JPH06169009A - 基板カセットを保持及び位置決めするための装置 - Google Patents
基板カセットを保持及び位置決めするための装置Info
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- JPH06169009A JPH06169009A JP3730491A JP3730491A JPH06169009A JP H06169009 A JPH06169009 A JP H06169009A JP 3730491 A JP3730491 A JP 3730491A JP 3730491 A JP3730491 A JP 3730491A JP H06169009 A JPH06169009 A JP H06169009A
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板カセット、特にウェーハカセットのでき
るだけ簡単かつ確実な基本位置決めが達成され、かつ、
この際機構的に正しい後調整によって予め選ばれた作業
位置にもたらされるような、基板カセットを保持及び位
置決めするための装置を提供することである。 【構成】 受容プレートが、多軸のガイド機構と結合さ
れており、さらに受容プレートの主平面に対して垂直に
延びる２つのガイドシュー受容部を有しており、該ガイ
ドシュー受容部内にウェーハカセットのガイドシューが
作業位置で導入されており、さらに受容プレート上に垂
直に錠止ピンが設けられており、該錠止ピンによってカ
セット底の縁条片が作業位置に固定されるようになって
いる。
るだけ簡単かつ確実な基本位置決めが達成され、かつ、
この際機構的に正しい後調整によって予め選ばれた作業
位置にもたらされるような、基板カセットを保持及び位
置決めするための装置を提供することである。 【構成】 受容プレートが、多軸のガイド機構と結合さ
れており、さらに受容プレートの主平面に対して垂直に
延びる２つのガイドシュー受容部を有しており、該ガイ
ドシュー受容部内にウェーハカセットのガイドシューが
作業位置で導入されており、さらに受容プレート上に垂
直に錠止ピンが設けられており、該錠止ピンによってカ
セット底の縁条片が作業位置に固定されるようになって
いる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ガイドプレート上に配
置されている受容プレートを有する、基板カセットを保
持及び位置決めするための、特にウェーハ−処理及び／
又は検査装置内にウェーハカセットを保持及び位置決め
するための装置に関する。
置されている受容プレートを有する、基板カセットを保
持及び位置決めするための、特にウェーハ−処理及び／
又は検査装置内にウェーハカセットを保持及び位置決め
するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】基板カセットは、ウェーハ、ガラス板、
ハードディスク等のような基板を搬送及び支承するため
に使用される。基板は、該基板の表面がカセット載着面
によっても、又該基板に隣接して置かれる基板ウェーハ
によっても接触されるようにカセット内に保持される。
ハードディスク等のような基板を搬送及び支承するため
に使用される。基板は、該基板の表面がカセット載着面
によっても、又該基板に隣接して置かれる基板ウェーハ
によっても接触されるようにカセット内に保持される。
【０００３】このような基板カセットは、今日の半導体
産業分野において既に使用されている。このような基板
ウェーハを加工及び／又は検査する機構においては、基
板を難なく基板カセットから取りだすことができ、もし
くは基板ウェーハを加工もしくは検査後に自動的に再び
準備された基板カセット内に置かれるように配慮されて
いなければならない。
産業分野において既に使用されている。このような基板
ウェーハを加工及び／又は検査する機構においては、基
板を難なく基板カセットから取りだすことができ、もし
くは基板ウェーハを加工もしくは検査後に自動的に再び
準備された基板カセット内に置かれるように配慮されて
いなければならない。
【０００４】それ故に、加工機構内での基板の正確に規
定された位置を前提とすることができるために、基板カ
セットはこのような機構内に簡単な形式でできるだけ正
確に保持されなければならず、並びに場合によっては、
得ようとする状態、即ち、検査装置のオペレータができ
るだけ迅速にカセットの準備位置を調節しなければなら
ない状態に位置決めされなければならない。
定された位置を前提とすることができるために、基板カ
セットはこのような機構内に簡単な形式でできるだけ正
確に保持されなければならず、並びに場合によっては、
得ようとする状態、即ち、検査装置のオペレータができ
るだけ迅速にカセットの準備位置を調節しなければなら
ない状態に位置決めされなければならない。
【０００５】既存の基板カセット支持装置は、基板カセ
ットを殆ど正確に位置決めすることができないという欠
点を有している。さらに種々の大きさの基板カセットを
受容する特別の基板カセット支持装置においては、一度
取られた基本位置を見つけることは困難でありかつ煩雑
である。
ットを殆ど正確に位置決めすることができないという欠
点を有している。さらに種々の大きさの基板カセットを
受容する特別の基板カセット支持装置においては、一度
取られた基本位置を見つけることは困難でありかつ煩雑
である。
【０００６】しかも、多くの基板カセット支持装置にお
いては、検査しようとする基板カセットを誤って位置決
めしてしまい、このことは場合によっては、検査機構が
自動的にこのようなカセット内の基板ウェーハにアクセ
スする際に、基板ウェーハ及び／又はカセットを損傷し
てしまうことになる。
いては、検査しようとする基板カセットを誤って位置決
めしてしまい、このことは場合によっては、検査機構が
自動的にこのようなカセット内の基板ウェーハにアクセ
スする際に、基板ウェーハ及び／又はカセットを損傷し
てしまうことになる。
【０００７】さらに、このような基板カセット内の積重
ねフレームは殆ど、基板ウェーハがカセット内に置かれ
た後にカセットの背面に向かって傾斜された位置を占め
るように構成されていなければならない。これは、この
ような基板−及び／又はウェーハカセットを搬送する際
に、実際に保持された基板又はウェーハが、カセットか
ら、あるいは少なくとも前方縁に関して突出してカセッ
トから滑り落ちることを阻止しようとするためである。
要するに、背面に関して傾斜させることは、搬送時に所
望の機能を完全に有する。
ねフレームは殆ど、基板ウェーハがカセット内に置かれ
た後にカセットの背面に向かって傾斜された位置を占め
るように構成されていなければならない。これは、この
ような基板−及び／又はウェーハカセットを搬送する際
に、実際に保持された基板又はウェーハが、カセットか
ら、あるいは少なくとも前方縁に関して突出してカセッ
トから滑り落ちることを阻止しようとするためである。
要するに、背面に関して傾斜させることは、搬送時に所
望の機能を完全に有する。
【０００８】他面では、加工機構又は検査装置は、一度
確認されたウェーハを自動的にこのようなウェーハカセ
ットから検出し、加工し、もしくは検査するようになっ
ている。このことは、ウェーハが首尾よく検出された後
に、例えば自動的な無接触式の検知機構によってウェー
ハの表面が難なく擦られることを意味する。しかしこの
ことは、例えば擦り走行中に操作機構が連続的に傾斜さ
れなければならず、あるいはこのような操作機構のロボ
ットアームがカセット内の規定のアングル位置に沈めら
れなければならない場合に制御技術的に困難であり、し
かもこのことは過度のスペースを要求する。
確認されたウェーハを自動的にこのようなウェーハカセ
ットから検出し、加工し、もしくは検査するようになっ
ている。このことは、ウェーハが首尾よく検出された後
に、例えば自動的な無接触式の検知機構によってウェー
ハの表面が難なく擦られることを意味する。しかしこの
ことは、例えば擦り走行中に操作機構が連続的に傾斜さ
れなければならず、あるいはこのような操作機構のロボ
ットアームがカセット内の規定のアングル位置に沈めら
れなければならない場合に制御技術的に困難であり、し
かもこのことは過度のスペースを要求する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、基板
カセット、特にウェーハカセットのできるだけ簡単かつ
確実な基本位置決めが達成され、かつ、この際機構的に
正しい後調整によって予め選ばれた作業位置にもたらさ
れるような、冒頭に述べた形式の装置を提供することで
ある。
カセット、特にウェーハカセットのできるだけ簡単かつ
確実な基本位置決めが達成され、かつ、この際機構的に
正しい後調整によって予め選ばれた作業位置にもたらさ
れるような、冒頭に述べた形式の装置を提供することで
ある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに講じた本発明の手段は、受容プレートが、多軸のガ
イド機構と結合されており、さらに受容プレートの主平
面に対して垂直に延びる２つのガイドシュー受容部を有
しており、該ガイドシュー受容部内にウェーハカセット
のガイドシューが作業位置で導入されており、さらに受
容プレート上に垂直に錠止ピンが設けられており、該錠
止ピンによってカセット底の縁条片が作業位置に固定さ
れるようになっていることにある。
めに講じた本発明の手段は、受容プレートが、多軸のガ
イド機構と結合されており、さらに受容プレートの主平
面に対して垂直に延びる２つのガイドシュー受容部を有
しており、該ガイドシュー受容部内にウェーハカセット
のガイドシューが作業位置で導入されており、さらに受
容プレート上に垂直に錠止ピンが設けられており、該錠
止ピンによってカセット底の縁条片が作業位置に固定さ
れるようになっていることにある。
【００１１】
【発明の効果】本発明の構成によって、錠止ピンが、カ
セットフレームを側方に対して安全にしており、及び回
動しないようにしている。さらに、前記ピン錠止装置
は、カセット底における横ウエブが簡単にベースシュー
に関して調節され、かつ横ウエブの高さにおける付加的
なガイドピンを介してカセット底案内のほかに側方安定
性が得られるという利点を有している。
セットフレームを側方に対して安全にしており、及び回
動しないようにしている。さらに、前記ピン錠止装置
は、カセット底における横ウエブが簡単にベースシュー
に関して調節され、かつ横ウエブの高さにおける付加的
なガイドピンを介してカセット底案内のほかに側方安定
性が得られるという利点を有している。
【００１２】
【実施例】図１は、主としてウェーハの検査のために使
用されるような、基板−表面−検査装置を示している。
このような装置によって、最小粒子のほかに、結晶欠
陥、金属性の不純物、研磨誤差、引っ掻き、ウェーハ内
注入均一性、及びウェーハ及び基板における別の欠陥が
調べられる。
用されるような、基板−表面−検査装置を示している。
このような装置によって、最小粒子のほかに、結晶欠
陥、金属性の不純物、研磨誤差、引っ掻き、ウェーハ内
注入均一性、及びウェーハ及び基板における別の欠陥が
調べられる。
【００１３】装置は、第１のウェーハカセット１と第２
のウェーハカセット２とを備えたウェーハ検査装置を有
しており、しかも第１のウェーハカセット１は第１のカ
セット受容部３上に、かつ第２のウェーハカセット２は
第２のカセット受容部４上にそれぞれ配置されている。
のウェーハカセット２とを備えたウェーハ検査装置を有
しており、しかも第１のウェーハカセット１は第１のカ
セット受容部３上に、かつ第２のウェーハカセット２は
第２のカセット受容部４上にそれぞれ配置されている。
【００１４】ウェーハ検査装置は、さらに操縦ロボット
５と検査テーブル６とを有している。構造上の理由か
ら、前記検査テーブル６は、コンソール７、テーブルプ
レート９及び台８と剛性的に結合されている。ウェーハ
を精密に引き渡すためにも、操縦ロボット５は検査テー
ブル６に向いていなければならない。
５と検査テーブル６とを有している。構造上の理由か
ら、前記検査テーブル６は、コンソール７、テーブルプ
レート９及び台８と剛性的に結合されている。ウェーハ
を精密に引き渡すためにも、操縦ロボット５は検査テー
ブル６に向いていなければならない。
【００１５】一方、第１のウェーハカセット１及び第２
のウェーハカセット２の位置は、適当な測定装置を介し
て第１のカセット受容部３及び第２のカセット受容部４
上に受容される。
のウェーハカセット２の位置は、適当な測定装置を介し
て第１のカセット受容部３及び第２のカセット受容部４
上に受容される。
【００１６】図２から図４は、調節可能なカセット受容
部の実施例を示す。カセット受容部は、ケーシング１
０、ベースプレート１１及びカセット支えプレート１２
から成っている。カセット支えプレート１２は、２つの
ねじ１３，１４を介して２つのばね１５，１６によっ
て、調節可能な球状先端付き支えねじ１７，１８，１９
に圧着される。球状先端付き支えねじによって、カセッ
ト支えプレート１２は高さ調節され、かつ水平にされる
ことができる。
部の実施例を示す。カセット受容部は、ケーシング１
０、ベースプレート１１及びカセット支えプレート１２
から成っている。カセット支えプレート１２は、２つの
ねじ１３，１４を介して２つのばね１５，１６によっ
て、調節可能な球状先端付き支えねじ１７，１８，１９
に圧着される。球状先端付き支えねじによって、カセッ
ト支えプレート１２は高さ調節され、かつ水平にされる
ことができる。
【００１７】調整後に、カセット支えプレート１２の位
置が、締付けねじ２２，２３を介して固定される。カセ
ット支えプレート１２がスイッチ２０を有しており、該
スイッチはウェーハカセット１の中央ウエブ２１によっ
て操作可能である。このスイッチは、ウェーハカセット
１を軽く持ち上げることで既に応動されるように設計さ
れている。
置が、締付けねじ２２，２３を介して固定される。カセ
ット支えプレート１２がスイッチ２０を有しており、該
スイッチはウェーハカセット１の中央ウエブ２１によっ
て操作可能である。このスイッチは、ウェーハカセット
１を軽く持ち上げることで既に応動されるように設計さ
れている。
【００１８】ウェーハカセット１は、一面では３つの錠
止ボルト２６，２７，２８によって、かつ他面では２つ
の錠止ボルト２４，２５によって、及び２つのガイドシ
ュー２９，３０によって案内かつ保持されている。ガイ
ドシュー２９，３０は、ウェーハカセット１を図２のよ
うに置く際に準備位置になるように形成されている。こ
のことは、ガイドシュー２９，３０がホッパに類似する
形状を有していることによって実現される。
止ボルト２６，２７，２８によって、かつ他面では２つ
の錠止ボルト２４，２５によって、及び２つのガイドシ
ュー２９，３０によって案内かつ保持されている。ガイ
ドシュー２９，３０は、ウェーハカセット１を図２のよ
うに置く際に準備位置になるように形成されている。こ
のことは、ガイドシュー２９，３０がホッパに類似する
形状を有していることによって実現される。
【００１９】載着位置では、ウェーハカセット１はわず
かに斜め後方に傾斜した位置を有している。カセットを
前方に倒す際にウェーハカセットが錠止ボルト２４，２
８によって正確な位置に位置できるように、今や、ガイ
ドシュー２９，３０によって準備位置に位置決めされて
いる。
かに斜め後方に傾斜した位置を有している。カセットを
前方に倒す際にウェーハカセットが錠止ボルト２４，２
８によって正確な位置に位置できるように、今や、ガイ
ドシュー２９，３０によって準備位置に位置決めされて
いる。
【００２０】カセットの載着位置では、錠止ピン２４乃
至２８においてウェーハカセット１を案内するために、
縁条片３２，３３及び横ウエブ３１が使用される。
至２８においてウェーハカセット１を案内するために、
縁条片３２，３３及び横ウエブ３１が使用される。
【００２１】３つの錠止ボルト２６，２７，２８を縁条
片３３及び横ウエブ３１と一緒に使用することにより、
ウェーハカセット１を片側でベースに固定される。錠止
ボルト２４，２５は、ウェーハカセット１の回動を阻止
する。
片３３及び横ウエブ３１と一緒に使用することにより、
ウェーハカセット１を片側でベースに固定される。錠止
ボルト２４，２５は、ウェーハカセット１の回動を阻止
する。
【図１】２つのウェーハカセットを有するウェーハ検査
装置の全体的斜視図である。
装置の全体的斜視図である。
【図２】図１のウェーハ検査装置の一部分を一方向で破
断する断面図である。
断する断面図である。
【図３】図１のウェーハ検査装置の一部分を他方向で破
断する断面図である。
断する断面図である。
【図４】ウェーハ検査装置の支えプレートの平面図であ
る。
る。
１ 第１のウェーハカセット、 ２ 第２のウェーハカ
セット、 ３ 第１のカセット受容部、 ４ 第２のカ
セット受容部、 ５ 操縦ロボット、 ６ 検査テーブ
ル、 ７ コンソール、 ８ 台、 ９ テーブルプレ
ート、 １０ケーシング、 １１ ベースプレート、
１２ 支えプレート、 １３，１４ねじ、 １５，１６
ばね、 １７，１８，１９ 球状先端付き支えねじ、
２０ スイッチ、 ２１ 中央ウエブ、 ２２，２３
締付けねじ、 ２４，２５，２６，２７，２８ 錠止
ボルト、 ２９，３０ ガイドシュー、 ３１ 横ウエ
ブ、 ３２，３３ 縁条片
セット、 ３ 第１のカセット受容部、 ４ 第２のカ
セット受容部、 ５ 操縦ロボット、 ６ 検査テーブ
ル、 ７ コンソール、 ８ 台、 ９ テーブルプレ
ート、 １０ケーシング、 １１ ベースプレート、
１２ 支えプレート、 １３，１４ねじ、 １５，１６
ばね、 １７，１８，１９ 球状先端付き支えねじ、
２０ スイッチ、 ２１ 中央ウエブ、 ２２，２３
締付けねじ、 ２４，２５，２６，２７，２８ 錠止
ボルト、 ２９，３０ ガイドシュー、 ３１ 横ウエ
ブ、 ３２，３３ 縁条片
Claims (4)
- 【請求項１】 ガイドプレート上に配置されている受容
プレートを有する、基板カセットを保持及び位置決めす
るための装置において、前記受容プレートが、多軸のガ
イド機構と結合されており、さらに受容プレートの主平
面に対して垂直に延びる２つのガイドシュー受容部を有
しており、該ガイドシュー受容部内にウェーハカセット
のガイドシューが作業位置で導入されており、さらに受
容プレート上に垂直に錠止ピンが設けられており、該錠
止ピンによってカセット底の縁条片が作業位置に固定さ
れるようになっていることを特徴とする基板カセットを
保持及び位置決めするための装置。 - 【請求項２】 ５つの錠止ピンが設けられており、さら
にそれぞれ対をなす４つの対抗個所が、カセット底の縁
条片の横ウエブが縦ウエブに突き当たる範囲に配置され
ており、さらに１つの錠止ピンが、前記範囲と同じ、し
かしカセット底の縁条片の外側で縦方向に設けられてい
る請求項１記載の基板カセットを保持及び位置決めする
ための装置。 - 【請求項３】 ガイドプレートが、受容プレートを３点
支承するための手段を有しており、さらに前記３点支承
部が、それぞれの点が孔支承部、スリット支承部及び面
支承部として形成されている請求項１又は２記載の基板
カセットを保持及び位置決めするための装置。 - 【請求項４】 受容プレートが、該受容プレートの中心
においてカセット検出装置を有しており、該カセット検
出装置を介して、ウェーハカセットの調節可能な自動的
な高さ適合が、受容プレートのガイド機構によって行わ
れるようになっている請求項１から３までのいずれか１
記載の基板カセットを保持及び位置決めするための装
置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH687/90-3 | 1990-03-05 | ||
| CH687/90A CH680317A5 (ja) | 1990-03-05 | 1990-03-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06169009A true JPH06169009A (ja) | 1994-06-14 |
| JP2668290B2 JP2668290B2 (ja) | 1997-10-27 |
Family
ID=4192826
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3730491A Expired - Lifetime JP2668290B2 (ja) | 1990-03-05 | 1991-03-04 | 基板カセットを保持及び位置決めするための装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5092557A (ja) |
| EP (1) | EP0445654A1 (ja) |
| JP (1) | JP2668290B2 (ja) |
| CH (1) | CH680317A5 (ja) |
Cited By (1)
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|---|---|---|---|---|
| JP2010232698A (ja) * | 1999-04-19 | 2010-10-14 | Applied Materials Inc | カセットを位置合わせするための方法と装置 |
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| AU3376597A (en) * | 1996-06-04 | 1998-01-05 | Tencor Instruments | Optical scanning system for surface inspection |
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| US6033521A (en) | 1997-06-04 | 2000-03-07 | Speedfam-Ipec Corporation | Tilt mechanism for wafer cassette |
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