスチロール（ＭＰ）５０重量部（ベ
スチロン（登録商標；Vestyron）１１４、ヒュルス(Hue
ls)社）を、溶融練和機中で、２００℃で、３０回転／
分で混合した。均一溶融物が得られた（回転モーメン
ト：５Ｎｍ）。こうして製造されたマスターバッチを、
更に加工する前に、細かい粉末に磨砕した。
【００５３】例４ ＳＫ及びＦＭからなるマスターバッチＭＢ２の製造 噴霧乾燥した例１によるエマルジョンポリマー（ＳＫ）
５０重量部、及びメチルメタクリレート５０重量％及び
ｎ−ブチルメタクリレート（例２による材料）５０重量
％からのコポリマーＦＭ５０重量部を、溶融練和機中
で、２００℃で、３０回転／分で混合した。均一な、非
常に易流動性の溶融物が得られた（回転モーメント１．
０Ｎｍ）。こうして製造されたマスターバッチＭＢ２
を、更に加工する前に微細粉末に磨砕した。
５０重量部、及びメチルメタクリレート５０重量％及び
ｎ−ブチルメタクリレート（例２による材料）５０重量
％からのコポリマーＦＭ５０重量部を、溶融練和機中
で、２００℃で、３０回転／分で混合した。均一な、非
常に易流動性の溶融物が得られた（回転モーメント１．
０Ｎｍ）。こうして製造されたマスターバッチＭＢ２
を、更に加工する前に微細粉末に磨砕した。
【００５４】例５〜７ 光散乱成形材料の製造及びそれを基礎にして形成された
成形体 マトリックスポリマーＭＰ上に、例による散乱体を１％
の濃度で、もしくはマスターバッチＭＢ１及びＭＢ２を
２％の濃度で、傾斜シリンダーミキサー(Taumelmische
r)中で回転させた。粉末形の成分の良好な粘着を得るた
めに、及び混合の際の過剰なダスト発生を避けるため
に、顆粒状マトリックスポリマーＭＰを、先ず、パラフ
ィン油０．１％で湿らせた。これらの混合物から、１．
５ｍｍ厚のプレートを射出成形し、それについて全光透
過率を測定し、並びに光源の透視を目で見て評価した。
結果を第１表中に記載する。
成形体 マトリックスポリマーＭＰ上に、例による散乱体を１％
の濃度で、もしくはマスターバッチＭＢ１及びＭＢ２を
２％の濃度で、傾斜シリンダーミキサー(Taumelmische
r)中で回転させた。粉末形の成分の良好な粘着を得るた
めに、及び混合の際の過剰なダスト発生を避けるため
に、顆粒状マトリックスポリマーＭＰを、先ず、パラフ
ィン油０．１％で湿らせた。これらの混合物から、１．
５ｍｍ厚のプレートを射出成形し、それについて全光透
過率を測定し、並びに光源の透視を目で見て評価した。
結果を第１表中に記載する。
【００５５】
【表１】
Claims (13)
- 【請求項１】 スチロール及び／又は置換されたスチロ
ール少なくとも５０重量部から形成されたポリマーマト
リックス相ＭＰ４０〜９９．９重量％及び散乱体ＳＫ
０．１〜６０重量％からなる光散乱ポリスチロール成形
材料において、散乱体ＳＫは、 ｐ１）メチルメタクリレート及び／又はエチルメタクリ
レート２０〜８９．５重量部、 ｐ２）式Ｉ： 【化１】 ［式中、Ｒ1は炭素原子３〜２４個を有するアルキル基
を表わす］のモノマー少なくとも１個１０〜８０重量部
及び ｐ３）エチレン性不飽和のラジカル重合可能な基２個以
上を有する架橋モノマー少なくとも１個０．５〜１０重
量部（ここで、モノマーｐ１）、ｐ２）及びｐ３）は１
００重量部まで補充する）から形成されたコポリマーＣ
Ｐからなることを特徴とする、光散乱ポリスチロール成
形材料。 - 【請求項２】 散乱体ＳＫに、 ｆ１）メチルメタクリレート及び／又はエチルメタクリ
レート２０〜９０重量％及び ｆ２）式Ｉのモノマー少なくとも１個１０〜８０重量％
（ここで、モノマーｆ１）及びｆ２）は１００重量％ま
で補充する）から形成されたポリマー流動剤ＦＭが、Ｓ
Ｋに対して５〜９５重量部の配分で混合されていること
を特徴とする、請求項１記載の光散乱ポリスチロール成
形材料。 - 【請求項３】 ポリマーマトリックス相は、３０重量％
までの配分で、ガラス転位温度Ｔｇ＜１０℃を有する、
架橋されていてもよいポリマー粘着相ＺＰを含有してい
る、請求項１又は２記載の光散乱ポリスチロール成形材
料。 - 【請求項４】散乱体を形成するコポリマーＣＰの屈折率
及びポリマーマトリックス相ＭＰの屈折率は、少なくと
も０．０２単位異なっている、請求項１から３までのい
ずれか１項記載の光散乱ポリスチロール成形材料。 - 【請求項５】 散乱体ＳＫは、平均粒径０．１〜１５０
μｍを有する、請求項１から４までのいずれか１項記載
の光散乱ポリスチロール成形材料。 - 【請求項６】 散乱体ＳＫは、平均粒径１〜１０μｍを
有する、請求項１から４までのいずれか１項記載の光散
乱ポリスチロール成形材料。 - 【請求項７】 散乱体を形成するコポリマーＣＰは、メ
チルメタクリレート及びイソブチルメタクリレート及び
／又はｎ−ブチルメタクリレートからの、重量比３：１
〜１：３の混合物９０〜９９．５重量％、並びに架橋モ
ノマーｐ３）０．５〜１０重量％から形成されている、
請求項１から６までのいずれか１項記載の光散乱ポリス
チロール成形材料。 - 【請求項８】 この成形材料は、コポリマーからなる散
乱体ＳＫを０．２〜５．０重量％まで含有している、請
求項１から７までのいずれか１項記載の光散乱ポリスチ
ロール成形材料。 - 【請求項９】 この成形材料は、コポリマーＣＰからな
る散乱体ＳＫを５．１〜６０重量％まで含有している、
請求項１から７までのいずれか１項記載の光散乱ポリス
チロール成形材料（マスターバッチ）。 - 【請求項１０】 この成形材料は、ＵＶ−吸収剤を０．
０１〜１０重量％含有している、請求項１から９までの
いずれか１項記載の光散乱ポリスチロール成形材料。 - 【請求項１１】 請求項１から１０までのいずれか１項
記載の光散乱ポリスチロール成形材料からなる成形体。 - 【請求項１２】 コポリマーＣＰは、更に、 ｐ４） ｐ１）、ｐ２）及びｐ３）とラジカル共重合可
能な、更なるエチレン性不飽和モノマー０．１〜１０重
量部（ここで、モノマーｐ１）、ｐ２）、ｐ３）及びｐ
４）を１００重量部まで補充する）を含有している、請
求項１から１１までのいずれか１項記載の光散乱ポリス
チロール成形材料。 - 【請求項１３】 ポリマー流動剤ＦＭは、更に、 ｆ３） ｆ１）及びｆ２）とラジカル重合可能なエチレ
ン性不飽和モノマー０．１〜１０重量部（ここで、モノ
マーｆ１）、ｆ２）及びｆ３）を１００重量部まで補充
する）を含有している、請求項２から１２までのいずれ
か１項記載の光散乱ポリスチロール成形材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4231995A DE4231995A1 (de) | 1992-09-24 | 1992-09-24 | Lichtstreuende Polystyrolformmasse und daraus hergestellte Formkörper |
| DE4231995.1 | 1992-09-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06207065A true JPH06207065A (ja) | 1994-07-26 |
Family
ID=6468726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5236018A Pending JPH06207065A (ja) | 1992-09-24 | 1993-09-22 | 光散乱ポリスチロール成形材料、及びそれからなる成形体 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5395882A (ja) |
| EP (1) | EP0590471B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06207065A (ja) |
| AT (1) | ATE146209T1 (ja) |
| CA (1) | CA2106697A1 (ja) |
| DE (2) | DE4231995A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013246445A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Rohm & Haas Co | 光拡散性ポリマー組成物、その製造方法、およびそれから製造される物品 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3184219B2 (ja) * | 1991-09-27 | 2001-07-09 | 康博 小池 | 光散乱導光体とその製造方法及び応用光学装置 |
| EP0652252B1 (en) * | 1993-11-05 | 1999-09-15 | Sumitomo Chemical Company Limited | Styrenic resin composition and injection- and extrusion-molded Articles |
| DE19614844A1 (de) * | 1996-04-15 | 1997-10-16 | Basf Ag | Formmassen zur Herstellung von Formteilen mit vermindertem Oberflächenglanz |
| DE19717879A1 (de) * | 1997-04-28 | 1998-10-29 | Basf Ag | Organisches, mehrphasiges Effektfarbmittel, seine Herstellung und seine Verwendung |
| WO2000027927A1 (en) * | 1998-11-06 | 2000-05-18 | General Electric Company | Thermoplastic article having low clarity and low haze |
| US7067188B1 (en) | 1999-01-21 | 2006-06-27 | Arkema | Polymeric articles having a textured surface and frosted appearance |
| US20040030062A1 (en) * | 2002-05-02 | 2004-02-12 | Mather Patrick T. | Castable shape memory polymers |
| DE10222250A1 (de) * | 2002-05-16 | 2003-11-27 | Roehm Gmbh | Verbesserte Lichtleitkörper sowie Verfahren zu dessen Herstellung |
| US7524914B2 (en) | 2002-10-11 | 2009-04-28 | The University Of Connecticut | Shape memory polymers based on semicrystalline thermoplastic polyurethanes bearing nanostructured hard segments |
| US7173096B2 (en) * | 2002-10-11 | 2007-02-06 | University Of Connecticut | Crosslinked polycyclooctene |
| EP2311902A3 (en) * | 2002-10-11 | 2014-01-01 | Boston Scientific Limited | Endoprosthesis formed of a blend of amorphous and crystalline polymers having shape memory properties |
| US7976936B2 (en) * | 2002-10-11 | 2011-07-12 | University Of Connecticut | Endoprostheses |
| DE60336074D1 (de) * | 2002-10-11 | 2011-03-31 | Univ Connecticut | Mischungen von amorphen und semikristallinen polymeren mit formgedächtniseigenscchaften |
| US7794494B2 (en) * | 2002-10-11 | 2010-09-14 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Implantable medical devices |
| DE10349144A1 (de) * | 2003-10-17 | 2005-05-12 | Roehm Gmbh | Polymermischung für mattierte Spritzgußteile |
| WO2006071520A2 (en) * | 2004-12-10 | 2006-07-06 | University Of Connecticut | Shape memory polymer orthodontic appliances, and methods of making and using the same |
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| DE102005021335A1 (de) * | 2005-05-04 | 2006-11-09 | Röhm Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Perlpolymerisaten mit einer mittleren Teilchengröße im Bereich von 1 µm bis 40 µm sowie Perlpolymerisat aufweisende Formmassen und Formkörper |
| DE102005055793A1 (de) * | 2005-11-21 | 2007-05-24 | Röhm Gmbh | Transparente TPU (thermoplastische Polyurethane)/ PMMA (Polymethyl(meth)acrylat) Abmischungen mit verbesserter Kältesschlagzähigkeit |
| KR20090088367A (ko) * | 2006-10-11 | 2009-08-19 | 바스프 에스이 | 고도로 가교된 유기 나노입자를 포함하는 성형 물질 |
| DE102007059632A1 (de) * | 2007-12-10 | 2009-06-18 | Evonik Röhm Gmbh | Formkörper mit matter und strukturierter Oberflächenbeschaffenheit |
| US10053597B2 (en) | 2013-01-18 | 2018-08-21 | Basf Se | Acrylic dispersion-based coating compositions |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1526375A (fr) * | 1967-05-05 | 1968-05-24 | Asahi Chemical Ind | Compositions thermoplastiques à base notamment d'homopolymères de composés alkényl aromatiques |
| JPS557471B1 (ja) * | 1970-09-22 | 1980-02-26 | ||
| US3992486A (en) * | 1971-02-09 | 1976-11-16 | Rohm And Haas Company | Process for altering appearance of polymer by incorporating therein crosslinked particulate polymers prepared by endopolymerization |
| DE2833601A1 (de) * | 1978-07-31 | 1980-02-28 | Roehm Gmbh | Kunststoffpulver fuer beschichtungsmittel zur herstellung glaenzender, nicht- blockender, elastischer ueberzuege |
| JPS5714650A (en) * | 1980-07-01 | 1982-01-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | Matted thermoplastic resin composition |
| JPS61159440A (ja) * | 1985-01-07 | 1986-07-19 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 光散乱性アクリル樹脂組成物 |
| US4594363A (en) * | 1985-01-11 | 1986-06-10 | Rohm And Haas Company | Production of core-sheath polymer particles containing voids, resulting product and use |
| DE3638443C2 (de) * | 1986-11-11 | 1996-04-04 | Roehm Gmbh | Verträgliche Polymermischungen |
| DE3730025A1 (de) * | 1987-09-08 | 1989-03-16 | Roehm Gmbh | Vertraegliche polymermischungen (i) |
| DE3730026C2 (de) * | 1987-09-08 | 1996-03-28 | Roehm Gmbh | Verträgliche Polymermischungen (II) |
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-
1992
- 1992-09-24 DE DE4231995A patent/DE4231995A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-09-17 US US08/121,870 patent/US5395882A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-09-21 DE DE59304739T patent/DE59304739D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-21 EP EP93115165A patent/EP0590471B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1993-09-21 AT AT93115165T patent/ATE146209T1/de not_active IP Right Cessation
- 1993-09-22 JP JP5236018A patent/JPH06207065A/ja active Pending
- 1993-09-22 CA CA002106697A patent/CA2106697A1/en not_active Abandoned
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| JP2013246445A (ja) * | 2012-05-25 | 2013-12-09 | Rohm & Haas Co | 光拡散性ポリマー組成物、その製造方法、およびそれから製造される物品 |
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|---|---|
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| EP0590471A3 (de) | 1995-01-04 |
| DE59304739D1 (de) | 1997-01-23 |
| ATE146209T1 (de) | 1996-12-15 |
| EP0590471B1 (de) | 1996-12-11 |
| US5395882A (en) | 1995-03-07 |
| CA2106697A1 (en) | 1994-03-25 |
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