JPH06186490A - マルチビーム記録装置 - Google Patents
マルチビーム記録装置Info
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- JPH06186490A JPH06186490A JP35464592A JP35464592A JPH06186490A JP H06186490 A JPH06186490 A JP H06186490A JP 35464592 A JP35464592 A JP 35464592A JP 35464592 A JP35464592 A JP 35464592A JP H06186490 A JPH06186490 A JP H06186490A
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- Laser Beam Printer (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単な調整で、高品質の画像を記録すること
ができるマルチビーム記録装置を提供する。 【構成】 それぞれが単一の光ビームを発生する複数の
光源部１が所定の配列パターンに配置されてなる光源ユ
ニット５と、縮小光学系（結像光学系）４０との間にア
パーチャ板１０が配置される。このアパーチャ板１０に
は、光源部１の配列パターンと同一の配列パターンで複
数のアパーチャ９が形成されている。そして、各光源部
１からの光ビームがその光源部１に対向するアパーチャ
９を介して縮小光学系４０に導かれ、感光材料ＰＭ上に
アパーチャ９の縮小像が形成される。 【効果】 光源部１が所定の配列パターンから多少ずれ
た位置に位置決めされたとしても、感光材料ＰＭにアパ
ーチャ９の像を結像することができる。そのため、光源
部１の位置決め調整を簡単に行うことができ、しかも高
品質の画像を記録することができる。
ができるマルチビーム記録装置を提供する。 【構成】 それぞれが単一の光ビームを発生する複数の
光源部１が所定の配列パターンに配置されてなる光源ユ
ニット５と、縮小光学系（結像光学系）４０との間にア
パーチャ板１０が配置される。このアパーチャ板１０に
は、光源部１の配列パターンと同一の配列パターンで複
数のアパーチャ９が形成されている。そして、各光源部
１からの光ビームがその光源部１に対向するアパーチャ
９を介して縮小光学系４０に導かれ、感光材料ＰＭ上に
アパーチャ９の縮小像が形成される。 【効果】 光源部１が所定の配列パターンから多少ずれ
た位置に位置決めされたとしても、感光材料ＰＭにアパ
ーチャ９の像を結像することができる。そのため、光源
部１の位置決め調整を簡単に行うことができ、しかも高
品質の画像を記録することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、複数の光ビームを記
録面に照射するマルチビーム記録装置に関する。
録面に照射するマルチビーム記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図１７は、従来のマルチビーム記録装置
を示す図である。このマルチビーム記録装置は、複数の
光源部９１を所定の配列パターンで配置してなる光源ユ
ニット９０と、光源ユニット９０から出射された複数の
光ビームを縮小し、感光材料（記録面）ＰＭに照射する
縮小光学系（結像光学系）９２とで構成されている。
を示す図である。このマルチビーム記録装置は、複数の
光源部９１を所定の配列パターンで配置してなる光源ユ
ニット９０と、光源ユニット９０から出射された複数の
光ビームを縮小し、感光材料（記録面）ＰＭに照射する
縮小光学系（結像光学系）９２とで構成されている。
【０００３】各光源部９１では、半導体レーザ９３およ
びコリメータレンズ９４が光源部本体（図示省略）に固
定されており、半導体レーザ９３からの光ビームがコリ
メータレンズ９４によって平行光ビームに整形され、さ
らに、光源部本体の先端部（同図では符号９５を付して
いる）から縮小光学系９２に向けて出射される。このと
き、その光源部本体の先端部９５はいわゆるアパーチャ
として機能し、平行光ビームの不要な部分をカットす
る。
びコリメータレンズ９４が光源部本体（図示省略）に固
定されており、半導体レーザ９３からの光ビームがコリ
メータレンズ９４によって平行光ビームに整形され、さ
らに、光源部本体の先端部（同図では符号９５を付して
いる）から縮小光学系９２に向けて出射される。このと
き、その光源部本体の先端部９５はいわゆるアパーチャ
として機能し、平行光ビームの不要な部分をカットす
る。
【０００４】縮小光学系９２は複数の光学素子で構成さ
れており、例えば同図に示すように、一定のピッチＰで
配列された光源部９１から光軸Ｚに平行な光ビームが入
射されると、適当な倍率Ｍで縮小し、ビームピッチＢＰ
（＝Ｐ・Ｍ）で、かつ光軸Ｚに平行な光ビームを感光材
料ＰＭに照射する。
れており、例えば同図に示すように、一定のピッチＰで
配列された光源部９１から光軸Ｚに平行な光ビームが入
射されると、適当な倍率Ｍで縮小し、ビームピッチＢＰ
（＝Ｐ・Ｍ）で、かつ光軸Ｚに平行な光ビームを感光材
料ＰＭに照射する。
【０００５】したがって、感光材料ＰＭを主走査方向
（同図の紙面に対し垂直な方向）Ｘに移動させながら、
光源ユニット９０および縮小光学系９２を副走査方向Ｙ
にステップ送りすることにより、感光材料ＰＭに２次元
の画像を記録することができる。
（同図の紙面に対し垂直な方向）Ｘに移動させながら、
光源ユニット９０および縮小光学系９２を副走査方向Ｙ
にステップ送りすることにより、感光材料ＰＭに２次元
の画像を記録することができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところで、例えば、上
記のように構成されたマルチビーム記録装置を用いて所
望の画像を高品質で描画するためには、各光源部９１か
らの光ビームが縮小光学系９２の光軸Ｚと平行になるよ
うに調整するとともに、各光源部９１を等間隔（一定ピ
ッチＰ）で配置する必要がある。もし、上記条件が満足
されていない場合には、感光材料ＰＭに露光される光ビ
ームスポットは等間隔にならず、感光材料ＰＭに記録さ
れる画像にムラが生じる。
記のように構成されたマルチビーム記録装置を用いて所
望の画像を高品質で描画するためには、各光源部９１か
らの光ビームが縮小光学系９２の光軸Ｚと平行になるよ
うに調整するとともに、各光源部９１を等間隔（一定ピ
ッチＰ）で配置する必要がある。もし、上記条件が満足
されていない場合には、感光材料ＰＭに露光される光ビ
ームスポットは等間隔にならず、感光材料ＰＭに記録さ
れる画像にムラが生じる。
【０００７】したがって、従来のマルチビーム記録装置
では、各光源部９１からの光ビームの出射方向を調整す
ると同時に、光源部９１を所定の配列パターン（上記従
来例では一定ピッチＰ）で高精度に位置決めしなければ
ならず、それらの調整のために長時間を要するという問
題がある。
では、各光源部９１からの光ビームの出射方向を調整す
ると同時に、光源部９１を所定の配列パターン（上記従
来例では一定ピッチＰ）で高精度に位置決めしなければ
ならず、それらの調整のために長時間を要するという問
題がある。
【０００８】本願発明は、このような問題点を解消する
ために発明されたもので、簡単な調整で、高品質の画像
を記録することができるマルチビーム記録装置を提供す
ることを目的とする。
ために発明されたもので、簡単な調整で、高品質の画像
を記録することができるマルチビーム記録装置を提供す
ることを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】この発明は、それぞれが
単一の光ビームを発生する複数の光源部が所定の配列パ
ターンに配置されてなる光源ユニットと、結像光学系と
を備え、前記結像光学系を介して前記光源ユニットから
の複数の光ビームを記録面に照射するマルチビーム記録
装置であって、上記目的を達成するため、前記配列パタ
ーンと同一あるいは相似配列パターンで複数のアパーチ
ャが形成されたアパーチャ板を前記光源ユニットと前記
結像光学系との間に配置し、各光源部からの光ビームを
その光源部に対向するアパーチャを介して前記結像光学
系に導くように構成している。
単一の光ビームを発生する複数の光源部が所定の配列パ
ターンに配置されてなる光源ユニットと、結像光学系と
を備え、前記結像光学系を介して前記光源ユニットから
の複数の光ビームを記録面に照射するマルチビーム記録
装置であって、上記目的を達成するため、前記配列パタ
ーンと同一あるいは相似配列パターンで複数のアパーチ
ャが形成されたアパーチャ板を前記光源ユニットと前記
結像光学系との間に配置し、各光源部からの光ビームを
その光源部に対向するアパーチャを介して前記結像光学
系に導くように構成している。
【００１０】
【作用】この発明では、光源部の配列パターンと同一あ
るいは相似配列パターンで複数のアパーチャが形成され
たアパーチャ板が光源ユニットと結像光学系との間に配
置されており、各光源部から出射された光ビームはその
光源部と対向するアパーチャで規制され、そのアパーチ
ャを通過した光ビームが前記結像光学系を介して記録面
に照射される。つまり、記録面上には、前記結像光学系
によってアパーチャの像が形成される。そのため、仮
に、複数の光源部のうちの１つがその配列パターンから
多少ずれた位置に位置決め調整されたとしても、その光
源部からの光ビームの少なくとも一部がそれと対向する
アパーチャに照射される限りにおいては、アパーチャの
配列パターンに応じたパターンで記録面上に光ビームス
ポット（アパーチャ像）が形成され、高品質の画像記録
が可能となる。
るいは相似配列パターンで複数のアパーチャが形成され
たアパーチャ板が光源ユニットと結像光学系との間に配
置されており、各光源部から出射された光ビームはその
光源部と対向するアパーチャで規制され、そのアパーチ
ャを通過した光ビームが前記結像光学系を介して記録面
に照射される。つまり、記録面上には、前記結像光学系
によってアパーチャの像が形成される。そのため、仮
に、複数の光源部のうちの１つがその配列パターンから
多少ずれた位置に位置決め調整されたとしても、その光
源部からの光ビームの少なくとも一部がそれと対向する
アパーチャに照射される限りにおいては、アパーチャの
配列パターンに応じたパターンで記録面上に光ビームス
ポット（アパーチャ像）が形成され、高品質の画像記録
が可能となる。
【００１１】
Ａ．第１実施例 図１は、この発明にかかるマルチビーム記録装置の第１
実施例を示す外観斜視図である。このマルチビーム記録
装置では、複数の光ビームを発生する光源ユニット５，
アパーチャ板１０および２枚のレンズ４１，４２からな
る縮小光学系（結像光学系）４０が副走査方向Ｙに移動
自在なベース５０上に固定されており、図示を省略する
駆動ユニットによりベース５０を駆動することによっ
て、光源ユニット５，アパーチャ板１０および縮小光学
系（結像光学系）４０が一体的に副走査方向Ｙに移動す
るようになっている。また、マルチビーム記録装置に
は、回転シリンダ８０が主走査方向Ｘに回転自在に設け
られている。そのため、回転シリンダ８０に感光材料Ｐ
Ｍを巻き付けた状態で回転シリンダ８０を主走査方向Ｘ
に回転させるとともに、光源ユニット５からの複数の光
ビームをアパーチャ板１０および縮小光学系４０を介し
て感光材料ＰＭに照射しながら、ベース５０を副走査方
向Ｙにステップ送りすることにより、感光材料ＰＭに２
次元の画像が記録される。
実施例を示す外観斜視図である。このマルチビーム記録
装置では、複数の光ビームを発生する光源ユニット５，
アパーチャ板１０および２枚のレンズ４１，４２からな
る縮小光学系（結像光学系）４０が副走査方向Ｙに移動
自在なベース５０上に固定されており、図示を省略する
駆動ユニットによりベース５０を駆動することによっ
て、光源ユニット５，アパーチャ板１０および縮小光学
系（結像光学系）４０が一体的に副走査方向Ｙに移動す
るようになっている。また、マルチビーム記録装置に
は、回転シリンダ８０が主走査方向Ｘに回転自在に設け
られている。そのため、回転シリンダ８０に感光材料Ｐ
Ｍを巻き付けた状態で回転シリンダ８０を主走査方向Ｘ
に回転させるとともに、光源ユニット５からの複数の光
ビームをアパーチャ板１０および縮小光学系４０を介し
て感光材料ＰＭに照射しながら、ベース５０を副走査方
向Ｙにステップ送りすることにより、感光材料ＰＭに２
次元の画像が記録される。
【００１２】図２は、図１のマルチビーム記録装置の光
学系を示す図である。同図に示すように、光源ユニット
５は複数の光源部１を備えている。各光源部１は、半導
体レーザ２および半導体レーザ２から出射される光ビー
ムを整形するためのコリメータレンズ３で構成されてい
る。また、光源ユニット５と縮小光学系４０との間に、
複数のアパーチャ９が形成されたアパーチャ板１０が配
置されている。
学系を示す図である。同図に示すように、光源ユニット
５は複数の光源部１を備えている。各光源部１は、半導
体レーザ２および半導体レーザ２から出射される光ビー
ムを整形するためのコリメータレンズ３で構成されてい
る。また、光源ユニット５と縮小光学系４０との間に、
複数のアパーチャ９が形成されたアパーチャ板１０が配
置されている。
【００１３】図３は、光源ユニット５およびアパーチャ
板１０の正面図である。同図(a) では光源ユニット５に
おける光源部１の配列関係（配列パターン）が示される
一方、同図(b) ではアパーチャ板１０におけるアパーチ
ャ９の配列関係（配列パターン）が示されている。光源
ユニット５においては、副走査方向Ｙに複数の光源部１
が一定ピッチＰａで配列され（１列分）、さらに主走査
方向Ｘにその１列分の光源部１を順次ずらせて配置して
いる。また、アパーチャ９についても、上記光源部１と
同一の配列パターンで配置されており、光源ユニット５
の光源部１とアパーチャ板１０のアパーチャ９とは１対
１で対応している。なお、アパーチャ板１０の作成は、
１枚の黒色の金属板に規則的にアパーチャ９を穿設する
ことにより得られるもので、現在の技術では正確に、し
かも容易に形成することができる。
板１０の正面図である。同図(a) では光源ユニット５に
おける光源部１の配列関係（配列パターン）が示される
一方、同図(b) ではアパーチャ板１０におけるアパーチ
ャ９の配列関係（配列パターン）が示されている。光源
ユニット５においては、副走査方向Ｙに複数の光源部１
が一定ピッチＰａで配列され（１列分）、さらに主走査
方向Ｘにその１列分の光源部１を順次ずらせて配置して
いる。また、アパーチャ９についても、上記光源部１と
同一の配列パターンで配置されており、光源ユニット５
の光源部１とアパーチャ板１０のアパーチャ９とは１対
１で対応している。なお、アパーチャ板１０の作成は、
１枚の黒色の金属板に規則的にアパーチャ９を穿設する
ことにより得られるもので、現在の技術では正確に、し
かも容易に形成することができる。
【００１４】上記のように構成されたアパーチャ板１０
は、図２に示すように、それに設けられたアパーチャ９
が光源ユニット５の光源部１と対向するようにして、レ
ンズ４１の前側焦点面ＦＰ41に配置されている。
は、図２に示すように、それに設けられたアパーチャ９
が光源ユニット５の光源部１と対向するようにして、レ
ンズ４１の前側焦点面ＦＰ41に配置されている。
【００１５】縮小光学系４０では、レンズ（焦点距離ｆ
41）４１の後側焦点面とレンズ（焦点距離ｆ42）４２の
前側焦点面とが一致するように、レンズ４１，４２が位
置決めされており、いわゆるアフォーカル光学系が形成
されている。また、このレンズ４２の後側焦点面ＲＰ42
に感光材料（記録面）ＰＭが位置するように構成されて
いる。
41）４１の後側焦点面とレンズ（焦点距離ｆ42）４２の
前側焦点面とが一致するように、レンズ４１，４２が位
置決めされており、いわゆるアフォーカル光学系が形成
されている。また、このレンズ４２の後側焦点面ＲＰ42
に感光材料（記録面）ＰＭが位置するように構成されて
いる。
【００１６】したがって、第１実施例では、アパーチャ
板１０と感光材料ＰＭとは光学的に共役な関係となって
おり、アパーチャ板１０のアパーチャ９の像が縮小光学
系４０の倍率Ｍ（＝ｆ42／ｆ41）で縮小され、感光材料
ＰＭ上に結像されるようになっている。
板１０と感光材料ＰＭとは光学的に共役な関係となって
おり、アパーチャ板１０のアパーチャ９の像が縮小光学
系４０の倍率Ｍ（＝ｆ42／ｆ41）で縮小され、感光材料
ＰＭ上に結像されるようになっている。
【００１７】以上のように、第１実施例にかかるマルチ
ビーム記録装置によれば、アパーチャ板１０には光源部
１の配列パターンと同一の配列パターンでアパーチャ９
が形成されており、そのアパーチャ板１０を光源ユニッ
ト５と縮小光学系４０との間に配置しているため、光源
ユニット５での光源部１の調整が簡単になる。というの
も、各光源部１からの光ビームが光軸Ｚに平行であり、
その光ビームの少なくとも一部がアパーチャ９に照射さ
れていれば、そのアパーチャ９の像が所定の位置に結像
されるためである。さらに、詳しく言えば、上記条件が
満足されている限りにおいては光源部１が光軸方向Ｚや
それに直交する方向Ｘ，Ｙにずれて位置決めされた場合
であっても、常に感光材料ＰＭ上ではアパーチャ９の配
列パターンと相似なパターンで光ビームスポット（アパ
ーチャ９の像）が形成されるので、光源部１の調整が比
較的ラフであっても、画像品質は保たれる。
ビーム記録装置によれば、アパーチャ板１０には光源部
１の配列パターンと同一の配列パターンでアパーチャ９
が形成されており、そのアパーチャ板１０を光源ユニッ
ト５と縮小光学系４０との間に配置しているため、光源
ユニット５での光源部１の調整が簡単になる。というの
も、各光源部１からの光ビームが光軸Ｚに平行であり、
その光ビームの少なくとも一部がアパーチャ９に照射さ
れていれば、そのアパーチャ９の像が所定の位置に結像
されるためである。さらに、詳しく言えば、上記条件が
満足されている限りにおいては光源部１が光軸方向Ｚや
それに直交する方向Ｘ，Ｙにずれて位置決めされた場合
であっても、常に感光材料ＰＭ上ではアパーチャ９の配
列パターンと相似なパターンで光ビームスポット（アパ
ーチャ９の像）が形成されるので、光源部１の調整が比
較的ラフであっても、画像品質は保たれる。
【００１８】なお、上記第１実施例では、図２に示すよ
うに、アパーチャ板１０をレンズ４１の前側焦点面ＦＰ
41と一致させるとともに、感光材料（記録面）ＰＭをレ
ンズ４２の後側焦点面ＲＰ42と一致させることによっ
て、アパーチャ板１０と感光材料ＰＭとが共役な関係と
なるように構成しているが、以下のようにアパーチャ板
１０，縮小光学系４０および感光材料ＰＭを位置決めす
ることによってもアパーチャ板１０と感光材料ＰＭとは
共役な関係になる。すなわち、例えば図４に示すよう
に、図２の場合に比べてアパーチャ板１０が光軸方向Ｚ
に距離ΔＳだけずれた場合、その距離ΔＳに縮小光学系
４０の倍率Ｍ（＝ｆ42／ｆ41）の２乗（縦倍率）を乗じ
た距離ΔＴ（＝（ｆ42／ｆ41）2 ・ΔＳ）だけ感光材料
ＰＭを光軸方向Ｚに移動させると、アパーチャ板１０と
感光材料ＰＭとの共役関係が保たれる。
うに、アパーチャ板１０をレンズ４１の前側焦点面ＦＰ
41と一致させるとともに、感光材料（記録面）ＰＭをレ
ンズ４２の後側焦点面ＲＰ42と一致させることによっ
て、アパーチャ板１０と感光材料ＰＭとが共役な関係と
なるように構成しているが、以下のようにアパーチャ板
１０，縮小光学系４０および感光材料ＰＭを位置決めす
ることによってもアパーチャ板１０と感光材料ＰＭとは
共役な関係になる。すなわち、例えば図４に示すよう
に、図２の場合に比べてアパーチャ板１０が光軸方向Ｚ
に距離ΔＳだけずれた場合、その距離ΔＳに縮小光学系
４０の倍率Ｍ（＝ｆ42／ｆ41）の２乗（縦倍率）を乗じ
た距離ΔＴ（＝（ｆ42／ｆ41）2 ・ΔＳ）だけ感光材料
ＰＭを光軸方向Ｚに移動させると、アパーチャ板１０と
感光材料ＰＭとの共役関係が保たれる。
【００１９】また、上記関係式（ΔＴ＝（ｆ42／ｆ41）
2 ・ΔＳ）から、この第１実施例によれば、比較的容易
に装置を組み立てることができることがわかる。という
のも、マルチビーム記録装置における縮小光学系（結像
光学系）４０の倍率Ｍ（ｆ42／ｆ41）は一般的には１／
１００〜１／１０００程度であるため、仮にアパーチャ
板１０の取り付け位置が光軸方向ＺにΔＳだけずれたと
しても、そのアパーチャ板１０に対する感光材料ＰＭの
共役位置は光軸方向ＺにΔＳの１／１０4 〜１／１０6
程度ずれるだけであり、画像品質にほとんど影響を与え
るものではないため、アパーチャ板１０を比較的低い精
度で位置決めすれば足りるからである。
2 ・ΔＳ）から、この第１実施例によれば、比較的容易
に装置を組み立てることができることがわかる。という
のも、マルチビーム記録装置における縮小光学系（結像
光学系）４０の倍率Ｍ（ｆ42／ｆ41）は一般的には１／
１００〜１／１０００程度であるため、仮にアパーチャ
板１０の取り付け位置が光軸方向ＺにΔＳだけずれたと
しても、そのアパーチャ板１０に対する感光材料ＰＭの
共役位置は光軸方向ＺにΔＳの１／１０4 〜１／１０6
程度ずれるだけであり、画像品質にほとんど影響を与え
るものではないため、アパーチャ板１０を比較的低い精
度で位置決めすれば足りるからである。
【００２０】図５は、第１実施例にかかるマルチビーム
記録装置の改良例を示す図である。この改良例では、光
源ユニット５が光軸方向Ｚに配列された２つの光源列５
Ａ，５Ｂで構成されている。これらの光源列５Ａ，５Ｂ
には、それぞれ複数の光源部１が所定の配列パターンで
配置されており、光源列５Ａの光源部１からの光ビーム
は直接アパーチャ板１０に照射される一方、光源列５Ｂ
の光源部１からの光ビームは光源列５Ａの光源部１間を
通過し、アパーチャ板１０に照射されるように構成され
ている。
記録装置の改良例を示す図である。この改良例では、光
源ユニット５が光軸方向Ｚに配列された２つの光源列５
Ａ，５Ｂで構成されている。これらの光源列５Ａ，５Ｂ
には、それぞれ複数の光源部１が所定の配列パターンで
配置されており、光源列５Ａの光源部１からの光ビーム
は直接アパーチャ板１０に照射される一方、光源列５Ｂ
の光源部１からの光ビームは光源列５Ａの光源部１間を
通過し、アパーチャ板１０に照射されるように構成され
ている。
【００２１】このように、複数の光源列５Ａ，５Ｂを光
軸方向Ｚの異なる位置に配列することによって光源ユニ
ット５を構成した場合には、より数多くの光源部１を小
さなスペースに配列することができる。例えば、同数の
光源部１を、図２に示すように光軸方向Ｚに垂直な１つ
の平面（ＸＹ平面）に配置する場合と、図５に示すよう
に２つの光源列５Ａ，５Ｂに分けて配置する場合とを比
べると、後者の方が光源ユニット５からの光ビームのピ
ッチを小さくすることができ、その結果、縮小光学系４
０を構成するレンズ４１，４２の小型化を図ることがで
きる。なお、上記改良例では、光源ユニット５を２つの
光源列５Ａ，５Ｂで構成する場合について説明したが、
３つ以上の光源列で光源ユニット５を構成してもよいこ
とは言うまでもない。
軸方向Ｚの異なる位置に配列することによって光源ユニ
ット５を構成した場合には、より数多くの光源部１を小
さなスペースに配列することができる。例えば、同数の
光源部１を、図２に示すように光軸方向Ｚに垂直な１つ
の平面（ＸＹ平面）に配置する場合と、図５に示すよう
に２つの光源列５Ａ，５Ｂに分けて配置する場合とを比
べると、後者の方が光源ユニット５からの光ビームのピ
ッチを小さくすることができ、その結果、縮小光学系４
０を構成するレンズ４１，４２の小型化を図ることがで
きる。なお、上記改良例では、光源ユニット５を２つの
光源列５Ａ，５Ｂで構成する場合について説明したが、
３つ以上の光源列で光源ユニット５を構成してもよいこ
とは言うまでもない。
【００２２】Ｂ．第２実施例 図６および図７はこの発明にかかるマルチビーム記録装
置の第２実施例を示す平面図および側面図である。この
マルチビーム記録装置は、複数の光ビームを発生する光
源ユニット６と、縮小光学系（結像光学系）２０と、ア
フォーカル光学系３０と、回転シリンダー８０とで構成
されており、回転シリンダー８０の表面に感光材料ＰＭ
を巻き付けた状態で回転シリンダー８０を主走査方向Ｘ
に回転させながら光源ユニット６からの光ビームを縮小
光学系２０およびアフォーカル光学系３０を介して回転
シリンダー８０の回転動作に同期させて主走査方向Ｘと
ほぼ直交する副走査方向Ｙに移動することによって、所
望の画像をその感光材料ＰＭに描画する。
置の第２実施例を示す平面図および側面図である。この
マルチビーム記録装置は、複数の光ビームを発生する光
源ユニット６と、縮小光学系（結像光学系）２０と、ア
フォーカル光学系３０と、回転シリンダー８０とで構成
されており、回転シリンダー８０の表面に感光材料ＰＭ
を巻き付けた状態で回転シリンダー８０を主走査方向Ｘ
に回転させながら光源ユニット６からの光ビームを縮小
光学系２０およびアフォーカル光学系３０を介して回転
シリンダー８０の回転動作に同期させて主走査方向Ｘと
ほぼ直交する副走査方向Ｙに移動することによって、所
望の画像をその感光材料ＰＭに描画する。
【００２３】図８は光源ユニット６の正面図である。こ
の光源ユニット６は、同図に示すように、一定ピッチＰ
a で配置された複数の光源部１からなっている。各光源
部１は半導体レーザー２とコリメーターレンズ３とで構
成されており、半導体レーザー２からの光ビームがコリ
メーターレンズ３によって平行光ビームに整形され、光
軸Ｚに平行に出射される（図６，図７）。なお、図８か
らわかるように、光源部１が主走査方向Ｘに関して互い
に部分的に重なり合うように配列されているが、これは
光源部１の機械的寸法の制約から隣接する走査線が離れ
てしまう、いわゆる走査ワレが生じるのを防止するため
である。また、縮小光学系２０との機械的干渉を防止す
るため、この実施例では光源部１を２つのグループに分
けて配置している（図８）。
の光源ユニット６は、同図に示すように、一定ピッチＰ
a で配置された複数の光源部１からなっている。各光源
部１は半導体レーザー２とコリメーターレンズ３とで構
成されており、半導体レーザー２からの光ビームがコリ
メーターレンズ３によって平行光ビームに整形され、光
軸Ｚに平行に出射される（図６，図７）。なお、図８か
らわかるように、光源部１が主走査方向Ｘに関して互い
に部分的に重なり合うように配列されているが、これは
光源部１の機械的寸法の制約から隣接する走査線が離れ
てしまう、いわゆる走査ワレが生じるのを防止するため
である。また、縮小光学系２０との機械的干渉を防止す
るため、この実施例では光源部１を２つのグループに分
けて配置している（図８）。
【００２４】図９は光源ユニット６近傍を示す斜視図で
ある。同図に示すように、光源ユニット６の光ビーム出
射側にアパーチャ板１１が配置されている。このアパー
チャ板１１には、光源部１の配列パターン（図８）と同
一の配列パターンでアパーチャ９が設けられており、光
源部１からの光ビームが対応するアパーチャ９を通過し
て縮小光学系２０に向けて導かれる（図６および図
７）。なお、この実施例では、アパーチャ板１１は、放
物面鏡２２の焦点面上に配置されている。
ある。同図に示すように、光源ユニット６の光ビーム出
射側にアパーチャ板１１が配置されている。このアパー
チャ板１１には、光源部１の配列パターン（図８）と同
一の配列パターンでアパーチャ９が設けられており、光
源部１からの光ビームが対応するアパーチャ９を通過し
て縮小光学系２０に向けて導かれる（図６および図
７）。なお、この実施例では、アパーチャ板１１は、放
物面鏡２２の焦点面上に配置されている。
【００２５】図１０は縮小光学系２０を示す図である。
縮小光学系２０では、放物面鏡（焦点距離ｆ22）２２と
立体射影レンズ２４のそれぞれの焦点が所定位置Ａで一
致するように配置されて、アフォーカル系が構成されて
いる。したがって、光源ユニット６から光軸Ｚと平行な
光ビームＬＢ1 が縮小光学系２０に入射された場合、こ
の縮小光学系２０からの光ビームＬＢ3 も光軸Ｚと平行
となる。
縮小光学系２０では、放物面鏡（焦点距離ｆ22）２２と
立体射影レンズ２４のそれぞれの焦点が所定位置Ａで一
致するように配置されて、アフォーカル系が構成されて
いる。したがって、光源ユニット６から光軸Ｚと平行な
光ビームＬＢ1 が縮小光学系２０に入射された場合、こ
の縮小光学系２０からの光ビームＬＢ3 も光軸Ｚと平行
となる。
【００２６】ところで、この立体射影レンズ２４は、例
えば、同図に示すように３枚のレンズＬ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3
で構成されており、放物面鏡２２によって反射された光
ビームＬＢ2 の立体射影レンズ２４への入射角をθi と
し、像高（光軸Ｚからの光線高）をｈi ′としたとき、
えば、同図に示すように３枚のレンズＬ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3
で構成されており、放物面鏡２２によって反射された光
ビームＬＢ2 の立体射影レンズ２４への入射角をθi と
し、像高（光軸Ｚからの光線高）をｈi ′としたとき、
【００２７】
【数１】
【００２８】ただし、ｆ24は立体射影レンズ２４の焦点
距離、で表される像高特性を有する。したがって、縮小
光学系２０によってアパーチャ板１１のアパーチャ９の
大きさと光軸Ｚからの高さｈi が同時に倍率ｍ1 （＝ｆ
24／ｆ22）で縮小されて立体射影レンズ２４の後側焦点
面ＦＰ1 に結像される。その理由は以下のことからであ
る。図１０に示すように、物高（光軸Ｚからの光線高）
ｈi で光軸Ｚに平行な光ビームＬＢ1 を縮小光学系２０
に入射すると、放物面鏡２２で反射された光ビームＬＢ
2 が放物面鏡２２から焦点距離ｆ22だけ離れた位置Ａを
角度θi で通過する。このとき、放物面鏡２２の光学的
特性から、
距離、で表される像高特性を有する。したがって、縮小
光学系２０によってアパーチャ板１１のアパーチャ９の
大きさと光軸Ｚからの高さｈi が同時に倍率ｍ1 （＝ｆ
24／ｆ22）で縮小されて立体射影レンズ２４の後側焦点
面ＦＰ1 に結像される。その理由は以下のことからであ
る。図１０に示すように、物高（光軸Ｚからの光線高）
ｈi で光軸Ｚに平行な光ビームＬＢ1 を縮小光学系２０
に入射すると、放物面鏡２２で反射された光ビームＬＢ
2 が放物面鏡２２から焦点距離ｆ22だけ離れた位置Ａを
角度θi で通過する。このとき、放物面鏡２２の光学的
特性から、
【００２９】
【数２】
【００３０】で表される関係が成立する。そのため、こ
の数２を数１に代入すると、
の数２を数１に代入すると、
【００３１】
【数３】
【００３２】が得られる。このため、等ビームピッチＰ
a で光源ユニット６から出射された光ビームＬＢ1 は、
それぞれ立体射影レンズ２４の後側焦点面ＦＰ1 に集光
されて、その面ＦＰ1 上にアパーチャ板１１の中間像が
等間隔で形成される。なお、アパーチャ９は、アパーチ
ャ板１１が放物面鏡２２の焦点面上に配置されている場
合にのみ焦点面ＦＰ１に結像される。アパーチャ板１１
が放物面鏡２２の焦点面からずれている場合、アパーチ
ャ像は焦点面ＦＰ１からずれ、そのずれ量は上記におい
て説明したように縮小光学系２０の倍率の２乗、すなわ
ち縦倍率で決まる。
a で光源ユニット６から出射された光ビームＬＢ1 は、
それぞれ立体射影レンズ２４の後側焦点面ＦＰ1 に集光
されて、その面ＦＰ1 上にアパーチャ板１１の中間像が
等間隔で形成される。なお、アパーチャ９は、アパーチ
ャ板１１が放物面鏡２２の焦点面上に配置されている場
合にのみ焦点面ＦＰ１に結像される。アパーチャ板１１
が放物面鏡２２の焦点面からずれている場合、アパーチ
ャ像は焦点面ＦＰ１からずれ、そのずれ量は上記におい
て説明したように縮小光学系２０の倍率の２乗、すなわ
ち縦倍率で決まる。
【００３３】図６および図７に示すように、アフォーカ
ル光学系３０は縮小光学系２０と回転シリンダー８０の
間に設けられており、レンズＬ4 〜Ｌ9 からなるズーム
レンズ３２と、レンズＬ10，Ｌ11からなるアフォーカル
光学系３４とで構成されている。このアフォーカル光学
系３０では、ズームレンズ３２の後側焦点面が面ＦＰ2
でアフォーカル光学系３４の前側焦点面と一致されて、
全体としてアフォーカル系が形成されている。そして、
ズームレンズ３２の前側焦点面が縮小光学系２０の立体
射影レンズ２４の後側焦点面と面ＦＰ1 で一致される一
方、アフォーカル光学系３４の後側焦点面に感光材料Ｐ
Ｍ（記録面）が位置するように構成されている。このた
め、面ＦＰ1 で形成された中間像（アパーチャ像）がア
フォーカル光学系３０によって適当な倍率で縮小され、
感光材料ＰＭにアパーチャ像（ビームスポット）として
形成される。
ル光学系３０は縮小光学系２０と回転シリンダー８０の
間に設けられており、レンズＬ4 〜Ｌ9 からなるズーム
レンズ３２と、レンズＬ10，Ｌ11からなるアフォーカル
光学系３４とで構成されている。このアフォーカル光学
系３０では、ズームレンズ３２の後側焦点面が面ＦＰ2
でアフォーカル光学系３４の前側焦点面と一致されて、
全体としてアフォーカル系が形成されている。そして、
ズームレンズ３２の前側焦点面が縮小光学系２０の立体
射影レンズ２４の後側焦点面と面ＦＰ1 で一致される一
方、アフォーカル光学系３４の後側焦点面に感光材料Ｐ
Ｍ（記録面）が位置するように構成されている。このた
め、面ＦＰ1 で形成された中間像（アパーチャ像）がア
フォーカル光学系３０によって適当な倍率で縮小され、
感光材料ＰＭにアパーチャ像（ビームスポット）として
形成される。
【００３４】このように第２実施例にかかるマルチビー
ム記録装置では、アパーチャ板１１，面ＦＰ1 および感
光材料ＰＭが共役な関係になっているため、アパーチャ
板１１に設けられたアパーチャ９の中間像が面ＦＰ1 に
形成され、さらにその中間像（アパーチャ像）が感光材
料（記録面）ＰＭに形成される。したがって、第１実施
例と同様の効果が得られる。すなわち、各光源部１から
の光ビームが光軸Ｚに平行であり、その光ビームの少な
くとも一部がアパーチャ板１１のアパーチャ９に照射さ
れていれば、光源部１が光軸方向Ｚやそれに直交する方
向Ｘ，Ｙにずれて位置決めされたとしても、一定位置に
アパーチャ像が形成されるので、光源部１の調整が容易
になる。
ム記録装置では、アパーチャ板１１，面ＦＰ1 および感
光材料ＰＭが共役な関係になっているため、アパーチャ
板１１に設けられたアパーチャ９の中間像が面ＦＰ1 に
形成され、さらにその中間像（アパーチャ像）が感光材
料（記録面）ＰＭに形成される。したがって、第１実施
例と同様の効果が得られる。すなわち、各光源部１から
の光ビームが光軸Ｚに平行であり、その光ビームの少な
くとも一部がアパーチャ板１１のアパーチャ９に照射さ
れていれば、光源部１が光軸方向Ｚやそれに直交する方
向Ｘ，Ｙにずれて位置決めされたとしても、一定位置に
アパーチャ像が形成されるので、光源部１の調整が容易
になる。
【００３５】なお、上記第２実施例では、アパーチャ板
１１が放物面鏡２２の焦点面と一致している場合につい
て説明したが、アパーチャ板１１がその焦点面からずれ
ている場合であっても、上記第１実施例と同様に、アパ
ーチャ板１１と感光材料ＰＭとの共役関係が満足される
ように各構成要素を配置すれば、上記と同様の効果が得
られる。
１１が放物面鏡２２の焦点面と一致している場合につい
て説明したが、アパーチャ板１１がその焦点面からずれ
ている場合であっても、上記第１実施例と同様に、アパ
ーチャ板１１と感光材料ＰＭとの共役関係が満足される
ように各構成要素を配置すれば、上記と同様の効果が得
られる。
【００３６】Ｃ．第３実施例 図１１および図１２はそれぞれこの発明にかかるマルチ
ビーム記録装置の第３実施例を示す斜視図及び平面図で
ある。この実施例では、第２実施例にやや類似した光学
系を使用しているが、この実施例が第２実施例と大きく
相違する点は、３つある。まず第１点目として、第２実
施例では放物面鏡２２の中央部を除き、光軸の上下にわ
たる部分を利用しているのに対し、この第３実施例では
放物面鏡２２の一部、それも放物面鏡２２の主軸ＰＡか
ら外れた領域２２ａを利用している点が挙げられる。な
お、この領域２２ａのみで構成された放物面鏡を一般的
には「軸はずし放物面鏡」と称することから、以下の説
明ではこの態様の放物面鏡を軸はずし放物面鏡と呼ぶ。
ビーム記録装置の第３実施例を示す斜視図及び平面図で
ある。この実施例では、第２実施例にやや類似した光学
系を使用しているが、この実施例が第２実施例と大きく
相違する点は、３つある。まず第１点目として、第２実
施例では放物面鏡２２の中央部を除き、光軸の上下にわ
たる部分を利用しているのに対し、この第３実施例では
放物面鏡２２の一部、それも放物面鏡２２の主軸ＰＡか
ら外れた領域２２ａを利用している点が挙げられる。な
お、この領域２２ａのみで構成された放物面鏡を一般的
には「軸はずし放物面鏡」と称することから、以下の説
明ではこの態様の放物面鏡を軸はずし放物面鏡と呼ぶ。
【００３７】また、第２点目は、この第３実施例では縮
小光学系（結像光学系）２１の光軸Ｚ1 とアフォーカル
光学系３０の光軸Ｚ2 が所定距離ΔＹだけ副走査方向Ｙ
に平行にずれている点である。もちろん、第２実施例
（図６）のように両者の光軸を一致させても実使用上特
に問題となることはないが、軸はずし放物面鏡２２ａを
用いた場合には縮小光学系２１からのレーザービームＬ
Ｂ3 はアフォーカル光学系３０の一部しか透過しないこ
ととなる。これに対し、この第３実施例では、図１２に
示すように、光軸をずらすことによってアフォーカル光
学系３０全体を使って縮小光学系２１からのレーザービ
ームＬＢ3 を感光材料ＰＭに導くようにしているので、
アフォーカル光学系３０をよりコンパクトにすることが
できる。
小光学系（結像光学系）２１の光軸Ｚ1 とアフォーカル
光学系３０の光軸Ｚ2 が所定距離ΔＹだけ副走査方向Ｙ
に平行にずれている点である。もちろん、第２実施例
（図６）のように両者の光軸を一致させても実使用上特
に問題となることはないが、軸はずし放物面鏡２２ａを
用いた場合には縮小光学系２１からのレーザービームＬ
Ｂ3 はアフォーカル光学系３０の一部しか透過しないこ
ととなる。これに対し、この第３実施例では、図１２に
示すように、光軸をずらすことによってアフォーカル光
学系３０全体を使って縮小光学系２１からのレーザービ
ームＬＢ3 を感光材料ＰＭに導くようにしているので、
アフォーカル光学系３０をよりコンパクトにすることが
できる。
【００３８】さらに、第３点目は、光源ユニット７を構
成する光源部１の配列は第１実施例のそれと同一である
点である。
成する光源部１の配列は第１実施例のそれと同一である
点である。
【００３９】なお、その他の構成は第２実施例とほぼ同
一であり、アパーチャ板１２と感光材料ＰＭとは、互い
に共役な関係となるように配置されている。このため、
光源部１からの光ビームは、アパーチャ板１２のアパー
チャ９を通過し、軸はずし放物面鏡２２ａで反射された
後、それぞれ立体射影レンズ２４によってその後側焦点
面ＦＰ1 に集光されて、その面ＦＰ1 上にアパーチャ９
の中間像が等間隔で形成され、さらに、ミラー５２を介
してズームレンズ３２でズームレンズ２３の後側焦点Ｆ
Ｐ２にアパーチャ９の中間像が形成され、さらにミラー
５４を介して４枚のレンズＬ１０、Ｌ１５、Ｌ１６およ
びＬ１７で構成されるアフォーカル光学系３４で感光材
料ＰＭにアパーチャ像（ビームスポット）として形成さ
れる。また、光源ユニット７、アパーチャ板１２、縮小
光学系２０およびアフォーカル光学系３０を固定してい
るベース５１を副走査方向Ｙにステップ送りすることに
より、感光材料ＰＭに２次元の画像が記録される。ま
た、画像記録密度を変更するときは、モータ５６でズー
ムレンズ３２の倍率を調整すればよい。
一であり、アパーチャ板１２と感光材料ＰＭとは、互い
に共役な関係となるように配置されている。このため、
光源部１からの光ビームは、アパーチャ板１２のアパー
チャ９を通過し、軸はずし放物面鏡２２ａで反射された
後、それぞれ立体射影レンズ２４によってその後側焦点
面ＦＰ1 に集光されて、その面ＦＰ1 上にアパーチャ９
の中間像が等間隔で形成され、さらに、ミラー５２を介
してズームレンズ３２でズームレンズ２３の後側焦点Ｆ
Ｐ２にアパーチャ９の中間像が形成され、さらにミラー
５４を介して４枚のレンズＬ１０、Ｌ１５、Ｌ１６およ
びＬ１７で構成されるアフォーカル光学系３４で感光材
料ＰＭにアパーチャ像（ビームスポット）として形成さ
れる。また、光源ユニット７、アパーチャ板１２、縮小
光学系２０およびアフォーカル光学系３０を固定してい
るベース５１を副走査方向Ｙにステップ送りすることに
より、感光材料ＰＭに２次元の画像が記録される。ま
た、画像記録密度を変更するときは、モータ５６でズー
ムレンズ３２の倍率を調整すればよい。
【００４０】このように第３実施例にかかるマルチビー
ム記録装置においても、上記第１および第２実施例と同
様に、アパーチャ板１２と感光材料ＰＭとが共役な関係
となるようにしているので、光源部１の配設位置が多少
ずれたとしても、一定位置にアパーチャ像が形成され、
光源部１の調整が容易になる。
ム記録装置においても、上記第１および第２実施例と同
様に、アパーチャ板１２と感光材料ＰＭとが共役な関係
となるようにしているので、光源部１の配設位置が多少
ずれたとしても、一定位置にアパーチャ像が形成され、
光源部１の調整が容易になる。
【００４１】なお、上記第３実施例では、アパーチャ板
１２が放物面鏡２２の焦点面と一致している場合につい
て説明したが、アパーチャ板１２がその焦点面からずれ
ている場合であっても、上記第１実施例と同様に、アパ
ーチャ板１２と感光材料ＰＭとの共役関係が満足される
ように各構成要素を配置すれば、上記と同様の効果が得
られる。
１２が放物面鏡２２の焦点面と一致している場合につい
て説明したが、アパーチャ板１２がその焦点面からずれ
ている場合であっても、上記第１実施例と同様に、アパ
ーチャ板１２と感光材料ＰＭとの共役関係が満足される
ように各構成要素を配置すれば、上記と同様の効果が得
られる。
【００４２】Ｄ．第４実施例 図１３は、この発明にかかるマルチビーム記録装置の第
４実施例を示す平面図である。このマルチビーム記録装
置は、球面Ｅ上に複数の光源部１が後述する配列パター
ンで配置された光源ユニット８と、球面Ｆに複数のアパ
ーチャ９が形成されたアパーチャ板１３と、３枚のレン
ズＬ18〜Ｌ20からなるｆθレンズ（結像光学系）２６
と、レンズ２７，２８からなるアフォーカル光学系２９
と、感光材料ＰＭを保持する回転ドラム８０とで構成さ
れている。
４実施例を示す平面図である。このマルチビーム記録装
置は、球面Ｅ上に複数の光源部１が後述する配列パター
ンで配置された光源ユニット８と、球面Ｆに複数のアパ
ーチャ９が形成されたアパーチャ板１３と、３枚のレン
ズＬ18〜Ｌ20からなるｆθレンズ（結像光学系）２６
と、レンズ２７，２８からなるアフォーカル光学系２９
と、感光材料ＰＭを保持する回転ドラム８０とで構成さ
れている。
【００４３】図１４および図１５は、それぞれ光源部の
配列関係（配列パターン）を示す斜視図および平面図で
ある。半導体レーザ２とコリメータレンズ３とでそれぞ
れ構成された複数の光源部１は、ｆθレンズ２６の前側
焦点ＦＰを中心とする球面Ｅ上に等間隔で、しかも２次
元的に配列されている。すなわち、図１５に示すよう
に、主走査方向Ｘに関して各光源部１が互いに部分的に
重なり合うように配列されている。各光源部１は、それ
から出射される光ビームの主光線をｆθレンズ２６の前
側焦点ＦＰに向けて配置されている。
配列関係（配列パターン）を示す斜視図および平面図で
ある。半導体レーザ２とコリメータレンズ３とでそれぞ
れ構成された複数の光源部１は、ｆθレンズ２６の前側
焦点ＦＰを中心とする球面Ｅ上に等間隔で、しかも２次
元的に配列されている。すなわち、図１５に示すよう
に、主走査方向Ｘに関して各光源部１が互いに部分的に
重なり合うように配列されている。各光源部１は、それ
から出射される光ビームの主光線をｆθレンズ２６の前
側焦点ＦＰに向けて配置されている。
【００４４】アパーチャ板１３は、図１３に示すよう
に、レンズ２６の前側焦点ＦＰを中心とする部分球面Ｆ
の形状に仕上げられており、光源ユニット８の出射側に
設けられている。このアパーチャ板１３には、光源部１
の配列パターン（図１４および図１５）と相似な配列パ
ターンでアパーチャ９が設けられており、アパーチャ９
はそれぞれ光源部１とｆθレンズ２６の前側焦点ＦＰと
を結ぶ線上に位置している。なお、この第４実施例で
は、光源部１を２次元的に配置しているので、光源部１
およびアパーチャ板１３は球面上に配置されているが、
光源部１を１次元的（１例）に配列する場合は、それぞ
れ曲面上に配列すればよい。
に、レンズ２６の前側焦点ＦＰを中心とする部分球面Ｆ
の形状に仕上げられており、光源ユニット８の出射側に
設けられている。このアパーチャ板１３には、光源部１
の配列パターン（図１４および図１５）と相似な配列パ
ターンでアパーチャ９が設けられており、アパーチャ９
はそれぞれ光源部１とｆθレンズ２６の前側焦点ＦＰと
を結ぶ線上に位置している。なお、この第４実施例で
は、光源部１を２次元的に配置しているので、光源部１
およびアパーチャ板１３は球面上に配置されているが、
光源部１を１次元的（１例）に配列する場合は、それぞ
れ曲面上に配列すればよい。
【００４５】ｆθレンズ２６およびアフォーカル光学系
２９は、図１３に示すように、光軸Ｚ上にこの順序で配
置されている。この実施例では、ｆθレンズ２６の後側
焦点面ＲＰとレンズ２７の前側焦点面とが一致し、また
レンズ２７の後側焦点面とレンズ２８の前側焦点面とが
一致し、さらに、レンズ２８の後側焦点面とほぼ一致す
るように感光材料ＰＭが配置されている。このため、ア
パーチャ９からの光ビームはｆθレンズ２６およびアフ
ォーカル光学系２９を介して感光材料ＰＭに集光され、
感光材料ＰＭ上にアパーチャ９の像が形成される。その
結果、上記実施例と同様な効果が得られる。
２９は、図１３に示すように、光軸Ｚ上にこの順序で配
置されている。この実施例では、ｆθレンズ２６の後側
焦点面ＲＰとレンズ２７の前側焦点面とが一致し、また
レンズ２７の後側焦点面とレンズ２８の前側焦点面とが
一致し、さらに、レンズ２８の後側焦点面とほぼ一致す
るように感光材料ＰＭが配置されている。このため、ア
パーチャ９からの光ビームはｆθレンズ２６およびアフ
ォーカル光学系２９を介して感光材料ＰＭに集光され、
感光材料ＰＭ上にアパーチャ９の像が形成される。その
結果、上記実施例と同様な効果が得られる。
【００４６】Ｅ．第５実施例 図１６に、この発明にかかるマルチビーム記録装置の第
５実施例の平面図を示す。この第５実施例にかかるマル
チビーム走査記録装置は第４実施例と類似しているが、
この実施例が第４実施例と相違する点は、レンズ２７，
２８からなるアフォーカル光学系２９を設けずに、感光
材料（記録面）ＰＭをｆθレンズ２６の後側焦点面ＲＰ
に配置した点である。したがって、第５実施例では、先
に説明した効果に加え、マルチビーム走査記録装置の光
学系の構成が単純化されるという効果がさらに得られ
る。
５実施例の平面図を示す。この第５実施例にかかるマル
チビーム走査記録装置は第４実施例と類似しているが、
この実施例が第４実施例と相違する点は、レンズ２７，
２８からなるアフォーカル光学系２９を設けずに、感光
材料（記録面）ＰＭをｆθレンズ２６の後側焦点面ＲＰ
に配置した点である。したがって、第５実施例では、先
に説明した効果に加え、マルチビーム走査記録装置の光
学系の構成が単純化されるという効果がさらに得られ
る。
【００４７】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、光源部の配列パターンと同一あるいは相似配列パタ
ーンで複数のアパーチャが形成されたアパーチャ板が光
源ユニットと前記結像光学系との間に配置されており、
各光源部からの光ビームがその光源部に対向するアパー
チャを介して前記結像光学系に導かれるように構成して
いるので、光源部が所定の配列パターンから多少ずれた
位置に位置決めされたとしても、記録面に所定配列パタ
ーンで形成されたアパーチャの像を結像することができ
る。そのため、光源部の位置決め調整を簡単に行うこと
ができ、しかも高品質の画像を記録することができる。
ば、光源部の配列パターンと同一あるいは相似配列パタ
ーンで複数のアパーチャが形成されたアパーチャ板が光
源ユニットと前記結像光学系との間に配置されており、
各光源部からの光ビームがその光源部に対向するアパー
チャを介して前記結像光学系に導かれるように構成して
いるので、光源部が所定の配列パターンから多少ずれた
位置に位置決めされたとしても、記録面に所定配列パタ
ーンで形成されたアパーチャの像を結像することができ
る。そのため、光源部の位置決め調整を簡単に行うこと
ができ、しかも高品質の画像を記録することができる。
【図１】この発明にかかるマルチビーム記録装置の第１
実施例を示す外観斜視図である。
実施例を示す外観斜視図である。
【図２】図１のマルチビーム記録装置の光学系を示す図
である。
である。
【図３】光源ユニットおよびアパーチャ板の正面図であ
る。
る。
【図４】第１実施例にかかるマルチビーム記録装置の変
形例を示す図である。
形例を示す図である。
【図５】第１実施例にかかるマルチビーム記録装置の改
良例を示す図である。
良例を示す図である。
【図６】この発明にかかるマルチビーム記録装置の第２
実施例を示す平面図である。
実施例を示す平面図である。
【図７】この発明にかかるマルチビーム記録装置の第２
実施例を示す側面図である。
実施例を示す側面図である。
【図８】光源ユニットの正面図である。
【図９】光源ユニット近傍を示す斜視図である。
【図１０】第２実施例における縮小光学系を示す図であ
る。
る。
【図１１】この発明にかかるマルチビーム記録装置の第
３実施例を示す斜視図である。
３実施例を示す斜視図である。
【図１２】この発明にかかるマルチビーム記録装置の第
３実施例を示す平面図である。
３実施例を示す平面図である。
【図１３】この発明にかかるマルチビーム記録装置の第
４実施例を示す平面図である。
４実施例を示す平面図である。
【図１４】光源部の配列関係を示す斜視図である。
【図１５】光源部の配列関係を示す平面図である。
【図１６】この発明にかかるマルチビーム記録装置の第
５実施例の平面図を示す。
５実施例の平面図を示す。
【図１７】従来のマルチビーム記録装置を示す図であ
る。
る。
１ 光源部 ５〜８ 光源ユニット １０〜１３ アパーチャ板 ２０，４０ 縮小光学系（結像光学系） ２６ ｆθレンズ（結像光学系） ＰＭ 感光材料
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ４１Ｊ 2/455 Ｈ０４Ｎ 1/036 Ｚ 8721−5Ｃ 1/04 １０４ Ｚ 7251−5Ｃ
Claims (1)
- 【請求項１】 それぞれが単一の光ビームを発生する複
数の光源部が所定の配列パターンに配置されてなる光源
ユニットと、結像光学系とを備え、前記結像光学系を介
して前記光源ユニットからの複数の光ビームを記録面に
照射するマルチビーム記録装置において、 前記配列パターンと同一あるいは相似配列パターンで複
数のアパーチャが形成されたアパーチャ板が前記光源ユ
ニットと前記結像光学系との間に配置され、各光源部か
らの光ビームがその光源部に対向するアパーチャを介し
て前記結像光学系に導かれるように構成されたことを特
徴とするマルチビーム記録装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35464592A JP2771932B2 (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | マルチビーム記録装置 |
| US08/164,387 US5539444A (en) | 1992-12-15 | 1993-12-09 | Apparatus for recording an image by irradating a plurality of light beams on a recording surface |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35464592A JP2771932B2 (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | マルチビーム記録装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06186490A true JPH06186490A (ja) | 1994-07-08 |
| JP2771932B2 JP2771932B2 (ja) | 1998-07-02 |
Family
ID=18438950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35464592A Expired - Lifetime JP2771932B2 (ja) | 1992-12-15 | 1992-12-15 | マルチビーム記録装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5539444A (ja) |
| JP (1) | JP2771932B2 (ja) |
Cited By (5)
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| JPH08313811A (ja) * | 1995-05-17 | 1996-11-29 | Asahi Optical Co Ltd | マルチビーム記録装置の光学系 |
| US5664251A (en) * | 1995-05-17 | 1997-09-02 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Method of making an aperture plate for a multibeam pattern drawing apparatus |
| US5745296A (en) * | 1995-05-17 | 1998-04-28 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Multibeam recording device |
| JPH10123413A (ja) * | 1996-10-21 | 1998-05-15 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像記録用レンズ及び結像装置 |
| EP1147906A2 (en) | 2000-04-21 | 2001-10-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Multi-beam exposure apparatus |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5812179A (en) * | 1995-09-08 | 1998-09-22 | Presstek, Inc. | Apparatus for laser-discharge imaging including beam-guiding assemblies |
| US6330019B1 (en) * | 1998-11-13 | 2001-12-11 | Matsushita Graphic Communication Systems, Inc. | Image recording apparatus and optical recording head |
| US6480219B1 (en) | 1999-07-21 | 2002-11-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Exposure head |
| JP2003215731A (ja) * | 2002-01-22 | 2003-07-30 | Canon Inc | 原稿照明装置及びそれを有する画像読取装置 |
| US7432947B2 (en) * | 2005-05-25 | 2008-10-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and method of electrophotographic printing employing diffusive light sources and apparatus and method of scanning a document |
| JP2008132760A (ja) * | 2006-10-26 | 2008-06-12 | Seiko Epson Corp | ラインヘッド及びそれを用いた画像形成装置 |
| US7787005B2 (en) * | 2007-01-26 | 2010-08-31 | Seiko Epson Corporation | Print head and image forming device using the same |
| JP2009051194A (ja) * | 2007-07-31 | 2009-03-12 | Seiko Epson Corp | ラインヘッド及びそれを用いた画像形成装置 |
| EP2028014B1 (en) * | 2007-08-20 | 2011-01-26 | Seiko Epson Corporation | Line head and image forming apparatus using the same |
Citations (1)
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2713890A1 (de) * | 1976-03-30 | 1977-10-06 | Canon Kk | Optisches abtastsystem mit einem optischen system zur ausbildung von halbtonbildern |
| US4743091A (en) * | 1986-10-30 | 1988-05-10 | Daniel Gelbart | Two dimensional laser diode array |
| US4884857A (en) * | 1987-11-09 | 1989-12-05 | International Business Machines Corporation | Scanner for use in multiple spot laser electrophotographic printer |
| JPH05131676A (ja) * | 1991-11-08 | 1993-05-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 画像走査記録装置 |
| JPH05333269A (ja) * | 1992-05-27 | 1993-12-17 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | アフォーカル光学系 |
| JP2710519B2 (ja) * | 1992-05-27 | 1998-02-10 | 大日本スクリーン製造株式会社 | マルチビーム記録装置 |
-
1992
- 1992-12-15 JP JP35464592A patent/JP2771932B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1993
- 1993-12-09 US US08/164,387 patent/US5539444A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
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| EP1147906A2 (en) | 2000-04-21 | 2001-10-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Multi-beam exposure apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5539444A (en) | 1996-07-23 |
| JP2771932B2 (ja) | 1998-07-02 |
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