JPH0619371B2 - 電気コネクタ - Google Patents
電気コネクタInfo
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- JPH0619371B2 JPH0619371B2 JP3044112A JP4411291A JPH0619371B2 JP H0619371 B2 JPH0619371 B2 JP H0619371B2 JP 3044112 A JP3044112 A JP 3044112A JP 4411291 A JP4411291 A JP 4411291A JP H0619371 B2 JPH0619371 B2 JP H0619371B2
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- Japan
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- conductor
- electrical connector
- contact region
- opening
- solder
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- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/04—Housings; Supporting members; Arrangements of terminals
- G01R1/0408—Test fixtures or contact fields; Connectors or connecting adaptors; Test clips; Test sockets
- G01R1/0433—Sockets for IC's or transistors
- G01R1/0483—Sockets for un-leaded IC's having matrix type contact fields, e.g. BGA or PGA devices; Sockets for unpackaged, naked chips
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R1/00—Details of instruments or arrangements of the types included in groups G01R5/00 - G01R13/00 and G01R31/00
- G01R1/02—General constructional details
- G01R1/06—Measuring leads; Measuring probes
- G01R1/067—Measuring probes
- G01R1/073—Multiple probes
- G01R1/07307—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card
- G01R1/07314—Multiple probes with individual probe elements, e.g. needles, cantilever beams or bump contacts, fixed in relation to each other, e.g. bed of nails fixture or probe card the body of the probe being perpendicular to test object, e.g. bed of nails or probe with bump contacts on a rigid support
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R12/00—Structural associations of a plurality of mutually-insulated electrical connecting elements, specially adapted for printed circuits, e.g. printed circuit boards [PCB], flat or ribbon cables, or like generally planar structures, e.g. terminal strips, terminal blocks; Coupling devices specially adapted for printed circuits, flat or ribbon cables, or like generally planar structures; Terminals specially adapted for contact with, or insertion into, printed circuits, flat or ribbon cables, or like generally planar structures
- H01R12/70—Coupling devices
- H01R12/71—Coupling devices for rigid printing circuits or like structures
- H01R12/712—Coupling devices for rigid printing circuits or like structures co-operating with the surface of the printed circuit or with a coupling device exclusively provided on the surface of the printed circuit
- H01R12/714—Coupling devices for rigid printing circuits or like structures co-operating with the surface of the printed circuit or with a coupling device exclusively provided on the surface of the printed circuit with contacts abutting directly the printed circuit; Button contacts therefore provided on the printed circuit
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- H—ELECTRICITY
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- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
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- H01R13/2485—Contacts for co-operating by abutting resilient; resiliently-mounted characterized by the contact point for contacting a ball
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- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/12—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process
- H01L2224/13—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors prior to the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/13001—Core members of the bump connector
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- H01L2224/13021—Disposition the bump connector being disposed in a recess of the surface
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01R2201/20—Connectors or connections adapted for particular applications for testing or measuring purposes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
- Measuring Leads Or Probes (AREA)
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電気コネクタに係り、特
にバーンインその他の試験手順において、半導体チップ
上の導電パッドと一時的に接触するのに適した電気コネ
クタに係る。
にバーンインその他の試験手順において、半導体チップ
上の導電パッドと一時的に接触するのに適した電気コネ
クタに係る。
【0002】
【従来の技術】多くの半導体チップは、外部との相互接
続を行うためのはんだのバンプ、ボールあるいはランド
を設けられている。このようなチップの製造において
は、チップの電気的試験を可能にするため、はんだ相互
接続領域との接触が必要である。チップの試験は多くの
場合バーンイン中に行われる。そこでは、チップを高温
状態で動作させる。問題は、チップ表面からのはんだ相
互接続領域の高さが一様でないことが多いということで
ある。従って、従来の相互接続は、はんだ相互接続領域
の異なった高さに対処するため、弾力性のあるコネクタ
を用いていた。例えば、コネクタとチップの間に圧力を
かけた時に、はんだの異なった高さに対して自動的に調
整を行うばね装填ピンを用いたコネクタがある。しか
し、ばね装填コネクタは高くつき、高温状態での動作に
も問題がある。プローブカードと呼ばれる別のコネクタ
は、チップの様々なはんだ相互接続領域とそれぞれ独立
に接触する複数の可撓性探針を持っている。プローブカ
ードのサイズを考えると、接触可能なチップの数は制限
され、また複数のチップとプローブカードの間の位置決
めも困難である。別のタイプの可撓性相互接続も知られ
ている。例えば、ドイツ公開特許公報第3151933
号には、複数の平行コンタクトを埋め込んだ弾性誘電母
体が開示されている。各コンタクトはばね状ワイヤとし
て設計されており、それにより、電気的に相互接続すべ
きデバイスの間にコネクタを置けるようになっている。
そしてその組立て体を一緒に押しつけることにより、弾
性誘電母体及びばね状コンタクトが圧縮されて、電気的
相互接続を形成する。米国特許第3680037号にも
同様な相互接続方式が開示されており、それによれば、
一対の導電母体を電気的に接触させるために、圧縮可能
な導電ロッドが用いられる。ここでも、導電母体の間に
相互接続ロッドを押しつけることによって接続を行って
いる。米国特許第3862790号には、絶縁材料のブ
ロック中に複数の平行導体を保持している別の相互接続
方式が開示されている。平行導体によって回路ボードを
相互接続する時は、それらの導体が相互接続母体のいず
れかの側に置かれ、一緒に押しつけられて、導体による
所望の接続を実現する。
続を行うためのはんだのバンプ、ボールあるいはランド
を設けられている。このようなチップの製造において
は、チップの電気的試験を可能にするため、はんだ相互
接続領域との接触が必要である。チップの試験は多くの
場合バーンイン中に行われる。そこでは、チップを高温
状態で動作させる。問題は、チップ表面からのはんだ相
互接続領域の高さが一様でないことが多いということで
ある。従って、従来の相互接続は、はんだ相互接続領域
の異なった高さに対処するため、弾力性のあるコネクタ
を用いていた。例えば、コネクタとチップの間に圧力を
かけた時に、はんだの異なった高さに対して自動的に調
整を行うばね装填ピンを用いたコネクタがある。しか
し、ばね装填コネクタは高くつき、高温状態での動作に
も問題がある。プローブカードと呼ばれる別のコネクタ
は、チップの様々なはんだ相互接続領域とそれぞれ独立
に接触する複数の可撓性探針を持っている。プローブカ
ードのサイズを考えると、接触可能なチップの数は制限
され、また複数のチップとプローブカードの間の位置決
めも困難である。別のタイプの可撓性相互接続も知られ
ている。例えば、ドイツ公開特許公報第3151933
号には、複数の平行コンタクトを埋め込んだ弾性誘電母
体が開示されている。各コンタクトはばね状ワイヤとし
て設計されており、それにより、電気的に相互接続すべ
きデバイスの間にコネクタを置けるようになっている。
そしてその組立て体を一緒に押しつけることにより、弾
性誘電母体及びばね状コンタクトが圧縮されて、電気的
相互接続を形成する。米国特許第3680037号にも
同様な相互接続方式が開示されており、それによれば、
一対の導電母体を電気的に接触させるために、圧縮可能
な導電ロッドが用いられる。ここでも、導電母体の間に
相互接続ロッドを押しつけることによって接続を行って
いる。米国特許第3862790号には、絶縁材料のブ
ロック中に複数の平行導体を保持している別の相互接続
方式が開示されている。平行導体によって回路ボードを
相互接続する時は、それらの導体が相互接続母体のいず
れかの側に置かれ、一緒に押しつけられて、導体による
所望の接続を実現する。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】最近のチップは、その
表面のはんだ相互接続領域の密度が極めて高くなってき
ているため、可撓性コネクタを用いると、短絡が生じる
ことがある。更に、可撓性相互接続システムは使用中に
曲がってしまうため、はんだ相互接続領域との位置決め
を確実に行うことができない。従って本発明の目的は、
剛性で容易に位置決めできるコンタクトを用いた電気的
相互接続体を提供することにある。本発明の他の目的
は、チップ上のはんだ相互接続領域の高さの相違に対処
できる電気的相互接続体を提供することにある。本発明
の他の目的は、はんだランド領域を有するチップのため
の自己整合型相互接続システムを提供することにある。
表面のはんだ相互接続領域の密度が極めて高くなってき
ているため、可撓性コネクタを用いると、短絡が生じる
ことがある。更に、可撓性相互接続システムは使用中に
曲がってしまうため、はんだ相互接続領域との位置決め
を確実に行うことができない。従って本発明の目的は、
剛性で容易に位置決めできるコンタクトを用いた電気的
相互接続体を提供することにある。本発明の他の目的
は、チップ上のはんだ相互接続領域の高さの相違に対処
できる電気的相互接続体を提供することにある。本発明
の他の目的は、はんだランド領域を有するチップのため
の自己整合型相互接続システムを提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明に従う電気コネク
タは、電子デバイス上の変形し得る複数の凸状コンタク
トと接触するもので、その基板表面には複数の導体が延
在している。コネクタ基板の表面には、複数の開口を有
する重合体材料が配置される。これらの開口は基板表面
の導体を露出させ、その大きさは、1つの凸状変形可能
コンタクトを受け入れて、露出した導体と変形可能コン
タクトとを電気的に接続できるように決められる。電子
デバイス上の変形可能コンタクトを露出した導体に対し
て押しつけるための機構が設けられる。この機構はデバ
イスと導体の間に十分な圧力をかけ、導体による凸状コ
ンタクトの変形を生じさせる。
タは、電子デバイス上の変形し得る複数の凸状コンタク
トと接触するもので、その基板表面には複数の導体が延
在している。コネクタ基板の表面には、複数の開口を有
する重合体材料が配置される。これらの開口は基板表面
の導体を露出させ、その大きさは、1つの凸状変形可能
コンタクトを受け入れて、露出した導体と変形可能コン
タクトとを電気的に接続できるように決められる。電子
デバイス上の変形可能コンタクトを露出した導体に対し
て押しつけるための機構が設けられる。この機構はデバ
イスと導体の間に十分な圧力をかけ、導体による凸状コ
ンタクトの変形を生じさせる。
【0005】
【実施例】図1は、複数の剛性導体10、12及び14
を実装した多層モジュール構造16を示している。モジ
ュール16の各層は、導体と入出力ピン(図示せず)を
接続する導電パスを含む。導体10、12及び14の材
料としてはモリブデンが好ましく、またモジュール16
の層は、酸化アルミニウムなどのセラミック材料が好ま
しい。
を実装した多層モジュール構造16を示している。モジ
ュール16の各層は、導体と入出力ピン(図示せず)を
接続する導電パスを含む。導体10、12及び14の材
料としてはモリブデンが好ましく、またモジュール16
の層は、酸化アルミニウムなどのセラミック材料が好ま
しい。
【0006】図2に示すように、剛性導体10、12及
び14の先端を更に露出して整形するために、層18の
一部が除去される。本実施例では、グリットブラスト法
を用いて層18の一部を除去するとともに導体10、1
2及び14の先端を丸くしている。研摩作用を起こさせ
る好ましいグリットは炭化珪素のグリットである。
び14の先端を更に露出して整形するために、層18の
一部が除去される。本実施例では、グリットブラスト法
を用いて層18の一部を除去するとともに導体10、1
2及び14の先端を丸くしている。研摩作用を起こさせ
る好ましいグリットは炭化珪素のグリットである。
【0007】次に、図3に示すように、モジュール16
の上部表面を覆うように重合体材料(例えばポリイミ
ド)の層20が付着される。ポリイミドは、スクリーニ
ング、積層、回転塗布などの適当な方法で付着できる
が、150゜C程度までは熱的に安定でなければなら
ず、またいったん硬化された後は比較的硬いものでなけ
ればならない。好適な重合体の例は、PMDA−OD
A、BPDA−POAシリコン含有重合体であり、これ
らは全て市販されている。
の上部表面を覆うように重合体材料(例えばポリイミ
ド)の層20が付着される。ポリイミドは、スクリーニ
ング、積層、回転塗布などの適当な方法で付着できる
が、150゜C程度までは熱的に安定でなければなら
ず、またいったん硬化された後は比較的硬いものでなけ
ればならない。好適な重合体の例は、PMDA−OD
A、BPDA−POAシリコン含有重合体であり、これ
らは全て市販されている。
【0008】重合体層20の硬化に続いて、導体10、
12及び14の先端を露出させるために、層20に開口
が形成される。この様子は図4に示されており、導体1
0、12及び14の先端部分を覆っている重合体領域が
例えばレーザーによって除去される。また、金属マスク
を層20の上に重ねて、エキシマレーザーによって露出
部分を除去してもよい。各開口の側壁22に傾斜をつけ
ておくと、はんだボールをその中へ導くのに都合がよ
い。
12及び14の先端を露出させるために、層20に開口
が形成される。この様子は図4に示されており、導体1
0、12及び14の先端部分を覆っている重合体領域が
例えばレーザーによって除去される。また、金属マスク
を層20の上に重ねて、エキシマレーザーによって露出
部分を除去してもよい。各開口の側壁22に傾斜をつけ
ておくと、はんだボールをその中へ導くのに都合がよ
い。
【0009】導体10、12及び14の先端を露出した
後、薄い導電層24で導体10、12及び14の先端並
びに重合体層20の各開口の側壁22を覆うのが好まし
い。ただしこの被覆は絶対必要というわけではない。導
電層24を付着した様子を図5に示す。導電層24とし
て好ましいのは、摩耗しにくく、はんだと反応しない、
或ははんだに濡れないニッケル−クロム材料である。
後、薄い導電層24で導体10、12及び14の先端並
びに重合体層20の各開口の側壁22を覆うのが好まし
い。ただしこの被覆は絶対必要というわけではない。導
電層24を付着した様子を図5に示す。導電層24とし
て好ましいのは、摩耗しにくく、はんだと反応しない、
或ははんだに濡れないニッケル−クロム材料である。
【0010】図6に示すチップ38の製造においては、
各はんだボール40、42、46の高さが所定の上限及
び下限の範囲内にくるようにされる。電気的接続を確実
にするためには、導体10、12及び14の露出した先
端と重合体層20の上部表面との間の距離を、はんだボ
ールの高さの下限値にほぼ等しくする必要がある。はん
だボールが導体に接続しなければ、その寸法は下限値よ
りも小さく、従ってチップは不合格にされる。
各はんだボール40、42、46の高さが所定の上限及
び下限の範囲内にくるようにされる。電気的接続を確実
にするためには、導体10、12及び14の露出した先
端と重合体層20の上部表面との間の距離を、はんだボ
ールの高さの下限値にほぼ等しくする必要がある。はん
だボールが導体に接続しなければ、その寸法は下限値よ
りも小さく、従ってチップは不合格にされる。
【0011】図6に示すように、相互接続モジュール1
6はアライメント器具30内に取り付けられる。アライ
メント器具30の上部は、重合体層20に形成されてい
た開口と整列する開口を有する重合体シート32を保持
する。シート32の厚さを適切に選ぶことによって、各
はんだボールの装入の深さを制御することができる。
6はアライメント器具30内に取り付けられる。アライ
メント器具30の上部は、重合体層20に形成されてい
た開口と整列する開口を有する重合体シート32を保持
する。シート32の厚さを適切に選ぶことによって、各
はんだボールの装入の深さを制御することができる。
【0012】正しい位置合わせのため、すなわち層20
の開口とシート32の開口を整列させるため、一対の調
整ねじ34及び36によってモジュール16を動かせる
ようになっている。次に、チップ38の複数のはんだボ
ール40、42、46が重合体シート32の開口を貫通
するように、シート32の上にチップ38が置かれる。
次に、各はんだボール40、42、46が導体10、1
2、14の先端と接触するまで、チップ38の上部表面
が下方に押しつけられる。矢印50で示すように、チッ
プ38に十分な力を加えることによって、導体10、1
2、14がそれぞれのはんだボール40、42、46に
めり込み、それにより良好な電気的接続が達成される。
このように、十分な圧力によってはんだボールへのめり
込みが生じるようにすると、はんだボールの高さが(限
界値の範囲内で)異なっていても問題はない。もしはん
だボールと導体の先端が接触しなければ、はんだボール
の高さは許容可能な限界値の範囲外にあり、従ってチッ
プは不合格にされる。図7は、チップ38に十分な圧力
をかけた後のはんだボール46及び導体14の接触状態
を拡大して示したものである。図から、導体14の先端
がはんだボール46にめり込んでいることがわかる。導
体ははんだボールに濡れないものが望ましい。
の開口とシート32の開口を整列させるため、一対の調
整ねじ34及び36によってモジュール16を動かせる
ようになっている。次に、チップ38の複数のはんだボ
ール40、42、46が重合体シート32の開口を貫通
するように、シート32の上にチップ38が置かれる。
次に、各はんだボール40、42、46が導体10、1
2、14の先端と接触するまで、チップ38の上部表面
が下方に押しつけられる。矢印50で示すように、チッ
プ38に十分な力を加えることによって、導体10、1
2、14がそれぞれのはんだボール40、42、46に
めり込み、それにより良好な電気的接続が達成される。
このように、十分な圧力によってはんだボールへのめり
込みが生じるようにすると、はんだボールの高さが(限
界値の範囲内で)異なっていても問題はない。もしはん
だボールと導体の先端が接触しなければ、はんだボール
の高さは許容可能な限界値の範囲外にあり、従ってチッ
プは不合格にされる。図7は、チップ38に十分な圧力
をかけた後のはんだボール46及び導体14の接触状態
を拡大して示したものである。図から、導体14の先端
がはんだボール46にめり込んでいることがわかる。導
体ははんだボールに濡れないものが望ましい。
【0013】重合体シート32を用いないで、チップ3
8を相互接続モジュール16の上に直接置くこともでき
る。しかしその場合は、チップとモジュールの位置合わ
せにずれが生じて、はんだボール及び対応する導体が正
しく整列しなくなることがある。その様子を図8に示
す。図示のように、はんだボール46との付加的な相互
接続を実現する導電層24を設けておけば、はんだボー
ル46と導体14が多少ずれていても良好な電気的接触
が得られる。
8を相互接続モジュール16の上に直接置くこともでき
る。しかしその場合は、チップとモジュールの位置合わ
せにずれが生じて、はんだボール及び対応する導体が正
しく整列しなくなることがある。その様子を図8に示
す。図示のように、はんだボール46との付加的な相互
接続を実現する導電層24を設けておけば、はんだボー
ル46と導体14が多少ずれていても良好な電気的接触
が得られる。
【0014】
【発明の効果】上述の相互接続モジュールは多くの利点
を持っている。すなわち、チップと試験モジュールの間
の永続的な結合は不要であり、多くのチップを同時に試
験することができ、機能試験及びバーンイン試験に同じ
相互接続モジュールを使用することができ、試験時には
チップは自己整合されて正しい位置に機械的に保持さ
れ、そしてもし必要であれば、導体のめり込みによって
変形したはんだボールを試験後に簡単なリフロー処理に
よって元の形に戻すことができる。
を持っている。すなわち、チップと試験モジュールの間
の永続的な結合は不要であり、多くのチップを同時に試
験することができ、機能試験及びバーンイン試験に同じ
相互接続モジュールを使用することができ、試験時には
チップは自己整合されて正しい位置に機械的に保持さ
れ、そしてもし必要であれば、導体のめり込みによって
変形したはんだボールを試験後に簡単なリフロー処理に
よって元の形に戻すことができる。
【図1】コンタクト処理前の多層相互接続モジュールの
断面図。
断面図。
【図2】上部表面の一部が除去された後の相互接続モジ
ュールの断面図。
ュールの断面図。
【図3】表面に重合体層を付着した相互接続モジュール
の断面図。
の断面図。
【図4】重合体層に開口を形成して導体の先端を露出し
た相互接続モジュールの断面図。
た相互接続モジュールの断面図。
【図5】図4の一部を拡大して導電層を付着した状態を
示す断面図。
示す断面図。
【図6】導電ランドを有する半導体チップと導体を位置
合わせするための手段を含む相互接続モジュールの断面
図。
合わせするための手段を含む相互接続モジュールの断面
図。
【図7】導体とチップ上のはんだボールとの接触部分を
拡大して示す断面図。
拡大して示す断面図。
【図8】導体とはんだボールとの間にずれがある場合の
接触部分を拡大して示す断面図。
接触部分を拡大して示す断面図。
10・・・導体 12・・・導体 14・・・導体 16・・・相互接続モジュール 20・・・重合体層 24・・・導電層 32・・・重合体シート 38・・・半導体チップ 40・・・はんだボール 42・・・はんだボール 46・・・はんだボール
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジアンギル・キム アメリカ合衆国ニユーヨーク州チャパキユ ア、アルドリツジ・ロード40番地 (72)発明者 ウルフギヤング・メイア アメリカ合衆国ニユーヨーク州ポキプシ ー、ベントン・ロード11番地 (72)発明者 ジエーン・マーガレツト・シヨー アメリカ合衆国コネチカツト州リツジフイ ールド、ウイルトン・ロード336番地 (72)発明者 ジヨージ・フレデリツク・ウオカー アメリカ合衆国ニユーヨーク州ニユーヨー ク、アパート・11ケイ、ヨーク・アベニユ ー1540番地 (56)参考文献 特開 昭49−17685(JP,A)
Claims (9)
- 【請求項1】電子デバイス上の変形可能な凸状コンタク
ト領域と接触するための電気コネクタであって、内部に
埋め込まれた剛性導体及び該導体の一端を露出する開口
を有するコネクタ基板と、前記コンタクト領域と前記開
口を整列させた状態で前記電子デバイス及び前記コネク
タ基板を押しつけ合い、前記剛性導体によって前記コン
タクト領域を変形させる手段と、を具備する電気コネク
タ。 - 【請求項2】前記コネクタ基板は、前記導体の一端が一
表面において突出しているモジュールと、前記一表面に
設けられ、前記導体の一端を露出し且つ前記コンタクト
領域を受け入れる開口を有する重合体層と、を含む請求
項1に記載の電気コネクタ。 - 【請求項3】前記コンタクト領域の高さには最小値が設
定されており、前記重合体層の表面と前記導体の露出さ
れた一端との間の距離が前記最小値に等しくされる、請
求項2に記載の電気コネクタ。 - 【請求項4】前記開口の内面及び露出された導体に付着
された導電層を有する、請求項1に記載の電気コネク
タ。 - 【請求項5】前記導電層は、前記コンタクト領域と反応
しない材料で形成される、請求項4に記載の電気コネク
タ。 - 【請求項6】前記コンタクト領域がはんだ材料で形成さ
れ、前記導電層が前記はんだ材料に濡れない、請求項5
に記載の電気コネクタ。 - 【請求項7】前記コネクタ基板の開口と整列する開口を
有し、該開口から前記コンタクト領域が突出しているマ
スク手段を含む、請求項1に記載の電気コネクタ。 - 【請求項8】前記コンタクト領域がはんだ材料で形成さ
れる、請求項7に記載の電気コネクタ。 - 【請求項9】前記導体が前記はんだ材料に濡れない、請
求項8に記載の電気コネクタ。
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---|---|---|---|
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---|---|
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Families Citing this family (111)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5917707A (en) | 1993-11-16 | 1999-06-29 | Formfactor, Inc. | Flexible contact structure with an electrically conductive shell |
JP2798188B2 (ja) * | 1991-01-30 | 1998-09-17 | 松下電子工業株式会社 | 半導体素子の試験装置 |
US5237269A (en) * | 1991-03-27 | 1993-08-17 | International Business Machines Corporation | Connections between circuit chips and a temporary carrier for use in burn-in tests |
US5279711A (en) * | 1991-07-01 | 1994-01-18 | International Business Machines Corporation | Chip attach and sealing method |
US5338208A (en) * | 1992-02-04 | 1994-08-16 | International Business Machines Corporation | High density electronic connector and method of assembly |
US5289631A (en) * | 1992-03-04 | 1994-03-01 | Mcnc | Method for testing, burn-in, and/or programming of integrated circuit chips |
JP3302059B2 (ja) * | 1992-10-30 | 2002-07-15 | ジェイエスアール株式会社 | バーン・イン・テスト用治具 |
JPH0677467B2 (ja) * | 1992-12-25 | 1994-09-28 | 山一電機株式会社 | Icソケット |
US20020053734A1 (en) | 1993-11-16 | 2002-05-09 | Formfactor, Inc. | Probe card assembly and kit, and methods of making same |
US7064566B2 (en) * | 1993-11-16 | 2006-06-20 | Formfactor, Inc. | Probe card assembly and kit |
US5820014A (en) | 1993-11-16 | 1998-10-13 | Form Factor, Inc. | Solder preforms |
US5500607A (en) * | 1993-12-22 | 1996-03-19 | International Business Machines Corporation | Probe-oxide-semiconductor method and apparatus for measuring oxide charge on a semiconductor wafer |
US5800184A (en) * | 1994-03-08 | 1998-09-01 | International Business Machines Corporation | High density electrical interconnect apparatus and method |
JP3578232B2 (ja) * | 1994-04-07 | 2004-10-20 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 電気接点形成方法、該電気接点を含むプローブ構造および装置 |
US5632631A (en) | 1994-06-07 | 1997-05-27 | Tessera, Inc. | Microelectronic contacts with asperities and methods of making same |
US5802699A (en) * | 1994-06-07 | 1998-09-08 | Tessera, Inc. | Methods of assembling microelectronic assembly with socket for engaging bump leads |
US5615824A (en) * | 1994-06-07 | 1997-04-01 | Tessera, Inc. | Soldering with resilient contacts |
US5447264A (en) * | 1994-07-01 | 1995-09-05 | Mcnc | Recessed via apparatus for testing, burn-in, and/or programming of integrated circuit chips, and for placing solder bumps thereon |
US5983492A (en) | 1996-11-27 | 1999-11-16 | Tessera, Inc. | Low profile socket for microelectronic components and method for making the same |
US6826827B1 (en) * | 1994-12-29 | 2004-12-07 | Tessera, Inc. | Forming conductive posts by selective removal of conductive material |
JP3260253B2 (ja) * | 1995-01-06 | 2002-02-25 | 松下電器産業株式会社 | 半導体装置の検査方法と検査用導電性接着剤 |
TW308724B (ja) * | 1995-07-03 | 1997-06-21 | Motorola Inc | |
US5600257A (en) * | 1995-08-09 | 1997-02-04 | International Business Machines Corporation | Semiconductor wafer test and burn-in |
US5810609A (en) | 1995-08-28 | 1998-09-22 | Tessera, Inc. | Socket for engaging bump leads on a microelectronic device and methods therefor |
US6448169B1 (en) * | 1995-12-21 | 2002-09-10 | International Business Machines Corporation | Apparatus and method for use in manufacturing semiconductor devices |
US5994152A (en) | 1996-02-21 | 1999-11-30 | Formfactor, Inc. | Fabricating interconnects and tips using sacrificial substrates |
US8033838B2 (en) | 1996-02-21 | 2011-10-11 | Formfactor, Inc. | Microelectronic contact structure |
TW406454B (en) | 1996-10-10 | 2000-09-21 | Berg Tech Inc | High density connector and method of manufacture |
US5764486A (en) * | 1996-10-10 | 1998-06-09 | Hewlett Packard Company | Cost effective structure and method for interconnecting a flip chip with a substrate |
SE9604678L (sv) * | 1996-12-19 | 1998-06-20 | Ericsson Telefon Ab L M | Bulor i spår för elastisk lokalisering |
US6048744A (en) | 1997-09-15 | 2000-04-11 | Micron Technology, Inc. | Integrated circuit package alignment feature |
US6200143B1 (en) | 1998-01-09 | 2001-03-13 | Tessera, Inc. | Low insertion force connector for microelectronic elements |
JP2000183483A (ja) | 1998-12-21 | 2000-06-30 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 電子部品の検査用基板及びその製造方法並びに電子部品の検査方法 |
US6337575B1 (en) | 1998-12-23 | 2002-01-08 | Micron Technology, Inc. | Methods of testing integrated circuitry, methods of forming tester substrates, and circuitry testing substrates |
US6429030B1 (en) | 1999-02-08 | 2002-08-06 | Motorola, Inc. | Method for testing a semiconductor die using wells |
US6464513B1 (en) | 2000-01-05 | 2002-10-15 | Micron Technology, Inc. | Adapter for non-permanently connecting integrated circuit devices to multi-chip modules and method of using same |
US6407566B1 (en) | 2000-04-06 | 2002-06-18 | Micron Technology, Inc. | Test module for multi-chip module simulation testing of integrated circuit packages |
US6866521B1 (en) | 2000-09-14 | 2005-03-15 | Fci Americas Technology, Inc. | High density connector |
US7045889B2 (en) | 2001-08-21 | 2006-05-16 | Micron Technology, Inc. | Device for establishing non-permanent electrical connection between an integrated circuit device lead element and a substrate |
US7049693B2 (en) | 2001-08-29 | 2006-05-23 | Micron Technology, Inc. | Electrical contact array for substrate assemblies |
US6991960B2 (en) | 2001-08-30 | 2006-01-31 | Micron Technology, Inc. | Method of semiconductor device package alignment and method of testing |
US7495179B2 (en) * | 2003-10-06 | 2009-02-24 | Tessera, Inc. | Components with posts and pads |
US8641913B2 (en) * | 2003-10-06 | 2014-02-04 | Tessera, Inc. | Fine pitch microcontacts and method for forming thereof |
US7462936B2 (en) * | 2003-10-06 | 2008-12-09 | Tessera, Inc. | Formation of circuitry with modification of feature height |
WO2005065207A2 (en) | 2003-12-30 | 2005-07-21 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages and methods therefor |
US8207604B2 (en) * | 2003-12-30 | 2012-06-26 | Tessera, Inc. | Microelectronic package comprising offset conductive posts on compliant layer |
US7709968B2 (en) * | 2003-12-30 | 2010-05-04 | Tessera, Inc. | Micro pin grid array with pin motion isolation |
US20060027899A1 (en) * | 2004-06-25 | 2006-02-09 | Tessera, Inc. | Structure with spherical contact pins |
US7453157B2 (en) | 2004-06-25 | 2008-11-18 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages and methods therefor |
KR101313391B1 (ko) | 2004-11-03 | 2013-10-01 | 테세라, 인코포레이티드 | 적층형 패키징 |
US7939934B2 (en) * | 2005-03-16 | 2011-05-10 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages and methods therefor |
US8067267B2 (en) * | 2005-12-23 | 2011-11-29 | Tessera, Inc. | Microelectronic assemblies having very fine pitch stacking |
US8058101B2 (en) | 2005-12-23 | 2011-11-15 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages and methods therefor |
US7545029B2 (en) | 2006-08-18 | 2009-06-09 | Tessera, Inc. | Stack microelectronic assemblies |
US20080150101A1 (en) * | 2006-12-20 | 2008-06-26 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages having improved input/output connections and methods therefor |
EP2206145A4 (en) | 2007-09-28 | 2012-03-28 | Tessera Inc | FLIP-CHIP CONNECTION WITH DOUBLE POSTS |
US20100044860A1 (en) * | 2008-08-21 | 2010-02-25 | Tessera Interconnect Materials, Inc. | Microelectronic substrate or element having conductive pads and metal posts joined thereto using bond layer |
US8330272B2 (en) | 2010-07-08 | 2012-12-11 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages with dual or multiple-etched flip-chip connectors |
US8482111B2 (en) | 2010-07-19 | 2013-07-09 | Tessera, Inc. | Stackable molded microelectronic packages |
US9159708B2 (en) | 2010-07-19 | 2015-10-13 | Tessera, Inc. | Stackable molded microelectronic packages with area array unit connectors |
US8580607B2 (en) | 2010-07-27 | 2013-11-12 | Tessera, Inc. | Microelectronic packages with nanoparticle joining |
KR101075241B1 (ko) | 2010-11-15 | 2011-11-01 | 테세라, 인코포레이티드 | 유전체 부재에 단자를 구비하는 마이크로전자 패키지 |
US8853558B2 (en) | 2010-12-10 | 2014-10-07 | Tessera, Inc. | Interconnect structure |
US20120146206A1 (en) | 2010-12-13 | 2012-06-14 | Tessera Research Llc | Pin attachment |
US9137903B2 (en) | 2010-12-21 | 2015-09-15 | Tessera, Inc. | Semiconductor chip assembly and method for making same |
US8618659B2 (en) | 2011-05-03 | 2013-12-31 | Tessera, Inc. | Package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface |
KR101128063B1 (ko) | 2011-05-03 | 2012-04-23 | 테세라, 인코포레이티드 | 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리 |
US8872318B2 (en) | 2011-08-24 | 2014-10-28 | Tessera, Inc. | Through interposer wire bond using low CTE interposer with coarse slot apertures |
US8404520B1 (en) | 2011-10-17 | 2013-03-26 | Invensas Corporation | Package-on-package assembly with wire bond vias |
US8946757B2 (en) | 2012-02-17 | 2015-02-03 | Invensas Corporation | Heat spreading substrate with embedded interconnects |
US8372741B1 (en) | 2012-02-24 | 2013-02-12 | Invensas Corporation | Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface |
US9349706B2 (en) | 2012-02-24 | 2016-05-24 | Invensas Corporation | Method for package-on-package assembly with wire bonds to encapsulation surface |
US8835228B2 (en) | 2012-05-22 | 2014-09-16 | Invensas Corporation | Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect |
US9391008B2 (en) | 2012-07-31 | 2016-07-12 | Invensas Corporation | Reconstituted wafer-level package DRAM |
US9502390B2 (en) | 2012-08-03 | 2016-11-22 | Invensas Corporation | BVA interposer |
KR20140035590A (ko) * | 2012-09-14 | 2014-03-24 | 삼성전자주식회사 | 전자장치와 그 제어방법 |
US8975738B2 (en) | 2012-11-12 | 2015-03-10 | Invensas Corporation | Structure for microelectronic packaging with terminals on dielectric mass |
US8878353B2 (en) | 2012-12-20 | 2014-11-04 | Invensas Corporation | Structure for microelectronic packaging with bond elements to encapsulation surface |
US9136254B2 (en) | 2013-02-01 | 2015-09-15 | Invensas Corporation | Microelectronic package having wire bond vias and stiffening layer |
US9023691B2 (en) | 2013-07-15 | 2015-05-05 | Invensas Corporation | Microelectronic assemblies with stack terminals coupled by connectors extending through encapsulation |
US8883563B1 (en) | 2013-07-15 | 2014-11-11 | Invensas Corporation | Fabrication of microelectronic assemblies having stack terminals coupled by connectors extending through encapsulation |
US9034696B2 (en) | 2013-07-15 | 2015-05-19 | Invensas Corporation | Microelectronic assemblies having reinforcing collars on connectors extending through encapsulation |
US9167710B2 (en) | 2013-08-07 | 2015-10-20 | Invensas Corporation | Embedded packaging with preformed vias |
US9685365B2 (en) | 2013-08-08 | 2017-06-20 | Invensas Corporation | Method of forming a wire bond having a free end |
US20150076714A1 (en) | 2013-09-16 | 2015-03-19 | Invensas Corporation | Microelectronic element with bond elements to encapsulation surface |
US9082753B2 (en) | 2013-11-12 | 2015-07-14 | Invensas Corporation | Severing bond wire by kinking and twisting |
US9087815B2 (en) | 2013-11-12 | 2015-07-21 | Invensas Corporation | Off substrate kinking of bond wire |
US9263394B2 (en) | 2013-11-22 | 2016-02-16 | Invensas Corporation | Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate |
US9379074B2 (en) | 2013-11-22 | 2016-06-28 | Invensas Corporation | Die stacks with one or more bond via arrays of wire bond wires and with one or more arrays of bump interconnects |
US9583456B2 (en) | 2013-11-22 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate |
US9583411B2 (en) | 2014-01-17 | 2017-02-28 | Invensas Corporation | Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing |
US9214454B2 (en) | 2014-03-31 | 2015-12-15 | Invensas Corporation | Batch process fabrication of package-on-package microelectronic assemblies |
US10381326B2 (en) | 2014-05-28 | 2019-08-13 | Invensas Corporation | Structure and method for integrated circuits packaging with increased density |
US9646917B2 (en) | 2014-05-29 | 2017-05-09 | Invensas Corporation | Low CTE component with wire bond interconnects |
US9412714B2 (en) | 2014-05-30 | 2016-08-09 | Invensas Corporation | Wire bond support structure and microelectronic package including wire bonds therefrom |
US9735084B2 (en) | 2014-12-11 | 2017-08-15 | Invensas Corporation | Bond via array for thermal conductivity |
US9888579B2 (en) | 2015-03-05 | 2018-02-06 | Invensas Corporation | Pressing of wire bond wire tips to provide bent-over tips |
US9502372B1 (en) | 2015-04-30 | 2016-11-22 | Invensas Corporation | Wafer-level packaging using wire bond wires in place of a redistribution layer |
US9761554B2 (en) | 2015-05-07 | 2017-09-12 | Invensas Corporation | Ball bonding metal wire bond wires to metal pads |
US10886250B2 (en) | 2015-07-10 | 2021-01-05 | Invensas Corporation | Structures and methods for low temperature bonding using nanoparticles |
US9633971B2 (en) | 2015-07-10 | 2017-04-25 | Invensas Corporation | Structures and methods for low temperature bonding using nanoparticles |
US9490222B1 (en) | 2015-10-12 | 2016-11-08 | Invensas Corporation | Wire bond wires for interference shielding |
US10490528B2 (en) | 2015-10-12 | 2019-11-26 | Invensas Corporation | Embedded wire bond wires |
US10332854B2 (en) | 2015-10-23 | 2019-06-25 | Invensas Corporation | Anchoring structure of fine pitch bva |
US10181457B2 (en) | 2015-10-26 | 2019-01-15 | Invensas Corporation | Microelectronic package for wafer-level chip scale packaging with fan-out |
US9911718B2 (en) | 2015-11-17 | 2018-03-06 | Invensas Corporation | ‘RDL-First’ packaged microelectronic device for a package-on-package device |
US9659848B1 (en) | 2015-11-18 | 2017-05-23 | Invensas Corporation | Stiffened wires for offset BVA |
US9984992B2 (en) | 2015-12-30 | 2018-05-29 | Invensas Corporation | Embedded wire bond wires for vertical integration with separate surface mount and wire bond mounting surfaces |
US9935075B2 (en) | 2016-07-29 | 2018-04-03 | Invensas Corporation | Wire bonding method and apparatus for electromagnetic interference shielding |
TW202414634A (zh) | 2016-10-27 | 2024-04-01 | 美商艾德亞半導體科技有限責任公司 | 用於低溫接合的結構和方法 |
US10299368B2 (en) | 2016-12-21 | 2019-05-21 | Invensas Corporation | Surface integrated waveguides and circuit structures therefor |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3680037A (en) * | 1970-11-05 | 1972-07-25 | Tech Wire Prod Inc | Electrical interconnector |
GB1387587A (en) * | 1971-07-22 | 1975-03-19 | Plessey Co Ltd | Electrical interconnectors and connector assemblies |
US4373778A (en) * | 1980-12-30 | 1983-02-15 | International Business Machines Corporation | Connector implemented with fiber optic means and site therein for integrated circuit chips |
DE3151933C2 (de) * | 1981-12-30 | 1984-09-06 | Institut Kolloidnoj Chimii i Chimii Vody imeni A.V. Dumanskogo Akademii Nauk Ukrainskoj SSR, Kiev | Elektrischer Verbinder |
ATE32155T1 (de) * | 1983-09-30 | 1988-02-15 | Siemens Ag | Flachbaugruppe. |
-
1990
- 1990-02-23 US US07/485,016 patent/US4975079A/en not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-02-07 EP EP91101647A patent/EP0453716B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-07 DE DE69115106T patent/DE69115106D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-18 JP JP3044112A patent/JPH0619371B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0453716A2 (en) | 1991-10-30 |
DE69115106D1 (de) | 1996-01-18 |
EP0453716A3 (en) | 1992-07-01 |
EP0453716B1 (en) | 1995-12-06 |
US4975079A (en) | 1990-12-04 |
JPH04215069A (ja) | 1992-08-05 |
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