JPH0620278A - 情報記録方法及び情報記録装置 - Google Patents
情報記録方法及び情報記録装置Info
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- JPH0620278A JPH0620278A JP5108504A JP10850493A JPH0620278A JP H0620278 A JPH0620278 A JP H0620278A JP 5108504 A JP5108504 A JP 5108504A JP 10850493 A JP10850493 A JP 10850493A JP H0620278 A JPH0620278 A JP H0620278A
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- G11B11/00—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor
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- G11B11/10502—Recording on or reproducing from the same record carrier wherein for these two operations the methods are covered by different main groups of groups G11B3/00 - G11B7/00 or by different subgroups of group G11B9/00; Record carriers therefor using recording by magnetic means or other means for magnetisation or demagnetisation of a record carrier, e.g. light induced spin magnetisation; Demagnetisation by thermal or stress means in the presence or not of an orienting magnetic field using a beam of light or a magnetic field for recording by change of magnetisation and a beam of light for reproducing, i.e. magneto-optical, e.g. light-induced thermomagnetic recording, spin magnetisation recording, Kerr or Faraday effect reproducing characterised by the transducing operation to be executed
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- G11B7/0045—Recording
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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- Optical Head (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 記録操作間に、変調された放射ビームのピー
ク電力を低くする。 【構成】 記録層2 を有する記録キャリア1 に情報を記
録するとき、記録層2 は、放射パワーがパルス的に変化
する放射ビーム71によって走査される。放射パルスによ
って生じた熱の結果、記録層2 には光学的に検出可能な
変化を形成する。書込み信号発生回路78は情報信号v(t)
を、パルスパターンを有する書込み信号g(t)に変換す
る。このパルスパターンは、低信号レベルのパルス間隔
と交互に起こる高信号レベルのパルスを具える。制御回
路79は、放射ビーム71のパワーを書込み信号の信号レベ
ルによって定められた値に設定する。パルス内の信号レ
ベルは減少し、一方書込み信号g(t)の信号値はパルス間
隔内で増加する。その結果、走査領域73の温度に及ぼす
直前の放射パルスによる影響は、補償される。
ク電力を低くする。 【構成】 記録層2 を有する記録キャリア1 に情報を記
録するとき、記録層2 は、放射パワーがパルス的に変化
する放射ビーム71によって走査される。放射パルスによ
って生じた熱の結果、記録層2 には光学的に検出可能な
変化を形成する。書込み信号発生回路78は情報信号v(t)
を、パルスパターンを有する書込み信号g(t)に変換す
る。このパルスパターンは、低信号レベルのパルス間隔
と交互に起こる高信号レベルのパルスを具える。制御回
路79は、放射ビーム71のパワーを書込み信号の信号レベ
ルによって定められた値に設定する。パルス内の信号レ
ベルは減少し、一方書込み信号g(t)の信号値はパルス間
隔内で増加する。その結果、走査領域73の温度に及ぼす
直前の放射パルスによる影響は、補償される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、記録層を有する記録キ
ャリアに情報を記録する方法であって、この記録キャリ
アは、記録層を加熱することによって光学的に検出可能
な変化を実現でき、パワーが記録されるべき情報に関す
るパルスパターンに従って変調される放射ビームによっ
て、記録層を走査し、パルスパターンは、高パワーレベ
ルを有し、かつ、低パワーレベルのパルス間隔と交互に
発生するパルスパターンを含み、関連の放射パルスの先
端部分の間に記録層に供給するパワーによって発生する
温度上昇を補償するために、各パルスパターン内のパワ
ーの値を減少させて記録キャリアに情報を記録する情報
記録方法に関するものである。
ャリアに情報を記録する方法であって、この記録キャリ
アは、記録層を加熱することによって光学的に検出可能
な変化を実現でき、パワーが記録されるべき情報に関す
るパルスパターンに従って変調される放射ビームによっ
て、記録層を走査し、パルスパターンは、高パワーレベ
ルを有し、かつ、低パワーレベルのパルス間隔と交互に
発生するパルスパターンを含み、関連の放射パルスの先
端部分の間に記録層に供給するパワーによって発生する
温度上昇を補償するために、各パルスパターン内のパワ
ーの値を減少させて記録キャリアに情報を記録する情報
記録方法に関するものである。
【０００２】本発明はまた、放射ビームを発生させる放
射源と、放射ビームにより記録層を走査する走査手段
と、情報信号を、パルス内で減少する低パワー信号レベ
ルを有するパルス間隔と交互に発生し、かつ、高パワー
レベルのパルスを具えるパルスパターンを有する書込み
信号に変換する書込み信号発生回路と、放射ビームのパ
ワーの瞬間値を、書込み信号の瞬間信号レベルによって
定められた値に設定する制御回路とを具える、加熱する
ことにより光学的に検出可能な変化を実現できる記録層
を有する記録キャリアへの情報記録装置に関するもので
ある。
射源と、放射ビームにより記録層を走査する走査手段
と、情報信号を、パルス内で減少する低パワー信号レベ
ルを有するパルス間隔と交互に発生し、かつ、高パワー
レベルのパルスを具えるパルスパターンを有する書込み
信号に変換する書込み信号発生回路と、放射ビームのパ
ワーの瞬間値を、書込み信号の瞬間信号レベルによって
定められた値に設定する制御回路とを具える、加熱する
ことにより光学的に検出可能な変化を実現できる記録層
を有する記録キャリアへの情報記録装置に関するもので
ある。
【０００３】
【従来の技術】冒頭部に記載した型の方法及び装置は、
米国特許明細書第4,894,816 号から既知である。この既
知の方法及び装置では、記録層が、パワーがパルス的に
変調されたレーザービームの形態の放射ビームにより走
査される。各放射パルス中に、記録層は書込み温度より
高い温度で加熱され、記録層には光学的に検出可能な変
化が形成される。パルス間隔中では、記録層の温度を書
込み温度より低い温度に下げる。したがって、変化した
光学的特性を有する領域の情報パターンが得られる。各
放射パルスの初期値は、直前のパルス間隔の長さに指数
的に依存する。放射パルス自体の中では、上記パワーは
時間関数として指数的に減少している。そのために、上
記変化した特性を有する領域を形成する間には、記録層
の走査部の温度はほぼ同レベルに保たれる。これは、規
定される領域の範囲は、良好に定められることを意味す
る。光学的に検出可能な変化を有するこのような領域か
らなる情報パターンの読取り中には、読取り信号内のジ
ッタが小さく、記録キャリア上において高い情報密度が
可能になる。既知の方法では、放射パルスのパワーは、
パルス間隔中では一定である。
米国特許明細書第4,894,816 号から既知である。この既
知の方法及び装置では、記録層が、パワーがパルス的に
変調されたレーザービームの形態の放射ビームにより走
査される。各放射パルス中に、記録層は書込み温度より
高い温度で加熱され、記録層には光学的に検出可能な変
化が形成される。パルス間隔中では、記録層の温度を書
込み温度より低い温度に下げる。したがって、変化した
光学的特性を有する領域の情報パターンが得られる。各
放射パルスの初期値は、直前のパルス間隔の長さに指数
的に依存する。放射パルス自体の中では、上記パワーは
時間関数として指数的に減少している。そのために、上
記変化した特性を有する領域を形成する間には、記録層
の走査部の温度はほぼ同レベルに保たれる。これは、規
定される領域の範囲は、良好に定められることを意味す
る。光学的に検出可能な変化を有するこのような領域か
らなる情報パターンの読取り中には、読取り信号内のジ
ッタが小さく、記録キャリア上において高い情報密度が
可能になる。既知の方法では、放射パルスのパワーは、
パルス間隔中では一定である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】変調された放射パワー
を有するレーザービームによって情報を記録する際、放
射ビームのピーク電力が必要以上に高くならないことが
目的とされる。実際、レーザーの寿命は、より高い電力
を用いることにより悪影響を及ぼされる。
を有するレーザービームによって情報を記録する際、放
射ビームのピーク電力が必要以上に高くならないことが
目的とされる。実際、レーザーの寿命は、より高い電力
を用いることにより悪影響を及ぼされる。
【０００５】本発明はとりわけ、変調された放射ビーム
がより低いピーク電力でも、読取り動作を満足に行う手
段を提供することを目的とするものである。
がより低いピーク電力でも、読取り動作を満足に行う手
段を提供することを目的とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】冒頭部に記載された方法
において、この目的は、パルス間隔内における走査区域
の温度をより一定のレベルで維持するために、パルス間
隔内でパワーを増加することにより達成される。
において、この目的は、パルス間隔内における走査区域
の温度をより一定のレベルで維持するために、パルス間
隔内でパワーを増加することにより達成される。
【０００７】冒頭段落に記載された装置において、この
目的は、書込み信号発生回路は、関連のパルス間隔内で
増加する信号値を有する書込み信号を発生させるように
適合していることにより達成される。
目的は、書込み信号発生回路は、関連のパルス間隔内で
増加する信号値を有する書込み信号を発生させるように
適合していることにより達成される。
【０００８】その結果、パルス間隔の後端の温度は、従
来技術の方法より一層低下する。結果的に、次の放射パ
ルスのパワーの初期値（ピーク値）として、より小さい
値で十分である。実際、パルス間隔の後端の温度がより
高くなるため、放射パルスの開始直前の温度とパルス間
隔の後端の温度との温度差は減少する。さらに、放射パ
ルス及びパルス間隔の温度の影響が補償されるので、よ
り優れた温度の影響の補償が得られる。
来技術の方法より一層低下する。結果的に、次の放射パ
ルスのパワーの初期値（ピーク値）として、より小さい
値で十分である。実際、パルス間隔の後端の温度がより
高くなるため、放射パルスの開始直前の温度とパルス間
隔の後端の温度との温度差は減少する。さらに、放射パ
ルス及びパルス間隔の温度の影響が補償されるので、よ
り優れた温度の影響の補償が得られる。
【０００９】本発明の方法の一実施例は、放射パワーを
設定する方形波２価制御信号を発生させて、走査区域の
温度に対する放射パワーの変化の影響の目安を制御信号
に基づいて決定し、方形波制御信号の信号値を、決定さ
れた影響の目安に従って適合させ、放射ビームのパワー
を、適合された方形波制御信号の信号値に対応する値に
設定することを特徴とするものである。
設定する方形波２価制御信号を発生させて、走査区域の
温度に対する放射パワーの変化の影響の目安を制御信号
に基づいて決定し、方形波制御信号の信号値を、決定さ
れた影響の目安に従って適合させ、放射ビームのパワー
を、適合された方形波制御信号の信号値に対応する値に
設定することを特徴とするものである。
【００１０】この実施例では、走査区域の温度に及ぼす
完全な直前のパルスパターンの影響が補償される、とい
う利点を有する。
完全な直前のパルスパターンの影響が補償される、とい
う利点を有する。
【００１１】この実施例により本発明の方法は、光学的
に検出可能な変化と隣接する領域が、短いパルス間隔と
互いに連続する短放射パルスによって得られる記録操作
にも適する。これは、米国特許明細書第4,894,816 号に
よって既知の方法とは対照的である。この既知の方法で
は、放射パルスの初期値は直前のパルス間隔の長さのみ
に依存する。換言すれば、直前の放射パルスは補償され
ない。一方、連続的な放射パルス間の短い時間差を考慮
すると、これは相当な影響である。
に検出可能な変化と隣接する領域が、短いパルス間隔と
互いに連続する短放射パルスによって得られる記録操作
にも適する。これは、米国特許明細書第4,894,816 号に
よって既知の方法とは対照的である。この既知の方法で
は、放射パルスの初期値は直前のパルス間隔の長さのみ
に依存する。換言すれば、直前の放射パルスは補償され
ない。一方、連続的な放射パルス間の短い時間差を考慮
すると、これは相当な影響である。
【００１２】容易に実現できる方法の一実施例は、放射
パワーの変化の影響の目安を、方形波制御信号に関し、
かつ、信号値が時間関数として減少する関数を有する信
号をたたみこむことにより得ることを特徴とするもので
ある。
パワーの変化の影響の目安を、方形波制御信号に関し、
かつ、信号値が時間関数として減少する関数を有する信
号をたたみこむことにより得ることを特徴とするもので
ある。
【００１３】最適な補償は、時間関数を指数減少関数に
することを特徴とする方法で得られる。
することを特徴とする方法で得られる。
【００１４】実際、走査区域の温度に及ぼす放射パルス
の影響は、経過した時間の関数としてほぼ指数的に減少
するようにして現れる。
の影響は、経過した時間の関数としてほぼ指数的に減少
するようにして現れる。
【００１５】
【実施例】以下本発明を、例を参照しながら詳細に説明
する。図１に、記録層２を有する記録キャリア１を示
す。記録層２は、例えば透明材料の基板３上に設けられ
ている。記録層２は通常の形式のものであり、書込み温
度より高い温度で加熱されたとき光学的に検出可能な変
化を形成する。記録層２は「相変化」材料で構成するこ
とができ、この材料は、構造を加熱することにより、非
品質状態から結晶状態に、又は結晶状態から非品質状態
に変化させることができる。記録層２は、光磁気材料で
構成することができ、この材料では、磁界を供給すると
ともに、局部的に加熱することによって、光学的に検出
可能な磁化の変化を有する領域を設けることができる。
記録層２を放射ビームにより加熱することができ、この
放射ビームのパワーは、記録層２を書込み温度より高い
温度に加熱するのに十分高くする。放射ビーム４を用い
て記録層２を走査し、かつ、書込み温度より高い温度で
走査区域を加熱するのに十分高いパワーを有するパルス
で、走査区域を書込み温度より高い温度で加熱するのに
不十分なパワーの間隔を以て交互に発生させるパルス法
でパワーを変調することにより、光学的に検出可能な変
化を有する領域のパターンを設けることができる。した
がって、光学的に検出可能な変化を有する領域と、これ
と交互に形成した非変化領域とからなる情報パターン
は、記録層２上に設けられる。光学的に検出可能な変化
を有する領域を以下簡潔に効果発生領域という。効果発
生領域の大きさは、書込み温度より高い温度に加熱され
る領域の大きさにより決定される。この領域の大きさ
は、走査区域の温度にかなり依存するが、これについて
は図２を参照して説明する。
する。図１に、記録層２を有する記録キャリア１を示
す。記録層２は、例えば透明材料の基板３上に設けられ
ている。記録層２は通常の形式のものであり、書込み温
度より高い温度で加熱されたとき光学的に検出可能な変
化を形成する。記録層２は「相変化」材料で構成するこ
とができ、この材料は、構造を加熱することにより、非
品質状態から結晶状態に、又は結晶状態から非品質状態
に変化させることができる。記録層２は、光磁気材料で
構成することができ、この材料では、磁界を供給すると
ともに、局部的に加熱することによって、光学的に検出
可能な磁化の変化を有する領域を設けることができる。
記録層２を放射ビームにより加熱することができ、この
放射ビームのパワーは、記録層２を書込み温度より高い
温度に加熱するのに十分高くする。放射ビーム４を用い
て記録層２を走査し、かつ、書込み温度より高い温度で
走査区域を加熱するのに十分高いパワーを有するパルス
で、走査区域を書込み温度より高い温度で加熱するのに
不十分なパワーの間隔を以て交互に発生させるパルス法
でパワーを変調することにより、光学的に検出可能な変
化を有する領域のパターンを設けることができる。した
がって、光学的に検出可能な変化を有する領域と、これ
と交互に形成した非変化領域とからなる情報パターン
は、記録層２上に設けられる。光学的に検出可能な変化
を有する領域を以下簡潔に効果発生領域という。効果発
生領域の大きさは、書込み温度より高い温度に加熱され
る領域の大きさにより決定される。この領域の大きさ
は、走査区域の温度にかなり依存するが、これについて
は図２を参照して説明する。
【００１６】図２に、記録層が短放射パルスによって加
熱された場合の、様々な瞬間における走査点の中心まで
の距離ｒの関数としての記録層２の温度変化を示す。参
照番号１０は、放射パルスの後端における瞬間t0での温
度変化を示す。記録層２の書込み温度T S より高い温度
の部分に光学的に検出可能な変化を形成することができ
る。このようにして得られる効果発生領域を参照番号１
１により示す。記録層２に加えられた熱は全体に広が
り、走査区域の温度は減少し、走査区域の周辺の温度は
上昇する。t0+dt,t0+2dt及びt0+3dtにおける温度分布
は、参照番号１２，１３及び１４でそれぞれ示されてい
る。
熱された場合の、様々な瞬間における走査点の中心まで
の距離ｒの関数としての記録層２の温度変化を示す。参
照番号１０は、放射パルスの後端における瞬間t0での温
度変化を示す。記録層２の書込み温度T S より高い温度
の部分に光学的に検出可能な変化を形成することができ
る。このようにして得られる効果発生領域を参照番号１
１により示す。記録層２に加えられた熱は全体に広が
り、走査区域の温度は減少し、走査区域の周辺の温度は
上昇する。t0+dt,t0+2dt及びt0+3dtにおける温度分布
は、参照番号１２，１３及び１４でそれぞれ示されてい
る。
【００１７】効果発生領域の大きさは、書込み温度T S
より高い温度で加熱された領域の大きさにより決定され
る。この領域の大きさは、記録層２の走査部分の中心に
おける温度T p が上昇すると一般に増加する。この中心
を以下走査中心という。温度T p は、放射パルスを直接
与える前の記録層２の初期温度により決定され、放射パ
ルスを与える結果温度は上昇する。この初期温度は、直
前の時間間隔における放射パワーの変化により支配され
る。
より高い温度で加熱された領域の大きさにより決定され
る。この領域の大きさは、記録層２の走査部分の中心に
おける温度T p が上昇すると一般に増加する。この中心
を以下走査中心という。温度T p は、放射パルスを直接
与える前の記録層２の初期温度により決定され、放射パ
ルスを与える結果温度は上昇する。この初期温度は、直
前の時間間隔における放射パワーの変化により支配され
る。
【００１８】この効果発生領域を、図３ａ及び図３ｂを
参照して説明する。図３ｂは、矢印３０で示される方向
へ記録層２に対して一定速度ｖで移動する走査放射ビー
ム４を示す。t0の瞬時、放射ビーム４は位置ｘにある。
この瞬時、放射パワーは短時間で増加し、走査区域の中
心の温度はT p まで上昇する。図２では、この温度は曲
線１０上の点１５で示す。記録層２に供給された熱は、
次第に記録キャリア１の中で広がる。放射ビーム４が位
置x+dxを走査するt0+dt の瞬時には、記録層２は、図２
の曲線１２上の点１６によって示す値まで、加熱され
る。放射ビーム４が位置x+2dx を走査するt0+2dt及び位
置x+3dx を走査するt0+3dtの瞬時の温度は、図２の点１
７及び１８でそれぞれ示す。図３ａは、曲線３１によ
り、時間関数としての温度Ｔの関連する変化を示す。曲
線３１上の点３２，３３，３４及び３５は、図２の点１
５，１６，１７及び１８に対応する。図３ａの曲線３１
は、時間定数を有する指数減少関数によって満足ゆくよ
うに近似することができる。この関数は、走査速度ｖの
２次関数に従って、走査速度の増加とともにほぼ減少す
る。
参照して説明する。図３ｂは、矢印３０で示される方向
へ記録層２に対して一定速度ｖで移動する走査放射ビー
ム４を示す。t0の瞬時、放射ビーム４は位置ｘにある。
この瞬時、放射パワーは短時間で増加し、走査区域の中
心の温度はT p まで上昇する。図２では、この温度は曲
線１０上の点１５で示す。記録層２に供給された熱は、
次第に記録キャリア１の中で広がる。放射ビーム４が位
置x+dxを走査するt0+dt の瞬時には、記録層２は、図２
の曲線１２上の点１６によって示す値まで、加熱され
る。放射ビーム４が位置x+2dx を走査するt0+2dt及び位
置x+3dx を走査するt0+3dtの瞬時の温度は、図２の点１
７及び１８でそれぞれ示す。図３ａは、曲線３１によ
り、時間関数としての温度Ｔの関連する変化を示す。曲
線３１上の点３２，３３，３４及び３５は、図２の点１
５，１６，１７及び１８に対応する。図３ａの曲線３１
は、時間定数を有する指数減少関数によって満足ゆくよ
うに近似することができる。この関数は、走査速度ｖの
２次関数に従って、走査速度の増加とともにほぼ減少す
る。
【００１９】図４ａは、米国特許明細書第4,894,816 号
に記載されている従来の方法における放射パワーＰのパ
ルス変化を示す。参照番号４０，４１及び４２は、様々
な放射パルスを示す。放射パルスの期間中、予め走査区
域に供給された熱が伝導する結果による温度上昇を補償
するために、放射パワーは減少する。その結果、走査中
心の温度は、一定に保たれる。図４ｂにおいて、温度Ｔ
は走査点における時間ｔの関数として示されている。参
照番号４３及び４４で示されるパルス間隔において、放
射ビームのパワーは、低レベルで一定に保たれる。走査
中心の温度は、時間関数として減少する。次のパルスの
直前の温度は、パルス間隔の長さに依存する。すべての
効果発生領域に対して熱を供給する際、温度はこれらの
効果発生領域に対して等しいことが望ましいので、放射
パルスのスタート時における温度差は、放射パルスのス
タート直前の温度に依存し、したがって直前のパルス間
隔の長さに依存する。従来の方法では、放射パルスのス
タート時のパワーは、したがってパルス間隔の長さに依
存して設定される。このことは、長いパルス間隔の次に
放射パルスを開始するときのパワーは、短いパルス間隔
の次に放射パルスを開始するときのパワーより相当大き
い。
に記載されている従来の方法における放射パワーＰのパ
ルス変化を示す。参照番号４０，４１及び４２は、様々
な放射パルスを示す。放射パルスの期間中、予め走査区
域に供給された熱が伝導する結果による温度上昇を補償
するために、放射パワーは減少する。その結果、走査中
心の温度は、一定に保たれる。図４ｂにおいて、温度Ｔ
は走査点における時間ｔの関数として示されている。参
照番号４３及び４４で示されるパルス間隔において、放
射ビームのパワーは、低レベルで一定に保たれる。走査
中心の温度は、時間関数として減少する。次のパルスの
直前の温度は、パルス間隔の長さに依存する。すべての
効果発生領域に対して熱を供給する際、温度はこれらの
効果発生領域に対して等しいことが望ましいので、放射
パルスのスタート時における温度差は、放射パルスのス
タート直前の温度に依存し、したがって直前のパルス間
隔の長さに依存する。従来の方法では、放射パルスのス
タート時のパワーは、したがってパルス間隔の長さに依
存して設定される。このことは、長いパルス間隔の次に
放射パルスを開始するときのパワーは、短いパルス間隔
の次に放射パルスを開始するときのパワーより相当大き
い。
【００２０】図５ａは、本発明の方法の一実施例におけ
る放射ビームのパワーＰのパルス変化を示す。放射パル
スは、参照番号５０，５１及び５２で示し、一方パルス
間隔は、参照番号５３及び５４で示す。図５ｂは、走査
中心の温度Ｔの関連する変化を示す。パルス間隔中のパ
ワーＰは、時間ｔの関数として増加する。パルス間隔中
のパワー変化は、走査中心の温度がほぼ一定に保たれる
ように選択する。その結果、パルス間隔の終端における
初期温度は、従来の方法に比べて高く、このことは放射
パルスのパワーは低い初期値を有することを意味する。
図示の実施例では、走査中心の温度は一定に保たれる。
パルス間隔中の放射パワーの変化が増加し、温度が一定
に保たれないとき、初期値もまた減少するのは、当業者
にとっては明らかである。放射パルスのパワーの初期値
に及ぼす上述した効果を達成するためには、温度の減少
を少なくとも部分的に抑制する必要がある。原理的に
は、このパルス間隔の終端において温度が書込み温度T
S より十分低いならば、パルス間隔の終端における温度
がパルス間隔の先端における温度より高い場合も許され
る。パルス間隔の先端から終端に渡って温度が一定であ
るのが最も望ましい。温度はさらに減少しないため、温
度がパルス間隔の終端において上記書込み温度より低い
ことが補償される限り、比較的低い初期値で十分であ
る。本発明の方法では、放射パルスのパワーの初期値
は、米国特許明細書第4,894,816 号から既知の方法と類
似し、パルス間隔中のパワーが指数関数的に増加する方
法で、直前のパルス間隔の長さに従って設定することが
できる。このとき、さらにこの記録方式では、パルス内
ではパワーの時定数が減少し、かつ、パルス間隔内では
パワーの時定数が増加するように、記録するに当たり正
確になるように選択でき、パルス間隔の長さとともに効
果発生領域の長さが正確な寸法に一致することが明らか
である。
る放射ビームのパワーＰのパルス変化を示す。放射パル
スは、参照番号５０，５１及び５２で示し、一方パルス
間隔は、参照番号５３及び５４で示す。図５ｂは、走査
中心の温度Ｔの関連する変化を示す。パルス間隔中のパ
ワーＰは、時間ｔの関数として増加する。パルス間隔中
のパワー変化は、走査中心の温度がほぼ一定に保たれる
ように選択する。その結果、パルス間隔の終端における
初期温度は、従来の方法に比べて高く、このことは放射
パルスのパワーは低い初期値を有することを意味する。
図示の実施例では、走査中心の温度は一定に保たれる。
パルス間隔中の放射パワーの変化が増加し、温度が一定
に保たれないとき、初期値もまた減少するのは、当業者
にとっては明らかである。放射パルスのパワーの初期値
に及ぼす上述した効果を達成するためには、温度の減少
を少なくとも部分的に抑制する必要がある。原理的に
は、このパルス間隔の終端において温度が書込み温度T
S より十分低いならば、パルス間隔の終端における温度
がパルス間隔の先端における温度より高い場合も許され
る。パルス間隔の先端から終端に渡って温度が一定であ
るのが最も望ましい。温度はさらに減少しないため、温
度がパルス間隔の終端において上記書込み温度より低い
ことが補償される限り、比較的低い初期値で十分であ
る。本発明の方法では、放射パルスのパワーの初期値
は、米国特許明細書第4,894,816 号から既知の方法と類
似し、パルス間隔中のパワーが指数関数的に増加する方
法で、直前のパルス間隔の長さに従って設定することが
できる。このとき、さらにこの記録方式では、パルス内
ではパワーの時定数が減少し、かつ、パルス間隔内では
パワーの時定数が増加するように、記録するに当たり正
確になるように選択でき、パルス間隔の長さとともに効
果発生領域の長さが正確な寸法に一致することが明らか
である。
【００２１】記録中には通常、ある信号値は走査部分の
温度が書込み温度より高くなるように加熱される時間間
隔を表し、他の信号レベルは走査部分の温度が書込み温
度より低くなるように保たれる時間間隔を表す方形波２
価制御信号を発生させることが一般的である。この場
合、この２価の方形波制御信号に基づいて走査中心の温
度に及ぼす放射パワーの作用の目安を決定するのが好ま
しい。この制御信号の信号値は、決定された目安により
定められた適合値により適合される。放射ビームのパワ
ーの瞬間値は、適合された制御信号の信号値に相当する
値に設定される。このようにしてほぼ完全な補償を、上
記走査中心の温度に及ぼす走査ビームの放射パワーの直
前の変化の効果に対して得ることができる。
温度が書込み温度より高くなるように加熱される時間間
隔を表し、他の信号レベルは走査部分の温度が書込み温
度より低くなるように保たれる時間間隔を表す方形波２
価制御信号を発生させることが一般的である。この場
合、この２価の方形波制御信号に基づいて走査中心の温
度に及ぼす放射パワーの作用の目安を決定するのが好ま
しい。この制御信号の信号値は、決定された目安により
定められた適合値により適合される。放射ビームのパワ
ーの瞬間値は、適合された制御信号の信号値に相当する
値に設定される。このようにしてほぼ完全な補償を、上
記走査中心の温度に及ぼす走査ビームの放射パワーの直
前の変化の効果に対して得ることができる。
【００２２】上記適合値は、図３ａに示した関数を有す
る適合された制御信号のたたみこみを行うことにより得
られる。このようなたたみこみは、以下の式によって表
される。
る適合された制御信号のたたみこみを行うことにより得
られる。このようなたたみこみは、以下の式によって表
される。
【数１】g(t)=i(t)-a(t)
【数２】 （ここでi(t)は方形波２価制御信号を、h(t)は図３ａに
示す関数を、g(t)は適合した制御信号を、a(t)は適合値
をそれぞれ示す。） 説明のために、図１０に信号i(t)，a(t)及びg(t)を時間
関数として示す。代わりに、上記２価制御信号i(t)と、
h(t)から得られ、小さい適合値に対しては関数h(t)にほ
ぼ等しい関数h ′(t) とをたたみこむことにより、上記
適合値を決定することもできる。
示す関数を、g(t)は適合した制御信号を、a(t)は適合値
をそれぞれ示す。） 説明のために、図１０に信号i(t)，a(t)及びg(t)を時間
関数として示す。代わりに、上記２価制御信号i(t)と、
h(t)から得られ、小さい適合値に対しては関数h(t)にほ
ぼ等しい関数h ′(t) とをたたみこむことにより、上記
適合値を決定することもできる。
【００２３】初期パワーをたたみこみに基づいて適合さ
せる本発明の記録方法の例はまた、記録操作にも非常に
適している。この記録操作では、単一の効果発生領域を
得るために１つの連続放射パルスを発生させずに、単一
の効果発生領域を一連の短放射パルスを短いパルス間隔
で互いに発生させることによって得る。説明のために、
このような放射パターンを図６に示す。
せる本発明の記録方法の例はまた、記録操作にも非常に
適している。この記録操作では、単一の効果発生領域を
得るために１つの連続放射パルスを発生させずに、単一
の効果発生領域を一連の短放射パルスを短いパルス間隔
で互いに発生させることによって得る。説明のために、
このような放射パターンを図６に示す。
【００２４】図７は、本発明の装置の一実施例を示す。
この装置は、例えば半導体レーザー７０の形態の放射源
を具える。半導体レーザー７０から放射ビーム７１を発
生し、対物レンズ７２を介して記録キャリア１の記録層
２上に入射させる。放射ビーム７１は、記録層２上の微
小走査スポット７３に収束する。記録層２の走査を実現
するために、記録キャリア１はモーター７５により軸７
４の回りを回転する。
この装置は、例えば半導体レーザー７０の形態の放射源
を具える。半導体レーザー７０から放射ビーム７１を発
生し、対物レンズ７２を介して記録キャリア１の記録層
２上に入射させる。放射ビーム７１は、記録層２上の微
小走査スポット７３に収束する。記録層２の走査を実現
するために、記録キャリア１はモーター７５により軸７
４の回りを回転する。
【００２５】上記装置はさらに、供給される情報信号を
書込み信号g(t)に変換する通常の形式の書込み信号発生
回路７８を具える。書込み信号発生回路７８は、情報信
号v(t)を制御信号i(t)に変換する信号変換器７６を具え
る。信号変換器７６は例えば、情報信号を2/7 変調信号
に変換する2/7 変調器を具えてもよい。一方、このよう
な回路は、CD信号を記録するのに用いられるようなEFM
変調器を代わりに具えてもよい。適合回路７７は制御信
号i(t)を書込み信号g(t)に変換する。通常の形式の制御
回路７９は、放射ビームのパワーの瞬間値を、書込み信
号の瞬時の信号レベルによって定められた値に設定す
る。適合回路７７は、制御信号を適合させることにより
書込み信号g(t)を得る。放射パルス内の書込み信号g(t)
の信号値の減少及びパルス間隔内の書込み信号g(t)の信
号値の増加を実現できる。
書込み信号g(t)に変換する通常の形式の書込み信号発生
回路７８を具える。書込み信号発生回路７８は、情報信
号v(t)を制御信号i(t)に変換する信号変換器７６を具え
る。信号変換器７６は例えば、情報信号を2/7 変調信号
に変換する2/7 変調器を具えてもよい。一方、このよう
な回路は、CD信号を記録するのに用いられるようなEFM
変調器を代わりに具えてもよい。適合回路７７は制御信
号i(t)を書込み信号g(t)に変換する。通常の形式の制御
回路７９は、放射ビームのパワーの瞬間値を、書込み信
号の瞬時の信号レベルによって定められた値に設定す
る。適合回路７７は、制御信号を適合させることにより
書込み信号g(t)を得る。放射パルス内の書込み信号g(t)
の信号値の減少及びパルス間隔内の書込み信号g(t)の信
号値の増加を実現できる。
【００２６】図８は、適合回路７７の例を示す。この例
では、適合回路７７は、好ましくは書込み信号g(t)と関
数h(t)間でたたみこみを行うことにより、適合値a(t)を
決定する回路８０を具える。一方、その代わりに、適合
値の決定を他の方法で行うこともできる。例えば、放射
パルス及びパルス間隔内の書込み信号の適合を、米国特
許明細書第4,894,816 号に記載されているように、放射
パルス内の書込み信号を決定する方法に相当する方法で
行うことができる。回路８０は、パルス応答k.h(t)を有
するアナログ回路から構成されていてもよい。関数k.h
(t)は、１次の低域通過フィルタによって満足に近似さ
れることができる。たたみこみにアナログ回路を用いる
代わりに、このたたみこみをハードワイヤード回路又は
プログラム制御回路として動作することができるデジタ
ル回路を用いて行ってもよい。回路８０の出力は、適合
値a(t)を供給する。書込み信号g(t)は、通常の形式の結
合回路８１、例えば差動増幅器により、制御信号i(t)及
び適合値a(t)から得られる。
では、適合回路７７は、好ましくは書込み信号g(t)と関
数h(t)間でたたみこみを行うことにより、適合値a(t)を
決定する回路８０を具える。一方、その代わりに、適合
値の決定を他の方法で行うこともできる。例えば、放射
パルス及びパルス間隔内の書込み信号の適合を、米国特
許明細書第4,894,816 号に記載されているように、放射
パルス内の書込み信号を決定する方法に相当する方法で
行うことができる。回路８０は、パルス応答k.h(t)を有
するアナログ回路から構成されていてもよい。関数k.h
(t)は、１次の低域通過フィルタによって満足に近似さ
れることができる。たたみこみにアナログ回路を用いる
代わりに、このたたみこみをハードワイヤード回路又は
プログラム制御回路として動作することができるデジタ
ル回路を用いて行ってもよい。回路８０の出力は、適合
値a(t)を供給する。書込み信号g(t)は、通常の形式の結
合回路８１、例えば差動増幅器により、制御信号i(t)及
び適合値a(t)から得られる。
【００２７】図９は、適合回路７７の他の例を示す。こ
の回路では、適合値a(t)は制御信号i(t)と関数k.h'(t)
との間でたたみこみを行うことにより決定される。たた
みこみは回路９０により行われる。適合値a(t)は、差動
増幅器９１により、制御信号i(t)から取り除かれる。書
込み信号g(t)は、差動増幅器の出力から再び得ることが
できる。
の回路では、適合値a(t)は制御信号i(t)と関数k.h'(t)
との間でたたみこみを行うことにより決定される。たた
みこみは回路９０により行われる。適合値a(t)は、差動
増幅器９１により、制御信号i(t)から取り除かれる。書
込み信号g(t)は、差動増幅器の出力から再び得ることが
できる。
【００２８】上述した本発明の装置の例は、走査速度が
一定の記録操作に適している。しかしながら、走査速度
が一定でない場合もしばしばあり、例えば、回転ディス
ク形状の記録キャリアの記録層が一定の角速度で走査さ
れる記録動作を行う場合がそうである。関数h(t)及びh'
(t) の時定数は、ほぼ指数関数に従う走査速度に依存す
ることに注目すべきである。
一定の記録操作に適している。しかしながら、走査速度
が一定でない場合もしばしばあり、例えば、回転ディス
ク形状の記録キャリアの記録層が一定の角速度で走査さ
れる記録動作を行う場合がそうである。関数h(t)及びh'
(t) の時定数は、ほぼ指数関数に従う走査速度に依存す
ることに注目すべきである。
【００２９】走査速度が一定でない記録動作は単に、走
査速度を表す速度信号に依存する信号i(t)のたたみこみ
に用いられる関数h(t)に適合させることにより、変化す
る走査速度を適合させることもできる。このような適合
は、調整可能な時定数を有する低域通過フィルタを用い
ることにより容易に実現できる。記録キャリアの回転周
波数及び半径方向の走査位置は、例えば走査される位置
のアドレスにより固定されるので、速度表示信号は、記
録キャリアの回転周波数及び半径方向の走査位置から容
易に得られる。代わりに、位置検出器により走査ヘッド
の半径方向の位置から半径方向の走査位置を得ることも
できる。
査速度を表す速度信号に依存する信号i(t)のたたみこみ
に用いられる関数h(t)に適合させることにより、変化す
る走査速度を適合させることもできる。このような適合
は、調整可能な時定数を有する低域通過フィルタを用い
ることにより容易に実現できる。記録キャリアの回転周
波数及び半径方向の走査位置は、例えば走査される位置
のアドレスにより固定されるので、速度表示信号は、記
録キャリアの回転周波数及び半径方向の走査位置から容
易に得られる。代わりに、位置検出器により走査ヘッド
の半径方向の位置から半径方向の走査位置を得ることも
できる。
【００３０】本発明は、効果発生領域を放射パルスによ
りもっぱら発生させる記録方法に対して上述した。パル
ス間隔中に記録層が変化しないように、パルス間隔中の
温度は書込み温度より低い温度に減少する。
りもっぱら発生させる記録方法に対して上述した。パル
ス間隔中に記録層が変化しないように、パルス間隔中の
温度は書込み温度より低い温度に減少する。
【００３１】一方、本発明は「直接上書きする」型の記
録層に記録する場合にも同様に適している。この「直接
上書きする」型では、第１の型の効果発生領域が第１の
高温レベルより高い温度で記録層を加熱することにより
得られ、第１の型の効果発生領域とは区別される第２の
型の効果発生領域が第２の低温レベルで記録層を加熱す
ることによって得られる。このような記録層はとりわ
け、"Japanese Journalof Applied Physics" の補遺28-
3のpp.367-370及びpp.371-374から既知である。この刊
行物に記載されている記録層は、交換結合型の多層磁気
光学フィルムを有する記録キャリアに関するものであ
る。このような直接上書きする記録層では、第１及び第
２の型の効果発生領域の情報パターンは、図５ａ及び図
６に示されるような強度変化を有する放射ビームによっ
て、走査区域の記録層を上記高温レベル及び上記低温レ
ベルに交互に加熱することにより得られる。
録層に記録する場合にも同様に適している。この「直接
上書きする」型では、第１の型の効果発生領域が第１の
高温レベルより高い温度で記録層を加熱することにより
得られ、第１の型の効果発生領域とは区別される第２の
型の効果発生領域が第２の低温レベルで記録層を加熱す
ることによって得られる。このような記録層はとりわ
け、"Japanese Journalof Applied Physics" の補遺28-
3のpp.367-370及びpp.371-374から既知である。この刊
行物に記載されている記録層は、交換結合型の多層磁気
光学フィルムを有する記録キャリアに関するものであ
る。このような直接上書きする記録層では、第１及び第
２の型の効果発生領域の情報パターンは、図５ａ及び図
６に示されるような強度変化を有する放射ビームによっ
て、走査区域の記録層を上記高温レベル及び上記低温レ
ベルに交互に加熱することにより得られる。
【図１】本発明の方法を使用した記録キャリアを示す。
【図２】放射パルスの結果の記録層内の温度変化を示
す。
す。
【図３】ａは、放射パルスの結果の走査区域の温度を示
し、ｂは、本発明の方法を使用した記録キャリアを示
す。
し、ｂは、本発明の方法を使用した記録キャリアを示
す。
【図４】ａは、既知の方法における放射ビームの放射パ
ワーの変化を示し、ｂは、既知の方法に関連する走査区
域の温度変化を示す。
ワーの変化を示し、ｂは、既知の方法に関連する走査区
域の温度変化を示す。
【図５】ａは、本発明の記録方法の実施例における放射
ビームの放射パワーの変化を示し、ｂは、図５ａに示す
放射変化に関連する走査区域の温度変化を示す。
ビームの放射パワーの変化を示し、ｂは、図５ａに示す
放射変化に関連する走査区域の温度変化を示す。
【図６】本発明の記録方法の実施例における放射ビーム
の放射パワーの変化を示す。
の放射パワーの変化を示す。
【図７】本発明の装置の実施例を示す。
【図８】本発明の装置に用いられる回路の例を示す。
【図９】本発明の装置に用いられる回路の他の例を示
す。
す。
【図１０】本発明を説明する、時間の関数としての多数
の信号を示す。
の信号を示す。
１ 記録キャリア ２ 記録層 ３ 基板 ４ 放射ビーム ７０ 半導体レーザー ７１ 放射ビーム ７２ 対物レンズ ７３ 走査スポット ７４ 軸 ７５ モーター ７６ 信号変換器 ７７ 適合回路 ７８ 書込み信号発生回路 ７９ 制御回路 ８０，９０ 回路 ８１ 結合回路 ９１ 差動増幅器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ベルナルドス アントニウス ヨハネス ヤコブス オランダ国 5621 ベー アー アインド ーフェン フルーネヴァウツウェッハ１ (72)発明者 ウイルヘルムス ヘンドリクス アントニ ウス マリア バードール オランダ国 5621 ベー アー アインド ーフェン フルーネヴァウツウェッハ１
Claims (9)
- 【請求項１】記録層を有する記録キャリアに情報を記録
する方法であって、 この記録キャリアは、前記記録層を加熱することによっ
て光学的に検出可能な変化を実現でき、 パワーが記録されるべき情報に関するパルスパターンに
従って変調される放射ビームによって、前記記録層を走
査し、 前記パルスパターンは、高パワーレベルを有し、かつ、
低パワーレベルのパルス間隔と交互に発生するパルスパ
ターンを含み、 関連の放射パルスの直前の部分の間に記録層に供給する
パワーによって発生する温度上昇を補償するために、各
パルスパターン内のパワーの値を減少させて記録キャリ
アに情報を記録するに際し、 パルス間隔内における走査区域の温度をより一定のレベ
ルで維持するために、パルス間隔内でパワーを増加する
ことを特徴とする情報記録方法。 - 【請求項２】放射パワーを設定する方形波２価制御信号
を発生させて、走査区域の温度に対する放射パワーの変
化の影響の目安を前記制御信号に基づいて決定し、 前記方形波制御信号の信号値を、決定された前記影響の
目安に従って適合させ、前記放射ビームのパワーを、適
合された前記方形波制御信号の信号値に対応する値に設
定することを特徴とする請求項１記載の情報記録方法。 - 【請求項３】前記影響の目安を、前記方形波制御信号に
関し、かつ、振幅を減少させる時間関数を有する信号を
たたみこむことにより得ることを特徴とする請求項２記
載の情報記録方法。 - 【請求項４】前記時間関数を指数減少関数にすることを
特徴とする請求項３記載の情報記録方法。 - 【請求項５】加熱することにより光学的に検出可能な変
化を実現できる記録層を有する記録キャリアへの情報記
録装置であって、 放射ビームを発生させる放射源と、 前記放射ビームにより記録層を走査する走査手段と、 情報信号を、パルス内で減少する低パワー信号レベルを
有する間隔と交互に発生し、かつ、高パワーレベルのパ
ルスを具えるパルスパターンを有する書込み信号に変換
する書込み信号発生回路と、 前記放射ビームのパワーの瞬間値を、前記書込み信号の
瞬間信号レベルによって定められた値に設定する制御回
路とを具える情報記録装置において、 前記書込み信号発生回路が、関連の間隔内で増加する信
号値を有する書込み信号を発生させるように適合してい
ることを特徴とする情報記録装置。 - 【請求項６】前記書込み信号発生回路が、前記情報信号
を２価方形波制御信号に変換する信号変換手段と、 前記制御信号に基づいて、走査区域の温度に及ぼす前記
放射パワーの変化の影響の目安を決定する評価手段と、 決定された前記影響の目安の前記方形波制御信号の信号
値に適合させる信号適合手段とを具え、 前記適合された制御信号は、前記放射ビームのパワーの
瞬間値を設定する書込み信号であることを特徴とする請
求項５記載の情報記録装置。 - 【請求項７】前記評価手段が、前記２価方形波信号に関
し、かつ、振幅変化を減少させる時関数を有する信号の
たたみこみを行うたたみこみ手段を具えることを特徴と
する請求項６記載の情報記録装置。 - 【請求項８】前記時間関数が、指数減少関数であること
を特徴とする請求項７記載の情報記録装置。 - 【請求項９】前記たたみこみ手段が、前記時間関数に対
応するパルス応答を有する低域通過フィルタを具えるこ
とを特徴とする請求項７記載の情報記録装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL92201361:0 | 1992-05-13 | ||
| EP92201361 | 1992-05-13 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0620278A true JPH0620278A (ja) | 1994-01-28 |
Family
ID=8210604
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5108504A Pending JPH0620278A (ja) | 1992-05-13 | 1993-05-10 | 情報記録方法及び情報記録装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5321682A (ja) |
| JP (1) | JPH0620278A (ja) |
| KR (1) | KR100256386B1 (ja) |
| DE (1) | DE69313919T2 (ja) |
| ES (1) | ES2109419T3 (ja) |
| TW (1) | TW227614B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6628594B1 (en) | 1999-03-05 | 2003-09-30 | Lg Electronics Inc. | Device and method for generating writing signal for optical recording medium by controlling writing power levels for different pit portions |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3259204B2 (ja) * | 1992-10-21 | 2002-02-25 | 株式会社ニコン | 光記録方法及び光記録のパルストレイン条件決定方法 |
| US5802031A (en) * | 1997-01-28 | 1998-09-01 | International Business Machines Corporation | Programmable PPM/PWM writing system for optical disk |
| US6580683B1 (en) | 1999-06-23 | 2003-06-17 | Dataplay, Inc. | Optical recording medium having a master data area and a writeable data area |
| AU2003250421A1 (en) * | 2002-08-14 | 2004-03-03 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Method and apparatus for recording marks in a phase-change type information layer of a record carrier |
| TWI387289B (zh) | 2009-02-18 | 2013-02-21 | Giga Byte Tech Co Ltd | 一種網域衝突避免方法及運用該方法的路由器 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR910003460B1 (ko) * | 1987-02-12 | 1991-05-31 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 광학식 정보기록 장치 |
| JPH03113760A (ja) * | 1989-09-22 | 1991-05-15 | Nikon Corp | 光磁気ピットポジション記録方法及びそれに使用される記録装置 |
| JP2956146B2 (ja) * | 1990-07-10 | 1999-10-04 | ソニー株式会社 | ディスクカートリッジ並びに記録及び／又は再生装置 |
-
1992
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