JPH06195704A - 磁気ディスク製造装置および製造方法 - Google Patents
磁気ディスク製造装置および製造方法Info
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- JPH06195704A JPH06195704A JP34778192A JP34778192A JPH06195704A JP H06195704 A JPH06195704 A JP H06195704A JP 34778192 A JP34778192 A JP 34778192A JP 34778192 A JP34778192 A JP 34778192A JP H06195704 A JPH06195704 A JP H06195704A
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- JP
- Japan
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- magnetic disk
- tank
- coating
- lubricant solution
- lubricant
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 磁気ディスクの記録面に潤滑剤を均一に塗布
し、磁気ディスクのクラッシュの発生を防ぐ、信頼性の
高い磁気ディスク製造装置および製造方法を提供する。 【構成】 潤滑剤溶液１１を満たし磁気ディスク９を浸
漬して潤滑剤を塗布する潤滑剤溶液塗布槽１と、塗布槽
１からオーバーフローした潤滑剤溶液１１を受容する受
け皿１２と、潤滑剤溶液１１を塗布槽１に供給する潤滑
剤溶液供給槽２と、塗布槽１からオーバーフローした潤
滑剤溶液を貯蔵する貯蔵槽３とで構成される。この構成
では、供給槽底面１５が塗布槽オーバーフロー面１６よ
り高い位置に配置され、供給槽２と塗布槽１とは流量調
節用のニードル弁４とフレキシブル管５を介して連結配
管されている。塗布槽１にハンガ１０で保持した磁気デ
ィスク９を一定速度で浸漬した後、一定速度で引き上
げ、磁気ディスク９に潤滑剤溶液１１を塗布し乾燥す
る。
し、磁気ディスクのクラッシュの発生を防ぐ、信頼性の
高い磁気ディスク製造装置および製造方法を提供する。 【構成】 潤滑剤溶液１１を満たし磁気ディスク９を浸
漬して潤滑剤を塗布する潤滑剤溶液塗布槽１と、塗布槽
１からオーバーフローした潤滑剤溶液１１を受容する受
け皿１２と、潤滑剤溶液１１を塗布槽１に供給する潤滑
剤溶液供給槽２と、塗布槽１からオーバーフローした潤
滑剤溶液を貯蔵する貯蔵槽３とで構成される。この構成
では、供給槽底面１５が塗布槽オーバーフロー面１６よ
り高い位置に配置され、供給槽２と塗布槽１とは流量調
節用のニードル弁４とフレキシブル管５を介して連結配
管されている。塗布槽１にハンガ１０で保持した磁気デ
ィスク９を一定速度で浸漬した後、一定速度で引き上
げ、磁気ディスク９に潤滑剤溶液１１を塗布し乾燥す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータの補助記
憶装置として用いる磁気ディスクの両記録面に、潤滑剤
層を均一に形成する磁気ディスクの製造装置および製造
方法に関する。
憶装置として用いる磁気ディスクの両記録面に、潤滑剤
層を均一に形成する磁気ディスクの製造装置および製造
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータやオフィ
スコンピュータなどの情報機器の補助記憶装置として、
磁気ディスク装置が広く用いられている。磁気ディスク
装置の普及が進むにしたがって、磁気ディスク装置の高
速化と小型化が求められ、使用環境も厳しくなり、より
高い信頼性が磁気ディスクおよびドライブに求められて
いる。特に、磁気ディスクと磁気ヘッドの接触により発
生する磁気ディスクのクラッシュ（破壊）を防ぐことが
最重要課題になっている。磁気ディスクのクラッシュは
ディスクの回転中あるいは停止しようとするときに、磁
気ヘッドが磁気ディスクに摺動、接触あるいは粉塵の咬
み込みなどが原因で発生する。
スコンピュータなどの情報機器の補助記憶装置として、
磁気ディスク装置が広く用いられている。磁気ディスク
装置の普及が進むにしたがって、磁気ディスク装置の高
速化と小型化が求められ、使用環境も厳しくなり、より
高い信頼性が磁気ディスクおよびドライブに求められて
いる。特に、磁気ディスクと磁気ヘッドの接触により発
生する磁気ディスクのクラッシュ（破壊）を防ぐことが
最重要課題になっている。磁気ディスクのクラッシュは
ディスクの回転中あるいは停止しようとするときに、磁
気ヘッドが磁気ディスクに摺動、接触あるいは粉塵の咬
み込みなどが原因で発生する。
【０００３】このようなディスククラッシュを防止する
ために、従来は、磁気ディスクの表面に均一に潤滑剤層
を形成していた。均一な厚みの潤滑剤層を形成する方法
としては下記の２つの方法が実施されてきた。１つの方
法は、スピンコート法と呼ばれ、１０〜５００rpmの速
さで回転している磁気ディスク上に潤滑剤溶液を流下し
て塗布し、その後、塗布時よりも高速でディスクを回転
させ、塗布した潤滑剤溶液の展開と乾燥を行う。
ために、従来は、磁気ディスクの表面に均一に潤滑剤層
を形成していた。均一な厚みの潤滑剤層を形成する方法
としては下記の２つの方法が実施されてきた。１つの方
法は、スピンコート法と呼ばれ、１０〜５００rpmの速
さで回転している磁気ディスク上に潤滑剤溶液を流下し
て塗布し、その後、塗布時よりも高速でディスクを回転
させ、塗布した潤滑剤溶液の展開と乾燥を行う。
【０００４】他の方法としては、例えば特開平１−１６
２２２７号公報に開示されているような浸漬塗布法があ
る。この方法は、図３に示すように、潤滑剤溶液塗布槽
２１と、潤滑剤溶液貯蔵槽２６とを備え、貯蔵槽２６は
潤滑剤溶液を定められた温度に加熱保持する。塗布槽２
１と貯蔵槽２６は送液ポンプ２４、フィルタ２５、流量
調節用ニードル弁２３を介して送液管２９で配管連結さ
れている。一方、塗布槽２１中にあった潤滑剤溶液２２
を貯蔵槽２６に戻すため流量調節用のニードル弁２３を
介して送液管２９により塗布槽２１と貯蔵槽２６が連結
されている。
２２２７号公報に開示されているような浸漬塗布法があ
る。この方法は、図３に示すように、潤滑剤溶液塗布槽
２１と、潤滑剤溶液貯蔵槽２６とを備え、貯蔵槽２６は
潤滑剤溶液を定められた温度に加熱保持する。塗布槽２
１と貯蔵槽２６は送液ポンプ２４、フィルタ２５、流量
調節用ニードル弁２３を介して送液管２９で配管連結さ
れている。一方、塗布槽２１中にあった潤滑剤溶液２２
を貯蔵槽２６に戻すため流量調節用のニードル弁２３を
介して送液管２９により塗布槽２１と貯蔵槽２６が連結
されている。
【０００５】つぎに、上記構成の装置を用いて磁気ディ
スクに潤滑剤を塗布する方法を説明する。塗布槽２１が
空の状態でディスクハンガ２８により磁気ディスク２７
を支持し塗布槽２１内に磁気ディスクを保持する。その
後、揮発性溶剤に潤滑剤を溶解し、温度調節された潤滑
剤溶液をフィルタ２５により濾過しながらポンプ２４に
より塗布槽に圧送し、磁気ディスク２７が完全に浸漬さ
れるまで注入する。注入が完了した後、振動を発するポ
ンプなどを停止して液面を鎮静化させ、液面が搖れない
よう注意深く潤滑剤溶液２２を塗布槽２１から抜取り貯
蔵槽２６に送る。磁気ディスク上に残留した潤滑剤溶液
は乾燥工程に入り、溶剤が揮発し乾燥され潤滑剤のみが
磁気ディスクの表面に残り、潤滑剤層が形成される。こ
の装置を用いた塗布方法では、振動による液面の振動が
潤滑剤の塗布むらを発生させるので、潤滑剤溶液を抜取
る工程では全ての振動を排除するために、装置の駆動部
分は全て停止させる。また、液面の下降速度を一定にす
るため、塗布槽２１の形状は、自然流下する溶液の比重
・濃度・配管形状などにより導き出されたレイノルズ数
や塗布槽２１内の磁気ディスクの体積などのファクタか
ら計算され決定されている。
スクに潤滑剤を塗布する方法を説明する。塗布槽２１が
空の状態でディスクハンガ２８により磁気ディスク２７
を支持し塗布槽２１内に磁気ディスクを保持する。その
後、揮発性溶剤に潤滑剤を溶解し、温度調節された潤滑
剤溶液をフィルタ２５により濾過しながらポンプ２４に
より塗布槽に圧送し、磁気ディスク２７が完全に浸漬さ
れるまで注入する。注入が完了した後、振動を発するポ
ンプなどを停止して液面を鎮静化させ、液面が搖れない
よう注意深く潤滑剤溶液２２を塗布槽２１から抜取り貯
蔵槽２６に送る。磁気ディスク上に残留した潤滑剤溶液
は乾燥工程に入り、溶剤が揮発し乾燥され潤滑剤のみが
磁気ディスクの表面に残り、潤滑剤層が形成される。こ
の装置を用いた塗布方法では、振動による液面の振動が
潤滑剤の塗布むらを発生させるので、潤滑剤溶液を抜取
る工程では全ての振動を排除するために、装置の駆動部
分は全て停止させる。また、液面の下降速度を一定にす
るため、塗布槽２１の形状は、自然流下する溶液の比重
・濃度・配管形状などにより導き出されたレイノルズ数
や塗布槽２１内の磁気ディスクの体積などのファクタか
ら計算され決定されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記のような
従来の構成では、磁気ディスクの形状や処理枚数など塗
布条件が変わった場合には、塗布槽内の潤滑剤溶液を自
然流下で抜き取るとき液面の移動速度が変化する。その
結果、図２に示すように、定められた塗布膜厚が得られ
なくなる。塗布膜の厚みを定められた値にするために
は、自然流下の条件を再度検討し直すことが必要で、長
時間にわたる調整を必要とした。
従来の構成では、磁気ディスクの形状や処理枚数など塗
布条件が変わった場合には、塗布槽内の潤滑剤溶液を自
然流下で抜き取るとき液面の移動速度が変化する。その
結果、図２に示すように、定められた塗布膜厚が得られ
なくなる。塗布膜の厚みを定められた値にするために
は、自然流下の条件を再度検討し直すことが必要で、長
時間にわたる調整を必要とした。
【０００７】また、液面を鎮静化する必要があり、その
ために全ての可動部分を停止しなければならず、生産性
の低い製造方法であった。
ために全ての可動部分を停止しなければならず、生産性
の低い製造方法であった。
【０００８】本発明はこのような課題を解決するもの
で、塗布条件が変わっても塗布装置の構成を変更する必
要がなく、さらに、塗布時に可動部分を停止しなくても
よい、簡単な操作で、均一な潤滑剤層を形成する磁気デ
ィスク製造装置および製造方法を提供することを目的と
するものである。
で、塗布条件が変わっても塗布装置の構成を変更する必
要がなく、さらに、塗布時に可動部分を停止しなくても
よい、簡単な操作で、均一な潤滑剤層を形成する磁気デ
ィスク製造装置および製造方法を提供することを目的と
するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに本発明は、潤滑剤溶液を満たし磁気ディスクを浸漬
して潤滑剤を塗布する潤滑剤溶液塗布槽と、塗布槽から
オーバーフローした潤滑剤溶液を受容する受け皿と、潤
滑剤溶液を塗布槽に供給する潤滑剤溶液供給槽と、塗布
槽からオーバーフローした潤滑剤溶液を貯蔵する貯蔵槽
とを備え、供給槽の底面が塗布槽のオーバーフロー面よ
り高い位置に配置し、供給槽と塗布槽を流量調節用のニ
ードル弁とフレキシブル管を介して連結配管し、塗布槽
と貯蔵槽をフレキシブル管を介して連結配管し、貯蔵槽
と供給槽をポンプと潤滑剤溶液濾過用フィルタを介して
連結配管してなり、ハンガで保持した磁気ディスクを塗
布槽に一定速度で浸漬した後、一定速度で引き上げ、磁
気ディスクに潤滑剤溶液を塗布し乾燥するようにしたも
のである。
めに本発明は、潤滑剤溶液を満たし磁気ディスクを浸漬
して潤滑剤を塗布する潤滑剤溶液塗布槽と、塗布槽から
オーバーフローした潤滑剤溶液を受容する受け皿と、潤
滑剤溶液を塗布槽に供給する潤滑剤溶液供給槽と、塗布
槽からオーバーフローした潤滑剤溶液を貯蔵する貯蔵槽
とを備え、供給槽の底面が塗布槽のオーバーフロー面よ
り高い位置に配置し、供給槽と塗布槽を流量調節用のニ
ードル弁とフレキシブル管を介して連結配管し、塗布槽
と貯蔵槽をフレキシブル管を介して連結配管し、貯蔵槽
と供給槽をポンプと潤滑剤溶液濾過用フィルタを介して
連結配管してなり、ハンガで保持した磁気ディスクを塗
布槽に一定速度で浸漬した後、一定速度で引き上げ、磁
気ディスクに潤滑剤溶液を塗布し乾燥するようにしたも
のである。
【００１０】また、潤滑剤溶液塗布槽に磁気ディスクを
浸漬した後引き上げる塗布工程において、潤滑剤溶液が
常にオーバーフロー状態にあり、液面が一定に保たれる
よう浸漬し引き上げるようにしたものである。
浸漬した後引き上げる塗布工程において、潤滑剤溶液が
常にオーバーフロー状態にあり、液面が一定に保たれる
よう浸漬し引き上げるようにしたものである。
【００１１】また、潤滑剤溶液塗布槽に磁気ディスクを
浸漬した後引き上げる塗布工程において、潤滑剤溶液を
一定温度に保持することにより潤滑剤塗布膜の厚みを一
定に形成するようにしたものである。
浸漬した後引き上げる塗布工程において、潤滑剤溶液を
一定温度に保持することにより潤滑剤塗布膜の厚みを一
定に形成するようにしたものである。
【００１２】
【作用】上記の構成によれば、温度調節された潤滑剤溶
液が常に塗布槽からオーバーフローされているので、磁
気ディスクやディスクハンガの形状や容積が大きく変化
しても、磁気ディスクの引き上げ速度を変更する必要が
ない。また、潤滑剤溶液は常にオーバーフローして塗布
槽から流出しているので、機械振動が液面に伝達された
としても、液面の端部で反射され増幅されることがな
く、常に鎮静化した平滑な液面を保つことができる。そ
の結果、磁気ディスク上に形成された潤滑剤層の厚み分
布は一定で厚みの揃った潤滑剤層を形成することができ
ることとなる。
液が常に塗布槽からオーバーフローされているので、磁
気ディスクやディスクハンガの形状や容積が大きく変化
しても、磁気ディスクの引き上げ速度を変更する必要が
ない。また、潤滑剤溶液は常にオーバーフローして塗布
槽から流出しているので、機械振動が液面に伝達された
としても、液面の端部で反射され増幅されることがな
く、常に鎮静化した平滑な液面を保つことができる。そ
の結果、磁気ディスク上に形成された潤滑剤層の厚み分
布は一定で厚みの揃った潤滑剤層を形成することができ
ることとなる。
【００１３】
【実施例】以下に本発明の一実施例の磁気ディスク製造
装置および製造方法を図面を参照しながら説明する。図
１に本実施例の磁気ディスク製造装置の概略構成を示
す。図に示すように、本実施例の装置は潤滑剤溶液１１
を満たし磁気ディスク９を浸漬して潤滑剤を塗布する潤
滑剤溶液塗布槽１と、塗布槽１からオーバーフローした
潤滑剤溶液１１を受容する受け皿１２と、潤滑剤溶液１
１を塗布槽１に供給する潤滑剤溶液供給槽２と、塗布槽
１からオーバーフローした潤滑剤溶液を貯蔵する貯蔵槽
３とで構成される。この構成では、供給槽底面１５が塗
布槽オーバーフロー面１６より高い位置に配置され、供
給槽２と塗布槽１とは流量調節用のニードル弁４とフレ
キシブル管５を介して連結配管されている。また、塗布
槽１と貯蔵槽３はフレキシブル管５を介して連結配管さ
れている。貯蔵槽３と供給槽２とはポンプ６と潤滑剤溶
液濾過用フィルタ７を介して連結配管されている。
装置および製造方法を図面を参照しながら説明する。図
１に本実施例の磁気ディスク製造装置の概略構成を示
す。図に示すように、本実施例の装置は潤滑剤溶液１１
を満たし磁気ディスク９を浸漬して潤滑剤を塗布する潤
滑剤溶液塗布槽１と、塗布槽１からオーバーフローした
潤滑剤溶液１１を受容する受け皿１２と、潤滑剤溶液１
１を塗布槽１に供給する潤滑剤溶液供給槽２と、塗布槽
１からオーバーフローした潤滑剤溶液を貯蔵する貯蔵槽
３とで構成される。この構成では、供給槽底面１５が塗
布槽オーバーフロー面１６より高い位置に配置され、供
給槽２と塗布槽１とは流量調節用のニードル弁４とフレ
キシブル管５を介して連結配管されている。また、塗布
槽１と貯蔵槽３はフレキシブル管５を介して連結配管さ
れている。貯蔵槽３と供給槽２とはポンプ６と潤滑剤溶
液濾過用フィルタ７を介して連結配管されている。
【００１４】つぎに、上記構成の磁気ディスク製造装置
を用いた磁気ディスク製造方法を説明する。まず、塗布
槽１は供給槽２より水頭差により発生する圧力によって
ニードル弁４による流量調節を受けながら潤滑剤溶液が
注入され、常にオーバーフロー状態にある。このオーバ
ーフロー量は磁気ディスク９を引き上げるときに接液面
を通過する磁気ディスクの単位時間当りの最大体積より
も僅かに大きい流量に設定されている。したがって、磁
気ディスク引き上げ時には塗布槽は常にオーバーフロー
状態が維持される。潤滑剤溶液の供給は水頭差により発
生する静圧力により行われるので、機械振動や脈流がな
く液面を振動させることはない。また、配管はフレキシ
ブル管を中間につないで用い、振動が液面に伝達される
のを防いでいる。上記のような条件に設定された塗布槽
１にハンガ１０で保持した磁気ディスク９を一定速度で
浸漬した後、一定速度で引き上げ、磁気ディスク９に潤
滑剤溶液１１を塗布し乾燥する。
を用いた磁気ディスク製造方法を説明する。まず、塗布
槽１は供給槽２より水頭差により発生する圧力によって
ニードル弁４による流量調節を受けながら潤滑剤溶液が
注入され、常にオーバーフロー状態にある。このオーバ
ーフロー量は磁気ディスク９を引き上げるときに接液面
を通過する磁気ディスクの単位時間当りの最大体積より
も僅かに大きい流量に設定されている。したがって、磁
気ディスク引き上げ時には塗布槽は常にオーバーフロー
状態が維持される。潤滑剤溶液の供給は水頭差により発
生する静圧力により行われるので、機械振動や脈流がな
く液面を振動させることはない。また、配管はフレキシ
ブル管を中間につないで用い、振動が液面に伝達される
のを防いでいる。上記のような条件に設定された塗布槽
１にハンガ１０で保持した磁気ディスク９を一定速度で
浸漬した後、一定速度で引き上げ、磁気ディスク９に潤
滑剤溶液１１を塗布し乾燥する。
【００１５】このとき、塗布槽１をオーバーフローした
潤滑剤溶液１１は貯蔵槽３に流入し、冷却水８により温
度制御されポンプ６により圧送されフィルタ７で清浄化
されて供給槽２に押し上げられる。潤滑剤溶液を常に清
浄に保つために、上記の潤滑剤溶液の循環は塗布槽のオ
ーバーフロー面を乱さない程度の流量で常時継続して行
われる。本実施例の循環系は全体が閉鎖系で構成されて
いるので、発熱源であるポンプから発生した熱は貯蔵槽
３において冷却水８により冷却除去され定められた塗布
温度に保持される。
潤滑剤溶液１１は貯蔵槽３に流入し、冷却水８により温
度制御されポンプ６により圧送されフィルタ７で清浄化
されて供給槽２に押し上げられる。潤滑剤溶液を常に清
浄に保つために、上記の潤滑剤溶液の循環は塗布槽のオ
ーバーフロー面を乱さない程度の流量で常時継続して行
われる。本実施例の循環系は全体が閉鎖系で構成されて
いるので、発熱源であるポンプから発生した熱は貯蔵槽
３において冷却水８により冷却除去され定められた塗布
温度に保持される。
【００１６】上記の方法で磁気ディスクに潤滑剤を塗布
するとき、例えば潤滑剤溶液濃度を０．１％とし、磁気
ディスクの引き上げ速度を１．５mm/s、潤滑剤溶液の温
度を２０℃とした場合、潤滑剤層の塗布厚みは図２
（Ａ）に示すように分布し、厚みむらは従来の方法に比
べて１／８以下に低減された。なお、図２（Ａ）に示す
測定位置No１〜No１０は図２（Ｂ）に示す磁気ディスク
上の位置No１〜No１０に対応する。矢印は液面方向１４
を示し、一点鎖線１６は潤滑剤溶液との接液面を示す。
この磁気ディスクを用いた記憶装置は、磁気ヘッドと磁
気ディスクの接触によるディスククラッシュの発生確率
が著しく低下した。
するとき、例えば潤滑剤溶液濃度を０．１％とし、磁気
ディスクの引き上げ速度を１．５mm/s、潤滑剤溶液の温
度を２０℃とした場合、潤滑剤層の塗布厚みは図２
（Ａ）に示すように分布し、厚みむらは従来の方法に比
べて１／８以下に低減された。なお、図２（Ａ）に示す
測定位置No１〜No１０は図２（Ｂ）に示す磁気ディスク
上の位置No１〜No１０に対応する。矢印は液面方向１４
を示し、一点鎖線１６は潤滑剤溶液との接液面を示す。
この磁気ディスクを用いた記憶装置は、磁気ヘッドと磁
気ディスクの接触によるディスククラッシュの発生確率
が著しく低下した。
【００１７】
【発明の効果】以上の実施例の説明から明らかなように
本発明によれば、磁気ディスク引き上げ時の液面通過体
積より多く潤滑剤溶液を供給しオーバーフローさせるの
で、塗布層の液面は常に一定に保つことができる。
本発明によれば、磁気ディスク引き上げ時の液面通過体
積より多く潤滑剤溶液を供給しオーバーフローさせるの
で、塗布層の液面は常に一定に保つことができる。
【００１８】また、潤滑剤を塗布する磁気ディスクの枚
数や形状が変わっても、塗布槽の形状や潤滑剤溶液の濃
度と粘度を変更する必要はなく、潤滑剤溶液のオーバー
フロー量の変更だけで所定の潤滑剤層の厚みを形成する
ことができる。
数や形状が変わっても、塗布槽の形状や潤滑剤溶液の濃
度と粘度を変更する必要はなく、潤滑剤溶液のオーバー
フロー量の変更だけで所定の潤滑剤層の厚みを形成する
ことができる。
【００１９】また、塗布層の液面は常に一定に保たれて
いて振動や脈流による液面の乱れが発生しないので、潤
滑剤の塗布むらが低減され、均一な厚み分布を有する潤
滑剤層を形成することができる。
いて振動や脈流による液面の乱れが発生しないので、潤
滑剤の塗布むらが低減され、均一な厚み分布を有する潤
滑剤層を形成することができる。
【図１】本発明の一実施例の磁気ディスク製造装置の概
略構成を示す図
略構成を示す図
【図２】（Ａ）は同潤滑剤の膜圧分布を示す図 （Ｂ）は同潤滑剤膜圧分布の測定位置を示す図
【図３】従来の磁気ディスク製造装置の概略構成を示す
図
図
１ 塗布槽 ２ 供給槽 ３ 貯蔵槽 ４ ニードル弁 ５ フレキシブル管 ６ ポンプ ７ フィルタ ８ 冷却水 ９ 磁気ディスク １０ ハンガ １１ 潤滑剤溶液 １２ 受け皿 １３ 潤滑剤膜圧測定位置 １５ 供給槽底面 １６ 磁気ディスクの接液面
Claims (4)
- 【請求項１】 潤滑剤溶液を満たし磁気ディスクを浸漬
して潤滑剤を塗布する潤滑剤溶液塗布槽と、前記塗布槽
からオーバーフローした潤滑剤溶液を受容する受け皿
と、前記潤滑剤溶液を前記塗布槽に供給する潤滑剤溶液
供給槽と、前記塗布槽からオーバーフローした潤滑剤溶
液を貯蔵する貯蔵槽とを備え、前記供給槽の底面が前記
塗布槽のオーバーフロー面より高い位置に配置し、前記
供給槽と前記塗布槽を流量調節用のニードル弁とフレキ
シブル管を介して連結配管し、前記塗布槽と前記貯蔵槽
をフレキシブル管を介して連結配管し、前記貯蔵槽と前
記供給槽をポンプと潤滑剤溶液濾過用フィルタを介して
連結配管してなり、ハンガで保持した磁気ディスクを前
記塗布槽に一定速度で浸漬した後、一定速度で引き上
げ、前記磁気ディスクに潤滑剤溶液を塗布し乾燥する磁
気ディスク製造装置。 - 【請求項２】 潤滑剤溶液を満たし磁気ディスクを浸漬
して潤滑剤を塗布する潤滑剤溶液塗布槽と、前記塗布槽
からオーバーフローした潤滑剤溶液を受容する受け皿
と、前記潤滑剤溶液を前記塗布槽に供給する潤滑剤溶液
供給槽と、前記塗布槽からオーバーフローした潤滑剤溶
液を貯蔵する貯蔵槽とを備え、前記供給槽の底面が前記
塗布槽のオーバーフロー面より高い位置に配置し、前記
供給槽と前記塗布槽を流量調節用のニードル弁とフレキ
シブル管を介して連結配管し、前記塗布槽と前記貯蔵槽
をフレキシブル管を介して連結配管し、前記貯蔵槽と前
記供給槽をポンプと潤滑剤溶液濾過用フィルタを介して
連結配管してなり、ハンガで保持した磁気ディスクを前
記塗布槽に一定速度で浸漬した後、一定速度で引き上
げ、前記磁気ディスクに潤滑剤溶液を塗布し乾燥する磁
気ディスク製造方法。 - 【請求項３】 潤滑剤溶液塗布槽に磁気ディスクを浸漬
した後引き上げる塗布工程において、前記潤滑剤溶液が
常にオーバーフロー状態にあり、液面が一定に保たれる
よう浸漬し引き上げる請求項２記載の磁気ディスク製造
方法。 - 【請求項４】 潤滑剤溶液塗布槽に磁気ディスクを浸漬
した後引き上げる塗布工程において、前記潤滑剤溶液を
一定温度に保持することにより潤滑剤塗布膜の厚みを一
定にする請求項２記載の磁気ディスク製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34778192A JPH06195704A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気ディスク製造装置および製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34778192A JPH06195704A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気ディスク製造装置および製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06195704A true JPH06195704A (ja) | 1994-07-15 |
Family
ID=18392538
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34778192A Pending JPH06195704A (ja) | 1992-12-28 | 1992-12-28 | 磁気ディスク製造装置および製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06195704A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006320791A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Canon Inc | 塗布方法及び電子写真感光体の製造方法 |
| JP2008310886A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造装置及び製造方法 |
| JP2009199699A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Fujitsu Ltd | 潤滑剤塗布装置および潤滑剤塗布方法 |
| US7640886B2 (en) | 2003-09-30 | 2010-01-05 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk lubricant tank insert to suppress lubricant surface waves |
-
1992
- 1992-12-28 JP JP34778192A patent/JPH06195704A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7640886B2 (en) | 2003-09-30 | 2010-01-05 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Disk lubricant tank insert to suppress lubricant surface waves |
| JP2006320791A (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-30 | Canon Inc | 塗布方法及び電子写真感光体の製造方法 |
| JP2008310886A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Fujitsu Ltd | 磁気記録媒体の製造装置及び製造方法 |
| JP2009199699A (ja) * | 2008-02-25 | 2009-09-03 | Fujitsu Ltd | 潤滑剤塗布装置および潤滑剤塗布方法 |
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